JP2007194231A - 高濃度不純物ダイヤモンド薄膜及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
ダイヤモンド単結晶基板上に、不純物濃度が異なる不純物ダイヤモンド薄膜を複数層設けることにより、ダイヤモンド単結晶基板側から、不純物が順次高くなった傾斜層を作成し、最外層が最高濃度不純物を含むダイヤモンド薄膜である不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜及びその製造方法。
【選択図】 図2
Description
すなわち、本発明は、ダイヤモンド単結晶基板上に、不純物濃度が異なる不純物ダイヤモンド薄膜を複数層設けることにより、ダイヤモンド単結晶基板側から、不純物が順次高くなった傾斜層を作成し、最外層が最高濃度不純物を含むダイヤモンド薄膜である不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜である。
また本発明は、ダイヤモンド単結晶が、(111)、(110)、(100)単結晶のいずれかとすることができる。
さらに本発明は、不純物をボロンとしP型の半導体とすることができる。
又本発明は、不純物をリンとしN型の半導体とすることができる。
また本発明は、最内層の不純物ダイヤモンド薄膜層の厚さが、0.5〜2μmであり、順次形成される不純物濃度が異なる不純物ダイヤモンド薄膜層の厚さを、0.3〜1μmとすることができる。
さらに本発明は、最内層の不純物ダイヤモンド薄膜層の不純物濃度が、30〜80ppmであり、順次形成される不純物濃度が異なる不純物ダイヤモンド薄膜層の濃度を、内層の不純物濃度の2〜6倍濃度とすることができる。
又、本発明は、不純物濃度が異なる不純物ダイヤモンド薄膜の数を3〜6とすることができる。
また、本発明は、マイクロ波プラズマ化学気相合成法を用いて、メタンを含む水素に、リンをリン(P)と炭素(C)の割合が30〜80ppmになるように加え、合成圧力下の反応室に導入し、基板温度900℃-1050℃で、単結晶ダイヤモンド面上にダイヤモンド膜の合成し、当該単結晶ダイヤモンドの(111)面上に[P]/[C]= 30〜80ppm のダイヤモンド膜を0.3〜2μm堆積した後、リン(P)と炭素(C)の割合を2〜6倍濃度とし、膜厚を各々0.3〜1μmとしたになるよう不純物ダイヤモンド薄膜を3〜6層積層させるN型不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜の製造方法である。
さらに、本発明は、上記の不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜を用いた高濃度不純物ダイヤモンド薄膜を利用したダイオードおよびトランジスタである。
本発明においては、不純物としてボロンやリンなどを用いることができる。
本発明においては、周知のホモエピタキシャル成長の条件を用いることが出来る。
例えば、ダイヤモンド(111)単結晶基板上において、ホモエピタキシャルダイヤモンド膜を得るためには、炭素含有ガスとして、メタン、一酸化炭素等が用いられるが、メタンが好ましく用いられる。また、炭素含有ガスは、通常水素により希釈されて用いられる。
本発明においては、炭素含有ガスがメタンであって、水素で希釈して、流量比濃度が0.25%以下のものを用いるのが特に好ましい。また、ドーピングガスとして、ボロンを用いても良い。
合成圧力は、20〜100Torr程度であり、基板温度900℃-1050℃で、単結晶ダイヤモンド上にダイヤモンド膜を合成する。
さらに本発明は、最内層の不純物ダイヤモンド薄膜層の不純物濃度が、30〜80ppmであり、順次形成される不純物濃度が異なる不純物ダイヤモンド薄膜層の濃度が、内層の不純物濃度の2〜6倍濃度とすることができるが、最内層の不純物ダイヤモンド薄膜層の不純物濃度が、30ppm以下であると最外層の高い不純物濃度に達するまでに何層も必要になり効率が悪くなり、80ppm以上であるとダイヤモンド単結晶基板との相性が悪くなり、表面形態が平坦かつ高品質、そして低抵抗な高濃度不純物ダイヤモンド薄膜が得られない。又、本発明は、不純物濃度が異なる不純物ダイヤモンド薄膜の数を3〜6とすることができるが、3以下であると表面形態が平坦かつ高品質、そして低抵抗な高濃度不純物ダイヤモンド薄膜を得ることが出来ず、6以上であると製造する工程が増えて効率が落ちる。
本発明の不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜を用いた高濃度不純物ダイヤモンド薄膜は、従来技術の半導体と同様に、ダイオードおよびトランジスタを製造することが出来る。
電極のサイズは半径50μmで、円形状である。 ショットキーバリアダイオードの動作を計測したところ、70%の歩留で良好な整流性を有するデバイスを得ることが出来た。
(比較例1)
マイクロ波プラズマ化学気相合成法において、メタンを0.2%含む水素に、ボロンをボロン(B)と炭素(C)の割合が1000ppmになるように加え、合成圧力50 Torrの反応室に導入し、基板温度900℃-1050℃で、単結晶ダイヤモンドの(111)面上に1μmのダイヤモンド膜を合成した。不純物濃度傾斜層を用いなかった場合の高濃度不純物ダイヤモンド薄膜の断面模式図を図3に示す。そして、光学顕微鏡像によって観察された高濃度不純物ダイヤモンド薄膜の凸凹した表面を図4に示す。
マイクロ波プラズマ化学気相合成法において、メタンを0.4%含む水素に、トリメチルボロンをボロン(B)と炭素(C)の割合が10000ppmになるように加え、合成圧力60 Torrの反応室に導入し、基板温度950℃で、単結晶ダイヤモンドの高濃度ボロンドープ(100)基板上に、ボロンドープp型ダイヤモンド膜を8μm堆積し、高濃度不純物ダイヤモンド層を形成した。次に、デバイスのドリフト層として、5ppmの低濃度ボロンドープ層を10μm堆積した。こうして得られたドリフト層/高濃度層/高濃度基板 の3層構造の基板上に、ショットキーバリアダイオードを形成した。裏面にTi/Mo/Auのオーミック電極を形成し、表面であるドリフト層側にショットキー電極をPtで形成した。
電極のサイズは半径50μmで、円形状である。 ショットキーバリアダイオードの動作を計測したところ、整流性を有するデバイスの歩留は低く、5%しか得られなかった。
Claims (10)
- ダイヤモンド単結晶基板上に、不純物濃度が異なる不純物ダイヤモンド薄膜を複数層設けることにより、ダイヤモンド単結晶基板側から、不純物が順次高くなった傾斜層を作成し、最外層が最高濃度不純物を含むダイヤモンド薄膜である不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜。
- ダイヤモンド単結晶が、(111)、(110)、(100)単結晶のいずれかである請求項1に記載した不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜。
- 不純物がボロンであるP型の半導体である請求項1又は請求項2に記載した不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜。
- 不純物がリンであるN型の半導体である請求項1又は請求項2に記載した不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜。
- 最内層の不純物ダイヤモンド薄膜層の厚さが、0.5〜2μmであり、順次形成される不純物濃度が異なる不純物ダイヤモンド薄膜層の厚さが、0.3〜1μmである請求項1ないし請求項4のいずれかに記載した不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜。
- 最内層の不純物ダイヤモンド薄膜層の不純物濃度が、30〜80ppmであり、順次形成される不純物濃度が異なる不純物ダイヤモンド薄膜層の濃度が、内層の不純物濃度の2〜6倍濃度である請求項1ないし請求項4のいずれかに記載した不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜。
- 不純物濃度が異なる不純物ダイヤモンド薄膜の数が3〜6である請求項1ないし請求項6のいずれかに記載した不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜。
- マイクロ波プラズマ化学気相合成法を用いて、メタンを含む水素に、ボロンをボロン(B)と炭素(C)の割合が30〜80ppmになるように加え、合成圧力下の反応室に導入し、基板温度900℃-1050℃で、単結晶ダイヤモンド面上にダイヤモンド膜の合成し、当該単結晶ダイヤモンドの(111)面上に[B]/[C]= 30〜80ppm のダイヤモンド膜を0.3〜2μm堆積した後、ボロン(B)と炭素(C)の割合を2〜6倍濃度とし、膜厚を各々0.3〜1μmとしたになるよう不純物ダイヤモンド薄膜を3〜6層積層させるP型不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜の製造方法。
- マイクロ波プラズマ化学気相合成法を用いて、メタンを含む水素に、リンをリン(P)と炭素(C)の割合が30〜80ppmになるように加え、合成圧力下の反応室に導入し、基板温度900℃-1050℃で、単結晶ダイヤモンド面上にダイヤモンド膜の合成し、当該単結晶ダイヤモンドの(111)面上に[P]/[C]= 30〜80ppm のダイヤモンド膜を0.3〜2μm堆積した後、リン(P)と炭素(C)の割合を2〜6倍濃度とし、膜厚を各々0.3〜1μmとしたになるよう不純物ダイヤモンド薄膜を3〜6層積層させるN型不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜の製造方法。
- 請求項1ないし請求項7のいずれかに記載した不純物傾斜型ダイヤモンド薄膜を用いた高濃度不純物ダイヤモンド薄膜を利用したダイオード又はトランジスタ。
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