JP2003318593A

JP2003318593A - 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法

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Publication number: JP2003318593A
Application number: JP2002121994A
Authority: JP
Inventors: Masakuni Watabe; 政邦渡部; Kaoru Otani; 薫大谷
Original assignee: Bridgestone Corp
Current assignee: Bridgestone Corp
Priority date: 2002-04-24
Filing date: 2002-04-24
Publication date: 2003-11-07
Anticipated expiration: 2022-04-24
Also published as: JP4169530B2

Abstract

(57)【要約】【課題】線幅の小さい、開口率の大きいメッシュパタ
ーンを有する導電層が設けられた電磁波シールド性光透
過窓材及びその製造方法を提供する。【解決手段】透明基板上に、導電性微粒子分散液をイ
ンクジェットヘッドからメッシュパターン状に噴霧する
ことにより、メッシュパターン状の導電層を形成し、次
いで高温で焼成することを特徴とする電磁波シールド性
光透過窓材の製造方法及びこの方法により得られる、線
幅の小さい、開口率の大きいメッシュパターンを有する
導電層が設けられた電磁波シールド性光透過窓材。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＰＤＰ（プラズマデ
ィスプレーパネル）の前面フィルタや、病院などの電磁
波シールドを必要とする建築物の窓材料（例えば貼着用
フィルム）等として有用な電磁波シールド性光透過窓材
及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にと
もない、これらの機器から発生する電磁波によりもたら
される人体への影響が懸念されている。また、電磁波に
より精密機器の誤作動等を起こす場合もあり、電磁波が
問題視されている。

【０００３】このため、従来から、ＯＡ機器のＰＤＰの
前面フィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光
透過性の窓材が開発され、実用に供されている。このよ
うな窓材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保
護するために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓
材としても利用されている。

【０００４】このような電磁波シールド性光透過窓材
は、主に、金網のような導電性メッシュ材又は透明導電
性フィルムをアクリル板等の透明基板の間に介在させて
一体化した構成を有するものである。電磁波シールド性
光透過窓材に用いられている導電性メッシュは、通常、
線径１０〜５００μｍで、５〜５００メッシュ程度のも
のであり、開口率は７５％未満である。

【０００５】従来から用いられている導電性メッシュ
は、一般に、メッシュを構成する導電性繊維の線径が太
いものは目が粗く、線径が細くなると目が細かくなって
いる。これは、線径の太い繊維であれば、目の粗いメッ
シュとすることは可能であるが、線径の細い繊維で目の
粗いメッシュを形成することは非常に困難であることに
よっている。このため、このような導電性メッシュを用
いた従来の電磁波シールド性光透過窓材では、光透過率
の良いものでも、高々７０％程度であり、良好な光透過
性を得ることができないという欠点があった。

【０００６】また、従来の導電性メッシュでは、電磁波
シールド性光透過窓材を取り付ける発光パネルの画素ピ
ッチとの関係で、モアレ（干渉縞）が発生し易いという
問題もあった。

【０００７】透明導電性フィルムを併用することで光透
過性と電磁波シールド性とを両立させることが考えられ
るが、透明導電性フィルムは、筐体と導通させることが
容易ではないとの不利がある。即ち、導電性メッシュで
あれば、上述の如く、導電性メッシュの周縁部を透明基
板周縁部からはみ出させ、このはみ出し部分を折り曲
げ、この折り曲げた部分から筐体との導通を図ることが
できるが、透明導電性フィルムでは、その周縁部を透明
基板周縁部からはみ出させて曲げると、この折り目部分
でフィルムが裂け、筐体と導通させることができない。

【０００８】また、透明導電性フィルムの代りに、一方
の透明基板の接着面に透明導電性膜を直接成膜すること
も考えられるが、この場合には、透明導電性膜が他方の
透明基板で覆われるため、透明導電性膜から筐体へ導通
させることができない。

【０００９】従って、透明導電性膜フィルムを用いる場
合には、例えば、透明基板に貫通孔を形成して透明導電
性フィルムとの導通路を設けるなどの設計変更が必要と
なり、電磁波シールド性光透過窓材の組み立てや筐体へ
の組み込み作業が複雑となる。

【００１０】このような問題点を解決し、モアレ現象を
防止すると共に、光透過性、電磁波シールド性、熱線
（近赤外線）カット性がいずれも極めて良好な電磁波シ
ールド性光透過窓材とするために、導電性インキを、線
幅２００μｍ以下、開口率７５％以上の格子状に透明板
の表面にパターン状にスクリーン印刷により印刷してな
るものが提案されている。

【００１１】上記電磁波シールド性光透過窓材において
は、パターン印刷により、所望のパターン形状の導電層
を形成することができることから、線幅や間隔、網目形
状の自由度は導電性メッシュに比べて格段に大きく、線
幅２００μｍ以下、開口率７５％以上という細線で開口
率の高い格子状の導電層であっても容易に形成可能であ
る。そして、このような細線で目の粗い導電層を形成し
た導電性印刷膜であれば、良好な光透過性を得ることが
できると共に、モアレ現象をかなり防止することができ
る。

【００１２】なお、開口率とはメッシュの線幅と１イン
チ幅に存在する線の数から計算で求めたものである。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本発明
者等の検討によれば、上記パターン印刷による方法で
は、線幅を十分に小さくすることは困難であることが明
らかとなった。即ち、スクリーン印刷による方法では、
スクリーン目がつぶれやすく、線幅は３０μｍが限界
で、この程度の線形ではディスプレイの画素に対してモ
アレが発生する場合がある。さらに、メッシュパターン
を変える毎に、スクリーンの印刷版を作製し直す必要が
あり煩雑であるとの問題点もある。

【００１４】従って、本発明は、このような問題点を解
決するものであり、線幅の小さい、開口率の大きいメッ
シュパターンを有する導電層が設けられた電磁波シール
ド性光透過窓材を提供することを目的とする。

【００１５】また本発明は電磁波シールド性光透過窓材
を簡易に製造する方法を提供することを目的とする。

【００１６】

【発明を解決するための手段】本発明は、透明基板上
に、導電性微粒子分散液をインクジェットヘッドからメ
ッシュパターン状に噴霧することにより、メッシュパタ
ーン状の導電層を形成することを特徴とする電磁波シー
ルド性光透過窓材の製造方法；透明基板上に、導電性微
粒子分散液をインクジェットヘッドからメッシュパター
ン状に噴霧することにより、メッシュパターン状の導電
層を形成し、次いで高温で焼成することを特徴とする電
磁波シールド性光透過窓材の製造方法；及び透明基板上
に、導電性微粒子分散液をインクジェットヘッドからメ
ッシュパターン状に噴霧することにより、メッシュパタ
ーン状の導電層を形成し、次いで高温で焼成した後、該
焼成された電導層上に、さらに金属メッキを施すことを
特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法にあ
る。

【００１７】上記方法において、導電性微粒子が、金
属、合金、金属酸化物又は半金属酸化物の微粒子である
ことが、良好な導電性を得る上で好ましい。その平均粒
径は０．０００５〜１５μｍの範囲、特に０．０１〜
０．５μｍの範囲が、小さい線幅を得るために好まし
い。上記導電性微粒子分散液は、一般に導電性微粒子が
バインダ及び有機溶剤を含む混合液中に分散されてなる
ものである。良好な分散状態が得られる。導電性微粒子
は、銀、銅又はアルミニウムの微粒子であることが好ま
しい。上記焼成温度は、一般に、２００〜５００℃であ
る。金属メッキに使用する金属が、生産性、導電性の観
点から、銅であることが好ましい。

【００１８】本発明は、上記のいずれかの製造方法によ
り得られる電磁波シールド性光透過窓材にもある。

【００１９】さらに本発明は、透明基板上に、メッシュ
パターン状の導電性微粒子からなる導電層が設けられ、
該メッシュパターンが線幅５〜１５μｍで、開口率７５
〜９５％であることを特徴とする電磁波シールド性光透
過窓材にある。

【００２０】上記メッシュパターンの線幅５〜１２μｍ
であり、その開口率８０〜９５％であることが好まし
い。その他の好ましい態様は上記方法で述べたものを適
用することができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明の電磁波シールド性光透過
窓材の製造方法は、透明基板上に、導電性微粒子分散液
をインクジェットヘッドからメッシュパターン状に噴霧
することにより、メッシュパターン状の導電層を形成す
ることに特徴を有する。そして形成されたメッシュパタ
ーン状の導電層は次いで高温で焼成して、バインダ等の
有機物を除去し、高導電性の膜することが好ましい。さ
らに導電性を高めるため、焼成された導電層上に、さら
に金属メッキを施すことが好ましい。

【００２２】透明基板としては、透明性（特に、可視光
に対して）を有する基板であれば良く、その材料の例と
して、ガラス；或いはポリエステル（例、ポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレー
ト）、アクリル樹脂（例、ポリメチルメタクリレート
（ＰＭＭＡ））、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチ
レン、セルローストリアセテート、ポリビニルアルコー
ル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレ
ン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラ
ール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合
体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができ
る。これらの中で、加工処理（加熱、溶剤、折り曲げ）
による劣化が少なく、透明性の高い材料であるガラス、
ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが好ましい。

【００２３】この透明基板の厚さは、電磁波シールド性
光透過窓材の用途等によっても異なるが、通常の場合１
μｍ〜５ｍｍの範囲、特に１０μｍ〜１ｍｍの範囲にあ
ることが好ましい。特にガラスが好ましい。

【００２４】透明基板上には、導電性微粒子分散液がイ
ンクジェットヘッドからメッシュパターン状に噴霧され
る。

【００２５】上記導電性微粒子分散液は、通常バインダ
（樹脂）及び界面活性剤等の添加剤と、有機溶剤との混
合液（一般に溶液）に、導電性微粒子を分散させたもの
である。

【００２６】導電性微粒子としては、金属、合金、金属
酸化物又は半金属酸化物の微粒子を挙げることができ、
具体的には、アルミニウム、ニッケル、インジウム、ク
ロム、金、バナジウム、すず、カドミウム、銀、プラチ
ナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属又はこれらの合
金、或いはＩＴＯ等の金属酸化物又は半金属酸化物（導
電性酸化物）が好ましい。その平均粒径は０．０００５
〜１５μｍの範囲、特に０．０１〜０．５μｍの範囲
が、小さい線幅を得るために好ましい。また導電性微粒
子は、インクジェットヘッドより噴霧する際の分散液中
に一般に３０〜７０質量％、特に４０〜６０質量％の範
囲が好ましい。

【００２７】有機溶剤は、一般に、水性キャリア媒体と
して使用され、例えば水、或いは水と少なくとも１種の
水溶性有機溶剤から構成される。水溶性有機溶剤として
は、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、１，３−プロパンジオール、チオジグリコー
ル、モノアセチン、ジアセチン、プロピレングリコール
等の多価アルコールを挙げることができ、これらは単独
でも２種以上組み合わせて使用することもできる。

【００２８】有機溶剤として、水を用いない系とする場
合は、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶
剤；トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；エタノー
ル、ＩＰＡ等のアルコールを使用することができる。前
記水系溶剤にもこれらを適宜用いても良い。

【００２９】上記水系溶剤で使用されるバインダは、一
般に使用されるが、導電性微粒子の分散性が保持できれ
ば有機溶剤及び添加剤だけでバインダは使用しなくても
良い。バインダは、一般に導電性微粒子の分散剤の役目
を担うものであり、例えばランダム重合体及び構造重合
体（例、ブロック共重合体、枝分かれ重合体）、或いは
グラフト重合体を挙げることができる。重合体の例とし
ては、スチレン、置換スチレン及び（メタ）アクリル酸
エステルから選ばれる少なくとも１種と、（メタ）アク
リル酸との共重合体を挙げることができる。このような
重合体としては、アニオン系、カチオン系、非イオン系
のいずれでも良い。更にポリビニルアルコール等の水溶
性樹脂も使用することができる。

【００３０】また水を含まない有機溶剤系で使用するバ
インダとしては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂が好
ましく、アクリル樹脂としてスチレン、置換スチレン及
び（メタ）アクリル酸エステルから選ばれる少なくとも
１種と、（メタ）アクリル酸との共重合体が好ましい。
これらの樹脂は酸価の高いものが好ましい。これにより
導電性微粒子の分散性を向上させることができる。

【００３１】界面活性剤としては、シロキサン構造を有
するシリコーン系界面活性剤、フッ素原子含有界面活性
剤を挙げることができ、例えば特開平１１−４３６３９
号公報の一般式で表される化合物を挙げることができ
る。

【００３２】例えばポリエステル修飾シロキサン、非イ
オン性シロキサンポリオキシアルキレン、シロキサンブ
ロックとオキシアルキレンブロックからなる共重合体等
を挙げることができる。

【００３３】導電性微粒子及び有機溶剤、さらに適宜バ
インダ、界面活性剤、分散剤を混合し、続いて該微粒子
を分散または脱凝集することによって行う。この工程
は、水平小型ミル（horizontal mini mill）、ボールミ
ル（ballmill ）、磨砕機で行うことができる。あるい
は、混合物を、水性キャリア媒体である有機溶剤中の導
電性微粒子の均一分散体を作るために、少なくとも１０
０ｐｓｉの液圧で液体ジェットインタラクションチャン
バーにある複数のノズルに通過させることで達成するこ
とができきる。

【００３４】導電性微粒子分散液は、一般に、インクジ
ェット用のインクと同様に濃縮状態で作製することが望
ましく、これにより製造プロセスおよび装置の効率を最
大限にすることができる。濃縮された導電性微粒子分散
液は、インクジェットプリント装置で使用する際に適当
な濃度に希釈される。希釈は、水および（または）適当
な溶媒を添加することで行う。希釈することで、導電性
微粒子分散液を用途に合わせて所定の粘度、色、飽和密
度、およびプリント領域付着量に調製する。

【００３５】導電性微粒子分散液を、インクジェットに
よりメッシュパターン状に噴霧する際、下記の条件によ
り噴霧作業性、噴霧状態が影響を受ける。

【００３６】即ち、インク（即ち導電性微粒子分散液）
特性噴射速度、インク滴の分離長（separation length
）、インク滴サイズ、流れ安定性は、インクの表面張
力および粘性によって著しく影響を受ける。インクジェ
ットプリント装置で使用するのに適当な導電性微粒子分
散液（顔料系インクジェットインクと言える）は、約１
５ｄｙｎｅ／ｃｍから約７０ｄｙｎｅ／ｃｍ、好ましく
は１５ｄｙｎｅ／ｃｍから約３５ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲
内の表面張力を有することが好ましい。許容できる粘度
は２０ｃｐｓ以下であり、好ましくは約１．０ｃｐｓか
ら約１５．０ｃｐｓまでの範囲内である。導電性微粒子
分散液は、吐出状態の幅広い範囲に対応可能な物理的特
性、すなわちサーマル式のインクジェットプリント装置
の駆動電圧およびパルス幅、ドロップオンデマンド方式
の装置またはコンティニュアス方式の装置のいずれか一
方のピエゾ素子の駆動周期、さらにノズルの形状および
寸法に対応する特性を有する。

【００３７】インクジェットプリント装置の記録方式と
しては、一般にコンティニュアス方式を用いるが、他の
どのようなインクジェット記録方式も用いることができ
る。例えばオンデマンド型方式があげられる。オンデマ
ンド型方式としては、電気−機械変換方式（例えば、シ
ングルキャビティー型、ダブルキャビティー型、ベンダ
ー型、ピストン型、シェアーモード型、シェアードウォ
ール型、ピエゾ電気式ドロップオンデマンド等）、電気
−熱変換方式（例えば、サーマルインクジェット型、バ
ブルジェット（登録商標）型等）、静電吸引方式（例え
ば、電界制御型、スリットジェット型等）、及び放電方
式（例えば、スパークジェット型等）などを具体的な例
として挙げることができる。特開平１１−４３６３９号
公報（例、図１）に記載のインクジェット記録装置も利
用することができる。

【００３８】コンティニュアス方式とは、インク（導電
性微粒子分散液）に圧力をかけ、連続してインクを噴射
させる方式である。ノズルは圧電素子により一定間隔で
振動することで液滴の形成を助けている。インク液滴の
経路には帯電電極と偏光電極が配されている。インク液
滴は帯電電極を通過する際に選択的に帯電され、帯電し
た液滴は偏向電極により軌道が曲げられる。帯電した液
滴と帯電しない液滴は、その軌道が異なるため、被記録
剤に着弾し、画像を形成する液滴と、ガターにより回収
される液滴に分離される。

【００３９】インクである導電性微粒子分散液は長期間
にわたる優れた保存安定性を有し、さらにインクジェッ
ト装置内で目詰まりを生ずることはない。フィルム等の
透明基板へのインクの固定は、加熱することで重合体ラ
テックス等のバインダを合体させることによって素早く
かつ正確に行うことができる。

【００４０】上記のようにして得られた本発明の導電性
微粒子分散液は、上記のインクジェット装置を用いて、
透明基板上にメッシュパターン状に噴霧され、乾燥され
る。こうして形成されるメッシュパターンの線幅は、一
般に３０μｍ以下、好ましくは５〜１５μｍで、特に５
〜１２μｍを有する。また、開口率は７５〜９５％であ
ることが好ましく、特に８０〜９５％である。

【００４１】線で囲まれた開口部の形状は、円、楕円、
角形など任意の形状とすることができるが、一般に角形
であり、特に正方形であることが好ましい。

【００４２】上記噴霧、乾燥されたメッシュ（導電層）
は、一般に高温で焼成される。

【００４３】この焼成工程を説明するための模式図が、
図１に示されている。透明基板１上に、導電性微粒子２
とこれを被覆又は付着した有機成分３とがインクジェッ
トヘッドから噴霧により設けられ、ついで焼成すること
により有機成分３は除去され導電性微粒子２同士が付着
又は融着する。これにより電気抵抗の高い有機成分が除
去され、電気抵抗低い金属粒子のみ残るため、抵抗値が
低い導電層が得られる。従って、得られる窓材の電磁波
シールド効果が向上する。尚、この焼成工程を行う場合
は、できるだけ高温（好ましくは４００〜５００℃）で
行うことが有利であるので、透明基板はガラス等の耐熱
性の材料を用いることが好ましい。

【００４４】得られた導電層の層厚は、特に限定される
ものではないが、一般に０．５〜１００μｍの範囲であ
る。この導電層の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性
が低下するので好ましくなく、厚過ぎると得られる電磁
波シールド性光透過窓材自体の厚さに影響を及ぼすと共
に、視野角を狭くしてしまうことから、０．５〜１００
μｍの範囲にするのが好ましい。

【００４５】さらに低い抵抗値にして、電磁波シールド
効果を高めたい場合には、導電層上にメッキ層を形成す
ることが好ましい。この場合、導電層の厚さを、低い値
に抑えることができる。

【００４６】メッキ処理に使用される材料としては、
銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀及び金を挙げる
ことができる。これらは単独で使用しても、２種以上の
合金として使用しても良い。メッキ処理としては、通常
の液相メッキ（電解メッキ、無電解メッキ等）により一
般に行われる。

【００４７】メッキ層の厚さは、一般に０．１〜１０μ
ｍの範囲、２〜５μｍが好ましい。厚さが１μｍ未満で
は、電磁波シールド効果付与が充分でなく、１０μｍを
超えるとメッキ層が幅方向に広がりやすくなり、線幅が
太くなる傾向になる。

【００４８】本発明の電磁波シールド性光透過窓材の製
造方法においては、所望により防眩層等、他の層を設け
るための工程をさらに行っても良い。防眩層は、たとえ
ば黒化処理、即ち金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒
色メッキ、黒又は暗色系インキの塗布、により形成する
ことができる。

【００４９】上記本発明の製造方法により得られる、本
発明の電磁波シールド性光透過窓材は、例えば図２に示
す様な正面図を有する。透明基板１上に格子状の導電層
５が形成されている。この導電層の線幅が、５〜１５μ
ｍであることが好ましく、特に５〜１２μｍであること
が好ましい。この導電層の表面にメッキ層を形成しても
良い。

【００５０】本発明の製造方法であるインクジェットに
より導電層を形成することにより、線幅を極めて小さく
することが可能である。その際前記のようにインクジェ
ット印刷に使用される導電性微粒子分散液は、前記の組
成及び粘度を有することが好ましい。線幅を小さくする
ことにより、ディスプレイの画素に対してモアレの発生
を抑えることができ、透明性を向上させる開口率も大き
くすることができる。また単にインクジェットで印刷す
るとの極めて簡単な操作で、導電層を設けることが可能
であり、さらに印刷原板の作製無しに自由にパターンの
形成が可能であることから、生産性の極めて高い方法で
あると言うことができる。また上記線幅の小さい電磁波
シールド性光透過窓材は今まで得られなかったものであ
り、新規な窓材と言うことができる。

【００５１】本発明の窓材の導電層上又はメッキ層があ
る場合はその上の表面抵抗率は、３Ω／□以下が好まし
く、特に１Ω／□以下が好ましい。表面抵抗率が３Ω／
□を超えると導電性が不充分で電磁シールド効果が満足
でるものではない。

【００５２】本発明の窓材も、前述のように７５％以上
であり、一般に７５〜９５％、特に８０〜９５％の範囲
が好ましい。

【００５３】本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、
前述のように電磁波シールド性に優れ、モアレの発生が
ほとんどなく、また開口率も高いことから透明性にも優
れている。このため、本発明の窓材が、プラズマディス
プレー（ＰＤＰ）の前面フィルムとして好適であり、ま
た病院等の電磁波シールド性を必要とされる建築物の窓
材料（例えば貼着用フィルム）等として有利に使用する
ことができる。

【００５４】

【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明を具体的に説
明する。［実施例１］下記の配合の導電性微粒子分散液を混合
後、分散させ、次いで濃度調製することにより調製し
た。（導電性微粒子分散液の配合）銅微粒子（平均粒径０．２０μｍ）５０質量部アクリル樹脂２０質量部ポリビニルアルコール３０質量部水適宜透明基板としてガラス基板（厚さ３ｍｍ）の上に、上記
の配合の導電性微粒子分散液をインクジェットプリント
装置を用いてメッシュパターン状に印刷した。

【００５５】室温で３０分間乾燥後、４００℃で３０分
間焼成を行い、導電層を形成した。

【００５６】得られた導電層は、図２に示す形状を有
し、メッシュパターンの線幅が８μｍ、ドット（線で囲
まれた正方形）１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方
形状であり、ドット配列は正方格子状である。導電層の
厚さは、焼成後で１０μｍであった。

【００５７】こうして本発明の電磁波シールド性光透過
性窓材を得た。

【００５８】得られた窓材について下記の物性を測定し
た。１）表面抵抗率（Ω／□）得られた窓材の導電層又はメッキ層上の表面抵抗率をロ
レスタＡＰ（三菱化学（株）製）を用いて、四端子法に
より測定した。２）電界シールド効果（ｄＢ）窓材を１５×１５ｃｍに裁断し、周波数１００ＭＨｚの
条件でＫＥＣ法により測定した。測定にはシールド特性
評価装置（アンリツ（株）製）を用いた。３）磁界シールド効果（ｄＢ）前記電界シールド効果の測定と同様に行った。４）開口率（％）日立分光光度計（Ｕ−４０００；（株）日立製作所製）
を用いて波長５５０ｎｍの光線透過率を測定し、空気界
面での反射ロスをキャンセルして開口率とした。

【００５９】得られた結果を表１に示す。

【００６０】表１実施例１表面抵抗率（Ω／□）０．０３電界シールド効果（ｄＢ）４６．５磁界シールド効果（ｄＢ）３３．８開口率（％）７７

【００６１】

【発明の効果】本発明の電磁波シールド性光透過窓材
は、電磁波シールド性に優れ、モアレの発生がほとんど
なく、また開口率も高いことから透明性にも優れてい
る。このため、本発明の窓材は、プラズマディスプレー
パネル（ＰＤＰ）の前面フィルムとして好適であり、ま
た病院等の電磁波シールド性を必要とされる建築物の窓
材料（例えば貼着用フィルム）等として有利に使用する
ことができる。また本発明の製造方法は上記のような優
れた性能の窓材を簡易に、高い生産性で製造することが
できるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の導電層の形成方法の一例を説明するた
めの概略図である。

【図２】本発明の電磁波シールド性光透過窓材の一例の
平面図である。

【符号の説明】

１透明基板２導電微粒子３有機成分５導電層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板上に、導電性微粒子分散液をイ
ンクジェットヘッドからメッシュパターン状に噴霧する
ことにより、メッシュパターン状の導電層を形成するこ
とを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方
法。
【請求項２】透明基板上に、導電性微粒子分散液をイ
ンクジェットヘッドからメッシュパターン状に噴霧する
ことにより、メッシュパターン状の導電層を形成し、次
いで高温で焼成することを特徴とする電磁波シールド性
光透過窓材の製造方法。
【請求項３】透明基板上に、導電性微粒子分散液をイ
ンクジェットヘッドからメッシュパターン状に噴霧する
ことにより、メッシュパターン状の導電層を形成し、次
いで高温で焼成した後、該焼成された電導層上に、さら
に金属メッキを施すことを特徴とする電磁波シールド性
光透過窓材の製造方法。
【請求項４】導電性微粒子が、金属、合金、金属酸化
物又は半金属酸化物の微粒子である請求項１〜３のいず
れかに記載の製造方法。
【請求項５】導電性微粒子分散液が、導電性微粒子が
バインダ及び有機溶剤を含む混合液中に分散されてなる
ものである請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】導電性微粒子が、銀、銅又はアルミニウ
ムの微粒子である請求項１〜５のいずれかに記載の製造
方法。
【請求項７】焼成温度が、２００〜５００℃である請
求項１〜６のいずれかに記載の製造方法。
【請求項８】金属メッキに使用する金属が、銅である
請求項３〜７のいずれかに記載の製造方法。
【請求項９】請求項１〜８のいずれかの製造方法によ
り得られる電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項１０】透明基板上に、メッシュパターン状の
導電性微粒子からなる導電層が設けられ、該メッシュパ
ターンが線幅５〜１５μｍで、開口率７５〜９５％であ
ることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項１１】導電性微粒子が、金属、合金、金属酸
化物又は半金属酸化物の微粒子である請求項１０に記載
の光透過窓材。
【請求項１２】電導層が焼成処理されている請求項１
０又は１１に記載の光透過窓材。
【請求項１３】電導層上に、さらに金属メッキ層が形
成されている請求項１０〜１２のいずれかに記載の光透
過窓材。
【請求項１４】メッシュパターンの線幅５〜１２μｍ
であることを特徴とする請求項１０〜１３のいずれかに
記載の光透過窓材。
【請求項１５】メッシュパターンの開口率８０〜９５
％である請求項１０〜１４のいずれかに記載の光透過窓
材。