JP2007220600A - プラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマ生成室1内における一つの又は隣り合うもの同士が間隔をあけることなく連なる複数の、一辺0.4〔m〕の立方体空間Cのそれぞれに高周波アンテナ2を割り当て設置し、各立方体空間Cにおける高周波アンテナの合計長L〔m〕を、プラズマ生成室1内に設定する誘導結合プラズマ生成圧力P〔Pa〕との間で、(0.2/P)<L<(0.8/P)の関係を満たす範囲の長さL〔m〕に設定する。
【選択図】図2
Description
例えば、特開2001−35697号公報には、投入される高周波電力の利用効率を向上させるために高周波アンテナをプラズマ生成室内に設置することが記載されている。
アンテナ本数を多くするとプラズマを持続し易くなる傾向が得られる。また、各アンテナのサイズ(全長)を大きくするとプラズマを持続し易くなる傾向が得られる。
かかるプラズマ維持特性は、アンテナの本数とサイズやプラズマ生成圧に依存する特性である。
よって、Lの範囲は、(0.2/P)<L<(0.8/P)程度とすればよい。
本発明者の研究によれば、プラズマ密度はアンテナからの距離に応じて指数減衰する関数によく近似できる。
(1)プラズマ生成方法
プラズマ生成室内に高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成方法であり、該プラズマ生成室内における一つの又は隣り合うもの同士が間隔をあけることなく連なる(代表的には同一平面に沿って連なる)複数の、一辺0.4〔m〕の立方体空間のそれぞれに高周波アンテナを割り当て設置し、該各立方体空間における高周波アンテナの合計長L〔m〕を、該プラズマ生成室内に設定する誘導結合プラズマ生成圧力P〔Pa〕との間で、(0.2/P)<L<(0.8/P)の関係を満たす範囲の長さL〔m〕に設定するプラズマ生成方法。
プラズマ生成室内に高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成装置であり、該プラズマ生成室内における一つの又は隣り合うもの同士が間隔をあけることなく連なる(代表的には同一平面に沿って連なる)複数の、一辺0.4〔m〕の立方体空間のそれぞれに高周波アンテナが割り当て設置されており、該各立方体空間における高周波アンテナの合計長L〔m〕が、該プラズマ生成室内に設定される誘導結合プラズマ生成圧力P〔Pa〕との間で、(0.2/P)<L<(0.8/P)の関係を満たす範囲の長さL〔m〕に設定されているプラズマ生成装置。
図1は本発明に係るプラズマ生成装置の1例を示している。図2は本発明に係るプラズマ生成装置の他の例を示している。
まず、アンテナの本数、各アンテナのプラズマ生成室内における全長(幅w+室1内における高さh×2)、アンテナを複数本配列するときの隣り合うアンテナピッチ間隔p(アンテナ配列ピッチ)を種々変えて、アンテナ本数とプラズマ持続可能の下限圧力〔Pa〕との関係を調べる実験を行った。
アンテナ2を3本採用するときは、図3(B)に示すように、アンテナ2を同じ平面上に直列的に順次隣り合わせて配列し、一組の隣り合うアンテナについては、それらの互いに隣り合うアンテナ端部21から給電し、残り一本のアンテナ2については、最も外側に配置された端部21から給電した。
図4において、右側に四角で囲んで示される、例えばw150h150p160は、一本のアンテナにおける幅wが150mm、室1内における高さhが150mm、複数本採用するときの隣り合うアンテナピッチ間隔pが160mmであることを意味している。他についても同様である。黒丸印で示すアンテナ(w150h100)は1本だけ採用した。
また、各アンテナのサイズ(全長)が大きくなるとプラズマを持続し易くなる傾向が得られた(アンテナ本数を同じとした場合の、図4中のw55h75、w55h100、w100h150、w150h150の比較より)。
ここで、プラズマ生成室内(換言すれば、一定大きさの空間内)の、アンテナの本数とサイズから導かれる高周波アンテナの合計長に着目して実験結果をまとめたところ、図5に示すように、プラズマ生成室内圧力P〔Pa〕と室内におけるアンテナの合計長L〔m〕との間に、反比例の関係、すなわち、図5において太線で示す関係を見いだした。反比例の関係ということは、P・Lが一定の関係にあるということである。
一つの低インダクタンス高周波アンテナによって持続させられる誘導結合プラズマの分布密度を調べたところ、プラズマ密度がアンテナからの距離に応じて指数減衰する関数によく近似できることを見いだした。
N∝exp(−X/r)に近似され、しかも指数減衰関数のスケールファクターrは、図6の近似関数で1/r=0.0047であるから、r≒200mm(約0.2m)である。
アンテナの配列ピッチ プラズマ密度の均一性
300mm ±2%
400mm ±4%
450mm ±5.5%
11 室1の天井壁
2 高周波アンテナ
20 絶縁性部材
10 絶縁性部材
21、21’ アンテナ2の室外突出部分
B1、B2 給電ブスバー
31、32 マッチングボックス
41、42 高周波電源
5 排気装置
6 基板ホルダ
61 ヒータ
G ガス導入部
7、8 ガス導入管
70 モノシランガス供給装置
80 水素ガス供給装置
Claims (3)
- プラズマ生成室内に高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成方法であり、該プラズマ生成室内における一つの又は隣り合うもの同士が間隔をあけることなく連なる複数の、一辺0.4〔m〕の立方体空間のそれぞれに高周波アンテナを割り当て設置し、該各立方体空間における高周波アンテナの合計長L〔m〕を、該プラズマ生成室内に設定する誘導結合プラズマ生成圧力P〔Pa〕との間で、(0.2/P)<L<(0.8/P)の関係を満たす範囲の長さL〔m〕に設定することを特徴とするプラズマ生成方法。
- プラズマ生成室内に高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成装置であり、該プラズマ生成室内における一つの又は隣り合うもの同士が間隔をあけることなく連なる複数の、一辺0.4〔m〕の立方体空間のそれぞれに高周波アンテナが割り当て設置されており、該各立方体空間における高周波アンテナの合計長L〔m〕が、該プラズマ生成室内に設定される誘導結合プラズマ生成圧力P〔Pa〕との間で、(0.2/P)<L<(0.8/P)の関係を満たす範囲の長さL〔m〕に設定されていることを特徴とするプラズマ生成装置。
- 被処理物にプラズマのもとで目的とする処理を施すプラズマ処理装置であって、請求項2記載のプラズマ生成装置を含むことを特徴とするプラズマ処理装置。
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