JP2003273572A - 保護フィルム付きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム及びその保護フィルム並びにディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの製造方法 - Google Patents
保護フィルム付きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム及びその保護フィルム並びにディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの製造方法Info
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- JP2003273572A JP2003273572A JP2002067970A JP2002067970A JP2003273572A JP 2003273572 A JP2003273572 A JP 2003273572A JP 2002067970 A JP2002067970 A JP 2002067970A JP 2002067970 A JP2002067970 A JP 2002067970A JP 2003273572 A JP2003273572 A JP 2003273572A
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- wave shielding
- film
- protective film
- shielding film
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電磁波シールド性と、透明性非視認性および
良好な接着特性を有する保護フィルム付きディスプレイ
表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム及びその保護フィルム
並びにディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの
製造方法を提供する。 【解決手段】 透明基材、接着剤及び金属薄箔の積層体
からなるディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム
であって、透明基材面に、対エッチング性の保護フィル
ムを有する。保護フィルムは、透明基材との接着力が１
５０Ｎ／ｍ以下である。
良好な接着特性を有する保護フィルム付きディスプレイ
表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム及びその保護フィルム
並びにディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの
製造方法を提供する。 【解決手段】 透明基材、接着剤及び金属薄箔の積層体
からなるディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム
であって、透明基材面に、対エッチング性の保護フィル
ムを有する。保護フィルムは、透明基材との接着力が１
５０Ｎ／ｍ以下である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、保護フィルム付き
ディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム及びその
保護フィルム並びにディスプレイ表示ガラス用電磁波遮
蔽フィルムの製造方法であり、特に透明基材面に保護フ
ィルムを設けて製造時の傷の発生を防止するディスプレ
イ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムに関する。
ディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム及びその
保護フィルム並びにディスプレイ表示ガラス用電磁波遮
蔽フィルムの製造方法であり、特に透明基材面に保護フ
ィルムを設けて製造時の傷の発生を防止するディスプレ
イ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年各種の電気設備や電子応用設備の利
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害も増加の
一途をたどっている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズ
と放射ノイズに分けられ、伝導ノイズの対策としては、
ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノ
イズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要が
あるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回
路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブ
ルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。こ
れらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド
効果を期待できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレ
イ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透
明であるため適用できなかった。
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害も増加の
一途をたどっている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズ
と放射ノイズに分けられ、伝導ノイズの対策としては、
ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノ
イズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要が
あるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回
路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブ
ルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。こ
れらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド
効果を期待できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレ
イ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透
明であるため適用できなかった。
【０００３】電磁波シールド性と透明性を両立させる方
法として、透明基材上に金属または金属酸化物を蒸着し
て薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８００
号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案さ
れている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ
電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特
開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含む
導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド
材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５２
４９９号公報参照）、さらには、厚さが２ｍｍ程度のポ
リカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、
その上に無電解めっき法により銅のメッシュパターンを
形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８８９
号公報参照）が提案されている。
法として、透明基材上に金属または金属酸化物を蒸着し
て薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８００
号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案さ
れている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ
電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特
開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含む
導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド
材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５２
４９９号公報参照）、さらには、厚さが２ｍｍ程度のポ
リカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、
その上に無電解めっき法により銅のメッシュパターンを
形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８８９
号公報参照）が提案されている。
【０００４】電磁波シールド性と透明性を両立させる方
法として、特開平１−２７８８００号公報、特開平５−
３２３１０１号公報に示されている透明基材上に金属ま
たは金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法
は、透明性が達成できる程度の膜厚（数１００Å〜２，
０００Å）にすると導電層の表面抵抗が大きくなりすぎ
るため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要求される３０ｄＢ以
上のシールド効果が要求されるところ、２０ｄＢ以下と
不十分となる。
法として、特開平１−２７８８００号公報、特開平５−
３２３１０１号公報に示されている透明基材上に金属ま
たは金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法
は、透明性が達成できる程度の膜厚（数１００Å〜２，
０００Å）にすると導電層の表面抵抗が大きくなりすぎ
るため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要求される３０ｄＢ以
上のシールド効果が要求されるところ、２０ｄＢ以下と
不十分となる。
【０００５】良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁
波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平
５−２６９９１２号公報）では、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚ
の電磁波シールド効果は４０〜５０ｄＢと十分大きい
が、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則配置させ
るためには、繊維径を３５μｍ以上の太さにせざるを得
ず、繊維が肉眼で見えるようになる（以下、「視認性」
という）ので、ディスプレイ用途には適したものではな
かった。
波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平
５−２６９９１２号公報）では、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚ
の電磁波シールド効果は４０〜５０ｄＢと十分大きい
が、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則配置させ
るためには、繊維径を３５μｍ以上の太さにせざるを得
ず、繊維が肉眼で見えるようになる（以下、「視認性」
という）ので、ディスプレイ用途には適したものではな
かった。
【０００６】また、特開昭６２−５７２９７号公報、特
開平２−５２４９９号公報の金属粉末等を含む導電性樹
脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料の場
合も同様に、印刷精度の限界からライン幅の最小幅は、
１００μｍ前後となり視認性が発現するため適したもの
ではなかった。
開平２−５２４９９号公報の金属粉末等を含む導電性樹
脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料の場
合も同様に、印刷精度の限界からライン幅の最小幅は、
１００μｍ前後となり視認性が発現するため適したもの
ではなかった。
【０００７】さらに特開平５−２８３８８９号公報に記
載の厚さが２ｍｍ程度のポリカーボネート等の透明基板
上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法によ
り銅のメッシュパターンを形成したシールド材料では、
無電解めっきの密着力を確保するために、透明基板の表
面を粗化する必要がある。この粗化手段として、一般に
クロム酸や過マンガン酸などの毒性の高い酸化剤を使用
しなければならず、この方法は、ＡＢＳ以外の樹脂で
は、満足できる粗化を行うことは困難となる。また、こ
の方法により、電磁波シールド性と透明性は達成できた
としても、透明基板の厚さを小さくすることは困難で、
フィルム化の方法としては適していなかった。さらに透
明基板が厚いと、ディスプレイに密着させることができ
ないため、そこから電磁波の漏洩が大きくなる。また、
この方法では、製造面において、シールド材料を巻物等
にすることができないため嵩高くなることや自動化に適
していないために製造コストがかさむという欠点もあっ
た。ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性
については、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３０ｄＢ以
上の電磁波シールド機能の他に、良好な可視光透過性、
さらに可視光透過率が大きいだけでなく、電磁波の漏れ
を防止するためディスプレイ面に密着して貼付けられる
接着性、シールド材の存在を肉眼で確認することができ
ない特性である非視認性も必要とされる。
載の厚さが２ｍｍ程度のポリカーボネート等の透明基板
上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法によ
り銅のメッシュパターンを形成したシールド材料では、
無電解めっきの密着力を確保するために、透明基板の表
面を粗化する必要がある。この粗化手段として、一般に
クロム酸や過マンガン酸などの毒性の高い酸化剤を使用
しなければならず、この方法は、ＡＢＳ以外の樹脂で
は、満足できる粗化を行うことは困難となる。また、こ
の方法により、電磁波シールド性と透明性は達成できた
としても、透明基板の厚さを小さくすることは困難で、
フィルム化の方法としては適していなかった。さらに透
明基板が厚いと、ディスプレイに密着させることができ
ないため、そこから電磁波の漏洩が大きくなる。また、
この方法では、製造面において、シールド材料を巻物等
にすることができないため嵩高くなることや自動化に適
していないために製造コストがかさむという欠点もあっ
た。ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性
については、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３０ｄＢ以
上の電磁波シールド機能の他に、良好な可視光透過性、
さらに可視光透過率が大きいだけでなく、電磁波の漏れ
を防止するためディスプレイ面に密着して貼付けられる
接着性、シールド材の存在を肉眼で確認することができ
ない特性である非視認性も必要とされる。
【０００８】シールド材の接着性についてはガラスや汎
用プラスチック板に対し比較的低温で容易に貼付き、長
期間にわたって良好な密着性を有することが必要であ
る。しかし、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性
・非視認性、接着性等の特性を同時に十分満たす接着フ
ィルムとしては、これまで満足なものは得られていなか
った。
用プラスチック板に対し比較的低温で容易に貼付き、長
期間にわたって良好な密着性を有することが必要であ
る。しかし、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性
・非視認性、接着性等の特性を同時に十分満たす接着フ
ィルムとしては、これまで満足なものは得られていなか
った。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる点に
鑑み、電磁波シールド性と、透明性非視認性および良好
な接着特性を有する保護フィルム付きディスプレイ表示
ガラス用電磁波遮蔽フィルム及びその保護フィルム並び
にディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの製造
方法を提供することを目的とする。
鑑み、電磁波シールド性と、透明性非視認性および良好
な接着特性を有する保護フィルム付きディスプレイ表示
ガラス用電磁波遮蔽フィルム及びその保護フィルム並び
にディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの製造
方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明基材、接
着剤及び金属箔の積層体からなるディスプレイ表示ガラ
ス用電磁波遮蔽フィルムであって、前記透明基材面に、
対エッチング性の保護フィルムを有する保護フィルム付
きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムであ
る。
着剤及び金属箔の積層体からなるディスプレイ表示ガラ
ス用電磁波遮蔽フィルムであって、前記透明基材面に、
対エッチング性の保護フィルムを有する保護フィルム付
きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムであ
る。
【００１１】また、本発明は、前記保護フィルムは、透
明基材との接着力が４０Ｎ／ｍ以下である保護フィルム
付きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムであ
る。
明基材との接着力が４０Ｎ／ｍ以下である保護フィルム
付きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムであ
る。
【００１２】そして、本発明は、前記保護フィルムは、
可視光透過率が８０％以上であるディスプレイ表示ガラ
ス用電磁波遮蔽フィルムである。
可視光透過率が８０％以上であるディスプレイ表示ガラ
ス用電磁波遮蔽フィルムである。
【００１３】更に、本発明は、透明基材、接着剤層及び
金属箔の積層体からなるディスプレイ表示ガラス用電磁
波遮蔽フィルムの透明基材面に接着され、製造時の傷を
防止する保護フィルムであって、対エッチング性を有
し、かつ、透明基材との接着力が４０Ｎ／ｍ以下、好ま
しくは２０Ｎ／ｍ以下であるディスプレイ表示ガラス用
電磁波遮蔽フィルムの保護フィルムである。
金属箔の積層体からなるディスプレイ表示ガラス用電磁
波遮蔽フィルムの透明基材面に接着され、製造時の傷を
防止する保護フィルムであって、対エッチング性を有
し、かつ、透明基材との接着力が４０Ｎ／ｍ以下、好ま
しくは２０Ｎ／ｍ以下であるディスプレイ表示ガラス用
電磁波遮蔽フィルムの保護フィルムである。
【００１４】また、本発明は、透明基材、接着剤及び金
属箔の積層体からなるディスプレイ表示ガラス用電磁波
遮蔽フィルムの製造方法であって、前記透明基材面に対
エッチング性を有し、かつ、透明基材との接着力が４０
Ｎ／ｍ以下の保護フィルムを貼付け、次に金属箔をエッ
チングし、最後に該保護フィルムを剥離するディスプレ
イ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの製造方法である。
属箔の積層体からなるディスプレイ表示ガラス用電磁波
遮蔽フィルムの製造方法であって、前記透明基材面に対
エッチング性を有し、かつ、透明基材との接着力が４０
Ｎ／ｍ以下の保護フィルムを貼付け、次に金属箔をエッ
チングし、最後に該保護フィルムを剥離するディスプレ
イ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの製造方法である。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を説明する。
本発明の保護フィルム付きディスプレイ表示ガラス用電
磁波遮蔽フィルム及びその保護フィルム並びにディスプ
レイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの製造方法につい
て、実施例により具体的に説明するが、本発明はこれに
限定されるものではない。
本発明の保護フィルム付きディスプレイ表示ガラス用電
磁波遮蔽フィルム及びその保護フィルム並びにディスプ
レイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの製造方法につい
て、実施例により具体的に説明するが、本発明はこれに
限定されるものではない。
【００１６】実施例１を説明する。本実施例の電磁波遮
蔽シールドフィルムを説明する。金属箔として印刷配線
板用銅箔１２μｍ厚さ品（商品名；ＳＱ−ＶＬＰ、三井
金属鉱業株式会社製、以下「銅箔」と略記）を用い、透
明基材として透明プラスチックフィルムとしてポリエス
テルフィルム１２５μｍ厚さ品（商品名；エンブレット
Ｓ、ユニチカ（株）製、以下「フィルムＡ」と略記）を
用いた。この透明基材の可視光透過率は、９０％以上で
ある。
蔽シールドフィルムを説明する。金属箔として印刷配線
板用銅箔１２μｍ厚さ品（商品名；ＳＱ−ＶＬＰ、三井
金属鉱業株式会社製、以下「銅箔」と略記）を用い、透
明基材として透明プラスチックフィルムとしてポリエス
テルフィルム１２５μｍ厚さ品（商品名；エンブレット
Ｓ、ユニチカ（株）製、以下「フィルムＡ」と略記）を
用いた。この透明基材の可視光透過率は、９０％以上で
ある。
【００１７】まず、フィルムＡに接着剤を連続的に塗
布、乾燥した。接着剤は、ポリエステル系接着剤（商品
名；バイロンＵＲ−１４００、東洋紡績（株）製）を用
いた。この接着剤はガラス転移点Ｔｇ８３℃である。乾
燥時の条件は１２０℃×１分、乾燥後の接着剤層の厚さ
は２０μｍとし、接着フィルムを得た。
布、乾燥した。接着剤は、ポリエステル系接着剤（商品
名；バイロンＵＲ−１４００、東洋紡績（株）製）を用
いた。この接着剤はガラス転移点Ｔｇ８３℃である。乾
燥時の条件は１２０℃×１分、乾燥後の接着剤層の厚さ
は２０μｍとし、接着フィルムを得た。
【００１８】この接着フィルムと銅箔を連続的にロール
ラミネートした。この設備の構造は一般的であり、被ラ
ミネート材の巻き出し装置、ラミネート前の予備加熱設
備、加熱・加圧可能なラミネートロール、巻き取り装置
より成る。予備加熱装置は、被ラミネート物が加熱・加
圧ロールに接触すると急激な温度変化で変形し、皺が入
ってしまうので、予め被ラミネート物を加熱して、温度
変化を緩やかにするために設置されるものであり、フィ
ルムや薄い金属等を処理する場合には、必須の設備であ
る。
ラミネートした。この設備の構造は一般的であり、被ラ
ミネート材の巻き出し装置、ラミネート前の予備加熱設
備、加熱・加圧可能なラミネートロール、巻き取り装置
より成る。予備加熱装置は、被ラミネート物が加熱・加
圧ロールに接触すると急激な温度変化で変形し、皺が入
ってしまうので、予め被ラミネート物を加熱して、温度
変化を緩やかにするために設置されるものであり、フィ
ルムや薄い金属等を処理する場合には、必須の設備であ
る。
【００１９】ラミネートの速度としては、２ｍ／分と
し、予備加熱による被ラミネート物温度が１５０〜１６
０℃、ラミネートロール表面温度１５０℃、圧力１０Ｋ
ｇ／ｃｍにおいて、電磁波シールドフィルム用基板（以
下、「ＭＣＦ」と略記）を得た。
し、予備加熱による被ラミネート物温度が１５０〜１６
０℃、ラミネートロール表面温度１５０℃、圧力１０Ｋ
ｇ／ｃｍにおいて、電磁波シールドフィルム用基板（以
下、「ＭＣＦ」と略記）を得た。
【００２０】このＭＣＦのフィルム面（透明基材面）に
保護フィルムを連続して接着させて、保護フィルム付き
電磁波シールドフィルムを得た。保護フィルムは、商品
名；Ｌ−８１１０、日立化成工業（株）製を用いた。こ
れは、ポリエステルフィルム２５μｍ厚さ品（以下、
「フィルムＢ１」と略記）に、乾燥後の粘着剤層の厚さ
が１０μｍになるよう粘着剤をフィルムＢ１上に塗布
し、乾燥したものである。なお、保護フィルムの接着力
は、フィルム面にコロナ放電処理や滑材の塗布等を行う
ことにより調節することができる。
保護フィルムを連続して接着させて、保護フィルム付き
電磁波シールドフィルムを得た。保護フィルムは、商品
名；Ｌ−８１１０、日立化成工業（株）製を用いた。こ
れは、ポリエステルフィルム２５μｍ厚さ品（以下、
「フィルムＢ１」と略記）に、乾燥後の粘着剤層の厚さ
が１０μｍになるよう粘着剤をフィルムＢ１上に塗布
し、乾燥したものである。なお、保護フィルムの接着力
は、フィルム面にコロナ放電処理や滑材の塗布等を行う
ことにより調節することができる。
【００２１】実施例２を説明する。使用したＭＣＦは実
施例１と同じとした。ただし、保護フィルムとして、商
品名；Ｌ−８５２０、日立化成工業（株）製を用いた。
これは、ポリエステルフィルム２５μｍ厚さ品（以下、
「フィルムＢ２」と略記）に、乾燥後の粘着剤層の厚さが
１０μｍになるよう粘着剤をフィルムＢ２上に塗布し、
乾燥したものを用いた。
施例１と同じとした。ただし、保護フィルムとして、商
品名；Ｌ−８５２０、日立化成工業（株）製を用いた。
これは、ポリエステルフィルム２５μｍ厚さ品（以下、
「フィルムＢ２」と略記）に、乾燥後の粘着剤層の厚さが
１０μｍになるよう粘着剤をフィルムＢ２上に塗布し、
乾燥したものを用いた。
【００２２】比較例１を説明する。使用したＭＣＦは実
施例１と同じとした。ただし、保護フィルムとして、商
品名；Ｄ−３７１０、日立化成工業（株）製を用いた。
これは、ポリエチレンフィルム６０μｍ厚さ品（以下、
「フィルムＢ１´」と略記）に、乾燥後の粘着剤層の厚
さが１μｍになるよう粘着剤をフィルムＢ１´上に塗布
し、乾燥したものを用いた。
施例１と同じとした。ただし、保護フィルムとして、商
品名；Ｄ−３７１０、日立化成工業（株）製を用いた。
これは、ポリエチレンフィルム６０μｍ厚さ品（以下、
「フィルムＢ１´」と略記）に、乾燥後の粘着剤層の厚
さが１μｍになるよう粘着剤をフィルムＢ１´上に塗布
し、乾燥したものを用いた。
【００２３】比較例２を説明する。使用したＭＣＦは実
施例１と同じとした。ただし、保護フィルムとして、商
品名；Ａ−２４１０、日立化成工業（株）製を用いた。
これは、ポリエチレンフィルム４０μｍ厚さ品（以下、
「フィルムＢ２´」と略記）に、乾燥後の粘着剤層の厚
さが１．５μｍとなるよう粘着剤をフィルムＢ２´上に
塗布し、乾燥したものを用いた。
施例１と同じとした。ただし、保護フィルムとして、商
品名；Ａ−２４１０、日立化成工業（株）製を用いた。
これは、ポリエチレンフィルム４０μｍ厚さ品（以下、
「フィルムＢ２´」と略記）に、乾燥後の粘着剤層の厚
さが１．５μｍとなるよう粘着剤をフィルムＢ２´上に
塗布し、乾燥したものを用いた。
【００２４】比較例３を説明する。使用したＭＣＦは実
施例１と同じとした。ただし、保護フィルムとして、商
品名；Ｋ−３８５０、日立化成工業（株）製を用いた。
これは、ポリエチレンフィルム２５μｍ厚さ品（以下、
「フィルムＢ３´」と略記）に、乾燥後の接着剤層の厚
さが７μｍとなるよう粘着剤をフィルムＢ３´上に塗布
し、乾燥したものを用いた。
施例１と同じとした。ただし、保護フィルムとして、商
品名；Ｋ−３８５０、日立化成工業（株）製を用いた。
これは、ポリエチレンフィルム２５μｍ厚さ品（以下、
「フィルムＢ３´」と略記）に、乾燥後の接着剤層の厚
さが７μｍとなるよう粘着剤をフィルムＢ３´上に塗布
し、乾燥したものを用いた。
【００２５】上記実施例１、２及び比較例１〜３で使用
した保護フィルムを貼り付けた電磁波シールドフィルム
の銅箔をエッチングし、処理後の保護フィルムの状態を
調べた。使用した保護フィルムの物性、効果を図１に示
す。図１に示すように、実施例１、２で使用した保護フ
ィルムＢは、比較例１〜３の保護フィルムＢ１´〜Ｂ３
´と比較して、透明基材との密着力が増加しておらず、
電磁波シールドフィルムから剥離する際、大きな力を必
要としない。また、実施例１、２で使用した保護フィル
ムＢ１、Ｂ２は、対エッチング性を有し、耐熱性である
ため、変形がほとんど生じておらず、透明基材表面に傷
を発生させることがない。そして、実施例１、２で使用
した保護フィルムＢ１、Ｂ２は可視光透過率が高いた
め、付与したまま製造時の検査等を行うことが可能であ
る。
した保護フィルムを貼り付けた電磁波シールドフィルム
の銅箔をエッチングし、処理後の保護フィルムの状態を
調べた。使用した保護フィルムの物性、効果を図１に示
す。図１に示すように、実施例１、２で使用した保護フ
ィルムＢは、比較例１〜３の保護フィルムＢ１´〜Ｂ３
´と比較して、透明基材との密着力が増加しておらず、
電磁波シールドフィルムから剥離する際、大きな力を必
要としない。また、実施例１、２で使用した保護フィル
ムＢ１、Ｂ２は、対エッチング性を有し、耐熱性である
ため、変形がほとんど生じておらず、透明基材表面に傷
を発生させることがない。そして、実施例１、２で使用
した保護フィルムＢ１、Ｂ２は可視光透過率が高いた
め、付与したまま製造時の検査等を行うことが可能であ
る。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、電磁波シールド性と、
透明性非視認性および良好な接着特性を有する保護フィ
ルム付きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム
及びその保護フィルム並びにディスプレイ表示ガラス用
電磁波遮蔽フィルムの製造方法を得ることができる。
透明性非視認性および良好な接着特性を有する保護フィ
ルム付きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム
及びその保護フィルム並びにディスプレイ表示ガラス用
電磁波遮蔽フィルムの製造方法を得ることができる。
【図１】実施例及び比較例における保護フィルムの物性
等を説明する図表。
等を説明する図表。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 今泉 純一
茨城県下館市大字五所宮1150番地 日立化
成工業株式会社五所宮事業所内
(72)発明者 清水 誠
茨城県下館市大字五所宮1150番地 日立化
成工業株式会社五所宮事業所内
(72)発明者 皆川 政義
茨城県下館市大字五所宮1150番地 日立化
成工業株式会社五所宮事業所内
Ｆターム(参考） 4F100 AB01B AB33B AK41 AR00A
AR00C BA03 BA10A BA10C
CB00 CB05 EJ15B JD08
JK06C JL00C JN01A JN01C
5E321 AA04 BB21 CC16 GG05 GH01
5G435 AA01 GG33 HH02 KK07
Claims (5)
- 【請求項１】 透明基材、接着剤及び金属箔の積層体か
らなるディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムで
あって、 前記透明基材面に、対エッチング性の保護フィルムを有
することを特徴とする保護フィルム付きディスプレイ表
示ガラス用電磁波遮蔽フィルム。 - 【請求項２】 前記保護フィルムは、透明基材との接着
力が４０Ｎ／ｍ以下である請求項１記載の保護フィルム
付きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム。 - 【請求項３】 前記保護フィルムは、可視光透過率が８
０％以上である請求項１又は２に記載のディスプレイ表
示ガラス用電磁波遮蔽フィルム。 - 【請求項４】 透明基材、接着剤層及び金属箔の積層体
からなるディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム
の透明基材面に接着され、製造時の傷を防止する保護フ
ィルムであって、 対エッチング性を有し、かつ、透明基材との接着力が４
０Ｎ／ｍ以下であることを特徴とするディスプレイ表示
ガラス用電磁波遮蔽フィルムの保護フィルム。 - 【請求項５】 透明基材、接着剤及び金属箔の積層体か
らなるディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの
製造方法であって、 前記透明基材面に対エッチング性を有し、かつ、透明基
材との接着力が４０Ｎ／ｍ以下の保護フィルムを貼付
け、次に金属箔をエッチングし、最後に該保護フィルム
を剥離することを特徴とするディスプレイ表示ガラス用
電磁波遮蔽フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002067970A JP2003273572A (ja) | 2002-03-13 | 2002-03-13 | 保護フィルム付きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム及びその保護フィルム並びにディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002067970A JP2003273572A (ja) | 2002-03-13 | 2002-03-13 | 保護フィルム付きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム及びその保護フィルム並びにディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003273572A true JP2003273572A (ja) | 2003-09-26 |
Family
ID=29199183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002067970A Pending JP2003273572A (ja) | 2002-03-13 | 2002-03-13 | 保護フィルム付きディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルム及びその保護フィルム並びにディスプレイ表示ガラス用電磁波遮蔽フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003273572A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007207910A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Fujifilm Corp | 透光性電磁波シールド膜、光学フィルターおよびプラズマディスプレイパネル |
| JP2007207893A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Fujifilm Corp | 透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル |
-
2002
- 2002-03-13 JP JP2002067970A patent/JP2003273572A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2007207893A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Fujifilm Corp | 透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル |
| JP4705856B2 (ja) * | 2006-01-31 | 2011-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 透光性膜、透光性膜の製造方法、透光性電磁波シールド膜、透光性電磁波シールド膜の製造方法、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル |
| JP4705857B2 (ja) * | 2006-01-31 | 2011-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 透光性膜、透光性膜の製造方法、透光性電磁波シールド膜、透光性電磁波シールド膜の製造方法、光学フィルターおよびプラズマディスプレイパネル |
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