KR101255726B1 - 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 및 렌즈 제작방법 - Google Patents

전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 및 렌즈 제작방법 Download PDF

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장성환
최두선
김재현
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한국기계연구원
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본 발명은 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법은 기판부 상에 자성을 가지는 재질의 전사패턴을 형성하는 전사패턴 형성단계; 상기 전사패턴을 버퍼부에 전사하는 제1전사단계; 오목한 형상의 함몰부가 형성되는 마스터를 마련하는 마스터 마련단계; 상기 버퍼부에 전사된 상기 전사패턴을 자력을 이용하여 상기 마스터에 부착하여 렌즈몰드를 제작하는 렌즈몰드 제작단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 의하여, 나노/마이크로 렌즈몰드를 용이하게 제작하고, 나노/마이크로 렌즈를 저렴하게 대량으로 생산할 수 있는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법 및 렌즈 제작방법이 제공된다.

Description

전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 및 렌즈 제작방법{METHOD FOR FABRICATING LENS MOLD AND LENS USING TRANSFER}
본 발명은 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 및 렌즈 제작방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 전사공정을 이용하여 나노/마이크로 구조의 렌즈몰드를 및 렌즈를 용이하게 제작할 수 있는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 및 렌즈 제작방법에 관한 것이다.
마이크로 렌즈는 카메라 모듈, 광통신, 의료기기, 멀티미디어기기, 전자기기 분야 등의 부품에 다양하게 응용되고 있으며, 반도체 레이저와 광섬유와의 연결 부분에서 레이저의 퍼짐현상을 막는데 사용되거나, 광 감지 센서에서 센서의 효율을 증대시켜 디스플레이 성능을 향상시키는데 사용된다.
한편, 상술한 마이크로 렌즈 상에 나노 크기의 구조물이 형성되는 복합형 렌즈를 나노/마이크로 하이브리드 렌즈라고 한다. 이러한 복합형 렌즈는 나노 구조물을 통하여 렌즈 표면 특성을 다양하게 변형시킬 수 있으며, 구체적으로는 모스아이(moth eye)효과를 이용한 반사방지, 습기방지, 접촉시의 지문방지, 자가세정(self-cleaning) 등의 효과를 구현할 수 있다. 이러한 특수성으로 인하여 나노/마이크로 하이브리드 복합형 렌즈에 대한 연구가 지속적으로 진행되고 있다.
다만, 이러한 장점에도 불구하고, 종래에는 마이크로 렌즈의 구면 상에 엠보싱 형상의 나노 구조물을 형성하는 공정은 시간이 오래 걸리고 비용이 많이 소요되어 나노/마이크로 하이브리드 렌즈를 대량으로 생산하는 데에는 어려움이 있다는 문제가 있었다.
한편, 한국공개특허공보 제10-2012-0074038호에서는 같이 임프린팅 공정을 이용하여 마이크로-나노 패턴이 형성되는 광학소자를 제작하는 내용에 관하여 개시하고 있으나, 곡률을 가지는 구조물 상에 복합패턴을 부착하는 용도로는 부적합한 면이 있었다.
따라서, 본 발명의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 저비용으로 정밀한 나노/마이크로 구조를 가지는 렌즈몰드 및 렌즈를 제작할 수 있는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법을 제공함에 있다.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 기판부 상에 자력에 영향을 받는 재질의 전사패턴을 형성하는 전사패턴 형성단계; 상기 전사패턴을 버퍼부에 전사하는 제1전사단계; 오목한 형상의 함몰부가 형성되는 마스터를 마련하는 마스터 마련단계; 상기 버퍼부에 전사된 상기 전사패턴을 자력을 이용하여 상기 마스터에 부착하여 렌즈몰드를 제작하는 렌즈몰드 제작단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법에 의해 달성된다.
또한, 상기 렌즈몰드 제작단계에서 상기 전사패턴이 배치되는 반대편의 상기 마스터 면에 자력을 가지는 자성부를 배치함으로써, 상기 전사패턴이 상기 마스터에 부착되도록 할 수 있다.
또한, 상기 렌즈몰드 제작단계는 상기 버퍼부에 형성되는 전사패턴을 상기 마스터로 전사하는 제2전사단계; 상기 전사패턴이 배치되는 반대패턴의 상기 마스터 면에 자력을 가지는 자성부를 배치함으로써, 상기 전사 패턴이 상기 마스터에 부착되도록 하는 자력인가단계;를 포함할 수 있다.
또한, 상기 전사패턴 형성단계는 기판부가 형성되도록 베이스 상에 희생층을 적층하는 희생층 적층단계; 상기 희생층 상에 상기 전사패턴을 패터닝 하는 패터닝 단계;를 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1전사단계와 상기 마스터 마련단계 사이에 상기 희생층을 제거하는 희생층 제거단계;를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 희생층 적층단계에서 상기 희생층은 이산화 규소(SiO2)이고, 상기 희생층 제거단계는 플루오루화수소(HF) 용액 또는 버퍼된 산화 식각(BOE) 용액 중 어느 하나로 상기 희생층을 제거하거나 전기화학적 에칭(electrochemical etching)을 이용하여 상기 희생층을 제거할 수 있다.
또한, 상기 전사패턴 형성단계는 상호 이격되는 복수개의 스트라이프(stripe) 형태 또는 그리드(grid) 형태의 전사패턴을 증착할 수 있다.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 제1항 내지 제6항 중 어느 하나의 방법으로 제작되는 렌즈몰드에 UV 레진을 충진하는 충진단계; 상기 렌즈몰드에 충진된 상기 UV 레진을 경화하는 경화단계; 상기 렌즈몰드로부터 상기 UV 레진을 이형하는 이형단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노/마이크로 렌즈 제작방법에 의해 달성된다.
본 발명에 따르면, 전사 공정 및 자력을 이용하여 나노/마이크로 구조의 렌즈몰드를 비교적 저비용으로 정밀하게 제작할 수 있는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법이 제공된다.
또한, 희생층을 이용하여 전사시에 전사패턴이 용이하게 분리되도록 함으로서 공정상의 불량률을 최소화할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 저비용으로 나노/마이크로 구조의 렌즈를 대량으로 생산할 수 있는 나노/마이크로 렌즈 제작방법이 제공된다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 공정 흐름도이고,
도 2는 도 1의 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 전사패턴 형성단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 3은 도 1의 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 전사단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 4는 도 1의 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 마스터 마련단계와 렌즈몰드 제작단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 공정 흐름도이고,
도 6은 도 5의 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 전사패턴 형성단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 7은 도 5의 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 전사단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 8은 도 5의 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 희생층 제거단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 9는 본 발명의 제3실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 렌즈몰드 제작단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 10은 본 발명에 따른 나노/마이크로 렌즈 제작방법의 개략적인 과정을 도시한 것이다.
설명에 앞서, 여러 실시예에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예에서는 제1실시예와 다른 구성에 대해서 설명하기로 한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 제1실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법(S100)에 대하여 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 공정 흐름도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법(S100)은 전사패턴 형성단계(S110)와 제1전사단계(S120)와 마스터 마련단계(S130)와 렌즈몰드 제작단계(S140)를 포함한다.
도 2는 도 1의 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 전사패턴 형성단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 2를 참조하면, 상기 전사패턴 형성단계(S110)에서는 나노 크기의 전사패턴(120)을 소정 형상으로 기판부(110) 상에 형성한다.
즉, 본 단계는 후술하는 마스터(140) 상에 부착되어 최종 제작되는 렌즈몰드(M) 상의 구조물이 되는 전사패턴(120)을 상기 기판부(110) 상에 패터닝하는 단계이다. 본 실시예에서는 니켈(Ni), 코발트(Co), 철(Fe) 등 자력에 영향을 받는 금속재질을 스퍼터링(sputtering), 이베퍼레이션(evaporation) 등의 방법을 이용하여 증착한 후에, E-beam 리소그래피 방식과 RIE(Reactive Ion Etching) 공정을 통하여 패터닝한다.
한편, 전사패턴(120)은 나노/마이크로 렌즈몰드(M) 상에서 최종 형성될 구조물의 형상이 되는 것이므로 이를 고려하여 패터닝한다.
즉, 도 2(b)에 도시된 바와 같이, 본 실시예에서 전사패턴(120)은 복수개의 스트라이프(stripe) 형상의 패턴이 상호 이격되는 형태로 패터닝되거나, 도 2(c)에 도시된 바와 같이, 그리드(grid)형으로 패터닝될 수 있으나, 형성되는 전사패턴(120)이 상술한 형상에 제한되는 것은 아니다.
또한, 형성되는 전사패턴(120) 간의 이격거리, 즉, 기판부(111) 상에서의 전사패턴의 밀집정도는 후술하는 렌즈몰드 제작단계(S140)에서 전사패턴(120)이 부착되는 함몰부(141)의 곡률을 고려하여 결정하는 것이 바람직하다. 예를 들어 설명하면, 함몰부(141)가 형성되지 않는 마스터(140)의 영역 상에 부착될 전사패턴(120) 들을 함몰부(141) 상에 부착될 전사패턴(120)보다 조밀하게 형성함으로써, 최종 제작되는 렌즈몰드(M)의 각 영역에서의 부착되는 전사패턴(120)의 밀집도를 조절할 수 있다.
도 3은 도 1의 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 제1전사단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 3을 참조하면, 상기 제1전사단계(S120)는 상술한 전사패턴 형성단계(S110)에서 형성된 전사패턴(120)을 소정의 버퍼부(130)에 전사(transfer)하는 단계이다. 먼저, 버퍼부(130)의 하면을 전사패턴(120)의 상면과 접촉시킨 후에, 소정의 열(H)과 압력(P)을 가함으로써 전사패턴(120)은 기판부(110)로부터 분리되어 버퍼부(130)에 전사된다.
기판부(110)는 인가되는 열(H)과 압력(P)에 의하여 전사패턴(120)을 분리시키고, 이로부터 전사패턴(120)은 접촉하고 있는 버퍼부(130)의 하면과 접촉, 결합함으로써 버퍼부(130)에 전사된다.
한편, 본 실시예의 제1전사단계(S120)에서는 전사패턴(120)이 열전사 테이프(thermal release tape)로 패터닝되어 열전사(heat transfer) 공정을 이용하였으나, 이에 제한되는 것은 아니고, 상술한 전사패턴 형성단계(S110)에서 선택되는 전사패턴의 재질에 따라 열전사 공정이 아닌 UV광 전사(UV transfer)에 의할 수도 있다.
도 4는 도 1의 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 마스터 마련단계와 렌즈몰드 제작단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 4(a)를 참조하면, 상기 마스터 마련단계(S130)는 버퍼부(130)에 전사된 전사패턴(120)이 부착되는 마스터(140)를 마련, 제작하는 단계로서, 내부로 오목하게 함몰되는 함몰부(141)가 형성되는 마스터(140)를 제작하는 단계이다.
상기 렌즈몰드 제작단계(S140)는 함몰부(141)가 형성되는 마스터(140)의 면 상에 버퍼부(130)의 하면에 전사된 전사패턴(120)을 부착시키는 단계이다.
도 4(b)를 참조하면, 먼저, 마스터(140)의 함몰부(141)가 형성되는 면과 전사패턴(120)이 전사된 버퍼부(130)의 면이 서로 마주보도록 대향시킨다. 다음으로, 도 4(c)에 도시된 바와 같이, 함몰부(141)가 형성되지 않은 마스터(140)의 면, 즉, 함몰부(141)가 형성되는 면의 맞은편 면에 강한 자력을 가지는 자성부(150)를 부착한다.
이때, 버퍼부(130) 상에 전사되어 있던 전사패턴(120)은 자성부(150)와의 사이에서 작용하는 인력의 영향을 받아 자성부(150)가 위치한 방향 쪽으로 힘을 받게 되고, 전사패턴(120)은 버퍼부으로부터 분리되어 마스터(140)에 부착된다. 즉, 전사패턴(120)은 자성부(150)와의 인력으로부터 함몰부(141)를 포함하는 마스터(140) 상면에 부착되어 고정된다.
따라서, 본 단계에서 마스터(140) 상에 전사패턴(120)이 부착됨으로써 전사패턴(120), 마스터(140), 자성부(150)를 포함하는 렌즈몰드(M)가 최종 제작되게 된다.
다음으로 본 발명의 제2실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법(S200)에 대하여 설명한다.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 공정 흐름도이다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 제2실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법(S200)은 전사패턴 형성단계(S210)와 제1전사단계(S220)와 희생층 제거단계(S230)와 마스터 마련단계(S240)와 렌즈몰드 제작단계(S250)를 포함한다.
다만, 본 발명의 제2실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법(S200)의 마스터 마련단계(S240)와 렌즈몰드 제작단계(S250)는 제1실시예에서 상술한 공정과 동일한 것이므로 중복설명은 생략한다.
도 6은 도 5의 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 전사패턴 형성단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 6을 참조하면, 상기 전사패턴 형성단계(S210)는 마스터 상에 부착될 소정 형상의 전사패턴(220)을 형성하는 단계로서, 희생층 적층단계(S211)와 패터닝 단계(S212)를 포함한다.
도 6(a)에 도시된 바와 같이, 상기 희생층 적층단계(S211)는 베이스(211) 상에 희생층(212)을 적층하여 기판부(210)를 제작하는 단계로서, 본 실시예에서는 실리콘(Si) 재질의 베이스(211) 상에 본 기술분야에서 널리 알려진 방법을 통하여 이산화규소(SiO2) 재질의 희생층(212)을 증착함으로써 기판부(210)를 제작할 수 있다. 다만, 상술한 베이스(211) 및 희생층(212)의 재질, 적층방법은 이에 제한되는 것은 아니다.
도 6(b)에 도시된 바와 같이, 상기 패터닝 단계(S212)는 마스터 상에 부착되어 최종 제작되는 렌즈몰드(M) 상의 구조물이 되는 전사패턴(220)을 상기 기판부(210), 즉, 이산화규소(SiO2) 재질의 희생층(212) 상에 패터닝하는 단계이다. 본 실시예에서는 니켈(Ni), 코발트(Co), 철(Fe) 등 자력에 영향을 받는 금속재질을 스퍼터링(sputtering), 이베퍼레이션(evaporation) 등의 방법을 이용하여 증착한 후에, E-beam 리소그래피 방식과 RIE(Reactive Ion Etching) 공정을 통하여 패터닝한다.
한편, 전사패턴(220)은 나노/마이크로 렌즈몰드(M) 상에서 최종 형성될 구조물의 형상이 되는 것이므로 이를 고려하여 패터닝한다. 본 실시예에서 전사패턴(220)은 복수개의 스트라이프(stripe) 형상의 패턴이 상호 이격되는 형태로 패터닝되나, 전사패턴(220)의 형상이 이에 제한되는 것은 아니다.
도 7은 도 5의 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 제1전사단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 7을 참조하면, 상기 제1전사단계(S220)는 열(H)과 압력(P)을 가하여 전사패턴(220)을 희생층(212)으로부터 분리하고 버퍼부(230)에 전사시키는 단계이다. 즉. 본 실시예에 의하면, 베이스(211)와 전사패턴(220) 사이에 열(H)과 압력(P)에 의하여 전사패턴(220)이 버퍼부(230)에 부착된다.
도 8은 도 5의 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 희생층 제거단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 8을 참조하면, 상기 희생층 제거단계(S230)는 베이스(211) 상에 적층되는 희생층(212)을 제거하는 단계이다.
본 단계에서는 플루오르화수소(HF) 용액 또는 버퍼된 산화 식각(BOE) 용액 중 어느 하나를 이용하여 희생층(212)을 제거한다. 즉, 상술한 제1전사단계(S220)에 의하여 일면이 버퍼부(230)에 부착되는 전사패턴(220)의 타면과 부착상태에 있는 희생층(212)을 제거함으로써, 베이스(211)로부터 전사패턴(220)을 분리시킨다. 즉, 희생층 제거단계(S230)에 의하여 희생층(212)이 제거됨에 따라, 전사패턴은 베이스(211)로부터 분리되고 버퍼부(230)에 부착된 상태가 된다.
한편, 본 실시예의 희생층 제거단계(S230)는 에칭액을 이용하여 희생층(212)을 제거하였으나, 이에 제한되지 않고, 변형례에서 희생층 제거단계(S230)는 전기화학적 에칭(electrochemical etching)에 의하여 희생층(212)을 제거할 수도 있다.
따라서, 버퍼부(230)에 전사된 전사패턴(220)은 제1실시예에서와 상술한 공정과 동일한 공정의 마스터 마련단계(S240)와 렌즈몰드 제작단계(S250)를 거치면서 렌즈몰드(M)가 최종 제작될 수 있다.
즉, 상술한 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에서와 같이 열과 압력에 의하여 전사패턴을 용이하게 분리할 수 있는 재질의 베이스를 사용하여, 베이스 자체를 기판부로 이용함으로써, 베이스 자체에 희생층을 적층하지 않은 상태에서 전사패턴을 직접 패터닝하는 방법을 이용할 수도 있으며, 본 발명의 제2실시예에서와 같이 별도의 희생층을 베이스와 전사패턴 사이에 개재하여 제1전사단계에서 전사패턴이 용이하게 분리되어 버퍼부에 모두 전사될 수 있도록 유도할 수도 있다.
다음으로 본 발명의 제3실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법(S300)에 대하여 설명한다.
본 발명의 제3실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법(S300)은 전사패턴 형성단계(S110)와 제1전사단계(S120)와 마스터 마련단계(S130)와 렌즈몰드 제작단계(S340)를 포함한다.
다만, 본 발명의 제2실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법(S100)의 전사패턴 형성단계(S110)와 제1전사단계(S120)와 마스터 마련단계(S130)는 제1실시예에서 상술한 공정과 동일한 것이므로 중복설명은 생략한다.
도 9는 본 발명의 제3실시예에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법의 렌즈몰드 제작단계의 과정을 개략적으로 도시한 것이다.
상기 렌즈몰드 제작단계(S340)는 함몰부(341)가 형성되는 마스터(340) 상에 버퍼부(330)에 전사된 전사패턴(320)을 부착시키는 단계로서, 제2전사단계(S341)와 자력인가단계(S342)를 포함한다.
도 9(a)에 도시된 바와 같이, 상기 제2전사단계(S341)는 전사패턴(320)을 버퍼부(330)으로부터 분리하여 마스터(340)상에 전사하는 단계이다.
즉, 본 단계에 의하면, 전사패턴(320)의 일부는 함몰부(341)가 형성되지 않는 마스터(340)의 상면에 전사되며, 나머지 전사패턴(320)은 함몰부(341)의 상측에 배치된다.
도 9(b)에 도시된 바와 같이, 상기 자력인가단계(S342)는 마스터(340)의 하단에 자성부(350)를 배치하여 자력을 인가함으로써, 마스터(340) 상에 전사된 전사패턴(320)이 함몰부(341) 내로 유인되도록 한다.
따라서, 함몰부(341)의 내벽면으로부터 이격된 상태를 유지하던 본 단계에서 인가되는 자력에 의하여 함몰부(341) 내벽면에 부착되고, 최종 렌즈몰드가 형성된다.
다음으로, 상술한 본 발명의 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법(S100, S200, S300)에 의하여 제작되는 렌즈몰드를 이용한 나노/마이크로 렌즈 제작방법(S400)에 대해서 설명한다.
도 10은 본 발명에 따른 나노/마이크로 렌즈 제작방법의 개략적인 과정을 도시한 것이다.
도 10을 참조하면, 본 실시예의 나노/마이크로 렌즈 제작방법(S400)은 충진단계(S410)와 경화단계(S420)와 이형단계(S430)를 포함한다.
도 10(a)에 도시된 바와 같이, 상기 충진단계(S410)는 상술한 방법에 의하여 제작되는 렌즈몰드(M)에 UV 경화 레진(410)을 충진하는 단계이다.
도 10(b)에 도시된 바와 같이, 상기 경화단계(S420)는 상기 충진된 UV 경화 레진(410)을 경화하는 단계이다.
도 10(c)에 도시된 바와 같이, 상기 이형단계(S430)는 상기 렌즈몰드(M)로부터 상술한 과정을 통해 경화된 UV 경화 레진(410)을 이형하여 렌즈(L)를 최종제작하는 단계이다.
한편, 본 실시예에서는 UV 경화 레진을 이용하였으나, 이에 제한되는 것은 아니고, 열 경화 레진이 이용될 수도 있다.
따라서, 본 실시예에 따르면, 나노/마이크로 구조의 렌즈(L)를 용이하게 제작할 수 있다.
본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.
110 : 기판부 140 : 마스터
120 : 전사패턴 141 : 함몰부
130 : 버퍼부 150 : 자성부

Claims (8)

  1. 기판부 상에 자력에 영향을 받는 재질의 전사패턴을 형성하는 전사패턴 형성단계;
    상기 전사패턴을 버퍼부에 전사하는 제1전사단계;
    오목한 형상의 함몰부가 형성되는 마스터를 마련하는 마스터 마련단계;
    상기 버퍼부에 전사된 상기 전사패턴을 자력을 이용하여 상기 마스터에 부착하여 렌즈몰드를 제작하는 렌즈몰드 제작단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 렌즈몰드 제작단계에서 상기 전사패턴이 배치되는 반대편의 상기 마스터 면에 자력을 가지는 자성부를 배치함으로써, 상기 전사패턴이 상기 마스터에 부착되도록 하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 렌즈몰드 제작단계는 상기 버퍼부에 형성되는 전사패턴을 상기 마스터로 전사하는 제2전사단계; 상기 전사패턴이 배치되는 반대패턴의 상기 마스터 면에 자력을 가지는 자성부를 배치함으로써, 상기 전사 패턴이 상기 마스터에 부착되도록 하는 자력인가단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 전사패턴 형성단계는 기판부가 형성되도록 베이스 상에 희생층을 적층하는 희생층 적층단계; 상기 희생층 상에 상기 전사패턴을 패터닝 하는 패터닝 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제1전사단계와 상기 마스터 마련단계 사이에 상기 희생층을 제거하는 희생층 제거단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 희생층 적층단계에서 상기 희생층은 이산화 규소(SiO2)이고,
    상기 희생층 제거단계는 플루오루화수소(HF) 용액 또는 버퍼된 산화 식각(BOE) 용액 중 어느 하나로 상기 희생층을 제거하거나 전기화학적 에칭(electrochemical etching)을 이용하여 상기 희생층을 제거하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 전사패턴 형성단계는 상호 이격되는 복수개의 스트라이프(stripe) 형태 또는 그리드(grid) 형태의 전사패턴을 증착하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 방법으로 제작되는 렌즈몰드에 UV 경화레진 또는 열 경화 레진을 충진하는 충진단계;
    상기 렌즈몰드에 충진된 상기 레진을 경화하는 경화단계;
    상기 렌즈몰드로부터 상기 레진을 이형하는 이형단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노/마이크로 렌즈 제작방법.
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