JP2005037808A - 光学補償シート、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 光学補償シートのレターデーションの波長分散を最適とすることにより、液晶表示装置の色表示特性を改善する。
【解決手段】 酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテート、およびセルロースアセテート１００質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を０．０１乃至２０質量部含むセルロースアセテートフイルム、並びに液晶性化合物から形成された光学異方性層からなる光学補償シートにおいて、セルロースアセテートフイルムの厚みを１０乃至９０μｍとし、波長６３０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値を０乃至１００ｎｍに調整し、さらに、波長５５０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値に対する波長４５０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値の比を１．１乃至１．４に調整する。
【選択図】 なし

Description

本発明は、セルロースアセテートおよび芳香族化合物を含むセルロースアセテートフイルムを有する光学補償シートに関する。さらに本発明は、光学補償シートを用いた偏光板および液晶表示装置にも関する。

液晶表示装置は、偏光板と液晶セルから構成されている。
現在の主流であるＴＮモードのＴＦＴ液晶表示装置では、さらに光学補償シートを偏光板と液晶セルとの間に挿入し、液晶表示装置の表示品位を改善している。ただし、光学補償シートを用いると、液晶表示装置が厚くなる問題がある。
偏光板は、偏光膜とその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方の透明保護膜が光学補償シート（位相差フイルム）としても機能する偏光板（楕円偏光板）を用いることで、液晶表示装置を厚くすることなく、表示品位を改善する（例えば、正面コントラストを高くする）ことが提案されている（例えば、特許文献１参照）。

光学補償シートを有する偏光板は、熱により歪み、位相差や遅相軸の変化が発生しやすく、発生した位相差および遅相軸の変化により、液晶表示装置に額縁状の光漏れ（透過率の上昇）が生じると、液晶表示装置の表示品位は低下する。
歪みによる位相差および遅相軸の変化が発生する問題を解決するため、透明支持体上にディスコティック（円盤状）化合物からなる光学異方性層を塗設した光学補償シートを、偏光板の保護フイルムとして用いることが提案されている（例えば、特許文献２および３参照）。
しかし、近年では、液晶表示装置が大型化しており、従来の技術では解決済みであったはずの問題が、再び顕在化するようになっている。例えば、従来の光学補償シートを保護フイルムに用いた偏光板を、１７インチ以上の大型パネルからなる液晶表示装置に装着したところ、熱歪みによる光漏れが再び認められるようになった。
熱歪みによる光漏れを防止するため、光学補償シートは、液晶セルを光学的に補償する機能を有するのみでなく、使用環境が変化しても、光学的な特性は変化しないことが望まれる。光学補償シートを有する偏光板を液晶表示装置に用いる場合、一般に、偏光板を粘着剤で液晶セルに固定する。偏光板の偏光子は温度または湿度変化で収縮しようとするが、粘着剤でセルに固定されているために自由に収縮できず応力が発生する。この応力のために偏光子に貼り合わされていた光学補償シートの光学特性が変化する。

光学特性の変化の一つの原因は、液晶表示装置の使用環境における湿度条件の変化である。湿度条件の変化により、偏光子に収縮を生じ、光学補償シートの光学特性の変化を引き起こす。もう一つの原因は、液晶表示装置の熱源（例、バックライト）により生じる、偏光板面内の温度分布である。温度分布から熱歪みが生じ、その熱歪みにより光学補償シートの光学特性の変化を引き起こす。

光漏れを無くすためには、環境条件による光学補償シートの光学特性の変動を抑え、光学補償シートに発生する温度分布を均一化すればよい。光学特性の変動は、光学補償シートの光弾性係数、厚み、環境による仮想歪み、および弾性率に関係がある。従って、光学補償シートの光弾性係数を下げ、厚みを薄くし、さらに環境による歪みを小さく、弾性率を小さくすることで、光漏れは著しく低減される。光学補償シートの面内に生じる温度分布に関しては、光学補償シートの熱伝導率を上げることで温度分布が均一化され、熱歪みが小さくなり、従って光漏れが低減される。
そのために、光学補償シートの透明支持体の厚みを薄くすることが有効であることが報告されている（例えば、特許文献４参照）。

特開平１−６８９４０号公報 特開平７−１９１２１７号公報 欧州特許出願公開第０９１１６５６Ａ２号明細書 特開２００２−１６９０２３号公報

液晶表示装置の表示特性、特に色表示特性を完全にするためには光学補償シートのレターデーションの波長分散を調整することが重要である。
本発明の目的は、光学補償シートのレターデーションの波長分散を最適とすることにより、液晶表示装置の色表示特性を改善することである。
また、本発明の目的は、液晶表示装置を斜めから見た場合の正面に対する色変化を抑制することでもある。

本発明は、下記の光学補償シート、偏光板および液晶表示装置を提供する。
（１）酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテート、およびセルロースアセテート１００質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を０．０１乃至２０質量部含むセルロースアセテートフイルム、並びに液晶性化合物から形成された光学異方性層からなる光学補償シートであって、（ｉ）セルロースアセテートフイルムの厚みが１０乃至９０μｍであり、（ii）波長６３０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値が０乃至１００ｎｍであり、そして（iii)波長５５０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値に対する波長４５０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値の比が１．１乃至１．４であることを特徴とする光学補償シート。
セルロースアセテートフイルムの厚み（ｄｃｆ）は、下記式（ｉ）を満足する。
（ｉ）１０μｍ（＝１００００ｎｍ）＜ｄｃｆ＜８５μｍ（＝８５０００ｎｍ）

波長６３０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値であるＲｅ（ＲＦ６３０ｎｍ）は、下記式で定義される。
Ｒｅ（ＲＦ６３０ｎｍ）＝（ｎｘ１−ｎｙ１）×ｄｒｆ
式中、ｎｘ１は、波長６３０ｎｍにおける光学補償シート面内の遅相軸方向で、波長６３０ｎｍで測定した屈折率であり；ｎｙ１は、波長６３０ｎｍにおける光学補償シート面内の進相軸方向で、波長６３０ｎｍで測定した屈折率であり；そして、ｄｒｆは、光学補償シートの厚さ（単位：ｎｍ）である。
本明細書において、「遅相軸（ slow axis）」は波長６３０ｎｍで測定した場合に、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「進相軸（ fast axis）」は波長６３０ｎｍで測定した場合に、屈折率が最小となる方向を意味する。本発明では、波長６３０ｎｍで測定した遅相軸および進相軸を、他の波長（５５０ｎｍ、４５０ｎｍ）で、屈折率やレターデーション値を測定する場合にも適用する。
波長６３０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値であるＲｅ（ＲＦ６３０ｎｍ）は、下記式（ii）を満足する。
（ii）０ｎｍ＜Ｒｅ（ＲＦ６３０ｎｍ）＜１００ｎｍ

波長５５０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値であるＲｅ（ＲＦ５５０ｎｍ）は、下記式で定義される。
Ｒｅ（ＲＦ５５０ｎｍ）＝（ｎｘ２−ｎｙ２）×ｄｒｆ
式中、ｎｘ２は、波長６３０ｎｍにおける光学補償シート面内の遅相軸方向で、波長５５０ｎｍで測定した屈折率であり；ｎｙ２は、波長６３０ｎｍにおける光学補償シート面内の進相軸方向で、波長５５０ｎｍで測定した屈折率であり；そして、ｄｒｆは、光学補償シートの厚さ（単位：ｎｍ）である。
波長４５０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値であるＲｅ（ＲＦ４５０ｎｍ）は、下記式で定義される。
Ｒｅ（ＲＦ４５０ｎｍ）＝（ｎｘ３−ｎｙ３）×ｄｒｆ
式中、ｎｘ３は、波長６３０ｎｍにおける光学補償シート面内の遅相軸方向で、波長４５０ｎｍで測定した屈折率であり；ｎｙ３は、波長６３０ｎｍにおける光学補償シート面内の進相軸方向で、波長５５０ｎｍで測定した屈折率であり；そして、ｄｒｆは、光学補償シートの厚さ（単位：ｎｍ）である。
波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値に対する波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値の比であるαＲＦは、下記式で定義される。
αＲＦ＝Ｒｅ（ＲＦ４５０ｎｍ）／Ｒｅ（ＲＦ５５０ｎｍ）
＝（ｎｘ３−ｎｙ３）／（ｎｘ２−ｎｙ２）
波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値に対する波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値の比であるαＲＦは、下記式（iii)を満足する。
（iii)１．１＜αＲＦ＜１．４

（２）（iv）波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値が０乃至１００ｎｍであり、そして、（ｖ）波長５５０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値に対する波長４５０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値の比が−０．５乃至１．２である（１）に記載の光学補償シート。
波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値であるＲｅ（ＣＦ６３０ｎｍ）は、下記式で定義される。
Ｒｅ（ＣＦ６３０ｎｍ）＝（ｎｘ４−ｎｙ４）×ｄｃｆ
式中、ｎｘ４は、波長６３０ｎｍにおけるセルロースアセテートフイルム面内の遅相軸方向で、波長６３０ｎｍで測定した屈折率であり；ｎｙ４は、波長６３０ｎｍにおけるセルロースアセテートフイルム面内の進相軸方向で、波長６３０ｎｍで測定した屈折率であり；そして、ｄｃｆは、セルロースアセテートフイルムの厚さ（単位：ｎｍ）である。
波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値であるＲｅ（ＣＦ６３０ｎｍ）は、下記式（iv）を満足することが好ましい。
（iv）０ｎｍ＜Ｒｅ（ＣＦ６３０ｎｍ）＜１００ｎｍ

波長５５０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値であるＲｅ（ＣＦ５５０ｎｍ）は、下記式で定義される。
Ｒｅ（ＣＦ５５０ｎｍ）＝（ｎｘ５−ｎｙ５）×ｄｃｆ
式中、ｎｘ５は、波長６３０ｎｍにおけるセルロースアセテートフイルム面内の遅相軸方向で、波長５５０ｎｍで測定した屈折率であり；ｎｙ５は、波長６３０ｎｍにおけるセルロースアセテートフイルム面内の進相軸方向で、波長５５０ｎｍで測定した屈折率であり；そして、ｄｃｆは、セルロースアセテートフイルムの厚さ（単位：ｎｍ）である。
波長４５０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値であるＲｅ（ＣＦ４５０ｎｍ）は、下記式で定義される。
Ｒｅ（ＣＦ４５０ｎｍ）＝（ｎｘ６−ｎｙ６）×ｄｃｆ
式中、ｎｘ６は、波長６３０ｎｍにおけるセルロースアセテートフイルム面内の遅相軸方向で、波長４５０ｎｍで測定した屈折率であり；ｎｙ６は、波長６３０ｎｍにおけるセルロースアセテートフイルム面内の進相軸方向で、波長５５０ｎｍで測定した屈折率であり；そして、ｄｃｆは、セルロースアセテートフイルムの厚さ（単位：ｎｍ）である。
波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値に対する波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値の比であるαＲＦは、下記式で定義される。
αＣＦ＝Ｒｅ（ＣＦ４５０ｎｍ）／Ｒｅ（ＣＦ５５０ｎｍ）
＝（ｎｘ６−ｎｙ６）／（ｎｘ５−ｎｙ５）
波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値に対する波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値の比であるαＣＦは、下記式（ｖ）を満足することが好ましい。
（ｖ）−０．５＜αＣＦ＜１．２

（３）（vi）波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値が０乃至２０ｎｍである（２）に記載の光学補償シート。
波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値であるＲｅ（ＣＦ６３０ｎｍ）は、下記式（vi）を満足することがさらに好ましい。
（vi）０ｎｍ＜Ｒｅ（ＣＦ６３０ｎｍ）＜２０ｎｍ

（４）（vii)波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの厚み方向のレターデーション値が７０乃至４００ｎｍである（１）に記載の光学補償シート。
波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの厚み方向のレターデーション値であるＲth（ＣＦ６３０ｎｍ）は、下記式で定義される。
Ｒth（ＣＦ６３０ｎｍ）＝｛（ｎｘ４＋ｎｙ４）／２−ｎｚ｝×ｄｃｆ
式中、ｎｘ４は、波長６３０ｎｍにおけるセルロースアセテートフイルム面内の遅相軸方向で、波長６３０ｎｍで測定した屈折率であり；ｎｙ４は、波長６３０ｎｍにおけるセルロースアセテートフイルム面内の進相軸方向で、波長６３０ｎｍで測定した屈折率であり；ｎｚは、セルロースアセテートフイルム面内の厚み方向で、波長６３０ｎｍで測定した屈折率であり；そして、ｄｃｆは、セルロースアセテートフイルムの厚さ（単位：ｎｍ）である。
波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの厚み方向のレターデーション値であるＲth（ＣＦ６３０ｎｍ）は、下記式（vii)を満足することが好ましい。
（vii)７０ｎｍ＜Ｒth（ＣＦ６３０ｎｍ）＜４００ｎｍ

（５）偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の一方が、（１）に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
（６）液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、液晶セルと偏光膜の間の透明保護膜のうちの少なくとも一方が、（１）に記載の光学補償シートであることを特徴とする液晶表示装置。
（７）液晶セルがＴＮモードの液晶セルである（６）に記載の液晶表示装置。

本発明者は、従来の厚み以下の光学補償シートを用いて、額縁状の透過率の上昇を抑え、かつ色変化を抑えることに成功した。本発明においては、額縁状の透過率の上昇を抑えるために、光学補償シートに用いるセルロースアセテートフイルムの厚さを２０乃至９０μｍの範囲に調節し、光学補償シートの波長分散（αＲＦ）を１．１乃至１．４に調整する。そして、光学補償シートに用いるセルロースアセテートフイルムの波長分散（αＣＦ）を−０．５乃至１．２となるように制御すると、光学補償シートの波長分散を上記の最適な範囲に容易に調整できる。セルロースアセテートフイルムの厚みを前記の範囲とすることで、光学補償シートの生産あるいはそれを偏光板に貼り合わせる生産工程での、光学補償シートのハンドリング性を悪化させることなく、上記の問題を解決することができる。
さらに、光学補償シートの厚さが薄くなることで、液晶表示装置の厚みも薄くすることができ、液晶表示装置の薄型化の要求にも応えることができる。偏光板の保護膜は、一般にセルロースアセテートフイルムからなる。上記の光学補償シートを偏光板の一方の保護膜として用いると、偏光板の構成要素の数を増加することなく、偏光板に光学補償機能を追加できる。
上記の光学補償シートおよび上記の光学補償シートを保護膜として用いた偏光板は、ＴＮ（Twisted Nematic)型の液晶表示装置に有利に用いることができる。

［光学補償シートおよびセルロースアセテートフイルムのレターデーション］
本発明では、波長６３０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値であるＲｅ（ＲＦ６３０ｎｍ）を０乃至１００ｎｍに調節する。
さらに、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値に対する波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値の比であるαＲＦを、１．１乃至１．４に調節する。αＲＦは、１．１５乃至１．３５であることが好ましい。

波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値であるＲｅ（ＲＣ６３０ｎｍ）は、０乃至１００ｎｍに調節することが好ましい。Ｒｅ（ＲＣ６３０ｎｍ）は、０乃至５０ｎｍであることが好ましく、０乃至２０ｎｍであることがさらに好ましい。
さらに、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値に対する波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値の比であるαＲＣを、−０．５乃至１．２に調節することが好ましい。αＲＣは、−０．２５乃至１．１であることがさらに好ましい。
波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの厚み方向のレターデーション値であるＲth（ＣＦ６３０ｎｍ）は、７０乃至４００ｎｍに調節することが好ましい。

液晶表示装置に二枚の光学的異方性セルロースアセテートフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレターデーション値は７０乃至２５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
液晶表示装置に一枚の光学的異方性セルロースアセテートフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレターデーション値は１５０乃至４００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
なお、セルロースアセテートフイルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０．００乃至０．００２の範囲にあることが好ましい。また、セルロースアセテートフイルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０．００１乃至０．０４の範囲にあることが好ましい。

［光漏れの防止］
液晶表示装置の熱歪みによる光漏れを防止するには、セルロースアセテートフイルムの厚み、熱伝導率、環境による歪み、光弾性係数、そして弾性率を調節すればよい。本発明において、セルロースアセテートフイルムの厚みは２０乃至９０μｍの範囲とする。セルロースアセテートフイルムの熱伝導率は１Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であることが好ましい。
仮想歪みを小さくするには、セルロースアセテートフイルムを二軸延伸することによりポリマー分子の面配向を高めるか、もしくは、吸湿膨張係数を１００×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。セルロースアセテートフイルムの吸湿膨張係数は、５０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることがさらに好ましく、３０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが最も好ましい。吸湿膨張係数を抑制するため、セルロースアセテートフイルムの密度を高めることができる。
セルロースアセテートフイルムの光弾性係数は、３×１０^-11 ｍ² ／Ｎ以下であることが好ましい。
セルロースアセテートフイルムの弾性率は、６０００ＭＰａ以下であることが好ましく、２５００ＭＰａ以下であることがさらに好ましい。

［セルロースアセテート］
本発明では、酢化度が５９．０乃至６１．５％の範囲にあるセルロースアセテートを使用する。
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。
また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｍ／Ｍｎ（Ｍｍは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｍ／Ｍｎの値は、１．０乃至１．７の範囲にあることが好ましく、１．３乃至１．６５の範囲にあることがさらに好ましく、１．４乃至１．６の範囲にあることが最も好ましい。

セルロースのヒドロキシル基は、アセチル基以外に、炭素原子数３以上のアシル基（例、プロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基）で置換されていてもよく、アセチル基を有するユニットとアセチル基以外の基を有するユニットのコポリマーであってもよい。
各位置の置換度は、ＮＭＲによって測定できる。セルロースアセテートについては、特開平１１−５８５１号公報（段落番号００４３〜００４４の合成例１、段落番号００４８〜００４９の合成例２、段落番号００５１〜００５２の合成例３の方法）に記載がある。

［レターデーション上昇剤］
セルロースアセテートフイルムのレターデーションを調整するため、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用する。
芳香族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１乃至２０質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０５乃至１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１乃至１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。

芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ましい。

芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがより好ましく、２乃至８であることがさらに好ましく、２乃至６であることが最も好ましい。二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。

（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ましい。
（ｂ）の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。

（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。
ｃ１：−ＣＯ−Ｏ−
ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ３：−アルキレン−Ｏ−
ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−
ｃ１０：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−
ｃ１１：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−
ｃ１２：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−
ｃ１３：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−
ｃ１４：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ１５：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−

芳香族環および連結基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファモイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素環基が含まれる。

アルキル基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基（例、ヒドロキシ、カルボキシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、２−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチルおよび２−ジエチルアミノエチルが含まれる。アルケニル基の炭素原子数は、２乃至８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル、アリルおよび１−ヘキセニルが含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、２乃至８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、１−ブチニルおよび１−ヘキシニルが含まれる。

脂肪族アシル基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル、プロパノイルおよびブタノイルが含まれる。脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシが含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基（例、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキシ、エトキシ、ブトキシおよびメトキシエトキシが含まれる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニルが含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノおよびエトキシカルボニルアミノが含まれる。

アルキルチオ基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオおよびオクチルチオが含まれる。アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニルおよびエタンスルホニルが含まれる。脂肪族アミド基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含まれる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミドおよびｎ−オクタンスルホンアミドが含まれる。脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ、ジエチルアミノおよび２−カルボキシエチルアミノが含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチルカルバモイルが含まれる。脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイルおよびジエチルスルファモイルが含まれる。脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイドが含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノおよびモルホリノが含まれる。レターデーション上昇剤の分子量は、３００乃至８００であることが好ましい。
レターデーション上昇剤については、特開２０００−１１１９１４号、同２０００−２７５４３４号の各公報および国際公開第００／０２６１９号パンフレットに記載がある。

［セルロースアセテートフイルムの製造］
ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムを製造する。
有機溶媒は、炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルおよび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

炭素原子数が３乃至１２のエーテルの例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のケトンの例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のエステルの例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
二種類以上の有機溶媒を混合して用いることもできる。

一般的な方法でセルロースアセテート溶液を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。
セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロースアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液は、常温（０乃至４０℃）でセルロースアセテートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃至１１０℃である。

各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。
セルロースアセテートの量は、この混合物中に１０乃至４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。

次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は固化する。
冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。

さらに、これを０乃至２００℃（好ましくは０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。
加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。

冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。

調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイルムを製造する。ドープには前記のレターデーション上昇剤を添加することが好ましい。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許第２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許第６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。

調整したセルロースアセテート溶液（ドープ）を用いて二層以上の流延を行いフイルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０乃至４０％の範囲となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。

二層以上の複数のセルロースアセテート液を流延する場合、複数のセルロースアセテート溶液を流延することが可能で、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアセテートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフイルムを作製することができる（例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号および同１１−１９８２８５号の各公報に記載）。また、２つの流延口からセルロースアセテート溶液を流延することによってもフイルム化することもできる（例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、同６１−９４７２４５号、同６１−１０４８１３号、同６１−１５８４１３号および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載）。また、高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、その高、低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押し出すセルロースアセテートフイルムの流延方法を用いることもできる（例えば、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載）。

また、二個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成形したフイルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フイルムを作製する方法（例えば、特公昭４４−２０２３５号公報に記載）も採用できる。
流延するセルロースアセテート溶液は同一の溶液を用いてもよいし、異なるセルロースアセテート溶液を用いてもよい。複数のセルロースアセテート層に機能をもたせるために、その機能に応じたセルロースアセテート溶液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。
さらに本発明のセルロースアセテート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光膜）と同時に流延することもできる。

従来の単層液では、必要なフイルムの厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアセテート溶液を押し出すことが必要である。その場合セルロースアセテート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良となったりして問題となることが多かった。この問題の解決方法として、複数のセルロースアセテート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押し出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフイルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアセテート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フイルムの生産スピードを高めることができる。

セルロースアセテートフイルムには、機械的物性を改良するためにポリエステルウレタンを添加することが好ましい。またポリエステルウレタンは、下記一般式（１）で表されるポリエステルとジイソシアナートとの反応物であることが好ましく、さらに、ジクロロメタンに可溶であることが好ましい。
（１） H-(-O-(CH₂)l-OOC-(CH₂)m-CO)n-O-(CH₂)l-OH
式中、ｌは、２乃至４の整数を表し；ｍは、２乃至４の整数を表し；ｎは、１乃至１００の整数を表す。
さらに詳細に述べると、その構成ポリエステルは、グリコール成分が、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、または１，４−ブタンジオールであり、二塩基性酸成分は、コハク酸、グルタル酸、またはアジピン酸からなる両未満ヒドロオキシル基を有するポリエステルであり、その重合度ｎは１〜１００の範囲にある。重合度ｎは、１〜１００の範囲にあればよいが、その最適な重合度は、用いるグリコールおよび二塩基性酸の種類により若干異なり、ポリエステルの分子量として１０００乃至４５００の範囲となることが特に好ましい。
ジクロロメタン可溶のポリエステルウレタン樹脂は、（１）式のポリエステルとジイソシアナートとの反応により得られ、一般式としては（２）式で表されるような繰返し単位の化合物である。

（２） -CONH-R-NHCO-(O-(CH₂)l-OOC-(CH₂)m-CO)n-O-(CH₂)l-O)-
式中、ｌは、２乃至４の整数を表し；ｍは、２乃至４の整数を表し；ｎは、１乃至１００の整数を表し；Ｒは、２価の原子団残基を表わす。
２価の原子団残基の例としては、例えば下式のようなものが挙げられる。

ポリウレタン化合物に用いられるジイソシアナート成分の例には、エチレンジイソシアナート、トリメチレンジイソシアナート、テトラメチレンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナートで代表されるポリメチレンジイソシアナート（一般式：ＯＣＮ−（ＣＨ₂ ）p −ＮＣＯ（ｐは、２〜８の整数を表す））、芳香族ジイソシアナート（例えば、ｐ−フェニレンジイソシアナート、トリレンジイソシアナート、ｐ，ｐ’−ジフェニルメタンジイソシアナート、１，５−ナフチレンジイソシアナート）およびｍ−キシリレンジイソシアナートが含まれる。トリレンジイソシアナート、ｍ−キシリレンジイソシアナートおよびテトラメチレンジイソシアナートは、入手も容易であり、比較的安定で取扱いも容易であり、そして、ポリウレタン化した場合にセルロースアセテートとの相溶性が優れているので好ましい。

ポリエステルウレタン樹脂の分子量は、２０００乃至５００００の範囲にあることが好ましい。分子量は、成分ポリエステル類またはこれらの連結グループであるジイソシアナート成分の種類又は分子量により、適宜調節できる。ポリエステルウレタン樹脂の分子量は、セルロースアセテートフイルムの機械的物性の向上とセルロースアセテートに対する相溶性の点で、５０００乃至１５０００の範囲にあることがさらに好ましい。
ジクロロメタン可溶性ポリエステルウレタンの合成は、（１）式で表わされるポリエステルジオール類とジイソシアナートとを混合し、攪拌下加熱することにより容易に得ることができる。
（１）式で表わされるポリエステル類は、相当する二塩基性酸もしくはそのアルキルエステル類と、グリコール類とのポリエステル化反応もしくはエステル交換反応による熱溶融縮合法、あるいは、これらの酸の酸クロリドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法により、末端基がヒドロキシル基となるよう適宜調整すれば容易に合成できる。
ジクロロメタン可溶性ポリエステルウレタン樹脂は、酢化度５８％以上のセルロースアセテートと極めて相溶性がよい。樹脂の構造により若干の相異は認められるが、ポリエステルウレタンの分子量が１００００以下の場合、酢酸繊維素１００質量部に対してポリエステルウレタン２００質量部でも相溶する。

従って、ポリエステルウレタン樹脂をセルロースアセテートに混合し、その皮膜の機械的物性を改善しようとする場合、ポリエステルウレタン樹脂の含有量は、ウレタン樹脂の種類、分子量、所望の機械的物性により適当に定めればよい。
セルロースアセテートの特性を保持したまま機械的物性を改善しようとする場合には、セルロースアセテートに対して、ポリエステルウレタン樹脂を１０乃至５０質量％含有させることが好ましい。
また、このポリエステルウレタン樹脂は、少くとも１８０℃までは安定で熱分解しない。このジクロロメタン可溶性のポリエステルウレタン類は、特に５８％以上の酢化度のセルロースアセテートに対して極めて相溶性がよい。従って、両者を混合して製膜すると、極めて透明度の高いフイルムが得られる。しかも、これらのポリエステルウレタン類は、その平均分子量が高いため、従来の低分子の可塑剤とは異なり、高温においても揮発性は殆んどない。従って、これらの混合物より製膜して得られた皮膜は、その後の加工において、従来の可塑剤においてみられた可塑剤の揮発や、移行による不都合が少ない。

ポリエステルウレタンをセルロースアセテートフイルムに添加することにより、高温および低温における耐折強度および引裂き強度が大きくなり、そして、フイルムが裂けるような不都合がなくなる。従来、皮膜の耐折強度や引裂き強度を向上するのに、低分子可塑剤が用いられていた。この方法では、常温、高湿状態においてはある程度の効果はあるが、低温、高湿状態においては皮膜の柔軟性がなくなり、必ずしも満足すべき結果は得られなかった。さらに、低分子可塑剤により機械的性質の改善を試みると、可塑剤の添加量と共に引張り強度の様な機械的性質が著しく低下するのが一般的であった。
ジクロロメタン可溶性ポリエステルウレタン樹脂をセルロースアセテートに添加した場合は、樹脂の添加量と共に若干の引張り強度の低下は認められるが、低分子可塑剤添加の場合と比較して、明らかに強度の低下が少く、無添加の場合とほぼ同等の耐折強度の大きい強靱なフイルムが得られる。さらに、このポリエステルウレタンを混合することにより、低温、高湿における可塑剤の移行を防止できる。そのため、フイルム相互が接着せず、かつ非常に柔軟性があり、しわもきしむことのない透明で光沢のあるフイルムが得られる。

セルロースアセテートフイルムには機械的物性を改良するために、上記のポリエステルウレタンを添加することが好ましいが、ポリエステルウレタンに代え、またはポリエステルウレタンと併用して、以下の可塑剤を用いることができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％であることがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが最も好ましい。

セルロースアセテートフイルムの熱伝導率は、１Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であることが好ましい。熱伝導率の値は、高いほど好ましい。ただし、下記の方法で調節する場合には、１０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であるのが一般的である。
セルロースアセテートフイルムの熱伝導率を制御するために、セルロースアセテートフイルムの作製に用いる（ドープ）に高熱伝導性粒子を添加することが好ましい。また、熱伝導率を制御するために、セルロースアセテートフイルムの一方の面に、高熱伝導性粒子を含む熱伝導層を別に設けても良い。熱伝導層は高熱伝導性粒子を含むポリマーを、セルロースアセテートと共流延することにより設けても良いし、セルロースアセテートフイルムに塗布することにより設けても良い。高熱伝導性粒子の材質の例としては、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化マグネシウム、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、炭素、ダイヤモンド、および金属を挙げることができる。フイルムの透明性を損なわないために、透明な粒子を用いることが好ましい。

高熱伝導性粒子のセルロースアセテートフイルムへの配合量は、セルロースアセテート１００質量部に対して５乃至１００質量部の範囲にあることが好ましい。配合量が５質量部未満であると熱伝導の向上が乏しく、また配合量が５０質量部を超えると、生産性の面で困難かつセルロースアセテートフイルムが脆いものになってしまう。高熱伝導性粒子の平均粒径は０．０５乃至８０μｍの範囲にあることが好ましく、０．１乃至１０μｍの範囲にあることがさらに好ましい。球状の粒子を用いても良い、針状の粒子を用いても良い。

セルロースアセテートフイルムの熱伝導率は、以下のようにして測定した。セルロースアセテートフイルムをＴＯ−３型ヒーターケースと銅板との間に挟み、フイルム厚みの１０％を圧縮する。次いで銅製ヒーターケースに電力５Ｗをかけて４分間保持し、銅製ヒーターケースと銅板との温度差を測定する。熱伝導率は、下式により計算できる。
熱伝導率｛Ｗ／（ｍ・Ｋ）｝＝｛電力（Ｗ）×厚み（ｍ）｝／｛温度差（Ｋ）×測定面積（ｍ² ）｝

セルロースアセテートフイルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ましく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。

[二軸延伸]
セルロースアセテートフイルムは、仮想歪みを低減させるために、適宜、延伸処理をすることが好ましい。延伸することにより、延伸方向の仮想歪みが低減できるので、面内すべての方向で歪みを低減するために二軸延伸することがさらに好ましい。但し、製造上のハンドリングの観点から、上述の音速範囲となるように延伸することが、更に好ましい。
二軸延伸には、同時二軸延伸法と逐次二軸延伸法があるが、連続製造の観点から逐次二軸延伸方法が好ましく、ドープを流延した後、バンドもしくはドラムよりフイルムを剥ぎ取り、幅方向（長手方法）に延伸した後、長手方向（幅方向）に延伸される。
幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号の各公報に記載されている。フイルムの延伸は、常温または加熱条件下で実施する。加熱温度は、フイルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。フイルムは、乾燥中の処理で延伸することができ、特に溶媒が残存する場合は有効である。長手方向の延伸の場合、例えば、フイルムの搬送ローラーの速度を調節して、フイルムの剥ぎ取り速度よりもフイルムの巻き取り速度の方を速くするとフイルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フイルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフイルムを延伸できる。フイルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。フイルムの延伸倍率（元の長さに対する延伸による増加分の比率）は、５乃至５０％の範囲にあることが好ましく、１０乃至４０％の範囲にあることがさらに好ましく、１５乃至３５％の範囲にあることが最も好ましい。

流延から乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。セルロースアセテートフイルムの製造に用いる巻き取り機は一般的に使用されているものでよい。例えば、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法のような巻き取り方法で巻き取ることができる。

[吸湿膨張係数]
吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。
額縁状の透過率上昇を防止するために、セルロースアセテートフイルムの吸湿膨張係数は、３０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１５×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが更に好ましく、１０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが最も好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０^-5／％ＲＨ以上の値である。
吸湿膨張係数の測定方法について以下に示す。作製したポリマーフイルム（位相差板）から幅５ｍｍ、長さ２０ｍｍの試料を切り出し、片方の端を固定して２５℃、２０％ＲＨ（Ｒ０）の雰囲気下にぶら下げた。他方の端に０．５ｇの重りをぶら下げて、１０分間放置し長さ（Ｌ０）を測定した。次に、温度は２５℃のまま、湿度を８０％ＲＨ（Ｒ１）にして、長さ（Ｌ１）を測定した。吸湿膨張係数は下式により算出した。測定は同一試料につき１０サンプル行い、平均値を採用した。
吸湿膨張係数［／％ＲＨ］＝｛（Ｌ１−Ｌ０）／Ｌ０｝／（Ｒ１−Ｒ０）

上記吸湿による寸度変化は、ポリマーフイルム中の自由体積を小さくすればよいことを見出した。自由体積を大きく左右するのは、製膜時の残留溶剤量であり、少ない方が寸度変化は少ない。
残留溶剤を減らすための一般的手法は、高温かつ長時間で乾燥することであるが、あまり長時間であると、当然のことながら生産性が落ちる。従ってセルロースアセテートフイルムに対する残留溶剤の量は、０．０１乃至１質量％の範囲にあることが好ましく、０．０２乃至０．０７質量％の範囲にあることがさらに好ましく、０．０３乃至０．０５質量％の範囲にあることが最も好ましい。
上記残留溶剤量を制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することができる。

残留溶剤量は、一定量の試料をクロロフォルムに溶解し、ガスクロマトグラフ（ＧＣ１８Ａ、島津製作所（株）製）を用いて測定した。
溶液流延法では、ポリマー材料を有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムを製造する。溶液流延法での乾燥は、後述するように、ドラム（またはバンド）面での乾燥と、フイルム搬送時の乾燥に大きく分かれる。ドラム（またはバンド）面での乾燥時には、使用している溶剤の沸点を越えない温度（沸点を越えると泡となる）でゆっくりと乾燥させることが好ましい。また、フイルム搬送時の乾燥は、ポリマー材料のガラス転移点±３０℃、更に好ましくは±２０℃で行うことが好ましい。

また、上記吸湿による寸度変化を小さくする別な方法として、疎水基を有する化合物を添加することが好ましい。疎水基を有する素材としては、分子中にアルキル基やフェニル基のような疎水基を有する素材であれば特に制限はないが、前記のセルロースアセテートフイルムに添加する可塑剤や劣化防止剤の中で該当する素材が特に好ましく用いられる。その例としては、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
これらの疎水基を有する化合物の添加量は、調整する溶液（ドープ）に対して０．０１乃至１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１乃至５質量％の範囲にあることがさらに好ましく、１乃至３質量％の範囲にあることが最も好ましい。

［セルロースアセテートフイルムの表面処理］
セルロースアセテートフイルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、下塗り層（例えば、特開平７−３３３４３３号公報に記載）を設けることも好ましい。
フイルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフイルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
偏光板の透明保護膜として使用する場合、偏光膜との接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。

以下、特に好ましいアルカリ鹸化処理について、具体的に説明する。
セルロースアセテートフイルムのアルカリ鹸化処理は、フイルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの規定濃度は０．１乃至３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５乃至２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温乃至９０℃の範囲にあることが好ましく、４０乃至７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。

固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社 １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアセテートフイルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアセテートフイルムに滴下し、液滴の表面とフイルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフイルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフイルムの表面エネルギーを算出できる。

光学補償シートは、作製したセルロースアセテートフイルムの上に、液晶性化合物から形成された光学異方性層を設けることができる。セルロースアセテートフイルムと、その上に設ける光学異方性層との間に、配向膜を設けることが好ましい。配向膜は本発明で用いる液晶性化合物を一定の方向に配向させる働きをする。従って、配向膜は本発明の光学補償シートを製造する上では必須である。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、光学補償シートの構成要素としては必ずしも必須のものではない。すなわち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみをセルロースアセテートフイルム上に転写して光学補償シートを作製することも可能である。

[配向膜]
配向膜は、液晶性化合物の配向方向を規定する機能を有する。配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。

配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。ポリビニルアルコールが、好ましいポリマーである。疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
配向膜は、一種類のポリマーから形成することもできるが、架橋された二種類のポリマーからなる層をラビング処理することにより形成することがさらに好ましい。少なくとも一種類のポリマーとして、それ自体架橋可能なポリマーか、架橋剤により架橋されるポリマーのいずれかを用いることが好ましい。
配向膜は、官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入したものを、光、熱、ＰＨ変化等により、ポリマー間で反応させて形成するか；あるいは、反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてポリマー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間を架橋することにより形成することができる。

このような架橋は、上記ポリマーまたはポリマーと架橋剤の混合物を含む配向膜塗布液を、セルロースアセテートフイルム上に塗布したのち、加熱等を行なうことにより実施される。最終商品（光学補償シート）で耐久性が確保できれば良いので、配向膜をセルロースアセテートフイルム上に塗設した後から、光学補償シートを得るまでのいずれの段階で架橋させる処理を行なっても良い。
配向膜上に形成される液晶性化合物からなる層（光学異方性層）の配向性を考えると、液晶性化合物を配向させたのちに、充分架橋を行なうことも好ましい。
配向膜の架橋は、セルロースアセテートフイルム上に配向膜塗布液を塗布し、加熱乾燥することで行われることが一般的である。この塗布液の加熱温度を低く設定して、後述の光学異方性層を形成する際の加熱処理の段階で配向膜の充分な架橋を行うことが好ましい。

配向膜に用いるポリマーとしては、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。勿論両方可能なポリマーもある。ポリマーの例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネートを挙げることができる。ポリマーの代わりにシランカップリング剤を用いることができる。
好ましいポリマーは、水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）である。ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールを用いることがさらに好ましい。
また、重合度の異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを二種類併用することが最も好ましい。

ポリビニルアルコールは、鹸化度が７０乃至１００％の範囲にあることが好ましい。鹸化度は８０乃至１００％の範囲にあることが好ましく、８５乃至９５％の範囲にあることがさらに好ましい。また、ポリビニルアルコールの重合度は、１００乃至３０００の範囲にあることが好ましい。
変性ポリビニルアルコールの例としては、共重合変性、連鎖移動による変性、またはブロック重合による変性をしたポリビニルアルコールなどを挙げることができる。共重合変性する場合の変性基の例としては、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＸ）₃ 、Ｎ（ＣＨ₃ ）₃ ・Ｃｌ、Ｃ₉ Ｈ₁₉ＣＯＯ、ＳＯ₃ Ｎａ、Ｃ₁₂Ｈ₂₅が挙げられる。連鎖移動による変性をする場合の変性基の例としては、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、Ｃ₁₂Ｈ₂₅が挙げられる。また、ブロック重合による変性をする場合の変性基の例としては、ＣＯＯＨ、ＣＯＮＨ₂ 、ＣＯＯＲ、Ｃ₆ Ｈ₅ が挙げられる。
鹸化度が８０乃至１００％の範囲にある未変性もしくは変性ポリビニルアルコールが好ましい。鹸化度が８５乃至９５％の範囲にある未変性ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましい。

架橋剤の例としては、アルデヒド類、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール類、およびジアルデヒド澱粉を挙げることができる。アルデヒド類の例としては、ホルムアルデヒド、グリオキザール、およびグルタルアルデヒドが挙げられる。Ｎ−メチロール化合物の例としては、ジメチロール尿素およびメチロールジメチルヒダントインが挙げられる。ジオキサン誘導体の例としては、２，３−ジヒドロキシジオキサンが挙げられる。カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物の例としては、カルベニウム、２−ナフタレンスルホナート、１，１−ビスピロリジノ−１−クロロピリジニウム、および１−モルホリノカルボニル−３−（スルホナトアミノメチル）が挙げられる。活性ビニル化合物の例としては、１，３，５−トリアクロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビス（ビニルスルホン）メタン、およびＮ，Ｎ’−メチレンビス−［βー（ビニルスルホニル）プロピオンアミド］が挙げられる。そして、活性ハロゲン化合物の例としては、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−Ｓ−トリアジンが挙げられる。これらは組み合わせて用いることができる。
これらは上記水溶性ポリマー、特にポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール（上記特定の変性物も含む）と併用する場合に好ましい。生産性を考慮した場合、反応活性の高いアルデヒド類、とりわけグルタルアルデヒドの使用が好ましい。

耐湿性は、架橋剤を多く添加した方が良化傾向にある。しかし、架橋剤をポリマーに対して５０質量％以上添加した場合には、配向膜としての配向能が低下する。従って、ポリマーに対する架橋剤の添加量は、０．１乃至２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５乃至１５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。配向膜は、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいるが、その架橋剤の量は、配向膜中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。配向膜中に１．０質量％を超える量で未反応の架橋剤が含まれていると、充分な耐久性が得られない。即ち、液晶表示装置に使用した場合、長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合に、レチキュレーションが発生することがある。

配向膜は、上記ポリマーを含む溶液、あるいは上記ポリマーと架橋剤を含む溶液を、セルロースアセテートフイルム上に塗布した後、加熱乾燥し（架橋させ）、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、塗布液をセルロースアセテートフイルム上に塗布した後、任意の時期に行なっても良い。
そして、ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合、その塗布液を作製するための溶媒は、消泡作用のあるメタノール等の有機溶媒とするか、あるいは有機溶媒と水の混合溶媒とすることが好ましい。有機溶媒としてメタノールを用いる場合、その比率は質量比で水：メタノールが、０：１００〜９９：１が一般的であり、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方性層の表面の欠陥が著しく減少する。
塗布方法としては、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を挙げることができる。特にＥ型塗布法が好ましい。

配向膜の膜厚は、０．１乃至１０μｍの範囲にあることが好ましい。加熱乾燥は、加熱温度が２０乃至１１０℃の範囲で行なうことができる。充分な架橋を形成させるためには、加熱温度は６０乃至１００℃の範囲にあることが好ましく、８０乃至１００℃の範囲にあることがさらに好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができる。好ましくは５乃至３０分間である。

ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。

[光学異方性層]
液晶性化合物から形成される光学異方性層を、セルロースアセテートフイルム上に設けられた配向膜の上に形成することができる。
光学異方性層に用いる液晶性化合物には、棒状液晶性化合物および円盤状液晶性化合物が含まれる。棒状液晶性化合物および円盤状液晶性化合物は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。
光学異方性層は、液晶性化合物および必要に応じて重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。

塗布液の調整に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
光学異方性層の厚さは、０．１乃至２０μｍであることが好ましく、０．５乃至１５μｍであることがさらに好ましく、１乃至１０μｍであることが最も好ましい。

棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性化合物については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１乃至０．７の範囲にあることが好ましい。
棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基（Ｑ）の例を、以下に示す。

重合性基（Ｑ）は、不飽和重合性基（Ｑ１〜Ｑ７）、エポキシ基（Ｑ８）またはアジリジニル基（Ｑ９）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｑ１〜Ｑ６）であることが最も好ましい。
棒状液晶性化合物は、短軸方向に対してほぼ対称となる分子構造を有することが好ましい。そのためには、棒状分子構造の両端に重合性基を有することが好ましい。
以下に、棒状液晶性化合物の例を示す。

光学異方性層は、棒状液晶性化合物あるいは後述の重合性開始剤や任意の添加剤（例、可塑剤、モノマー、界面活性剤、セルロースエステル、１，３，５−トリアジン化合物、カイラル剤）を含む液晶組成物（塗布液）を、配向膜の上に塗布することで形成できる。

円盤状（ディスコティック）液晶性化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルを挙げることができる。さらに、円盤状液晶性化合物としては、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造のものも含まれ、液晶性を示す。また、本発明において、円盤状液晶性化合物から形成する光学異方性層は、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、低分子の円盤状液晶性化合物が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。円盤状液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、円盤状液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。

円盤状液晶性化合物を重合により固定するためには、円盤状液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有する円盤状液晶性化合物は、下記式（III)で表わされる化合物であることが好ましい。

（III) Ｄ（−Ｌ−Ｑ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり；Ｌは二価の連結基であり、Ｑは重合性基であり、そして、ｎは４乃至１２の整数である。
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＱ（またはＱＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｑ）との組み合わせを意味する。

式（III)において、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−および−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６乃至１０であることが好ましい。

二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｑ）に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基、ＡＲはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、置換基（例、アルキル基）を有していてもよい。
Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−

Ｌ１１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２０：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２１：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２４：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−

式（III)の重合性基（Ｑ）は、棒状液晶性化合物で説明した重合性基（Ｑ）と同様である。
式（III)において、ｎは４乃至１２の整数である。具体的な数字は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＱの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。

円盤状液晶性化合物を用いる場合、円盤状構造単位の面が、セルロースアセテートフイルム表面に対して傾き、且つ円盤状構造単位の面とセルロースアセテートフイルム表面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向に変化していることが好ましい。

円盤状構造単位の面の角度（傾斜角）は、一般に、光学異方性層の深さ方向でかつ光学異方性層の底面からの距離の増加と共に増加または減少している。傾斜角は、距離の増加と共に増加することが好ましい。さらに、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠的変化などを挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜角は、傾斜角が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していることが好ましい。さらに、傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。

支持体側の円盤状単位の傾斜角は、一般に円盤状液晶性化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）の円盤状単位の傾斜角は、一般に円盤状液晶性化合物あるいは円盤状液晶性化合物とともに使用する他の化合物を選択することにより調整することができる。円盤状液晶性化合物とともに使用する化合物の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマーなどを挙げることができる。更に、傾斜角の変化の程度も、上記と同様の選択により調整できる。

円盤状液晶性化合物と共に使用する可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマーとしては、円盤状液晶性化合物と相溶性を有し、円盤状液晶性化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用することができる。これらの中で、重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性化合物に対して一般に１乃至５０質量％の範囲にあり、５乃至３０質量％の範囲にあることが好ましい。

円盤状液晶性化合物とともに使用するポリマーとしては、円盤状液晶性化合物と相溶性を有し、円盤状液晶性化合物に傾斜角の変化を与えられる限り、どのようなポリマーでも使用することができる。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。円盤状液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、円盤状液晶性化合物に対して一般に０．１乃至１０質量％の範囲にあり、０．１乃至８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１乃至５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。

光学異方性層は、一般に円盤状液晶性化合物および他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコティックネマチック相）を維持して冷却することにより得られる。あるいは、上記光学異方性層は、円盤状液晶性化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノマー、光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱したのち重合させ（ＵＶ光の照射等により）、さらに冷却することにより得られる。円盤状液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０乃至３００℃が好ましく、７０乃至１７０℃がさらに好ましい。

［液晶性化合物の配向状態の固定］
配向させた液晶性化合物を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同第２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１乃至２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５乃至５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ² 乃至５０Ｊ／ｃｍ² の範囲にあることが好ましく、２０乃至５０００ｍＪ／ｃｍ² の範囲にあることがさらに好ましく、１００乃至８００ｍＪ／ｃｍ² の範囲にあることが最も好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。

［偏光板］
偏光板は、偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方の保護膜として、上記の光学補償シートを用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフイルムを用いてもよい。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。

また、偏光板の生産性には保護フイルムの透湿性が重要であることがわかった。偏光膜と保護フイルムは水系接着剤で貼り合わせられており、この接着剤溶剤は保護フイルム中を拡散することで、乾燥される。保護フイルムの透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早くなり、生産性は向上するが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境（高湿下）により、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。
光学補償シートの透湿性は、ポリマーフイルム（および重合性液晶化合物）の厚み、自由体積、もしくは、親疎水性などにより決定される。
光学補償シートを偏光板の保護フイルムとして用いる場合、光学補償シートの透湿性は１００乃至１０００（ｇ／ｍ² ）／２４ｈｒｓの範囲にあることが好ましく、３００乃至７００（ｇ／ｍ² ）／２４ｈｒｓの範囲にあることがさらに好ましい。

光学補償シートの厚みは、セルロースアセテートフイルムを製膜する場合の、リップ流量とラインスピード、あるいは、延伸、圧縮により調整することができる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好ましい範囲にすることが可能である。
光学補償シートの自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することができる。この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にすることが可能である。
光学補償フイルムの親疎水性は、添加剤により調整することができる。自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることができる。
光学補償シートの透湿性を調整することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能となる。

［液晶表示装置］
光学補償シート、または光学補償シートと偏光膜とを貼り合わせて得られた偏光板は、液晶表示装置、特に透過型液晶表示装置に有利に用いられる。
透過型液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる。偏光板は、偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。
本発明の光学補償シートは、液晶セルと一方の偏光膜との間に一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏光膜との間に二枚配置する。
本発明の偏光板は、液晶セルの両側に配置された二枚の偏光板のうちの少なくとも一方として用いればよい。この際には、光学補償シートが液晶セル側となるように本発明の偏光板を配置する。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０乃至１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。

［第１例］
（セルロースアセテートフイルムの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。

─────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
─────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ６．９質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ４．９質量部
染料（３６０ＦＰ、住化ファインケム（株）製） ０．０００９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２質量部
メタノール（第２溶媒） ６０質量部
─────────────────────────────────────

下記の組成物を別のミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、レターデーション上昇剤溶液を調製した。

───────────────────────────────────
レターデーション上昇剤溶液組成
───────────────────────────────────
上記のセルロースアセテート溶液 １２．８質量部
下記のレターデーション上昇剤 ２０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
───────────────────────────────────

下記の組成物を別のミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、マット剤を分散し、マット剤分散液を調製した。

───────────────────────────────────
マット剤分散液組成
───────────────────────────────────
上記のセルロースアセテート溶液 １０．３質量部
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） １１．４質量部
───────────────────────────────────

セルロースアセテート溶液９６．２体積部、レターデーション上昇剤溶液２．５体積部およびマット剤分散液１．３体積部をインラインミキサーで混合し、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が４０質量％のフイルムをバンドから剥がし、１２０℃の熱風を吹かせながら、搬送方向に１０１％のドローをかけながら搬送しつつ、テンターで幅方向に３％拡幅しながら乾燥させた。次いでテンタークリップを外した後、フイルムを１４０℃の熱風で２０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフイルム（厚さ：６０μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフイルム（ＣＦ−０１）について、光学特性を測定した。結果は第１表に示す。
なお、光学特性は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６３０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値および波長６３０ｎｍにおけるＲthレターデーション値を測定した。

作製したセルロースアセテートフイルムを温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フイルム表面温度を４０℃に昇温した後に、下記の組成のアルカリ溶液をバーコータを用いて、１４ｍｌ／ｍ² 塗布し、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外線ヒーター（（株）ノリタケカンパニー製）の下に１０秒間滞留させた後、同じくバーコーターを用いて純水を３ｍｌ／ｍ² 塗布した。このときのフイルム温度は４０℃であった。次いでファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返して後に、７０℃の乾燥ゾーンに２秒滞留させて乾燥した。

────────────────────────────────────
アルカリ溶液組成
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．７質量部
イソプロパノール ６４．８質量部
プロピレングリコール １４．９質量部
Ｃ₁₆Ｈ₃₃Ｏ（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）₁₀Ｈ（界面活性剤） １．０質量部
────────────────────────────────────

（配向膜の形成）
作製したセルロースアセテートフイルム上に、下記の組成の塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ² 塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、セルロースアセテートフイルムの長手方向と平行な方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。

─────────────────────────────────────
配向膜塗布液組成
─────────────────────────────────────
下記の変性ポリビニルアルコール ４０質量部
水 ７２８質量部
メタノール ２２８質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ２質量部
クエン酸 ０．０８質量部
クエン酸モノエチルエステル ０．２９質量部
クエン酸ジエチルエステル ０．２７質量部
クエン酸トリエチルエステル ０．０５質量部
─────────────────────────────────────

（光学異方性層の形成）
配向膜上に、下記の円盤状（液晶性）化合物９１．０ｇ、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）９．０ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）２．０ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）０．５ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）３．０ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．０ｇ、下記のフッ素系高分子界面活性剤０．４ｇを、２０７ｇのメチルエチルケトンに溶解した塗布液を、＃３．６のワイヤーバーで６．２ｃｃ／ｍ² 塗布した。これを１３０℃の恒温ゾーンで２分間加熱し、円盤状化合物を配向させた。次に、６０℃の雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し円盤状化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成し、光学補償シート（ＲＦ−０１）を作製した。作製した光学補償シート作製した（ＲＦ−０１）について、光学特性を測定した。結果は第１表に示す。
なお、光学特性は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６３０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値および波長６３０ｎｍにおけるＲthレターデーション値を測定した。

［第２例］
（セルロースアセテートフイルムの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。

────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成（質量部） 内層 外層
────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００ １００
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８ ７．８
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９ ３．９
メチレンクロライド（第１溶媒） ２９３ ３１４
メタノール（第２溶媒） ７１ ７６
１−ブタノール（第３溶媒） １．５ １．６
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０ ０．８
第１例で用いたレターデーション上昇剤 １．４ ０
────────────────────────────────────

得られた内層用ドープおよび外層用ドープを三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフイルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフイルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフイルム（ＣＦ−０２）について、光学特性を測定した。結果は第１表に示す。
なお、光学特性は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６３０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値および波長６３０ｎｍにおけるＲthレターデーション値を測定した。

第１例と同様に、セルロースアセテートフイルムの一方の表面のみをケン化した。第１例と同様に、配向膜および光学異方性層を形成して、光学補償シート（ＲＦ−０２）を作製した。作製した光学補償シート作製した（ＲＦ−０２）について、光学特性を測定した。結果は第１表に示す。
なお、光学特性は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６３０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値および波長６３０ｎｍにおけるＲthレターデーション値を測定した。

［第３例］
第２例においてドラム面と反対面（エア面）側の外層用ドープのシリカ粒子の量を０．１５とした以外は第２例と同様にしてセルロースアセテートフイルム（ＣＦ−０３）を作製した（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）。第１例と同様に、セルロースアセテートフイルムの一方の表面のみをケン化した。

第１例と同様にして配向膜を形成した。
メチルエチルケトンの量を２４９ｇ、ワイヤーバーを＃３．０とし塗布量を５．２ｃｃ／ｍ² とした以外は第１例と同様にして光学異方性層を形成して、光学補償シート（ＲＦ−０３）を作製した。作製した光学補償シート作製した（ＲＦ−０３）について、光学特性を測定した。結果は第１表に示す。
なお、光学特性は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６３０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値および波長６３０ｎｍにおけるＲthレターデーション値を測定した。

[比較第１例]
（セルロースアセテートフイルムの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。

────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成（質量部） 内層 外層
────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００ １００
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８ ７．８
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９ ３．９
メチレンクロライド（第１溶媒） ２９３ ３１４
メタノール（第２溶媒） ７１ ７６
１−ブタノール（第３溶媒） １．５ １．６
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０ ０．８
────────────────────────────────────

得られた内層用ドープおよび外層用ドープを三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフイルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１５％として搬送しながら８０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフイルム（外層：３μｍ、内層：１３４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフイルム（ＣＦ−０４）について、光学特性を測定した。結果は第１表に示す。
なお、光学特性は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６３０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値および波長６３０ｎｍにおけるＲthレターデーション値を測定した。

第１例と同様に、セルロースアセテートフイルムの表面処理を行い、配向膜および光学異方性層を形成して、光学補償シート（ＲＦ−０４）を作製した。作製した光学補償シート作製した（ＲＦ−０４）について、光学特性を測定した。結果は第１表に示す。
なお、光学特性は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６３０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値および波長６３０ｎｍにおけるＲthレターデーション値を測定した。

［比較第２例］
（セルロースアセテートフイルムの作製）
第１例のセルロースアセテート溶液９６．２体積部、レターデーション上昇剤溶液２．５体積部、マット剤分散液１．３体積部をインラインミキサーで混合したドープを、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が４０質量％のフイルムをバンドから剥がし、１２０℃の熱風を吹かせながら、搬送方向に１０１％のドローをかけながら搬送しつつ、テンターで幅方向に８％延伸しながら乾燥させた。さらにフイルムを１４０℃の熱風で２０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフイルム（厚さ：６０μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフイルム（ＣＦ−０５）について、光学特性を測定した。結果は第１表に示す。
なお、光学特性は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６３０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値および波長６３０ｎｍにおけるＲthレターデーション値を測定した。

第１例と同様にして光学異方性層を形成した。作製した光学補償シート（ＲＦ−０５）について、光学特性を測定した。結果は第１表に示す。
なお、光学特性は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６３０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値および波長６３０ｎｍにおけるＲthレターデーション値を測定した。

第１表
────────────────────────────────────
フイルム Ｒｅ(CF) Ｒth(CF) Ｒｅ(RF) αＣＦ αＲＦ
────────────────────────────────────
第１例 ＲＦ−０１ ５ｎｍ ８０ｎｍ ３９ｎｍ １．０１ １．１１
第２例 ＲＦ−０２ ８ｎｍ ８２ｎｍ ３６ｎｍ −０．１５ １．２７
第３例 ＲＦ−０３ ７ｎｍ ７８ｎｍ ２１ｎｍ −０．１４ １．３３
比較第１例ＲＦ−０４ １０ｎｍ ７７ｎｍ ３１ｎｍ −５．８１ １．５１
比較第２例ＲＦ−０５ ２０ｎｍ ８１ｎｍ ２１ｎｍ １．０３ １．０５
────────────────────────────────────
（註）
Ｒｅ(CF)：波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値
Ｒth(CF)：波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの厚み方向のレターデーション値
Ｒｅ(RF)：波長６３０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値

［第４例］
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、第１例で作製した光学補償シート（ＲＦ−０１）を、第１例に記載したケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、セルロースアセテートフイルム（ＣＦ―０１）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。偏光膜の透過軸と光学補償シート（ＲＦ−０１）の遅相軸とは平行になるように配置した。市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。

［第５例］
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、第２例で作製した光学補償シート（ＲＦ−０２）を、第１例に記載のケン化処理を行った後、セルロースアセテートフイルム（ＣＦ―０２）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。偏光膜の透過軸と光学補償シート（ＲＦ−０２）の遅相軸とは平行になるように配置した。市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。

［第６例］
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、第３例で作製した光学補償シート（ＲＦ−０３）を、第１例に記載のケン化処理を行った後、セルロースアセテートフイルム（ＣＦ―０３）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。偏光膜の透過軸と光学補償シート（ＲＦ−０３）の遅相軸とは平行になるように配置した。市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。

［比較第３例］
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、比較第１例で作製した光学補償シート（ＲＦ−０４）を、第１例に記載のケン化処理を行った後、セルロースアセテートフイルム（ＣＦ―０４）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。偏光膜の透過軸とセルロースアセテートフイルム（ＣＦ−０４）の遅相軸とは平行になるように配置した。市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。

［比較第４例］
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、比較第２例で作製した光学補償シート（ＲＦ−０５）を、第１例に記載のケン化処理を行った後、セルロースアセテートフイルム（ＣＦ−０５）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。偏光膜の透過軸とセルロースアセテートフイルム（ＣＦ−０５）の遅相軸とは平行になるように配置した。市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。

［第７例］
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＬＣ−２０Ｖ１、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに第４例で作製した偏光板を、光学補償シート（ＲＦ−０１）が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。光学補償シートのラビング方向と液晶セルのラビング方向が平行であり、観察者側の偏光板の透過軸とバックライト側の偏光板の透過軸が直交するように配置した。作製した液晶表示装置について、測定機（ＢＭ５Ａ、ＴＯＰＣＯＮ社製）を用いて、黒表示での上方向４０°におけるｘ、ｙ色度を測定した。結果を第２表に示す。

［第８例］
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＬＣ−２０Ｖ１、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに第５例で作製した偏光板を、光学補償シート（ＲＦ−０２）が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。光学補償シートのラビング方向と液晶セルのラビング方向が平行であり、観察者側の偏光板の透過軸とバックライト側の偏光板の透過軸が直交するように配置した。作製した液晶表示装置について、測定機（ＢＭ５Ａ、ＴＯＰＣＯＮ社製）を用いて、黒表示での上方向４０°におけるｘ、ｙ色度を測定した。結果を第２表に示す。
さらに、温度２５℃、相対湿度６０％の環境条件において、バックライトを５時間連続点灯し、全面黒表示状態を暗室にて目視で観察して光漏れを評価した。その結果、液晶表示装置の表示画面において光漏れは観測されなかった。

［第９例］
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＬＣ−２０Ｖ１、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに第６例で作製した偏光板を、光学補償シート（ＲＦ−０３）が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。光学補償シートのラビング方向と液晶セルのラビング方向が平行であり、観察者側の偏光板の透過軸とバックライト側の偏光板の透過軸が直交するように配置した。作製した液晶表示装置について、測定機（ＢＭ５Ａ、ＴＯＰＣＯＮ社製）を用いて、黒表示での上方向４０°におけるｘ、ｙ色度を測定した。結果を第２表に示す。
さらに、温度２５℃、相対湿度６０％の環境条件において、バックライトを５時間連続点灯し、全面黒表示状態を暗室にて目視で観察して光漏れを評価した。その結果、液晶表示装置の表示画面において光漏れは観測されなかった。

［比較第５例］
比較第３例の偏光板を用いた以外は、第７例と同様に液晶表示装置を作製して評価した。結果を第２表に示す。

［比較第６例］
比較第４例の偏光板を用いた以外は、第７例と同様に液晶表示装置を作製して評価した。結果を第２表に示す。

第２表
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液晶 黒表示上方向４０°の色味
表示装置 ｘ ｙ 光漏れ
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第７例 ０．２８７ ０．３０８ なし
第８例 ０．２８５ ０．３０２ なし
例９例 ０．２９５ ０．３１０ なし
比較第５例 ０．２２０ ０．２１０ あり
比較第６例 ０．４２２ ０．４１２ なし
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Claims (7)

1. 酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテート、およびセルロースアセテート１００質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を０．０１乃至２０質量部含むセルロースアセテートフイルム、並びに液晶性化合物から形成された光学異方性層からなる光学補償シートであって、セルロースアセテートフイルムの厚みが１０乃至９０μｍであり、波長６３０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値が０乃至１００ｎｍであり、そして、波長５５０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値に対する波長４５０ｎｍで測定した光学補償シートの面内レターデーション値の比が１．１乃至１．４であることを特徴とする光学補償シート。
2. 波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値が０乃至１００ｎｍであり、そして、波長５５０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値に対する波長４５０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値の比が−０．５乃至１．２である請求項１に記載の光学補償シート。
3. 波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの面内レターデーション値が０乃至２０ｎｍである請求項２に記載の光学補償シート。
4. 波長６３０ｎｍで測定したセルロースアセテートフイルムの厚み方向のレターデーション値が７０乃至４００ｎｍである請求項１に記載の光学補償シート。
5. 偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の一方が、請求項１に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
6. 液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、液晶セルと偏光膜の間の透明保護膜のうちの少なくとも一方が、請求項１に記載の光学補償シートであることを特徴とする液晶表示装置。
7. 液晶セルがＴＮモードの液晶セルである請求項６に記載の液晶表示装置。