JP2007219303A - マイクロレンズ用型の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】任意の非球面を有する表面が平滑なマイクロレンズであって、レンズ径が1mm以下で厚さが0.5mm以上といった寸法を有する非球面マイクロレンズを製造するための型の製造方法を提供する。
【解決手段】単結晶シリコン基板上に、2層のマスク層を形成し、第1のマスク層を用いて異方性エッチング及び等方性エッチングを行い所望のマイクロレンズ用型よりもやや径の小さい凹部を形成した後に、第2のマスク層を用いて等方性エッチングを行ってその凹部を拡大することにより、所望の寸法のマイクロレンズ用型を得る。
【選択図】図1
【解決手段】単結晶シリコン基板上に、2層のマスク層を形成し、第1のマスク層を用いて異方性エッチング及び等方性エッチングを行い所望のマイクロレンズ用型よりもやや径の小さい凹部を形成した後に、第2のマスク層を用いて等方性エッチングを行ってその凹部を拡大することにより、所望の寸法のマイクロレンズ用型を得る。
【選択図】図1
Description
本発明は、マイクロレンズを成型するための型を製造する方法に関し、特に、レンズ径1mm以下の微小な非球面マイクロレンズの成型に用いる型の製造方法に関するものである。
従来、マイクロレンズ用型の製造方法に係わる公知技術としては、例えば、ガラス平板表面にマスク層を形成し、作製するレンズ個数と同数の円形の微細な開口部を、作製するレンズ位置に対応して前記マスク層に設け、前記開口部を化学的にエッチングすることで略半球面状の凹部を形成した後、前記マスク層を全て取り除き、前記凹部の形成された平板表面に改めてマスク層を形成し、前記凹部に対応する位置に、前記凹部開口径よりも大きな円形の開口部を前記マスク層に設け、該開口部を通して平板表面を更にエッチングし、前記マスク層を取り除いた後、平板表面全体をエッチングして製造するという方法が知られている(特許文献1参照)。これにより、表面が平滑な複合球面を有するマイクロレンズ用型を高精度に製造できる。また、マスク層を形成する回数を増やせば、さらに多くの球面を有することが可能となる。
一方で、非球面マイクロレンズの製造方法に係わる公知技術としては、例えば、SiO2基板上にNb2O5膜をスパッタ蒸着し、このNb2O5膜の上にフォトレジスで円筒状のパターンを形成し、ポストベークを行って前記円筒状のパターンを半球状に変化させた後、エッチングガスの混合比を調整しながらプラズマエッチングを行うことにより、Nb2O5膜にレンズ形状を転写するという方法が知られている(非特許文献1参照)。
近年では光ディスクの高記録密度化、光ディスク装置の小型化が進む中で、レンズ径が微小でかつ厚みのある非球面のマイクロレンズの製造が期待されている。具体的には、レンズ径が1mm以下で厚さが0.5mm以上といった寸法を有する非球面マイクロレンズが実現されるのが望ましいとされている。
しかしながら、上記特許文献1に記載のマイクロレンズ用型の製造方法では、レンズ1個に対して1個の開口部を設け、そこから等方的にエッチングを行い半球面状の凹部を形成し、この半球面状の凹部をレンズ型とする製法であるため、球面収差を補正するのに優れている非球面レンズの型を製造することができない。また、非特許文献1に記載の非球面マイクロレンズの製造方法では、レンズ径300mmに対して厚さが50mm程度の薄いレンズしか製造できない。
一般的に、マイクロレンズは成型用の型を用いて製造されるものであるが、上記したようなマイクロレンズの寸法に対応する型を製造する技術は現在確立されていない。
そこで、本発明の目的は、任意の非球面を有する表面が平滑なマイクロレンズであって、レンズ径が1mm以下で厚さが0.3mm以上といった寸法を有する非球面マイクロレンズを製造するための型を製造する方法を提供しようとするものである。
上記解決課題に鑑みて鋭意研究の結果、本発明者は、単結晶シリコン基板上に、2層のマスク層を形成し、第1のマスク層を用いて異方性エッチング及び等方性エッチングを行い所望のマイクロレンズ用型よりもやや径の小さい凹部を形成した後に、第2のマスク層を用いて等方性エッチングを行ってその凹部を拡大することにより、所望の寸法のマイクロレンズ用型が得られることに想到した。
すなわち、本発明は、任意の非球面を有し、かつ、厚さがレンズ口径の半分より大きいマイクロレンズを製造するための型の製造方法であって、シリコン基板上に当該型の凹部よりも径の小さい円形領域を包囲する形状の一のマスク層を形成し、さらに、前記円形領域上に径の異なる複数の円形開口部を有する他のマスク層を形成し、前記複数の円形開口部を通じて、前記円形領域内のシリコン基板に対して異方性ドライエッチングを行うことにより、前記シリコン基板に各円形開口部の径に応じた深さの複数の穴を形成し、前記複数の円形開口部を通じて、前記円形領域内のシリコン基板に対して等方性エッチングを行うことにより、前記複数の穴の側壁を除去して穴同士を融合し、前記他のマスク層を除去した後に、前記一のマスク層の前記円形領域を通じて、前記穴同士が融合して形成された凹部に対して等方性エッチングを行うことにより、当該凹部を拡大させるとともに表面を平滑化した後、前記一のマスク層を除去することを含む方法を提供するものである。
本発明は、また、任意の非球面を有し、かつ、厚さがレンズ口径の半分より大きいマイクロレンズを製造するための型の製造方法であって、シリコン基板上に当該型の凹部よりも径の小さい円形領域を包囲する形状の一のマスク層を形成し、さらに、前記円形領域上に径の異なる複数の円形開口部を有する他のマスク層を形成し、前記複数の円形開口部を通じて、前記円形領域内のシリコン基板に対して異方性ドライエッチングを行うことにより、前記シリコン基板に各円形開口部の径に応じた深さの複数の穴を形成し、前記他のマスク層を除去した後に、前記一のマスク層の前記円形領域を通じて等方性エッチングを行うことにより、前記複数の穴の側壁を除去して穴同士を融合して凹部を形成し、前記凹部が形成された後、前記一のマスク層を除去することを含む方法を提供するものである。
本発明のマイクロレンズ用型の製造方法では、前記一のマスク層を除去した後に、前記マイクロレンズ用型の表面に、レンズ材に対して剥離性の良い膜を形成することを特徴とする。
本発明のマイクロレンズ用型の製造方法では、前記一のマスク層を除去した後に、前記マイクロレンズ用型の表面に、型材であるシリコンをエッチングするガス又は液体に腐食され難い膜を形成することを特徴とする。
さらに、本発明のマイクロレンズ用型の製造方法により製造されたマイクロレンズ用型を用いて、マイクロレンズを成型する方法であって、前記マイクロレンズ用型の任意の非球面を有する表面の形状をレンズ材に転写した後、前記マイクロレンズ用型の前記表面とは反対側の面に対してエッチングを行ってシリコン基板を除去し、さらに前記表面に形成された膜を除去することにより、マイクロレンズを成型する方法が提供される。
以上、説明したように、本発明のマイクロレンズ用型の製造方法によれば、従来実現不可能であった、任意の非球面を有する表面が平滑なマイクロレンズであって、レンズ径が1mm以下で厚さが0.3mm以上といった寸法を有する非球面マイクロレンズを製造することが可能となる。
以下、添付図面を参照しながら、本発明のマイクロレンズ用型の製造方法を実施するための最良の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態として、マイクロレンズ用型の製造工程の流れを概略的に示す図である。
まず、図1(a)に示すように、単結晶シリコン基板1上に、第1のマスク層2及び第2のマスク層3からなる2層のエッチング用マスクを形成する。まず、単結晶シリコン基板1上に、アルミのスパッタ蒸着膜からなる第2のマスク層3を形成し、さらにシリコンの酸化膜からなる第1のマスク層2を形成する。ここで、第2のマスク層3は、シリコン基板1上の型を製造しようとしている領域よりも径の小さい円形領域を包囲するようにして形成する。第1のマスク層2は、この円形領域及び周囲に形成された第2のマスク層3の上に形成される。その後、前記円形領域の上に第1のマスク層2が形成された領域に、ホトリソグラフィーによりレンズ1個に対して径の異なる複数の円形開口部を有するレジストパターンを形成し、このレジストパターンを用いて第1のマスク層2のエッチングを行い、レンズ1個に対して径の異なる複数の円形開口部4を形成する。
次に、図1(b)に示すように、単結晶シリコン基板1のマスク層が形成された面を加工面として、第1のマスク層2に形成された円形開口部4の開口パターンを用いて、異方性ドライエッチングでシリコン基板1に複数の穴5を形成する。このときマイクロローディング効果により、穴の深さは対応するマスク層の円形開口部の径が大きいほど深くなり、長時間エッチングするほど、円形開口部の径の大きさによる穴の深さの差は大きくなる。このため、第1のマスク層2に形成する円形開口部4は、レンズ中心部に対応する場所ほど径の大きな寸法を有するように設計している。このマイクロローディング効果は、マスク層の円形開口部4の径がある一定の大きさ以上になると発生しない。本実施形態では、円形開口部4の径は、5μmから40μmとしている。
本実施形態における異方性ドライエッチングの条件は、以下の通りである。
エッチングガス(SF6)流量:120sccm側壁保護膜形成ガス(C4F8)流量:80sccm、ベント開口率55%、主プラズマ電源:1000W、バイアス110W、チャンバ内圧力:1.7〜1.8Pa、エッチング時間と保護膜形成時間の比 7:3。
この異方性ドライエッチングを、レンズ中心部に対応する場所の最も深い穴とレンズ外縁部に対応する場所の最も浅い穴との深さの差が200μm以上になるまで行うのが望ましい。
エッチングガス(SF6)流量:120sccm側壁保護膜形成ガス(C4F8)流量:80sccm、ベント開口率55%、主プラズマ電源:1000W、バイアス110W、チャンバ内圧力:1.7〜1.8Pa、エッチング時間と保護膜形成時間の比 7:3。
この異方性ドライエッチングを、レンズ中心部に対応する場所の最も深い穴とレンズ外縁部に対応する場所の最も浅い穴との深さの差が200μm以上になるまで行うのが望ましい。
本実施形態では、第1のマスク層にシリコンの酸化膜、第2のマスク層にアルミを用いているが、第1のマスク層にアルミ、第2のマスク層にシリコンの酸化膜もしくはシリコンの窒化膜を用いても同様の結果を得ることができる。
また、本実施形態では、第1のマスク層と第2のマスク層とを重ねて形成しているが、まず、アルミで第1のマスク層のみを形成し、異方性ドライエッチングと等方性ドライエッチングを行い、第1のマスク層を除去した後に、アルミで第2のマスク層を形成して当方製ドライエッチングを行うことによっても、同様の結果を得ることができる。また、このとき、第2のマスクを金で形成して等方性ウエットエッチングを行っても、同様の結果を得ることができる。
次に、図1(c)に示すように、等方性エッチングを行い、前工程の異方性ドライエッチングでシリコン基板1に形成した深さの異なる複数の穴の側壁を除去して穴同士を融合する。本実施形態における、等方性ドライエッチングの条件は、以下の通りである。
エッチングガス(SF6)流量:100sccm、ベント開口率55%、主プラズマ電源:900W、バイアス20W、チャンバ内圧力:1.7〜1.8Pa。
本工程は、等方性ドライエッチングで行う他、弗酸、硝酸、酢酸の混合液等による単結晶シリコンの等方性ウエットエッチングで行うことも可能である。
エッチングガス(SF6)流量:100sccm、ベント開口率55%、主プラズマ電源:900W、バイアス20W、チャンバ内圧力:1.7〜1.8Pa。
本工程は、等方性ドライエッチングで行う他、弗酸、硝酸、酢酸の混合液等による単結晶シリコンの等方性ウエットエッチングで行うことも可能である。
次に、図1(d)に示すように、第1のマスク層2を除去し、型表面を平滑化する為にスムージング処理を行う。このスムージング処理は、例えば、等方性ドライエッチングや等方性ウエットエッチングによって行うことができる。
次に、図1(e)に示すように、等方性エッチングを行い、レンズの凹型6を形成する。このレンズの凹型6は、図1(d)の工程で形成した凹部よりも径が大きくなっている。
次に、図1(f)に示すように、第2のマスク層3を除去し、レンズの凹型6の表面にシリコンをエッチングするガス又は液体に腐食され難い保護膜7を形成する。保護膜7は、例えば、アルミや酸化シリコンなどで形成することができる。
次に、図1(g)に示すように、レンズの凹型6の表面にレンズ材に対して剥離性の良い膜8を形成する。例えば、レンズ材がガラスである場合には、膜8をカーボンで形成すればよい。これにより、転写した後にマイクロレンズを剥がすことが容易なマイクロレンズ用型を得ることができる。
図2は、本発明の他の実施形態として、マイクロレンズ用型の製造工程の流れを概略的に示す図である。
まず、図1(a)に示すように、単結晶シリコン基板1上に、第1のマスク層2及び第2のマスク層3からなる2層のエッチング用マスクを形成する。具体的には、単結晶シリコン基板1上に、アルミの蒸着膜からなる第2のマスク層3を形成し、さらにシリコン酸化膜からなる第1のマスク層3を形成する。ここで、第2のマスク層3は、シリコン基板1上の型を製造しようとしている円形領域上に径の異なる複数の円形開口部を有するように形成する。第1のマスク層2には、この円形領域内の外周部に存在する複数の円形開口部を覆うように第2のマスク層3の上に形成される。
次に、図1(b)に示すように、単結晶シリコン基板1のマスク層が形成された面を囲う面として、第2のマスク層3に形成された円形開口部のうち、第1のマスク層2に覆われていない複数の円形開口部4を通じて、異方性ドライエッチングで各円形開口部4の径に応じた深さの複数の穴5をシリコン基板1に形成する。本実施形態では、円形開口部4の径は5μmから40μmとしている。本実施形態における異方性ドライエッチングの条件は、上記した実施形態と同様である。
次に、図1(c)に示すように、第1のマスク層2を除去し、第2のマスク層3の全円形開口部を開け、これらの円形開口部と先に形成した複数の穴5を通じて、異方性ドライエッチングにより、レンズ型中心部と外周部の穴深さの差が大きくなる。第1のマスク層2は、この円形領域内の外周部に存在する複数の円形開口部を覆うように第2のマスク層3の上に形成される。
次に、図1(d)に示すように、等方性エッチングを行い、前記工程の異方性ドライエッチングでシリコン基板1に形成した深さの異なる複数の穴の側壁を除去して、穴同士を融合する。本実施形態における等方性ドライエッチングの条件は、上記した実施形態と同様である。
次に、図1(e)に示すように、第1のマスク層2を除去し、型表面を平滑化するためにスムージング処理を行う。
次に、図1(f)に示すように、レンズ凹型6の表面に型を硬化させる保護膜7を形成する。保護膜は、例えば、酸化シリコン等で形成する。
次に、図1(g)に示すように、レンズ凹型6の表面にレンズ材に対して剥離性の良い膜8を形成する。例えば、レンズ材がガラスである場合には、膜8をカーボン径の材質で形成すればよい。
このようにして製造されたマイクロレンズ用型を用いて、次の手順でマイクロレンズを成型することができる。図3(a)に示すように、シリコン基板1に形成したマイクロレンズ用型にレンズ材10を転写した後に、図3(b)に示すようにシリコン基板1を型裏面からエッチングし、続いて図3(c)に示すように保護膜7を除去することにより、マイクロレンズをマイクロレンズ用型から剥離することなくレンズ表面を露出させることができる。これにより、レンズ表面を傷つけることなくマイクロレンズの成型を行うことが可能となる。
また、このようにして製造されたマイクロレンズ用型を用いて、次の手順でマイクロレンズを成型することができる。図4に示すように、シリコン基板で形成した2枚の型でレンズ材10を挟む。このとき、粗合わせ機構11と精密位置合わせ機構12とを使って、両面のレンズ中心軸が合うように、加熱しながらプレスする。精密位置合わせ機構12は、レンズ型を形成する際に、シリコン基板にエッチングで形成することができる。
以上説明したように、本実施形態では、第1のマスク層2に形成する円形開口部4の径とそれらの配置、第2のマスク層3により包囲する円形領域の径、各エッチング工程の時間を適宜設計することにより、任意の非球面を有し、かつ、所望の厚さのマイクロレンズを成型するための型を形成することができる。具体的には、レンズ径が1mm以下で厚さが0.3mm以上といった寸法を有する非球面マイクロレンズを成型するための型を製造することができる。また、上記スムージング処理により表面が平滑なマイクロレンズ用型を得ることができる。
以上、本発明のマイクロレンズ用型の製造方法について、具体的な実施の形態を示して説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。当業者であれば、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において、上記各実施形態又は他の実施形態にかかる発明の構成及び機能に様々な変更・改良を加えることが可能である。
1 単結晶シリコン基板
2 第1のマスク層
3 第2のマスク層
4 円形開口部
5 穴
6 レンズの凹型
7 シリコンをエッチングするガス又は液体に腐食され難い保護膜
8 レンズ材に対して剥離性の良い膜
10 レンズ材
11 粗合わせ機構
12 精密位置合わせ機構
2 第1のマスク層
3 第2のマスク層
4 円形開口部
5 穴
6 レンズの凹型
7 シリコンをエッチングするガス又は液体に腐食され難い保護膜
8 レンズ材に対して剥離性の良い膜
10 レンズ材
11 粗合わせ機構
12 精密位置合わせ機構
Claims (6)
- 任意の非球面を有し、かつ、厚さがレンズ口径の半分より大きいマイクロレンズを製造するための型の製造方法であって、
シリコン基板上に当該型の凹部よりも径の小さい円形領域を包囲する形状の一のマスク層を形成し、さらに、前記円形領域上に径の異なる複数の円形開口部を有する他のマスク層を形成し、
前記複数の円形開口部を通じて、前記円形領域内のシリコン基板に対して異方性ドライエッチングを行うことにより、前記シリコン基板に各円形開口部の径に応じた深さの複数の穴を形成し、
前記複数の円形開口部を通じて、前記円形領域内のシリコン基板に対して等方性エッチングを行うことにより、前記複数の穴の側壁を除去して穴同士を融合し、
前記他のマスク層を除去した後に、前記一のマスク層の前記円形領域を通じて、前記穴同士が融合して形成された凹部に対して等方性エッチングを行うことにより、当該凹部を拡大させるとともに表面を平滑化した後、前記一のマスク層を除去することを含む方法。 - 任意の非球面を有し、かつ、厚さがレンズ口径の半分より大きいマイクロレンズを製造するための型の製造方法であって、
シリコン基板上に当該型の凹部よりも径の小さい円形領域を包囲する形状の一のマスク層を形成し、さらに、前記円形領域上に径の異なる複数の円形開口部を有する他のマスク層を形成し、
前記複数の円形開口部を通じて、前記円形領域内のシリコン基板に対して異方性ドライエッチングを行うことにより、前記シリコン基板に各円形開口部の径に応じた深さの複数の穴を形成し、
前記他のマスク層を除去した後に、前記一のマスク層の前記円形領域を通じて等方性エッチングを行うことにより、前記複数の穴の側壁を除去して穴同士を融合して凹部を形成し、
前記凹部が形成された後、前記一のマスク層を除去することを含む方法。 - 任意の非球面を有し、かつ、厚さがレンズ口径の半分よりも大きいマイクロレンズを製造するための型の製造方法であって、
シリコン基板上に当該型の凹部に対応する円形領域上に径の異なる複数の円形開口部を有する一のマスク層を形成し、さらに、前記円形領域内の外周部に存在する複数の円形開口部を覆う他のマスク層を形成し、
前記複数の円形開口部のうち、前記他のマスク層に覆われていない複数の円形開口部を通じて、前記円形領域内のシリコン基板に対して異方性ドライエッチングを行うことにより、前記シリコン基板に各円形開口部の径に応じた深さの複数の穴を形成し、
前記他のマスク層を除去した後に、前記円形領域内の全ての円形開口部を通じて、さらに前記円形領域内のシリコン基板に対して異方性ドライエッチングを行うことにより、前記シリコン基板に深さの異なる複数の穴を形成し、
前記複数の円形開口部を通じて、前記円形領域内のシリコン基板に対して等方性エッチングを行うことにより、前記複数の穴の側壁を除去して穴同士を融合し、
前記一のマスク層を除去した後に、等方性エッチングにより前記融合した穴の表面を平滑化することを含む方法。 - 前記一のマスク層を除去した後に、前記マイクロレンズ用型の表面に、レンズ材に対して剥離性の良い膜を形成することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のマイクロレンズ用型の製造方法。
- 前記一のマスク層を除去した後に、前記マイクロレンズ用型の表面に、型材であるシリコンをエッチングするガス又は液体に腐食され難い膜を形成することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のマイクロレンズ用型の製造方法。
- 請求項4に記載のマイクロレンズ用型の製造方法により製造されたマイクロレンズ用型を用いて、マイクロレンズを成型する方法であって、
前記マイクロレンズ用型の任意の非球面を有する表面の形状をレンズ材に転写した後、前記マイクロレンズ用型の前記表面とは反対側の面に対してエッチングを行ってシリコン基板を除去し、さらに前記表面に形成された膜を除去することにより、マイクロレンズを成型する方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006041346A JP2007219303A (ja) | 2006-02-17 | 2006-02-17 | マイクロレンズ用型の製造方法 |
KR1020070004858A KR100815221B1 (ko) | 2006-02-17 | 2007-01-16 | 마이크로 렌즈용 몰드의 제조방법 |
US11/624,268 US20070194472A1 (en) | 2006-02-17 | 2007-01-18 | Process of fabricating microlens mold |
CNA2007100039745A CN101025445A (zh) | 2006-02-17 | 2007-01-19 | 微透镜用模具的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006041346A JP2007219303A (ja) | 2006-02-17 | 2006-02-17 | マイクロレンズ用型の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007219303A true JP2007219303A (ja) | 2007-08-30 |
JP2007219303A5 JP2007219303A5 (ja) | 2008-05-08 |
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ID=38427374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006041346A Withdrawn JP2007219303A (ja) | 2006-02-17 | 2006-02-17 | マイクロレンズ用型の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070194472A1 (ja) |
JP (1) | JP2007219303A (ja) |
KR (1) | KR100815221B1 (ja) |
CN (1) | CN101025445A (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101545993B (zh) * | 2008-03-26 | 2012-04-18 | 江苏宜清光电科技有限公司 | 复眼透镜模具及其制造工艺 |
EP2226689A1 (fr) * | 2009-03-02 | 2010-09-08 | Montres Breguet SA | Pont ou platine pour un mouvement d'horlogerie |
CN101885577A (zh) * | 2009-05-14 | 2010-11-17 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 压印成型微小凹透镜阵列的模仁、模压装置及方法 |
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KR101255726B1 (ko) | 2012-03-14 | 2013-04-17 | 한국기계연구원 | 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 및 렌즈 제작방법 |
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Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2006
- 2006-02-17 JP JP2006041346A patent/JP2007219303A/ja not_active Withdrawn
-
2007
- 2007-01-16 KR KR1020070004858A patent/KR100815221B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-01-18 US US11/624,268 patent/US20070194472A1/en not_active Abandoned
- 2007-01-19 CN CNA2007100039745A patent/CN101025445A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20070082853A (ko) | 2007-08-22 |
CN101025445A (zh) | 2007-08-29 |
US20070194472A1 (en) | 2007-08-23 |
KR100815221B1 (ko) | 2008-03-19 |
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A521 | Request for written amendment filed |
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|
A621 | Written request for application examination |
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|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20090814 |