JP2007207893A - 透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル - Google Patents
透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007207893A JP2007207893A JP2006023096A JP2006023096A JP2007207893A JP 2007207893 A JP2007207893 A JP 2007207893A JP 2006023096 A JP2006023096 A JP 2006023096A JP 2006023096 A JP2006023096 A JP 2006023096A JP 2007207893 A JP2007207893 A JP 2007207893A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- electromagnetic wave
- wave shielding
- shielding film
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Abstract
【解決手段】透明基材上に、銀を主成分とする印刷パターンを備えており、かつ、前記印刷パターンと前記透明基材との間に、易接着層を有することを特徴とする透光性電磁波シールド膜、また、これを用いたディスプレイパネル用フィルム、ディスプレイパネル用光学フィルター及びプラズマディスプレイパネル。
【選択図】なし
Description
また、透明性に関する要求レベルは、CRT用として凡そ70%以上、PDP用として80%以上の可視光透過率が要求されており、更に一層高い透明性が望まれている。
例えば、特許文献1には、銀などの導電性微粒子分散液をインクジェット法にて印刷し、加熱・焼成して、電磁波シールド材を製造する方法が開示されている。
また、特許文献2には、銀化合物を有するペーストを印刷したのち、加熱して金属への還元・分解を促進し、金属同士の融着を促進することで、電磁波シールドフィルムを製造する方法が開示されている。
1点めは、金属部の導電性が、金属箔をエッチング加工する場合よりも小さくなりやすく、その為に電磁波シールド性能の観点では不利な状況にあった。
2点めとして、金属パターン部の支持体との密着が十分でなく、引っ掻き等の物理的、機械的作用に対して耐性、即ち表面硬度が弱い問題があった。
3点めは、ディスプレイに利用される電磁波シールド材料に要求される耐久性が十分ではなく、改善が望まれていた。
このため、例えば、PDP用途の場合では、作成したシールド材料のメッシュのパターンとPDPのモジュールないしは前面板あるいはガラス等を基体とした光学フィルター材料にシールド材料を位置あわせする製造方法がとられてきた。この方法ではシールド材料にロスが出るうえ、生産性を向上するために、ロール状のシールド材料を使おうとしても、1つ1つのメッシュパターンとパネルとの位置合せに時間がかかり、生産速度を十分に上げることができなかった。
この近赤外カット機能を付与することは、該機能層を電磁波シールド膜と貼り合わせるなどして得られると考えられるが、電磁波シールドフィルムが上記の様に断続的なものであって多量のロスを生じながら光学フィルターが製造される限り、近赤外カット機能を有するフィルムもまた、断続的にしか利用されない欠点を抱えている。
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、フォトリソグラフィーを利用したエッチング加工メッシュの製造プロセスに比べ、少ない工程数で製造できる低コストな、かつ、十分な導電性、即ち電磁波シールド性能を有する電磁波シールドフィルムを提供することであり、また、表面硬度が十分で、耐熱性、耐湿熱性、などの耐久性に優れ、高い電磁波シールド性を有し、光散乱が小さく高い光透過率を有する、透光性電磁波シールドフィルム、これを用いたディスプレイパネル用フィルム、ディスプレイパネル用光学フィルター及びプラズマディスプレイパネルの提供にある。
すなわち本発明は、以下のとおりである。
透明基材上に、銀を主成分とする印刷パターンを備えており、かつ、前記印刷パターンと前記透明基材との間に、易接着層を有することを特徴とする透光性電磁波シールド膜。ただし、銀を主成分とする印刷パターンとは、該パターンを構成する金属に対する銀の質量%が60%以上である、パターン状に印刷された導電性組成物を指す。
(2) 前記印刷パターンが、カレンダーロールで処理されていることを特徴とする(1)に記載の透光性電磁波シールド膜。
(3)
前記印刷パターンが防錆剤を含有することを特徴とする、(1)または(2)に記載の透光性電磁波シールド膜。
(4)
剥離可能な保護フィルムを備えていることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の透光性電磁波シールド膜。
(5)
前記透明基材がプラスチックフィルムであることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の透光性電磁波シールド膜。
(6)
前記印刷パターンが線幅1μmから40μmのメッシュ状の細線から形成され、該メッシュパターンが3m以上連続していることを特徴とする(1)〜(5)のいずれかに記載の透光性電磁波シールド膜。
(7)
前記易接着層上に接着剤層を有し、該接着剤層がガラスと接したときの剥離強度が20N/m以上であることを特徴とする(1)〜(6)のいずれかに記載の透光性電磁波シールド膜。
(8)
湿度90%以上で72時間放置したあとの、前記接着剤層がガラスと接したときの剥離強度が20N/m以上であることを特徴とする(7)に記載の透光性電磁波シールド膜。
(9)
透明基材上に、易接着層を設け、該易接着層上に銀を主成分とする印刷パターンを設けることを特徴とする透光性電磁波シールド膜の製造方法。ただし、銀を主成分とする印刷パターンとは、該パターンを構成する金属に対する銀の質量%が60%以上である、パターン状に印刷された導電性組成物を指す。
(10)
前記印刷パターンがカレンダーロール処理されることを特徴とする(9)に記載の透光性電磁波シールド膜の製造方法。
(11)
前記カレンダーロール処理を線圧力1960N/cm(200kgf/cm)以上で行うことを特徴とする(9)または(10)に記載の電磁波シールド膜の製造方法。
(12)
(1)〜(8)のいずれかに記載の透光性電磁波シールド膜を有することを特徴とする、プラズマディスプレイパネル用光学フィルター。
(13)
(1)〜(8)のいずれかに記載の電磁波シールド膜を有することを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
また、本明細書で、「連続メッシュパターン」等における「メッシュ」とは、当業界の用例にしたがって複数の細線からなる網目パターンまたは複数の細線からなる網を指す。さらに「連続」の意味は、ロール状などの長尺フィルムを指し、かつ、同一のパターンが長尺フィルムの長さ方向に途切れなく連続していることを意味する。
また、「電磁波シールド膜」はフィルム状の透明基材に担持されているので、積層される他の構成要素(構成フィルム)との混乱がない限り「電磁波シールドフィルム」又は単に「フィルム」と呼ぶこともある。
本発明に用いられる透明基材(透明支持体)としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、およびポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類;ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン、EVAなどのポリオレフィン類;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂;その他、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリサルホン(PSF)、ポリエーテルサルホン(PES)、ポリカーボネート(PC)、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)などの透明プラスチック基材を用いることができる。
本発明においては、透明性、耐熱性、取り扱いやすさおよび価格の点から、上記透明プラスチック基材はポリエチレンテレフタレートフィルムであることが好ましい。この透明プラスチック基材の厚みは、取扱性、可視光の透過率などの観点から5〜200μmが好ましい。さらに好ましくは、10〜130μm、より好ましくは、40〜80μmである。
本発明における透明プラスチック基材は、単層で用いることもできるが、2層以上を組み合わせた多層フィルムとして用いることも可能である。
次に、本発明における銀を主成分とする印刷パターン(導電性金属部)について説明する。
印刷方法としては、公知の印刷法、例えばグラビア印刷、オフセット印刷、活版印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷等を使用することが可能である。
透明基材上に表面処理を施したり、アンカーコート層を設けたりしても良い。表面処理の方法としては、プライマの塗布による処理、プラズマ処理、コロナ放電処理等が有効である。これらの処理により処理後の透明基材の臨界表面張力が3.5×10−4N/cm以上になることが好ましく、4.0×10−4N/cm以上がさらに好ましい。
金属としては、銀、銅、ニッケル、パラジウム、金、白金、すず等の微粒子があげられるが、本発明では銀を主成分とする印刷パターンであり、銀単独でも、銀を含む2種以上の上記金属を混合して用いてもよい。ただし、銀を主成分とする印刷パターンとは、該パターンを構成する金属に対する銀の質量%が60%以上である印刷パターンを指す。本発明においては、2種以上の金属を使用する場合、一方の金属で被覆することも好ましい。
また、本発明では金属の化合物も使用することができる。金属の化合物とは、金属酸化物または有機金属化合物であり、外部からエネルギーを印加することにより還元または分解が容易に生じ、導電性を付与しうる化合物が好ましい。金属酸化物としては、酸化金、酸化銀等を使用することができる。特に酸化銀は、自己還元性を有しているので好ましい。有機金属化合物としては、比較的分子量の小さい酢酸銀、クエン酸銀等が好ましい。ペーストが金属を含む場合は、例えばナノオーダーサイズ(5〜60nm)の金属、分散剤、および溶媒から作製することが好ましい。また、ペーストが金属酸化物を含む場合は、ナノオーダーサイズの金属酸化物、この金属酸化物の還元に必要な還元剤、および溶媒から作製することが好ましく、有機金属化合物を含む場合は、分解温度の低い有機金属化合物および溶媒から作製することが好ましい。中でも、ナノオーダーサイズの金属酸化物と有機金属化合物とを併用したペーストを使用すると、細線まで印刷できるのみならず、還元剤および有機金属化合物の構造を適宜選択することにより、外部エネルギーを印加して導電性を付与する場合に可撓性を有するフィルムにダメージを与えない条件での金属酸化物から金属への還元分解を促進させ、かつ、金属間どうしの融着を促進させることができるので、抵抗値をより低減させることも可能となる。なお、金属酸化物が還元剤を添加しなくても還元可能な場合、例えば加熱により自己還元可能な場合は、特に還元剤を添加しなくてもよい。また溶媒としては、詳しくは後述するが、使用する印刷方式やペースト粘度調整方法によって適宜使用可能であり、カルビトール、プロピレングリコール等の高沸点溶媒を用いることができる。また、ペーストの粘度としては、使用する印刷方式や溶媒に応じて適宜設定可能であるが、5mPa・s以上20000mPa・s以下が好ましい。
印刷後の導電性金属部は、高温で焼成するのが好ましい。これにより、有機成分が除去されるとともに金属微粒子同士が付着し、表面抵抗値が低下する。焼成温度としては、例えば50〜1000℃、好ましくは70〜600℃、焼成時間は例えば3〜600分、好ましくは10〜300分である。
本発明においては正方形からなる格子状のメッシュ形態であることが最も好ましい。
本発明で好ましく行われるカレンダーロール処理について説明する。
本発明においては、銀を主成分とする印刷パターンはカレンダーロールで処理されることが好ましい。これにより銀を主成分とする印刷パターン部の導電性を向上させることが可能であり、電磁波シールド性能を高めることが可能である。
カレンダーロールは、通常1対以上のロールから成る。カレンダー処理に用いられるロールとしては、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミドなどのプラスチックロールまたは金属ロールが用いられる。特に金属ロール同志で処理することが好ましい。線圧力は好ましくは、1960N/cm(200kgf/cm)以上、更に好ましくは、2940N/cm(300kgf/cm)以上である。カレンダーロール処理の温度は、10℃〜100℃が好ましく、より好ましくは10℃〜50℃である。このカレンダー処理は、ロール状の長いフィルムを連続処理できる。
本発明に用いられる防錆剤としては、含窒素有機ヘテロ環化合物や、有機メルカプト化合物が好ましく用いられる。
含窒素有機ヘテロ環化合物の好ましい例としては以下のものが挙げられる。即ち、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾインダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、ピリジン、キノリン、ピリミジン、ピペリジン、ピペラジン、キノキサリン、モルホリンなどが挙げられ、これらは、アルキル基、カルボキシル基、スルホ基、などの置換基を有してよい。
有機メルカプト化合物としては、アルキルメルカプト化合物や、アリールメルカプト化合物、ヘテロ環メルカプト化合物などが挙げられる。
一般式(2)
Z−SM
〔一般式(2)において、Zはアルキル基、芳香族基若しくはヘテロ環基であって、ヒドロキシル基、−SO3M2基、−COOM2基(ここでM2は水素原子、アルカリ金属原子またはアンモニウム基を表す)、アミノ基およびアンモニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基または、この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基によって置換されているものを表す。Mは水素原子、アルカリ金属原子、またはアミジノ基(これはハロゲン化水素酸塩もしくはスルホン酸塩を形成していてもよい)を表す。〕
一般式(1)
一般式(1−A−1)において、R10はメルカプト基、水素原子または任意の置換基を表す。ここで任意の置換基とは、一般式(1−A)のR1〜R4について説明したものと同じものが挙げられる。R10として好ましくは、メルカプト基、水素原子、または炭素数0〜15の以下の置換基から選ばれる基である。すなわち、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基等が挙げられる。一般式(1−A−1)においてXは水溶性基もしくは水溶性基で置換された置換基を表す。ここに水溶性基とはスルホン酸基もしくはカルボン酸基およびそれらの塩、アンモニオ基のような塩、またはアルカリ性の現像液によって一部もしくは完全に解離しうる解離性基を含む基のことで、具体的にはスルホ基(またはその塩)、カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、アンモニオ基、スルホンアミド基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基、活性メチン基、またはこれらの基を含む置換基を表す。なお本発明において活性メチン基とは、2つの電子吸引性基で置換されたメチル基のことで、具体的にはジシアノメチル、α−シアノ−α−エトキシカルボニルメチル、α−アセチル−α−エトキシカルボニルメチル等の基が挙げられる。一般式(1−A−1)のXで表される置換基とは、上述した水溶性基、または上述の水溶性基で置換された置換基であり、その置換基としては、炭素数0〜15の置換基で、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルキル、アリールまたはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、スルファモイルアミノ基、(アルキル、アリールまたはヘテロ環)チオ基、(アルキル、アリール)スルホニル基、スルファモイル基、アミノ基等が挙げられ、好ましくは炭素数1〜10のアルキル基(特にアミノ基で置換されたメチル基)、アリール基、アリールオキシ基、アミノ基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)アミノ基、(アルキル、アリールまたはヘテロ環)チオ基等の基である。
一般式(1−B−1)
一般式(1−B−1−a)
本発明で使用される防錆剤は、例えば水溶液とした後、該水溶液に導電性金属部を形成させた透明基材に浸漬すること等により導電性金属部に適用される。防錆処理は、焼成処理後の導電性金属部に行うのが好ましい。このときに使用される防錆剤水溶液は、例えば前記の一般式(1)、(2)、(3)、(5)で表される化合物を、1リットル中、10−6〜10−1molの濃度、好ましくは10−5〜10−2molの濃度として含有するのが好ましい。また、水溶液のpHは、防錆剤を溶解する観点から、2〜12に調整することが好ましく、pH調整は通常の水酸化ナトリウムや硫酸などのアルカリや酸のほか、緩衝剤として、リン酸やその塩、炭酸塩、酢酸やその塩、ホウ酸やその塩などを用いることができる。
本発明の透光性電磁波シールド膜は、銀を主成分とする印刷パターンと透明基材(支持体)との間に易接着層を有する。
本発明の好ましい易接着層について説明する。易接着層は1層で構成されていてもよく、2層以上で構成されていてもよい。
本発明において、基材の印刷パターン(導電性金属部)が設けられない側の表面には、下記のような二層構成の易接着層(バック層)を設けることが好ましい。
(易接着層の構成)
一層目:水分散性あるいは水溶性合成樹脂、およびカルボジイミド化合物、導電性金属酸化物粒子を必須成分とした帯電防止層 二層目:水分散性あるいは水溶性合成樹脂、および架橋剤を必須成分とした表面層(他の構成層と積層することによって表面層ではなくなるが、易接着層の最上層という意味)
ポリカルボジイミドは、通常、有機ジイソシアネートの縮合反応により合成される。ここで分子内にカルボジイミド構造を複数有する化合物の合成に用いられる有機ジイソシアネートの有機基は特に限定されず、芳香族系、脂肪族系のいずれか、あるいはそれらの混合系も使用可能であるが、反応性の観点から脂肪族系が特に好ましい。
合成原料としては、有機イソシアネート、有機ジイソシアネート、有機トリイソシアネート等が使用される。
有機イソシアネートの例としては、芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、及び、それらの混合物が使用可能である。
具体的には、4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート等が用いられ、また、有機モノイソシアネートとしては、イソホロンイソシアネート、フェニルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、ブチルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等が使用される。
また、本発明に用いうるカルボジイミド系化合物は、例えば、カルボジライトV−02−L2(商品名:日清紡社製)などの市販品としても入手可能である。
本発明のカルボジイミド系化合物はバインダーに対して1〜200質量%、より好ましくは5〜100質量%の範囲で添加することが好ましい。
エポキシ化合物としては、1,4−ビス(2’,3’−エポキシプロピルオキシ)ブタン、1,3,5−トリグリシジルイソシアヌレート、1,3−ジクリシジル−5−(γ−アセトキシ−β−オキシプロピル)イソシヌレート、ソルビトールポリグリシジルエーテル類、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル類、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル類、ジグリセロ−ルポリグルシジルエーテル、1,3,5−トリグリシジル(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、グリセロールポリグリセロールエーテル類およびトリメチロ−ルプロパンポリグリシジルエーテル類等のエポキシ化合物が好ましく、その具体的な市販品としては、例えばデナコールEX−521やEX−614B(ナガセ化成工業(株)製)などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
また、印刷パターンに影響を与えない添加量の範囲では、他の化合物との併用も可能であり、例えばC.E.K.Meers およびT.H.James著「The Theory of the Photographic Process」第3版(1966年)、米国特許第3316095号、同3232764号、同3288775号、同2732303号、同3635718号、同3232763号、同2732316号、同2586168号、同3103437号、同3017280号、同2983611号、同2725294号、同2725295号、同3100704号、同3091537号、同3321313号、同3543292号及び同3125449号、及び英国特許994869号及び同1167207号等に記載されている硬化剤などがあげられる。
代表的な例としては、二個以上(好ましくは三個以上)のメチロール基および/またはアルコキシメチル基を含有するメラミン化合物およびそれらの縮重合体であるメラミン樹脂あるいはメラミン・ユリア樹脂、ムコクロル酸、ムコブロム酸、ムコフェノキシクロル酸、ムコフェノキシプロム酸、ホルムアルデヒド、グリオキザール、モノメチルギリオキザール、2,3−ジヒドロキシ−1,4−ジオキサン、2,3−ジヒドロキシ−5−メチル−1,4−ジオキサンサクシンアルデヒド、2,5−ジメトキシテトラヒドロフラン及びグルタルアルデヒド等のアルデヒド系化合物およびその誘導体;ジビニルスルホン−N,N’−エチレンビス(ビニルスルホニルアセトアミド)、1,3−ビス(ビニルスルホニル)−2−プロパノール、メチレンビスマレイミド、5−アセチル−1,3−ジアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、1,3,5−トリアクリロイル−ヘサヒドロ−s−トリアジン及び1,3,5−トリビニルスルホニル−ヘキサヒドロ−s−トリアジンなどの活性ビニル系化合物;2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジンナトリウム塩、2,4−ジクロロ−6−(4−スルホアニリノ)−s−トリアジンナトリウム塩、2,4−ジクロロ−6−(2−スルホエチルアミノ)−s−トリアジン及びN,N’−ビス(2−クロロエチルカルバミル)ピペラジン等の活性ハロゲン系化合物;ビス(2,3−エポキシプロピル)メチルプロピルアンモニウム・p−トルエンスルホン酸塩、2,4,6−トリエチレン−s−トリアジン、1,6−ヘキサメチレン−N,N’−ビスエチレン尿素およびビス−β−エチレンイミノエチルチオエーテル等のエチレンイミン系化合物;1,2−ジ(メタンスルホンオキシ)エタン、1,4−ジ(メタンスルホンオキシ)ブタン及び1,5−ジ(メタンスルホンオキシ)ペンタン等のメタンスルホン酸エステル系化合物;ジシクロヘキシルカルボジイミド及び1−ジシクロヘキシル−3−(3−トリメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩等のカルボジイミド化合物;2,5−ジメチルイソオキサゾール等のイソオキサゾール系化合物;クロム明ばん及び酢酸クロム等の無機系化合物;N−カルボエトキシ−2−イソプロポキシ−1,2−ジヒドロキノリン及びN−(1−モルホリノカルボキシ)−4−メチルピリジウムクロリド等の脱水縮合型ペプチド試薬;N,N’−アジポイルジオキシジサクシンイミド及びN,N’−テレフタロイルジオキシジサクシンイミド等の活性エステル系化合物:トルエン−2,4−ジイソシアネート及び1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート類;及びポリアミド−ポリアミン−エピクロルヒドリン反応物等のエピクロルヒドリン系化合物を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
本発明に好ましく用いられる接着剤層について説明する。
本発明の透光性電磁波シールド膜は、光学フィルターや、液晶表示板、プラズマディスプレイパネル、その他の画像表示パネルなどに組み込まれる際には、接着層を介して接合されることが好ましい。
分子量の異なる複数種類のアクリルポリマーをブレンドすることにより、接着剤の粘弾性を所望の性質に調整することが可能である。
本発明の透光性電磁波シールド膜の易接着層上に接着剤層を設けたフィルムの、ガラス基板との密着強度は、以下のようなものであることが好ましい。
試料フィルムをガラスに貼り付け、100mm/minで180℃剥離強度を測定した場合に、20N/m以上の剥離強度であることが好ましい。更には、60℃相対湿度90%で72時間経時した後の上記剥離強度で、20N/m以上の剥離強度であることが好ましく、特に60℃相対湿度90%で250時間経時した後の上記剥離強度で、20N/m以上の剥離強度であることが好ましい。
本発明における「光透過性部」とは、透光性電磁波シールド膜のうち導電性金属部以外の透明性を有する部分を意味する。光透過性部における透過率は、前述のとおり、支持体の光吸収及び反射の寄与を除いた380〜780nmの波長領域における透過率の最小値で示される透過率が90%以上、好ましくは95%以上、さらに好ましくは97%以上であり、さらにより好ましくは98%以上であり、最も好ましくは99%以上である。
同様の理由により支持体の厚みは200μm以下が好ましく、更に好ましくは20μm以上180μm以下、最も好ましくは50μm以上120μm以下である。
本発明の透光性電磁波シールド膜は剥離可能な保護フィルムを有していても良い
保護フィルムは、必ずしも、電磁波遮蔽用シート(透光性電磁波シールド膜)の両面に有していなくてもよく、特開2003−188576号公報の図2(a)に示すように、積層体のメッシュ状の金属箔上に保護フィルムを有するのみで、透明基材フィルム側に有していなくてもよい。また、上記公報の図2(b)に示すように、積層体の透明基材フィルム側に保護フィルムを有するのみで、金属箔上に有していなくてもよい。
本発明の透光性電磁波シールド膜や、それを組み込んだ光学フィルムなどは、黒化処理を施したものであってもよい。
黒化処理については、例えば特開2003−188576号公報に開示されている。黒化処理により形成された黒化層は、防錆効果に加え、反射防止性を付与することができる。黒化層は、例えば、Co−Cu合金めっきによって形成され得るものであり、導電性メッシュパターン上に黒化層を設けることにより、その表面の反射を防止することができる。さらにその上に防錆処理としてクロメート処理をしてもよい。クロメート処理は、クロム酸もしくは重クロム酸塩を主成分とする溶液中に浸漬し、乾燥させて防錆被膜を形成するもので、必要に応じ、導電性メッシュパターンの片面もしくは両面に行なうことができるが、市販のクロメート処理された銅箔等を利用してもよい。
本発明では、必要に応じて、別途、機能性を有する機能層を設けていてもよい。この機能層は、用途ごとに種々の仕様とすることができる。例えば、ディスプレイ用電磁波シールド材用途としては、屈折率や膜厚を調整した反射防止機能を付与した反射防止層や、ノングレアー層またはアンチグレア層(共にぎらつき防止機能を有する)、近赤外線を吸収する化合物や金属からなる近赤外線吸収層、特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層、指紋などの汚れを除去しやすい機能を有した防汚層、傷のつき難いハードコート層、衝撃吸収機能を有する層、ガラス破損時のガラス飛散防止機能を有する層などを設けることができる。これらの機能層は、印刷パターンと支持体とを挟んで反対側の面に設けてもよく、さらに同一面側に設けてもよい。
これらの機能性膜はPDPに直接貼合してもよく、プラズマディスプレイパネル本体とは別に、ガラス板やアクリル樹脂板などの透明基板に貼合してもよい。これらの機能性膜を光学フィルター(または単にフィルター)と呼ぶ。
透光性電磁波シールド膜をディスプレイ(特にプラズマディスプレイ)に用いる場合には、以下に説明する機能性を有する機能性フィルムを貼付することにより、各機能性を付与することが好ましい。機能性フィルムは粘着剤等を介して透光性電磁波シールド膜に直接または間接的に貼付することができる。
(反射防止性・防眩性)
透光性電磁波シールド膜には、外光反射を抑制するための反射防止(AR:アンチリフレクション)性、または、鏡像の映り込みを防止する防眩(AG:アンチグレア)性、またはその両特性を備えた反射防止防眩(ARAG)性のいずれかの機能性を付与することが好ましい。
これらの性能により、照明器具等の映り込みによって表示画面が見づらくなってしまうのを防止できる。また、膜表面の可視光線反射率が低くすることにより、映り込み防止だけではなく、コントラスト等を向上させることができる。反射防止性・防眩性を有する機能性フィルムを透光性電磁波シールド膜に貼付した場合の可視光線反射率は、2%以下であることが好ましく、より好ましくは1.3%以下、さらに好ましくは0.8%以下である。
反射防止層としては、例えば、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を例えば1/4波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、窒化物、硫化物等の無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を2層以上多層積層したもの等で形成することができる。
粒子の平均粒径は、1〜40μm程度が好ましい。
また、防眩性層としては、上記の熱硬化型または光硬化型樹脂を塗布した後、所望のグロス値または表面状態を有する型を押しつけ硬化することによっても形成することができる。
防眩性層を設けた場合の透光性電磁波シールド膜のヘイズは0.5%以上20%以下であることが好ましく、より好ましくは1%以上10%以下である。ヘイズが小さすぎると防眩性が不十分であり、ヘイズが大きすぎると透過像鮮明度が低くなる傾向がある。
透光性電磁波シールド膜に耐擦傷性を付加するために、機能性フィルムがハードコート性を有していることも好適である。ハードコート層としてはアクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂等が挙げられるが、その種類も形成方法も特に限定されない。ハードコート層の厚さは、1〜50μm程度であることが好ましい。ハードコート層上に上記の反射防止層および/または防眩層を形成すると、耐擦傷性・反射防止性および/または防眩性を有する機能性フィルムが得られ好適である。
ハードコート性が付与された透光性電磁波シールド膜の表面硬度は、JIS(K―5400)に従った鉛筆硬度が少なくともHであることが好ましく、より好ましくは2H、さらに好ましくは3H以上である。
静電気帯電によるホコリの付着や、人体との接触による静電気放電を防止するため、透過性電磁波シールド膜には、帯電防止性が付与されることが好ましい。
帯電防止性を有する機能性フィルムとしては、導電性の高いフィルムを用いることができ、例えば導電性が面抵抗で1011Ω/□程度以下であれば良い。
導電性の高いフィルムは、透明基材上に帯電防止層を設けることにより形成することができる。帯電防止層に用いる帯電防止剤としては、具体的には、商品名ペレスタット(三洋化成社製)、商品名エレクトロスリッパー(花王社製)等が挙げられる。他に、ITOをはじめとする公知の透明導電膜やITO超微粒子や酸化スズ超微粒子をはじめとする導電性超微粒子を分散させた導電膜で帯電防止層を形成しても良い。上述のハードコート層、反射防止層、防眩層等に、導電性微粒子を含有させる等して帯電防止性を付与してもよい。
透光性電磁波シールド膜が防汚性を有していると、指紋等の汚れ防止や汚れが付いたときに簡単に取り除くことができるので好適である。
防汚性を有する機能性フィルムは、例えば透明基材上に防汚性を有する化合物を付与することにより得られる。防汚性を有する化合物としては、水および/または油脂に対して非濡性を有する化合物であればよく、例えばフッ素化合物やケイ素化合物が挙げられる。フッ素化合物として具体的には商品名オプツール(ダイキン社製)等が挙げられ、ケイ素化合物としては、商品名タカタクォンタム(日本油脂社製)等が挙げられる。
透光性電磁波シールド膜には、後述する色素や透明基材の劣化等を防ぐ目的で紫外線カット性を付与することが好ましい。紫外線カット性を有する機能性フィルムは、透明基材自体に紫外線吸収剤を含有させる方法や透明基材上に紫外線吸収層を設けることにより形成することができる。
色素を保護するのに必要な紫外線カット能としては、波長380nmより短い紫外線領域の透過率が、20%以下、好ましくは10%以下、更に好ましくは5%以下である。紫外線カット性を有する機能性フィルムは、紫外線吸収剤や紫外線を反射または吸収する無機化合物を含有する層を透明基材上に形成することにより得られる。紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系やベンゾフェノン系等、従来公知のものを使用でき、その種類・濃度は、分散または溶解させる媒体への分散性・溶解性、吸収波長・吸収係数、媒体の厚さ等から決まり、特に限定されるものではない。
また、機能性フィルムに後述する色素を含有する層が形成されている場合は、その層よりも外側に紫外線カット性を有する層が存在することが望ましい。
透光性電磁波シールド膜を常温常湿よりも高い温度・湿度環境化で使用すると、水分により後述する色素が劣化したり、貼り合せに用いる接着剤中や貼合界面に水分が凝集して曇ったり、水分による影響で接着剤が相分離して析出して曇ったりすることがあるので、透光性電磁波シールド膜はガスバリア性を有していることが好ましい。
このような色素劣化や曇りを防ぐためには、色素を含有する層や接着剤層への水分の侵入を防ぐことが肝要であり、機能性フィルムの水蒸気透過度が10g/m2・day以下、好ましくは5g/m2・day以下であることが好適である。
プラズマディスプレイは強度の近赤外線を発生するため、透光性電磁波シールド膜を特にプラズマディスプレイに用いる場合は、近赤外線カット性を付与することが好ましい。
近赤外線カット性を有する機能性フィルムとしては、波長領域800〜1000nmにおける透過率を25%以下であるものが好ましく、より好ましくは15%以下、さらに好ましくは10%以下である。
PDPにおいては、青色を発光する蛍光体は青色以外に僅かであるが赤色を発光する特性を有している為、青色に表示されるべき部分が紫がかった色で表示されるという問題がある。上記特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層は、この対策として発色光の補正を行う層であり、595nm付近の光を吸収する色素を含有する。
本発明のPDPは、高電磁波シールド能、高コントラストおよび高明度であり、且つ低コストで作製することができる。
また、色素によっては耐光性に乏しいものもあるが、このような色素を用いることでプラズマディスプレイの発光や外光の紫外線・可視光線による劣化が問題になる場合は、前述のように機能性フィルムに紫外線吸収剤を含有させたり、紫外線を透過しない層を設けることによって、紫外線や可視光線による色素の劣化を防止することが好ましい。
熱、光に加えて、湿度や、これらの複合した環境においても同様である。劣化すると光学フィルターの透過特性が変わってしまい、色調が変化したり近赤外線カット能が低下する場合がある。
また、透明基材を形成するための樹脂組成物や、塗布層を形成するための塗布組成物中に溶解又は分散させるために、色素は溶媒への溶解性や分散性も高いことが好ましい。
機能性フィルムに色素を含有させる場合、透明基材の内部に含有していてもよいし、基材表面に色素を含有する層をコーティングしてもよい。また、異なる吸収波長を有する色素2種類以上を混合して一つの層中に含有させてもよいし、色素を含有する層を2層以上有していても良い。
ここで、透光性電磁波シールド膜の電磁波シールド能が低下させないために、金属銀部或いは導電性金属部にアースをとることが望ましい。このため、透光性電磁波シールド膜上にアースをとるための導通部を形成し、この導通部がディスプレイ本体のアース部に電気的に接触するようにすることが望ましい。導通部は、透光性電磁波シールド膜の周縁部に沿って金属銀部或いは導電性金属部の周りに設けられていることが好適である。
電極に用いる材料は、導電性、耐触性および透明導電膜との密着性等の点から、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、カーボン等の単体もしくは2種以上からなる合金や、合成樹脂とこれら単体または合金の混合物、もしくは、ホウケイ酸ガラスとこれら単体または合金の混合物からなるペーストを使用できる。ペーストの印刷、塗工には従来公知の方法を採用できる。また市販の導電性テープも好適に使用できる。導電性テープは両面ともに導電性を有するものであって、カーボン分散の導電性接着剤を用いた片面接着タイプ、両面接着タイプが好適に使用できる。電極の厚さは、これもまた特に限定されるものではないが、数μm〜数mm程度である。
[実施例1]
三酸化アンチモンを主触媒として重縮合した固有粘度0.66のポリエチレンテレフタレート樹脂を含水率50ppm以下に乾燥させ、ヒーター温度が280〜300℃設定の押し出し機内で溶融させた。
溶融させたPET樹脂をダイ部より静電印加されたチルロール上に吐出させ、非結晶ベースを得る。得られた非結晶ベースをベース進行方向に3.1倍に延伸後、巾方向に3.9倍に延伸し、厚さ96μmの支持体とした。
Carey−Leaの銀ゾル調製法(M.Carey Lea,Brit.J.Photog.,24巻297頁(1877)および27巻279頁(1880)参照)に準拠して、硝酸銀溶液を還元し、金属銀微粒子を調製した後、塩化金酸溶液を加え、銀を主成分とする銀金微粒子を調整し、限外ろ過を行って、副生成する塩を除いた。得られた微粒子の粒子サイズは、電子顕微鏡観察の結果、ほぼ10nmであった。
この粒子を、メチルエチルケトンを含有する溶剤とアクリル樹脂から成るバインダーと混合し、ペーストを作成した。
二軸延伸した上記ポリエチレンテレフタレート支持体を、搬送速度105m/分条件で搬送した状態で、概支持体表面を727J/m2条件でコロナ放電処理を行い、下記組成からなる帯電防止層用塗布液をバーコート法により塗布した。
塗布量は、7.1cm3/m2とし、エアー浮上乾燥ゾーンで180℃1分乾燥することで帯電防止層を得た。
(帯電防止層用塗布液)
蒸留水 781.7質量部
ポリアクリル樹脂(ジュリマーET-410:日本純薬製、固形分30%) 30.9質量部
針状構造酸化スズ粒子(FS-10D:石原産業製、固形分20%) 131.1質量部
カルボジイミド化合物(カルボジライトV-02-L2:日清紡製、固形分40%) 6.4質量部
界面活性剤(サンデットBL:三洋化成工業製 固形分44.6%) 1.4質量部
界面活性剤(ナロアクティーHN-100:三洋化成工業製 固形分100%) 0.7質量部
シリカ微粒子分散液(シーホスターKE-W30:日本触媒製 0.3μm 固形分20%) 5.0質量部
搬送速度105m/分を保ったまま、上記帯電防止上に、引き続き、下記組成からなる表面層用塗布液をバーコート法により塗布した。
塗布量は、5.05cm3/m2とし、エアー浮上乾燥ゾーンで160℃1分乾燥することで2層構成のバック層を得た。
(表面層用塗布液)
蒸留水 941.0質量部
ポリアクリル樹脂(ジュリマーET-410:日本純薬製、固形分30%) 57.3質量部
エポキシ化合物(デナコールEX-521:ナガセ化成工業製、固形分100%) 1.2質量部
界面活性剤(サンデットBL:三洋化成工業製 固形分44.6%) 0.5質量部
上記のバック層から、針状構造酸化スズ粒子を含有させないこと以外は同様の方法で、バック層とは透明基材をはさんで逆側に、銀ペースト印刷用易接着層を塗布した。
上記のようにして得た、透明基材を用い、その上に、スクリーン印刷法にて、下記の銀ペーストを印刷した。
次いで、130℃で10分加熱処理した。得られたメッシュパターンは、ライン幅18μm、ピッチ300μmの銀の格子状メッシュであった。
次いでカレンダーロールにて線圧力2940N/cm(300kgf/cm)をかけて、2対の金属製ロールから成るカレンダーローラー間に試料を通した。
更に、ベンゾトリアゾール(0.01モル/L)を含有する水溶液にて、防錆処理を行った。なお防錆処理は、上記の水溶液に3分間浸漬することにより行った。
防錆処理後は、水洗、乾燥し、本発明の試料を得た。
表1に示すように、上記の試料を試料1−1とし、Agペースト用の易接着層を設けない試料を作成、またカレンダー処理を行わない試料を作成した。
(表面抵抗)
三菱化学(株)低抵抗率計ロレスターGP/ASPプローブを用いて表面抵抗率を測定した。
(表面硬度)
鉛筆による引っ掻き試験を行い、銀から成るパターン部分が脱落するものを×、脱落しないものを○とした。
(耐湿熱性)
80℃、相対湿度90%にて、72時間保存したのち、銀からなるパターンの変色を評価した。変色が認められたものを×、認められなかったものを○とした。
銀からなるメッシュパターン印刷を凹版印刷により形成すること以外は実施例1と同様にして電磁波シールドフィルムを作成した。実施例1と同様の評価を行った結果、高い導電性を有する、表面硬度、湿熱経時性に優れた電磁波シールドフィルムが得られた。
(光学フィルターの作製)
上記実施例1で得た透光性電磁波シールド能を有するフィルムを用い、外縁部20mmを除いた内側の透光性電磁波シールド膜上に、厚さ25μmのアクリル系透光性粘着材を介して、ガラス板を貼り合わせた。該アクリル系透光性粘着材層中には光学フィルターの透過特性を調整する調色色素(三井化学製PS−Red−G、PS−Violet−RC)を含有させた。さらに、該ガラス板の反対の主面には、粘着材を介して近赤外線カット能を有する反射防止フィルム(日本油脂(株)製 商品名リアルック772UV)を貼り合わせ、光学フィルターを作製した。
Claims (13)
- 透明基材上に、銀を主成分とする印刷パターンを備えており、かつ、前記印刷パターンと前記透明基材との間に、易接着層を有することを特徴とする透光性電磁波シールド膜。ただし、銀を主成分とする印刷パターンとは、該パターンを構成する金属に対する銀の質量%が60%以上である、パターン状に印刷された導電性組成物を指す。
- 前記印刷パターンが、カレンダーロールで処理されていることを特徴とする請求項1に記載の透光性電磁波シールド膜。
- 前記印刷パターンが防錆剤を含有することを特徴とする、請求項1または2に記載の透光性電磁波シールド膜。
- 剥離可能な保護フィルムを備えていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の透光性電磁波シールド膜。
- 前記透明基材がプラスチックフィルムであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の透光性電磁波シールド膜。
- 前記印刷パターンが線幅1μmから40μmのメッシュ状の細線から形成され、該メッシュパターンが3m以上連続していることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の透光性電磁波シールド膜。
- 前記易接着層上に接着剤層を有し、該接着剤層がガラスと接したときの剥離強度が20N/m以上であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の透光性電磁波シールド膜。
- 湿度90%以上で72時間放置したあとの、前記接着剤層がガラスと接したときの剥離強度が20N/m以上であることを特徴とする請求項7に記載の透光性電磁波シールド膜。
- 透明基材上に、易接着層を設け、該易接着層上に銀を主成分とする印刷パターンを設けることを特徴とする透光性電磁波シールド膜の製造方法。ただし、銀を主成分とする印刷パターンとは、該パターンを構成する金属に対する銀の質量%が60%以上である、パターン状に印刷された導電性組成物を指す。
- 前記印刷パターンがカレンダーロール処理されることを特徴とする請求項9に記載の透光性電磁波シールド膜の製造方法。
- 前記カレンダーロール処理を線圧力1960N/cm(200kgf/cm)以上で行うことを特徴とする請求項9または10に記載の電磁波シールド膜の製造方法。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の透光性電磁波シールド膜を有することを特徴とする、プラズマディスプレイパネル用光学フィルター。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の電磁波シールド膜を有することを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006023096A JP4705856B2 (ja) | 2006-01-31 | 2006-01-31 | 透光性膜、透光性膜の製造方法、透光性電磁波シールド膜、透光性電磁波シールド膜の製造方法、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル |
PCT/JP2007/051852 WO2007088992A1 (en) | 2006-01-31 | 2007-01-30 | Light transmitting electromagnetic wave shielding film, optical filter and plasma display panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006023096A JP4705856B2 (ja) | 2006-01-31 | 2006-01-31 | 透光性膜、透光性膜の製造方法、透光性電磁波シールド膜、透光性電磁波シールド膜の製造方法、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007207893A true JP2007207893A (ja) | 2007-08-16 |
JP4705856B2 JP4705856B2 (ja) | 2011-06-22 |
Family
ID=38487103
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006023096A Expired - Fee Related JP4705856B2 (ja) | 2006-01-31 | 2006-01-31 | 透光性膜、透光性膜の製造方法、透光性電磁波シールド膜、透光性電磁波シールド膜の製造方法、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4705856B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1975698A1 (en) | 2007-03-23 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Method and apparatus for producing conductive material |
WO2009125854A1 (ja) | 2008-04-11 | 2009-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 車両灯具用前面カバー及び車両灯具用前面カバーの製造方法、並びに、電熱構造 |
WO2009125855A1 (ja) | 2008-04-11 | 2009-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 発熱体 |
JP2011076866A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Mitsuboshi Belting Ltd | 積層体、この積層体を用いた導電性基材及びその製造方法 |
WO2020060001A1 (ko) * | 2018-09-21 | 2020-03-26 | 삼성전자 주식회사 | 미세 패턴을 포함하는 플레이트 및 그것을 포함하는 전자 장치 |
JP2020200464A (ja) * | 2018-09-05 | 2020-12-17 | 王子ホールディングス株式会社 | 光学部材貼合用粘着シート |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101830059B1 (ko) * | 2013-12-27 | 2018-02-20 | 코오롱글로텍주식회사 | 전자파 차폐용 코팅 조성물 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000114773A (ja) * | 1998-10-08 | 2000-04-21 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 電磁波遮蔽用フィルタとプラズマディスプレ前面板 |
JP2000208984A (ja) * | 1999-01-13 | 2000-07-28 | Toray Ind Inc | 電磁波シ―ルド材およびその製造方法 |
JP2003273572A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-26 | Hitachi Chem Co Ltd | 保護フィルム付きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム及びその保護フィルム並びにディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの製造方法 |
JP2003318593A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-07 | Bridgestone Corp | 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 |
JP2004221208A (ja) * | 2003-01-10 | 2004-08-05 | Mitsui Chemicals Inc | ディスプレイ用電磁波遮蔽光学フィルター |
JP2004281941A (ja) * | 2003-03-18 | 2004-10-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電磁波シールド材を有する画像表示装置及びその製造方法 |
-
2006
- 2006-01-31 JP JP2006023096A patent/JP4705856B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000114773A (ja) * | 1998-10-08 | 2000-04-21 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 電磁波遮蔽用フィルタとプラズマディスプレ前面板 |
JP2000208984A (ja) * | 1999-01-13 | 2000-07-28 | Toray Ind Inc | 電磁波シ―ルド材およびその製造方法 |
JP2003273572A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-26 | Hitachi Chem Co Ltd | 保護フィルム付きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム及びその保護フィルム並びにディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの製造方法 |
JP2003318593A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-07 | Bridgestone Corp | 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 |
JP2004221208A (ja) * | 2003-01-10 | 2004-08-05 | Mitsui Chemicals Inc | ディスプレイ用電磁波遮蔽光学フィルター |
JP2004281941A (ja) * | 2003-03-18 | 2004-10-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電磁波シールド材を有する画像表示装置及びその製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1975698A1 (en) | 2007-03-23 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Method and apparatus for producing conductive material |
WO2009125854A1 (ja) | 2008-04-11 | 2009-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 車両灯具用前面カバー及び車両灯具用前面カバーの製造方法、並びに、電熱構造 |
WO2009125855A1 (ja) | 2008-04-11 | 2009-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 発熱体 |
JP2011076866A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Mitsuboshi Belting Ltd | 積層体、この積層体を用いた導電性基材及びその製造方法 |
JP2020200464A (ja) * | 2018-09-05 | 2020-12-17 | 王子ホールディングス株式会社 | 光学部材貼合用粘着シート |
WO2020060001A1 (ko) * | 2018-09-21 | 2020-03-26 | 삼성전자 주식회사 | 미세 패턴을 포함하는 플레이트 및 그것을 포함하는 전자 장치 |
US11648747B2 (en) | 2018-09-21 | 2023-05-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Plate including fine pattern, and electronic device including same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4705856B2 (ja) | 2011-06-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100590368B1 (ko) | 디스플레이용 필터, 표시장치 및 그 제조 방법 | |
KR101290500B1 (ko) | 투광성 도전성막, 투광성 전자파 차단막, 광학 필터 및디스플레이 필터 제조 방법 | |
JP4705856B2 (ja) | 透光性膜、透光性膜の製造方法、透光性電磁波シールド膜、透光性電磁波シールド膜の製造方法、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル | |
US7985527B2 (en) | Conductive film and method of producing thereof | |
US7214282B2 (en) | Electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate, manufacturing method thereof and display panel | |
KR101096966B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이용 전면판 및 플라즈마 디스플레이 | |
JP4783721B2 (ja) | 金属黒化処理方法、電磁波遮蔽フィルタ及び複合フィルタ、並びにディスプレイ | |
JP2007207883A (ja) | 透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル | |
KR20030007056A (ko) | 전자파 차폐용 부재 및 그 제조방법 | |
JP2002251144A (ja) | ディスプレイ用フィルタ、表示装置およびその製造方法 | |
JP4705857B2 (ja) | 透光性膜、透光性膜の製造方法、透光性電磁波シールド膜、透光性電磁波シールド膜の製造方法、光学フィルターおよびプラズマディスプレイパネル | |
JP2007095971A (ja) | 電磁波遮蔽シート | |
JPWO2008038729A1 (ja) | 光学フィルタ用粘着剤組成物、光学フィルタ、及び表示装置 | |
JP2007096111A (ja) | ディスプレイ用複合フィルタ、及びディスプレイ用複合フィルタの製造方法 | |
JP4951299B2 (ja) | 透光性電磁波シールド膜とその製造方法、ディスプレイパネル用フィルム、ディスプレイパネル用光学フィルター、プラズマディスプレイパネル | |
JP5286692B2 (ja) | 光学フィルタ用粘着剤組成物、光学フィルタ機能を有する粘着剤層、及び複合フィルタ | |
JP2007207987A (ja) | 透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル | |
JP2009051010A (ja) | プラズマディスプレイパネル用前面フィルター、及びその製造方法 | |
JP2007048789A (ja) | ディスプレイ用複合フィルタの製造方法 | |
JP2007208133A (ja) | 透光性電磁波シールドフィルム、透光性電磁波シールド性積層体、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル | |
JP2007201378A (ja) | 透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル | |
JP3311697B2 (ja) | 光学フィルター | |
JP2004333746A (ja) | 光学フィルタ | |
JP2008117955A (ja) | 透光導電性材料、その製造方法、および透光性電磁波シールド膜 | |
JP4004161B2 (ja) | 透明積層体及びそれを用いたディスプレイ用フィルター |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071109 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071116 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071126 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080930 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110124 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110215 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110314 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4705856 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |