JP2007211055A - セルロース化合物組成物及びセルロース化合物フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】光学異方性が制御されたフィルムを形成でき、ハロゲン系混合溶媒に良好な溶解性を示すセルロース化合物組成物の提供。
【解決手段】セルロース化合物と、一般式（１）で表される化合物とを含有する組成物。

［Ｒ¹〜Ｒ⁵は水素原子または置換基を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁵のうちのいずれか一つは−Ｌ³−Ｑ¹で表される基を表し、Ｑ¹はアルコキシ構造含有エーテル基を表す。Ｌ¹〜Ｌ^４は単結合または二価の連結基、Ａｒ¹はアリーレン基または芳香族へテロ環基、Ａｒ²はアリール基または芳香族へテロ環基を表す。ｎは０以上の整数。］
【選択図】なし

Description

本発明は、セルロース化合物組成物および前記セルロース化合物組成物からなるセルロース化合物フィルムに関する。

セルロースフィルムの中でも、セルロースアセテートフィルムは、他のポリマーフィルムと比較して光学的等方性が高い（レターデーション値が低い）という特徴がある。そのため光学的等方性が要求される用途、例えば偏光板に、セルロースアセテートフィルムを用いることが一般的である。これとは逆に液晶表示装置等の光学補償シート（位相差フィルム）には光学的異方性（高いレターデーション値）が要求される。そこで光学補償シートとしては、一般的にポリカーボネートフィルムやポリスルホンフィルムのようなレターデーション値が高い合成ポリマーフィルムが用いられる。

一方、最近になって光学的異方性が要求される用途にも使用できる高いレターデーション値を有するセルロースアセテートフィルムが提案されている（例えば特許文献１及び２参照）。そのセルローストリアセテートフィルムは、高いレターデーション値を実現するために、少なくとも２つの芳香環を有する芳香族化合物、中でも１，３，５−トリアジン環を有する化合物が添加され、延伸処理が行われている。
一般的にセルローストリアセテートは延伸しにくい高分子素材であり、光学的異方性を十分に高めることは困難である。前記特許文献１では、添加剤を延伸処理で同時に配向させることにより光学的異方性を大きくし、高いレターデーション値を実現している。

これらのフィルムが用いられる液晶表示装置についてみると、軽量化、製造コストの低減が求められており、液晶セルの薄膜化が必須となっている。そこで光学補償シートとするフィルムにおいては高い光学性能が求められ、前記の１，３，５−トリアジン環を有する化合物フィルムで実現できる程度の光学的異方性（Ｒｅ：フィルム面内のレターデーション値、Ｒｔｈ：フィルム厚み方向におけるレターデーション値）では足りず、より高いＲｅ値とより高いＲｔｈ値とを併せ持つフィルムが要求されている。すなわち、特許文献１で開示された方法では、Ｒｅ値とＲｔｈ値を目的の値に組み合わせたフィルムとすることができず、新たな光学性能制御技術の開発が必要となっている。

また、製造コストの低減を考えると少ない添加量で高いＲｅ値と、高いＲｔｈ値を発現する化合物が望まれている。
欧州特許出願公開０９１１６５６Ａ２号明細書 特開２００３−３４４６５５号公報 特開平１２−９５８７７号公報

本発明は、光学異方性が制御され、光学性能に優れたセルロース化合物フィルムを形成できる化合物、およびセルロース化合物組成物、並びに該セルロース化合物組成物からなるセルロース化合物フィルムを提供することを目的とする。また、光学性能に優れた光学フィルム、および偏光板、並びに画像特性に優れた液晶表示装置を提供することを目的とする。

本発明の目的は、下記手段により達成された。
［１］セルロース化合物と、少なくとも１種の下記一般式（１）で表される化合物とを含有することを特徴とするセルロース化合物組成物。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵のうちのいずれか一つは−Ｌ³−Ｑ¹で表される基を表す。Ｑ¹は一般式Ｑ１で表される基を表す。

（一般式Ｑ１中、＊はＬ³に結合する結合手を表す。Ｒは水素原子または炭素数１以上のアルキル基を表す。ｍは０以上の整数を表す。ｒは０以上の整数を表す。Ｒ^６は水素原子または置換基を表す。）Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、Ｌ^４はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基を表し、Ａｒ¹はアリーレン基または芳香族へテロ環基を表し、Ａｒ²はアリール基または芳香族へテロ環基を表し、ｎは０以上の整数を表し、ｎが２以上の整数である場合、二つ以上のＬ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、二つ以上のＡｒ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。］
［２］前記一般式（１）中のＲ³が前記−Ｌ³−Ｑ¹で表される基であることを特徴とする［１］項に記載のセルロース化合物組成物。
［３］前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする［１］又は［２］項に記載のセルロース化合物組成物。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｑ¹は一般式Ｑ１で表される基を表す。

（一般式Ｑ１中、＊はＬ³に結合する結合手を表す。Ｒは水素原子または炭素数１以上のアルキル基を表す。ｍは０以上の整数を表す。ｒは０以上の整数を表す。Ｒ^６は水素原子または置換基を表す。）Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基を表し、Ａｒ¹はアリーレン基または芳香族へテロ環基を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｎが２以上の整数である場合、二つ以上のＬ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、二つ以上のＡｒ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。］
［４］前記セルロース化合物としてセルロースアシレートを含有することを特徴とする［１］〜［３］のいずれか１項に記載のセルロース化合物組成物。
［５］［１］〜［４］のいずれか１項に記載のセルロース化合物組成物を用いたことを特徴とするセルロース化合物フィルム。
［６］［１］〜［５］のいずれか１項に記載のセルロース化合物フィルムからなる光学フィルム。
［７］［６］に記載の光学フィルムを有する、偏光板。
［８］［７］に記載の偏光板を有する、液晶表示装置。
［９］下記一般式（１）で表される化合物。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵のうちのいずれか一つは−Ｌ³−Ｑ¹で表される基を表す。Ｑ¹は一般式Ｑ１で表される基を表す。

（一般式Ｑ１中、＊はＬ³に結合する結合手を表す。Ｒは水素原子または炭素数１以上のアルキル基を表す。ｍは０以上の整数を表す。ｒは０以上の整数を表す。Ｒ^６は水素原子または置換基を表す。）Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、Ｌ^４はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基を表し、Ａｒ¹はアリーレン基または芳香族へテロ環基を表し、Ａｒ²はアリール基または芳香族へテロ環基を表し、ｎは０以上の整数を表し、ｎが２以上の整数である場合、二つ以上のＬ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、二つ以上のＡｒ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。］
［１０］下記一般式（２）で表される化合物。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｑ¹は一般式Ｑ１で表される基を表す。

（一般式Ｑ１中、＊はＬ³に結合する結合手を表す。Ｒは水素原子または炭素数１以上のアルキル基を表す。ｍは０以上の整数を表す。ｒは０以上の整数を表す。Ｒ^６は水素原子または置換基を表す。）Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基を表し、Ａｒ¹はアリーレン基または芳香族へテロ環基を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｎが２以上の整数である場合、二つ以上のＬ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、二つ以上のＡｒ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい］

本発明の化合物を用いたセルロース化合物組成物はハロゲン系混合溶媒に良好な溶解性を示し、かつ高いＲｅ値と低いＲｔｈ値とを併せ持った高い光学異方性を実現した光学性能に優れたフィルムを形成するために有用である。したがってこれより得られたセルロース化合物フィルムは光学性能に優れる。
本発明のセルロース化合物フィルムは、光学フィルムとして、特に光学補償シートとして、偏光板および液晶表示装置に好適に用いることができる。

［一般式（１）又は（２）で表される化合物］
まず、本発明のセルロース化合物組成物に含まれる一般式（１）で表される化合物に関して詳細に説明する。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵のうちのいずれか一つは−Ｌ³−Ｑ¹で表される基を表す。Ｑ¹は一般式Ｑ１で表される基を表す。

（一般式Ｑ１中、＊はＬ³に結合する結合手を表す。Ｒは水素原子または炭素数１以上のアルキル基を表す。ｍは０以上の整数を表す。ｒは０以上の整数を表す。Ｒ^６は水素原子または置換基を表す。）Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、Ｌ^４はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基を表し、Ａｒ¹はアリーレン基または芳香族へテロ環基を表し、Ａｒ²はアリール基または芳香族へテロ環基を表し、ｎは０以上の整数を表し、ｎが２以上の整数である場合、二つ以上のＬ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、二つ以上のＡｒ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。］

一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及び一般式Ｑ１中Ｒ^６はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵のうちのいずれか一つは−Ｌ³−Ｑ¹で表される基を表す。Ｑ¹は一般式Ｑ１で表される基を表す。

式Ｑ１中、＊はＬ³に結合する結合手を表し、好ましくは単結合または二価の連結基を表す。二価の連結基の例としては、−Ｏ−、−ＮＲ’−（Ｒ’は水素原子、または置換基を有してもよいアルキル基もしくはアリール基を表す。）、−ＣＯ−、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、またはこれらの二価の基を２つ以上組み合わせて得られる基である。
また、Ｌ³は単結合、または２価の連結基を表し、一般式Ｑ１中の＊が一般式（１）中のベンゼン環を形成する炭素原子に直接結合する単結合であることが最も好ましい。

式Ｑ１中、Ｒは水素原子または炭素数１以上のアルキル基を表す。Ｒは、好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜４のアルキル基であり、特に好ましくはメチル基である。
式Ｑ１中、Ｒ^６として好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基、アシルアミノ基又はスルホニルアミノ基であり、更に好ましくは水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基又は水酸基であり、特に好ましくはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくはメチル基）である。

式Ｑ１中、ｍは０以上の整数を表し、好ましくは１〜７であり、より好ましくは２〜７であり、さらに好ましくは２〜３である。式Ｑ１中、ｒは０以上の整数を表し、好ましくは０〜７であり、より好ましくは０〜４であり、さらに好ましくは０である。

Ｒ¹として、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基、アシルアミノ基又はスルホニルアミノ基であり、更に好ましくは水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基又は水酸基であり、特に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくはメトキシ基）又は水素原子である。

Ｒ²として、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基又は水酸基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基又はアルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基である。）又はアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基又はメトキシ基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ³として、好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又は−Ｌ³−Ｑ¹で表される基であり、より好ましくは−Ｌ³−Ｑ¹で表される基である。

Ｒ⁴として、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基又は水酸基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基又はアルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基である。）又はアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基又はメトキシ基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ⁵として、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基又は水酸基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基又はアルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基である。）又はアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基又はメトキシ基である。最も好ましくは水素原子である。

Ａｒ¹はアリーレン基または芳香族へテロ環基を表し、(Ａｒ¹−Ｌ²)nで表される繰り返し単位中のＡｒ¹は、すべて同一であっても異なっていてもよい。Ａｒ²はアリール基または芳香族へテロ環基を表す。
一般式（１）中、Ａｒ¹で表されるアリーレン基は、好ましくは炭素数６〜３０のアリーレン基であり、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ａｒ¹で表されるアリーレン基は、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニレン基、ｏ−メチルフェニレン基、ナフチレン基などが挙げられる。
一般式（１）中、Ａｒ²で表されるアリール基として好ましくは炭素数６〜３０のアリール基であり、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ａｒ²で表されるアリール基としてより好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。

一般式（１）中、Ａｒ¹、Ａｒ²で表される芳香族ヘテロ環基は、酸素原子、窒素原子または硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環基であることができ、好ましくは５ないし６員環の酸素原子、窒素原子または硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環基である。芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、ピロロトリアゾール、ピラゾロトリアゾールなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましいものは、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾールである。また、可能な場合にはさらに置換基を有してもよい。置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。

一般式（１）中、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ^４はそれぞれ独立に単結合、または２価の連結基を表す。Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ^４は、同じであってもよく異なっていてもよい。また、(Ａｒ¹−Ｌ²)nで表される繰り返し単位中のＬ²は、すべて同一であっても異なっていてもよい。
２価の連結基の例としては、−Ｏ−、−ＮＲ’−（Ｒ’は水素原子または置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基をあらわす）、−ＣＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｓ−、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、またはこれらの二価の基を２つ以上組み合わせて得られる基である。Ｒ’は好ましくは水素原子、炭素数１〜１２の無置換のアルキル基、炭素数６〜１２の無置換のアリール基を表し、より好ましくは水素原子、炭素数１〜４の無置換のアルキル基を表し、もっとも好ましくは水素原子を表す。
Ｌ¹として、特に好ましくは単結合である。Ｌ²として、より好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ₂ＮＲ−、−ＮＲＳＯ₂−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又はアルキニレン基であり、最も好ましくは単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又はアルキニレン基である。Ｌ^４として、最も好ましくは単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又はアルキニレン基である。

本発明に用いられる一般式（１）で表される化合物において、Ａｒ¹はＬ¹又はＬ²と結合するが、Ａｒ¹がフェニレン基である場合、−Ｌ¹−Ａｒ¹−Ｌ²−及び−Ｌ²−Ａｒ¹−Ｌ²−においてＬ¹又はＬ²が互いにパラ位（１，４−位）の関係にあることが最も好ましい。

一般式（１）中、ｎは０以上の整数を表し、好ましくは１〜７であり、より好ましくは２〜７であり、さらに好ましくは３〜６である。

一般式（１）であらわされる化合物のうち特に好ましくは、Ｒ³が−Ｌ³−Ｑ¹で表される基であり、Ｌ¹が単結合であり、Ｌ²が、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ’−、−ＳＯ₂ＮＲ’−、−ＮＲ’ＳＯ₂−、−ＣＯＮＲ’−、−ＮＲ’ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、またはアルキニレン基であり、ｎが３〜６であり、Ｌ^４が、−ＯＣＯ−、またはアルキニレン基である化合物である（Ｒ’は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を表す。好ましくは水素原子である。）。

一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（２）で表される化合物であることが好ましい。次に、一般式（２）で表される化合物について説明する。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｑ¹は下式Ｑ１で表される基を表す。

（一般式Ｑ１中、＊はＬ³に結合する結合手を表す。Ｒは水素原子または炭素数１以上のアルキル基を表す。ｍは０以上の整数を表す。ｒは０以上の整数を表す。Ｒ^６は水素原子または置換基を表す。）Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基を表し、Ａｒ¹はアリーレン基または芳香族へテロ環基を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｎが２以上の整数である場合、二つ以上のＬ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、二つ以上のＡｒ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい］

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³及びＱ¹は上記一般式（１）において説明したものと同義であり、好ましい範囲も同様である。また、一般式（２）中、２つあるＲ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｌ³は、それぞれ同一でも異なっても良い。
ｎは１以上の整数を表し、好ましくは１〜７であり、より好ましくは２〜７であり、さらに好ましくは３〜６である。

一般式（２）で表される化合物の好ましいものは、Ｌ^３が単結合、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−であり、Ｒはメチル基であり、ｍは２〜３であり、ｒは０であり、Ｒ^６はメチル基であり、Ｌ¹が単結合であり、Ｌ²が、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ’−、−ＳＯ₂ＮＲ’−、−ＮＲ’ＳＯ₂−、−ＣＯＮＲ’−、−ＮＲ’ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、またはアルキニレン基（Ｒ’は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を表す。好ましくは水素原子である。）であり、Ａｒ¹がアリーレン基であり、ｎが３以上６以下であるものを挙げることができる。

また、一般式（２）における一般式Ｑ１で表される基のＲ、Ｒ^６、ｍ、ｒは、一般式（１）における一般式Ｑ１中のそれらと同じ意味であり、好ましい範囲も同一である。

以下に前述の置換基Ｔについて説明する。
置換基Ｔとして好ましくは、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、

アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換または無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、

アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５または６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、

シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、

アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、

スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換または無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、

スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換または無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、

アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、

アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換または無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表す。

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。

また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

以下に一般式（１）又は（２）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されるものではない。

一般式（１）又は（２）で表される化合物は、例えば、以下のような方法で製造することができる。３−メトキシ−１−ブタノールなどの原料化合物の酢酸エチル溶液にトリエチルアミンを加え、反応系を冷却した後、メタンスルホン酸クロライドを、反応系の温度を１５℃以下に保ちつつ滴下する。１０℃以下で攪拌した後、室温まで昇温し、攪拌し、水を加えて分液し、有機層を水洗する。有機層を乾燥し、溶媒を減圧留去することで中間体（Ａ）の粗製物を得る。次いでパラブロモフェノールのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液に炭酸カリウムを加え、中間体（Ａ）を加え、１００℃まで昇温し、攪拌する。反応終了後、系を冷却し、水、酢酸エチルを加え分液し、有機層を水洗する。有機層を乾燥し、溶媒を減圧留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、中間体（Ｂ）を得る。次いで、中間体（Ｂ）、トリメチルシリルアセチレン、トリフェニルホスフィン、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム(II)ジクロリドおよびヨウ化銅（Ｉ）をトリエチルアミンに溶解させ、窒素雰囲気下で還流する。反応終了後、系を冷却し、水、酢酸エチルを加え分液し、有機層を水洗する。有機層を乾燥し、溶媒を減圧留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製し中間体（Ｃ）を得る。次いで、中間体（Ｃ）をテトラヒドロフランに溶解し、テトラブチルアンモニウムフルオラドのテトラヒドロフラン溶液を添加し、室温で攪拌する。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出後、飽和食塩水で洗浄する。有機層を減圧濃縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、中間体（Ｄ）を得る。次いで中間体（Ｄ）、４−ブロモ安息香酸エチル、トリフェニルホスフィン、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム(II)ジクロリドおよびヨウ化銅（Ｉ）をトリエチルアミンに溶解させ、窒素雰囲気下で還流する。反応終了後、系を冷却し、水、酢酸エチルを加え分液し、有機層を水洗する。有機層を乾燥し、溶媒を減圧留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製を行い中間体（Ｅ）を得る。次いで、中間体（Ｅ）にメタノールを加え、水酸化カリウムの水溶液を滴下する。反応系を６０℃まで加熱し、攪拌する。反応終了後、室温に冷却し、塩酸水に反応液を滴下する。生成した結晶をろ取し、乾燥し、中間体（Ｆ）を得る。次いで、中間体（Ｆ）のテトラヒドロフラン溶液に氷冷下にてメタンスルホン酸クロライドを加え、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを滴下する。攪拌した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを加え、メチルハイドロキノンのテトラヒドロフラン溶液を滴下する。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンのテトラヒドロフラン溶液を滴下する。氷冷下にて攪拌した後、室温まで昇温し、攪拌する。反応液をメタノールに滴下し、生成した結晶をろ取し、乾燥する。上記方法と既知の合成法を参考にして一般式（１）又は（２）で表される化合物を製造することができる。

本発明のセルロース化合物組成物においては、一般式（１）又は（２）で表される化合物を、少なくとも１種をセルロース化合物に対して、０．１〜２０質量％含有することが好ましく、より好ましくは０．５〜１６質量％、さらに好ましくは１〜１２質量％、さらに好ましくは１〜８質量％であり、特に好ましくは１〜５質量％である。

［セルロース化合物組成物］
本発明のセルロース化合物組成物は、少なくとも１種のセルロース化合物と、一般式（１）または（２）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種とを含むセルロース化合物組成物である。本発明において、セルロース化合物とは、セルロース、またはセルロースを原料として生物的あるいは化学的に官能基を導入して得られるセルロース骨格を有する化合物をいう。セルロース化合物として好ましくはセルロースエステルであり、より好ましくはセルロースアシレート（例えば、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートなど）である。また、本発明においては異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いてもよい。
なお、本発明において、セルロース化合物組成物は、液体（例えば、セルロース化合物溶液）であっても、固体（例えば、セルロース化合物フィルム）であってもよい。
本発明のセルロース化合物組成物に用いられるセルロース化合物は、上述のように好ましくはセルロースアシレートであり、以下セルロースアシレートを例にして、セルロース化合物組成物、並びに、それからなるセルロース化合物フィルムの好ましい態様について説明する。

［セルロースアシレート原料綿］
セルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ特に限定されるものではない。

セルロースアシレートは、セルロースの水酸基をアセチル基及び炭素原子数が３以上のアシル基で置換して得られたセルロースの混合脂肪酸エステルであって、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（４）及び（５）を満足するセルロースアシレートであることが好ましい。
数式（４）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
数式（５）：０＜Ｂ
ここで、式中Ａ及びＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３以上のアシル基の置換度である。

セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部又は全部をアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位及び６位のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。

［セルロースアシレートの重合度］
セルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であることが好ましく、セルロースアセテートにおいては１８０〜５５０が好ましく、１８０〜４００がより好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になる。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫著，「繊維学会誌」，第１８巻，第１号，１０５〜１２０頁，１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
また、セルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがより好ましく、１．０〜１．６であることが特に好ましい。

低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。セルロースアシレートの製造時に使用される際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下の含水率を有するセルロースアシレートである。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％が知られている。このセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。これらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。
セルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単独あるいは２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。セルロースアシレートフィルムの製造方法は、特に規定するものではないが、溶融製膜法または溶液製膜法により製造することが好ましい。

［セルロースアシレートへの添加剤］
セルロースアシレート溶液には、各調製工程において透湿性を低下する化合物以外にも用途に応じた種々の添加剤（例えば、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、またその添加する時期はドープ作製工程において何れを添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。

それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収剤を混合して用いたり、同様に可塑剤を混合して用いたりすることができ、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。

［紫外線吸収剤］
紫外線吸収剤としては、目的に応じ任意の種類のものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤を用いることができ、好ましくはベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系である。

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン等を挙げることができる。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。

サリチル酸エステル系としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート等を挙げることができる。

これら例示した紫外線吸収剤の中でも、特に２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾールが特に好ましい。

紫外線吸収剤は、吸収波長の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波長範囲で高い遮断効果を得ることができるので好ましい。液晶用紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。特に好ましい紫外線吸収剤は、先に上げたベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロースエステルに対する不用な着色が少ないことから、好ましい。

また、紫外線吸収剤については、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０４１７３号の各公報に記載の化合物も用いることができる。

紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対し０．００１〜５質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。添加量が０．００１質量％以上であれば添加効果が十分に発揮されうるので好ましく、添加量が５質量％以下であればフィルム表面への紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制できるので好ましい。

また紫外線吸収剤は、セルロースアシレート溶解時に同時に添加してもよいし、溶解後のドープに添加してもよい。特にスタティックミキサ等を用い、流延直前にドープに紫外線吸収剤溶液を添加する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができるので好ましい。

［劣化防止剤］
前記劣化防止剤は、セルローストリアセテート等が劣化、分解するのを防止することができる。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物（特開平８−３２５５３７号公報）、グアニジン化合物（特開平５−２７１４７１号公報）、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤（特開平６−２３５８１９号公報）、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（特開平６−１１８２３３号公報）などの化合物が挙げられる。

［可塑剤］
可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステルであることが好ましい。リン酸エステル系可塑剤としては、例えばトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等；カルボン酸エステル系可塑剤としては、例えばジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）、ジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等を挙げることができ、可塑剤はこれら例示の可塑剤から選ばれたものであることがより好ましい。さらに、前記可塑剤が、（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、グリセロールエステル類、ジグリセロールエステル類であることが好ましい。

［剥離促進剤］
剥離促進剤としては、クエン酸のエチルエステル類が例として挙げられる。
［赤外吸収剤］
さらに赤外吸収剤としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されているものが挙げられる。
［染料］
また本発明では、色相調整のための染料を添加してもよい。染料の含有量は、セルロースアシレートに対する質量割合で１０〜１０００ｐｐｍが好ましく、５０〜５００ｐｐｍが更に好ましい。この様に染料を含有させることにより、セルロースアシレートフィルムのライトパイピングが減少でき、黄色味を改良することができる。これらの化合物は、セルロースアシレート溶液の調製の際に、セルロースアシレートや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。またインライン添加する紫外線吸収剤液に添加してもよい。特開平５−３４８５８号公報に記載の染料を用いることができる。

［マット剤微粒子］
本発明のセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。二酸化ケイ素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させることができる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。なお１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径としてもよい。

二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、いずれも商品名、日本アエロジル(株)社製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、いずれも商品名、日本アエロジル(株)社製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化ケイ素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化ケイ素微粒子の分散性がよく、二酸化ケイ素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化ケイ素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化ケイ素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ²あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。

使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

［化合物添加の比率］
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、セルロースアシレートに対して５〜４５質量％であることが好ましい。より好ましくは１０〜４０質量％であり、さらに好ましくは１５〜３０質量％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては３０００以下が好ましく、２０００以下がより好ましい。これら化合物の総量が５質量％以下であると、セルロースアシレート単体の性質が出やすくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある。またこれら化合物の総量が４５質量％以上であると、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムが白濁（フィルムからの泣き出し）しやすくなる。

［セルロースアシレート溶液の有機溶媒］
ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。ジクロロメタンが特に好ましい主溶媒である。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。ハロゲン系溶媒７５〜８９重量部に対してアルコール系溶媒１１〜２５重量部の混合溶媒が最も好ましい。アルコールは一価であることが好ましい。アルコールの炭化水素部分は、直鎖であっても、分岐を有していても、環状であってもよい。炭化水素部分は、飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。メタノールが特に好ましい。

セルロースアシレートフィルムに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としてもよいし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としてもよく特に限定されるものではない。

その他、溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許文献に開示されており、例えば、特開２０００−９５８７６号、特開平１２−９５８７７号、特開平１０−３２４７７４号、特開平８−１５２５１４号、特開平１０−３３０５３８号、特開平９−９５５３８号、特開平９−９５５５７号、特開平１０−２３５６６４号、特開平１２−６３５３４号、特開平１１−２１３７９号、特開平１０−１８２８５３号、特開平１０−２７８０５６号、特開平１０−２７９７０２号、特開平１０−３２３８５３号、特開平１０−２３７１８６号、特開平１１−６０８０７号、特開平１１−１５２３４２号、特開平１１−２９２９８８号、特開平１１−６０７５２号、特開平１１−６０７５２号などの各公報に記載されているものが挙げられる。これらの特許文献における、溶液物性や共存させる共存物質についての記載も参考にすることができる。

［セルロースアシレートフィルムの製造工程］
（溶解工程）
セルロースアシレート溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。セルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。

セルロースアシレート溶液のドープ透明度としては８５％以上であることが好ましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。セルロースアシレートドープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることを確認することができる。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、商品名、島津製作所社製）で５５０ｎｍの吸光度を測定することができ、溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からセルロースアシレート溶液の透明度を算出することができる。

（流延、乾燥、巻き取り工程）
次に、セルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明のセルロース化合物フィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置を用いることができる。以下、これを具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。セルロースアシレートフィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離などに分類され好ましく用いることができる。
また、セルロースアシレートフィルムの厚さは１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍがさらに好ましい。

［延伸処理］
セルロースアシレートフィルムは、延伸処理によりレターデーションを調整することが好ましい。特に、セルロースアシレートフィルムの面内レターデーション値を高い値とする場合には、積極的に幅方向に延伸する方法、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、特開平４−２８４２１１号、特開平４−２９８３１０号、及び特開平１１−４８２７１号の各公報などに記載されている、製造したフィルムを延伸する方法を用いることができる。

フィルムの延伸は、常温又は加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。フィルムの延伸は、縦又は横だけの一軸延伸でもよく、同時又は逐次２軸延伸でもよい。通常は１〜２００％の延伸を行うが、好ましくは１〜１００％、特に好ましくは１〜５０％の延伸を行うのがよい。

上記の偏光板を斜めから見たときの光漏れの抑制のためには、偏光子の透過軸とセルロースアシレートフィルムの面内の遅相軸を平行に配置する必要がある。連続的に製造されるロールフィルム状の偏光子の透過軸は、一般的に、ロールフィルムの幅方向に平行であるので、前記ロールフィルム状の偏光子とロールフィルム状のセルロースアシレートフィルムからなる保護膜を連続的に貼り合せるためには、ロールフィルム状の保護膜の面内遅相軸は、フィルムの幅方向に平行であることが必要となる。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。また延伸処理は、製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。前者の場合には残留溶媒を含んだ状態で延伸を行ってもよく、残留溶媒量が２〜３０質量％で好ましく延伸することができる。

乾燥後得られるセルロースアシレートフィルムの膜厚は、使用目的によって異なり、通常、５〜５００μｍの範囲であることが好ましく、更に２０〜３００μｍの範囲が好ましく、特に３０〜１５０μｍの範囲が好ましい。また、光学用、特にＶＡ液晶表示装置用としては、４０〜１１０μｍであることが好ましい。フィルム厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。

以上のようにして得られた、セルロースアシレートフィルムの幅は０．５〜３ｍが好ましく、より好ましくは０．６〜２．５ｍ、さらに好ましくは０．８〜２．２ｍである。長さは、１ロール当たり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。

フィルムの幅方向のＲｅ値のばらつきは、±５ｎｍであることが好ましく、±３ｎｍであることが更に好ましい。また幅方向のＲｔｈ値のバラツキは±１０ｎｍが好ましく、±５ｎｍであることが更に好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、及びＲｔｈ値のバラツキも、幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。

〔セルロースアシレートフィルムの光学特性〕
本発明において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は、それぞれ波長λにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ(λ)は“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”｛商品名、王子計測機器(株)社製｝において、波長λｎｍの光をフィルムの法線方向に入射させて測定するこができる。Ｒｔｈ(λ)は、前記Ｒｅ(λ)、面内の遅相軸（“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”により判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の、合計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”により算出することができる。

ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示すると、セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）などが挙げられる。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨによりｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出することができる。

Ｒｅ(λ)レターデーション値、Ｒｔｈ(λ)レターデーション値が、それぞれ、以下の数式（２）、（３）を満たすことが、液晶表示装置、特にＶＡモード液晶表示装置の視野角を広くするために好ましい。また特にセルロースアシレートフィルムが、偏光板の液晶セル側の保護膜に用いられる場合に好ましい。
数式（２）：０ｎｍ≦Ｒｅ≦２００ｎｍ
数式（３）：０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦４００ｎｍ
［上記式中、Ｒｅ、Ｒｔｈは、波長λ＝５９０ｎｍにおける値（単位：ｎｍ）である（本発明において、ＲｅまたはＲｔｈとは、特に断らない限り、この波長におけるそれぞれの値をいう。）］

セルロース化合物フィルムをＶＡモードに使用する場合、セルの両側に１枚ずつ合計２枚使用する形態（２枚型）と、セルの上下のいずれか一方の側にのみ使用する形態（１枚型）の２通りがある。
２枚型の場合、Ｒｅは２０〜１００ｎｍが好ましく、３０〜７０ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈについては７０〜３００ｎｍが好ましく、１００〜２００ｎｍがさらに好ましい。
１枚型の場合、Ｒｅは３０〜１５０ｎｍが好ましく、４０〜１００ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈについては１００〜３００ｎｍが好ましく、１５０〜２５０ｎｍがさらに好ましい。

［フィルムの透湿度］
光学補償シートに用いるセルロースアシレートフィルムの透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳＺ０２０８をもとに、温度６０℃、湿度９５％ＲＨ（相対湿度）の条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して４００〜２０００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが好ましい。５００〜１８００ｇ／ｍ²・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが特に好ましい。２０００ｇ／ｍ²・２４ｈを超えると、フィルムのＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまう。またセルロースアシレートフィルムに光学異方性層を積層して光学補償フィルムとした場合も、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまい好ましくない。この光学補償シートや偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こす。また、セルロースアシレートフィルムの透湿度が４００ｇ／ｍ²・２４ｈ未満では、偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられ、接着不良を生じる。
セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこでどのような膜厚のサンプルでも基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、（８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ）として求める。
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」（高分子実験講座４，共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、本発明のセルロースアシレートフィルム試料７０ｍｍφを２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、商品名、東洋精機(株)）にて、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ²）し、透湿度＝調湿後重量−調湿前重量で求める。

［フィルムの残留溶剤量］
セルロースアシレートフィルムに対する残留溶剤量が、０．０１〜１．５質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。透明支持体の残留溶剤量は１．５％以下とすることでカールを抑制できる。１．０％以下であることがより好ましい。これは、前述のソルベントキャスト方法による成膜時の残留溶剤量が少なくすることで自由体積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。

［フィルムの吸湿膨張係数］
セルロースアシレートフィルムの吸湿膨張係数は３０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１０×１０^-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０^-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、セルロースアシレートフィルムを光学補償フィルム支持体として用いた際、光学補償フィルムの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。

［表面処理］
セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、０．１〜２０００Ｐａ（１０^-3〜２０Ｔｏｒｒ）の低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。

［アルカリ鹸化処理］
アルカリ鹸化処理は、セルロースアシレートフィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法、又は鹸化液をセルロースアシレートフィルムに塗布する方法により実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液をセルロースアシレートフィルムに対して塗布するために、濡れ性がよく、また鹸化液溶媒によってセルロースアシレートフィルム表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒以上５分以下が好ましく、５秒以上５分以下がさらに好ましく、２０秒以上３分以下が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。

［機能層］
セルロースアシレートフィルムは、その用途として好ましくは光学用途と写真感光材料に適用される。特に光学フィルムであって、用途が液晶表示装置であることが好ましく、液晶表示装置が、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償シートを配置した構成であることがさらに好ましい。これらの液晶表示装置としては、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＡＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＶＡおよびＨＡＮが好ましい。
その際に前述の光学用途に本発明のセルロースアシレートフィルムを用いるに際し、各種の機能層を付与することが実施される。それらは、例えば、帯電防止層、硬化樹脂層（透明ハードコート層）、反射防止層、易接着層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層などである。セルロースアシレートフィルムを用いることができるこれらの機能層及びその材料としては、界面活性剤、滑り剤、マット剤、帯電防止層、ハードコート層などが挙げられ、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁〜４５頁に詳細に記載されており好ましく用いることができる。

［偏光板］
本発明の光学フィルムは特に偏光板保護フィルム用として有用である。偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。
保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、光学フィルムを適用した偏光板保護フィルムはどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムには透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護フィルムをこの部分に用いることが特に好ましい。

［光学補償フィルム］
セルロースアシレートフィルムは様々な用途で用いることができ、液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いると特に効果がある。なお、光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償シートなどと同義である。光学補償フィルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。

（液晶表示装置の構成）
セルロースアシレートフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合、偏光素子の透過軸と、セルロースアシレートフィルムからなる光学補償フィルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。液晶表示装置は、例えば、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、例えば、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成することができる。透明電極層は、例えば、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成することができる。液晶セルには、例えば、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、基板上に設けることができる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さにすることが好ましい。上記の本発明の偏光板は液晶表示装置に好適に用いることができる。

（液晶表示装置の種類）
セルロースアシレートフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効であり、また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。

（ＴＮ型液晶表示装置）
セルロースアシレートフィルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。

（ＳＴＮ型液晶表示装置）
セルロースアシレートフィルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。

（ＶＡ型液晶表示装置）
セルロースアシレートフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として特に有利に用いることができる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅレターデーション値を０〜１５０ｎｍとし、Ｒｔｈレターデーション値を７０〜４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｅレターデーション値は、２０〜７０ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は７０〜２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は１５０〜４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。

（ＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置）
セルロースアシレートフィルムは、ＩＰＳモードおよびＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体、または偏光板の保護膜としても特に有利に用いることができる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は色味の改善、視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、液晶セルの上下の前記偏光板の保護膜のうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護膜（セル側の保護膜）にセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板を少なくとも片側一方に用いることが好ましい。更に好ましくは、偏光板の保護膜と液晶セルの間に光学異方性層を配置し、配置された光学異方性層のリターデーションの値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。

（ＯＣＢ型液晶表示装置およびＨＡＮ型液晶表示装置）
セルロースアシレートフィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）に記載がある。

（反射型液晶表示装置）
セルロースアシレートフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートとしても有利に用いることができる。これらの表示モードは古くからよく知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８／４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、ＷＯ００／６５３８４号に記載がある。

（その他の液晶表示装置）
セルロースアシレートフィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いることができる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．，ＳＩＤ ９８ Ｄｉｇｅｓｔ １０８９（１９９８））に記載がある。

（ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム）
セルロースアシレートフィルムは、またハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへの適用が好ましく実施できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明のセルロースアシレートフィルムの片面または両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れかあるいは全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されており、本発明のセルロースアシレートフィルムを好ましく用いることができる。

（写真フィルム支持体）
セルロースアシレートフィルムは、ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としても適用でき、以下の特許文献に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。それらの技術については、特開２０００−１０５４４５号公報にカラーネガティブに関する記載が詳細に挙げられており、本発明のセルロースアシレートフィルムが好ましく用いられる。またカラー反転ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としての適用も好ましく、特開平１１−２８２１１９号公報に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。

（透明基板）
セルロースアシレートフィルムは、光学的異方性がゼロに近く、優れた透明性を持っていることから、液晶表示装置の液晶セルガラス基板の代替、すなわち駆動液晶を封入する透明基板としても用いることができる。
液晶を封入する透明基板はガスバリアー性に優れる必要があることから、必要に応じて本発明のセルロースアシレートフィルムの表面にガスバリアー層を設けてもよい。ガスバリアー層の形態や材質は特に限定されないが、本発明のセルロースアシレートフィルムの少なくとも片面にＳｉＯ₂等を蒸着したり、あるいは塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーなど相対的にガスバリアー性の高いポリマーのコート層を設ける方法が考えられ、これらを適宜使用できる。
また液晶を封入する透明基板として用いるには、電圧印加によって液晶を駆動するための透明電極を設けてもよい。透明電極としては特に限定されないが、セルロースアシレートフィルムの少なくとも片面に、金属膜、金属酸化物膜などを積層することによって透明電極を設けることができる。中でも透明性、導電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好ましく、なかでも酸化スズを主として酸化亜鉛を２〜１５％含む酸化インジウムの薄膜が好ましく使用できる。これら技術の詳細は例えば、特開２００１−１２５０７９号公報や特開２０００−２２７６０３号公報などに公開されている。

本発明の別の実施態様は上記の一般式（１）または（２）で表される化合物である。
本発明の一般式（１）または（２）で表される化合物（以下、レターデーション制御剤ともいう。）は、その種類および添加量を適宜設定することで、フィルムの延伸倍率を適宜調整することとあいまって、セルロース化合物フィルムのＲｅ値とＲｔｈ値をそれぞれ好ましい範囲に制御することができる。すなわち、本発明のセルロース化合物フィルムにおいては、レターデーション制御剤を選択してＲｔｈ値を目的の範囲に制御し、かつ該レターデーション制御剤の添加量およびフィルムの延伸倍率を適宜設定することによりＲｅ値を目的の範囲に制御して、所望のＲｅ値、Ｒｔｈ値、およびその組み合わせを有するセルロース化合物フィルムを得ることができる。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

実施例１
＜例示化合物（１１）の作製＞
下記スキームに従い、例示化合物（１１）を作製した。

［中間体（１−Ａ）の作製］
３−メトキシ−１−ブタノール２００ｇ（１．９２ｍｏｌ）の酢酸エチル（ＡｃＯＥｔ）溶液にトリエチルアミン（Ｅｔ₃Ｎ）１８５ｇ（１．８３ｍｏｌ）を加えた。反応系を２℃に冷却した後、メタンスルホン酸クロライド（ＭｓＣｌ）２０９ｇ（１．８３ｍｏｌ）を、反応系の温度を１５℃以下に保ちつつ滴下した。滴下終了後、１０℃以下で３０分攪拌した後、室温まで昇温し、３時間攪拌した。水を加えて分液し、有機層を水、１Ｎ塩酸水、水の順に水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去することで２９２．２ｇの中間体（１−Ａ）の粗製物を得た。

［中間体（１−Ｂ）の作製］
パラブロモフェノール（１）６４ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）５００ｍｌ溶液に炭酸カリウム６７．２ｇを加え、中間体（１−Ａ）８４ｇを加えた。反応系を１００℃まで昇温し、６時間攪拌した。反応終了後、系を冷却したところに水、酢酸エチル１Ｌを加え分液した。有機層を、水、１Ｎ塩酸水、水の順に水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製を行い中間体（１−Ｂ）を９６ｇを得た。

［中間体（１−Ｃ）の作製］
中間体（１−Ｂ）８４．６ｇ、トリメチルシリル（ＴＭＳ）アセチレン６８ｍｌ、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ_３）２．５７ｇ、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム(II)ジクロリド（Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_２Ｃｌ_２）１．３８ｇおよびヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ）０．５ｇをトリエチルアミン２００ｍｌに溶解させ、窒素雰囲気下で６時間還流した。反応終了後、系を冷却したところに水、酢酸エチル１Ｌを加え分液した。有機層を、１Ｎ塩酸水、水の順に水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製を行い中間体（１−Ｃ）を８６ｇを得た。

［中間体（１−Ｄ）の作製］
中間体（１−Ｃ）７２ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２００ｍｌに溶解し、テトラブチルアンモニウムフルオラド（ＴＢＡＦ）のテトラヒドロフラン溶液（１．０Ｍ溶液）を３１２ｍｌ添加し、室温で６０分間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を減圧濃縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、中間体（１−Ｄ）６１ｇを得た。

［中間体（１−Ｅ）の作製］
中間体（１−Ｄ）５０．５ｇ、４−ブロモ安息香酸エチル（２）６２．３ｇ、トリフェニルホスフィン１．９５ｇ、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム(II)ジクロリド１．０４ｇおよびヨウ化銅（Ｉ）０．４７ｇをトリエチルアミン２００ｍｌに溶解させ、窒素雰囲気下で６時間還流した。反応終了後、系を冷却したところに水、酢酸エチル１Ｌを加え分液した。有機層を、１Ｎ塩酸水、水の順に水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製を行い中間体（１−Ｅ）を８０ｇを得た。

［中間体（１−Ｆ）の作製］
中間体（１−Ｅ）９７ｇにメタノール（ＭｅＯＨ）１１０ｍｌを加え、水酸化カリウム４６ｇの水溶液１６５ｍｌを滴下した。反応系を６０℃まで加熱し、そのまま４時間攪拌した。薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）にて反応終了を確認し、反応系を室温に冷却した。Ｎ塩酸水１Ｌに反応液をゆっくりと滴下した。生成した結晶をろ取し、乾燥することで８９ｇの中間体（１−Ｆ）を得た。

［例示化合物（１１）の作製］
中間体（１−Ｆ）７．１ｇのテトラヒドロフラン８０ｍｌ溶液に氷冷下にてメタンスルホン酸クロライド１．７ｍｌを加え、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（ＩＰｒ_２ＮＥｔ）３．８ｍｌをゆっくりと滴下した。１時間攪拌した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン７．６ｍｌを加え、１．２４ｇのメチルハイドロキノン（３）のテトラヒドロフラン３０ｍｌ溶液を滴下した。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンを０．１ｇ含むテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５ｍｌ溶液を滴下した。氷冷下にて１時間攪拌した後、室温まで昇温し、６時間攪拌した。反応液をメタノール１Ｌに滴下し、生成した結晶をろ取し、乾燥することで６．０ｇの例示化合物（１１）を得た。
化合物の同定は¹Ｈ−ＮＭＲにより行った。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ１．２０（ｄ，６Ｈ），１．９５（ｍ，４Ｈ），２．２５（ｓ，３Ｈ），３．３５（ｓ，６Ｈ），３．５５（ｍ，２Ｈ），４．１０（ｍ，４Ｈ），６．９０（ｄ，４Ｈ），７．１５（ｍ，３Ｈ），７．５０（ｍ，４Ｈ），７．６５（ｍ，４Ｈ），８．２０（ｍ，４Ｈ）

実施例２
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。

（セルロースアセテート溶液組成）
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３１８質量部
メタノール（第２溶媒） ４７質量部

別のミキシングタンクに、例示化合物（１１）または比較化合物を１６質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液３６質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤は、セルロースアセテート１００質量部に対して表１に記載の質量部を添加した。

得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５質量％のフィルムを、１３０℃の条件で、テンターを用いて２０％の延伸倍率で横延伸して、セルロースアセテートフィルム（厚さ：９２μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフィルム（光学補償シート）について、エリプソメーター（Ｍ−１５０、商品名、日本分光(株)製）を用いて、波長６３３ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲｔｈレターデーション値を測定した。結果を表１に示す。

＜Ｒｔｈ、Ｒｅの測定＞
エリプソメーター（ＡＥＰ−１００、商品名、島津製作所(株)製）を用いて、波長６３２．８ｎｍで測定した面内の縦横の屈折率差にフィルム膜厚を乗じた値として、下記式に従って求めた。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
ｎｘ：遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率
ｎｙ：遅相軸に直交する方向の屈折率
ｎｚ：厚さ方向の屈折率
ｄ ：フィルムの厚さ（単位：ｎｍ）

表１の結果から分かるように、比較化合物１未含有のフィルム、比較化合物１を２質量部含有するフィルム、比較化合物１を５質量部含有するフィルムは、いずれも、
Ｒｔｈ＝Ｒｅ×３．６＋４３ （式１）
を満たす。
すなわち、比較化合物１を含有するフィルムは延伸によりＲｅは発現し、Ｒｔｈはさほど変化させないため、比較化合物１を添加することにより、
Ｒｔｈ≧Ｒｅ×３．６＋４３ （式２）
の領域の光学特性を満足するフィルムを作製できることがわかる。
これに対し、一般式（１）又は（２）で表される化合物（例示化合物（１１））を添加したフィルムは、比較化合物１を添加したフィルムでは実現できなかったより大きなＲｅ発現性を有する（つまりＲｔｈ＜Ｒｅ×３．６＋４３の領域）新規なセルロースフィルムを作製できることが分かる。

よって、一般式（１）又は（２）で表される化合物を添加することにより、公知の円盤状化合物（比較化合物１）では実現できなかった、よりＲｅおよびＲｔｈ発現性の高い領域の光学特性を有する新規なセルロースフィルムの作製が可能になることがわかった。

また、表１の結果から分かるように、本発明の例示化合物を用いると少ない添加量で比較化合物以上のＲｅ発現性を示すので製造コストの低減という観点でも有利である。

Claims (10)

1. セルロース化合物と、少なくとも１種の下記一般式（１）で表される化合物とを含有することを特徴とするセルロース化合物組成物。
   

   

   ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵のうちのいずれか一つは−Ｌ³−Ｑ¹で表される基を表す。Ｑ¹は一般式Ｑ１で表される基を表す。
   

   

   （一般式Ｑ１中、＊はＬ³に結合する結合手を表す。Ｒは水素原子または炭素数１以上のアルキル基を表す。ｍは０以上の整数を表す。ｒは０以上の整数を表す。Ｒ^６は水素原子または置換基を表す。）Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、Ｌ^４はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基を表し、Ａｒ¹はアリーレン基または芳香族へテロ環基を表し、Ａｒ²はアリール基または芳香族へテロ環基を表し、ｎは０以上の整数を表し、ｎが２以上の整数である場合、二つ以上のＬ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、二つ以上のＡｒ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。］
2. 前記一般式（１）中のＲ³が、前記−Ｌ³−Ｑ¹で表される基であることを特徴とする請求項１記載のセルロース化合物組成物。
3. 前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする請求項１又は２に記載のセルロース化合物組成物。
   

   

   ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｑ¹は一般式Ｑ１で表される基を表す。
   

   

   （一般式Ｑ１中、＊はＬ³に結合する結合手を表す。Ｒは水素原子または炭素数１以上のアルキル基を表す。ｍは０以上の整数を表す。ｒは０以上の整数を表す。Ｒ^６は水素原子または置換基を表す。）Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基を表し、Ａｒ¹はアリーレン基または芳香族へテロ環基を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｎが２以上の整数である場合、二つ以上のＬ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、二つ以上のＡｒ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。］
4. 前記セルロース化合物としてセルロースアシレートを含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のセルロース化合物組成物。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載のセルロース化合物組成物を用いたことを特徴とするセルロース化合物フィルム。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載のセルロース化合物フィルムからなる光学フィルム。
7. 請求項６に記載の光学フィルムを有する、偏光板。
8. 請求項７に記載の偏光板を有する、液晶表示装置。
9. 下記一般式（１）で表される化合物。
   

   

   ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵のうちのいずれか一つは−Ｌ³−Ｑ¹で表される基を表す。Ｑ¹は一般式Ｑ１で表される基を表す。
   

   

   （一般式Ｑ１中、＊はＬ³に結合する結合手を表す。Ｒは水素原子または炭素数１以上のアルキル基を表す。ｍは０以上の整数を表す。ｒは０以上の整数を表す。Ｒ^６は水素原子または置換基を表す。）Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、Ｌ^４はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基を表し、Ａｒ¹はアリーレン基または芳香族へテロ環基を表し、Ａｒ²はアリール基または芳香族へテロ環基を表し、ｎは０以上の整数を表し、ｎが２以上の整数である場合、二つ以上のＬ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、二つ以上のＡｒ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。］
10. 下記一般式（２）で表される化合物。
    

    

    ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｑ¹は一般式Ｑ１で表される基を表す。
    

    

    （一般式Ｑ１中、＊はＬ³に結合する結合手を表す。Ｒは水素原子または炭素数１以上のアルキル基を表す。ｍは０以上の整数を表す。ｒは０以上の整数を表す。Ｒ^６は水素原子または置換基を表す。）Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基を表し、Ａｒ¹はアリーレン基または芳香族へテロ環基を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｎが２以上の整数である場合、二つ以上のＬ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、二つ以上のＡｒ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。］