JP2007186399A - Prドープ無機化合物及びこれを含む発光性組成物と発光体、発光装置、固体レーザ装置、電離放射線検出装置 - Google Patents

Prドープ無機化合物及びこれを含む発光性組成物と発光体、発光装置、固体レーザ装置、電離放射線検出装置 Download PDF

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Abstract

【課題】Prドープ無機化合物において、母体酸化物へのPrドープを容易化する。
【解決手段】本発明のPrドープ無機化合物は、母体酸化物の被置換イオンサイトに含まれる1種又は2種以上の被置換イオンの少なくとも一部をPrで固溶置換してなるPrドープ無機化合物において、Prがドープされた被置換イオンサイトをなす、Prを含むすべての元素の平均イオン半径をr1とし、Prのイオン半径をr2としたとき、下記式を充足するものである。上記被置換イオンには、La及び/又はGdが含まれることが好ましい。
0.91r2≦r1≦1.05r2
【選択図】なし

Description

本発明は、ガーネット型等のPrドープ無機化合物、これを含む発光性組成物と発光体、この発光体を用いた発光装置と固体レーザ装置と電離放射線検出装置に関するものである。
励起光の照射により励起されて発光する無機化合物としては、希土類を発光中心イオンとするものがある。希土類の中で、Prは紫外域〜赤外域の広範囲に渡って複数の蛍光ピークを有するため、発光材料として有用と考えられている。
Prをドープする母体化合物として、フッ化物等のハロゲン化物、オキシハロゲン化物、カルコゲナイド、オキシカルコゲナイド等は、化学的に不安定であり、大型な製造設備を要するなど製造コストの点でも難があり、好ましくない。
Prをドープする母体化合物としては、ガーネット型化合物等の酸化物が化学的に安定で製造コストも安く、好ましい。非特許文献1には、ガーネット型化合物であるYAl12(YAG)を母体化合物としてPrをドープした無機化合物(Pr:YAG)が記載され、低温下、480nmの色素レーザでの励起において、青色光(487.9nm,32K以下)及び橙色光(616nm,140K以下)のレーザ発振が報告されている。
しかしながら、YAGにPrを固溶させることは非常に難しいとされている。YAGにPrをドープする場合、AサイトのY3+の一部をPr3+に固溶置換することになるが、Y3+(Aサイト)のイオン半径=0.1019nmに対して、Pr3+(Aサイト)のイオン半径=0.1126nmが大きい。そのため、非特許文献2に記載されているように、YAGにPrをドープする際の偏析係数はほとんどゼロである。このことは、YAGにPrを固溶させることが非常に困難であることを示している。図20に、非特許文献2に記載されている、YAGにドープする希土類イオンのイオン半径と偏析係数との関係を示す図を挙げておく。
非特許文献3等には、単結晶では、Prドープ量1モル%超のPr:YAGは製造が困難であることが記載されている。
多結晶焼結体では、非特許文献3に、YAG中にPrを4.3モル%ドープした化合物(4.3%Pr:YAG)が報告されている。しかしながら、上記の如く、被置換イオンのY3+と置換イオンのPr3+との半径差が大きいため、Pr3+近傍に格子歪が生じたり、酸素欠陥が生じている可能性がある。格子歪や格子欠陥は、励起された光子の失活の要因となり得るため、蛍光強度等の発光特性に悪影響を及ぼす恐れがある。
ガーネット型以外の酸化物を母体化合物とするPrドープ無機化合物としては、非特許文献4に、YAlOを母体化合物としてPrをドープした化合物が記載され、476.5nmのArレーザでの励起により赤色〜近赤外域のレーザ発振が報告されている。しかしながら、この系も被置換イオンY3+/置換イオンPr3+の系であり、Pr:YAGと事情は同様である。
被置換イオンがY3+以外のPrドープ無機化合物としては、非特許文献5に、シンチレータ材料として、LuAl12にPrをドープした化合物(Pr:LuAl12)が報告されている。Lu3+(Aサイト)のイオン半径=0.977nmであり、Lu3+のイオン半径はY3+よりも小さいので、被置換イオンと置換イオンのイオン半径差はPr:YAGより大きく、Pr:YAGよりもPrドープは難しいと考えられる。
Journal de Physique IV C4,541(1994) 池末明生ら、レーザー研究 第27巻 593 (1999) Journal of Ceramic Society of Japan 109,640(2001) OSA Proceedings on Advanced Solid-State Lasers 15,199(1993) Phys. Stat. Sol.(a)202,R4(2005)
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、母体酸化物へのPrドープを容易化する新規な材料設計の思想、及びこの設計思想に基づいて設計された新規な組成のPrドープ無機化合物を提供することを目的とするものである。
本発明は、Prドープの容易化により、Prの高濃度ドープが可能なPrドープ無機化合物を提供することを目的とするものである。本発明はまた、Prドープの容易化により、蛍光強度等の発光特性に優れたPrドープ無機化合物を提供することを目的とするものである。
本発明のPrドープ無機化合物は、母体酸化物の被置換イオンサイトに含まれる1種又は2種以上の被置換イオンの少なくとも一部をPrで固溶置換してなるPrドープ無機化合物において、
Prがドープされた前記被置換イオンサイトをなす、Prを含むすべての元素の平均イオン半径をr1とし、Prのイオン半径をr2としたとき、下記式を充足することを特徴とするものである。
0.91r2≦r1≦1.05r2
本発明のPrドープ無機化合物には、母体酸化物の被置換イオンサイトをPrで一部置換したPrドープ無機化合物と、母体酸化物の被置換イオンサイトをPrで全置換したPrドープ無機化合物とが含まれる。
本発明のPrドープ無機化合物は、Prがドープされた被置換イオンサイトをなす、Prを含むすべての元素の平均イオン半径をr1と、置換イオンであるPrのイオン半径r2とに着目して、これらの差が小さく上記式を充足するよう、材料設計を行ったものである。
本発明のPrドープ無機化合物において、前記被置換イオンには、La及び/又はGdが含まれることが好ましい。
本明細書において、「イオン半径」は、いわゆるShannonのイオン半径を意味している(R. D. Shannon, Acta Crystallogr A32,751 (1976)を参照)。「平均イオン半径」は、格子サイト中のイオンのモル分率をC、イオン半径をRとしたときに、ΣCiRiで表される量である。
格子サイト中のイオンのモル分率Cは、粉末X線回折(XRD)測定又は単結晶X線回折測定によって結晶構造を同定した後、ICP発光分析を行うことによって決定できる。原料粉末を混合して焼結することによって単相の焼結体を得た場合には、格子サイト中のイオンのモル分率Cは、結晶構造を同定した後、原料粉末の混合比によって決定することもできる。
本発明のPrドープ無機化合物は、単結晶構造でも多結晶構造でもよく、不可避不純物を含むものであってもよい。また、全体が単相であることが好ましいが、特性上支障のない範囲内で異相を含むものであってもよい。
従来、被置換イオンサイトにLaが含まれるガーネット型母体化合物としては、(La3−xLu)(Lu2−yGa)Ga12 [LLGG]、及び(La3−xSc)(Sc2−yGa)Ga12 [LSGG]が報告されている。これらの合成例がJournal of Solid State Chemistry 8,357(1973)に報告されて以来、LLGG又はLSGG、特にLLGGに対して、Nd又はCrをドープした発光性化合物の研究がなされており、レーザ発振が報告されている(Physical Review B 37,9129(1988)、Physical Review B 41,7999 (1990)、Applied Optics 27,80(1988)、新版レーザーハンドブック(朝倉書店),183p,(1989)等)。しかしながら、被置換イオンサイトにLaが含まれるガーネット型母体化合物へのPr等の他の希土類イオンのドープについては、研究報告がなされていない。
被置換イオンサイトにGdが含まれるガーネット型母体化合物としては、GdGa12、GdScGa12、及びGdScAl12が報告され、これら母体化合物にNd,Cr,Ho,又はErをドープした発光性化合物の研究がなされており、レーザ発振が報告されている(新版レーザーハンドブック(朝倉書店),183p,(1989)等)。しかしながら、LLGG又はLSGGと同様、被置換イオンとしてGdを含むガーネット型母体化合物へのPr等の他の希土類イオンのドープについては、積極的な研究がなされていない。
また、被置換イオンサイトにLa又はGdが含まれるガーネット型母体化合物へのPrドープについて、Prが固溶置換された被置換イオンサイトをなす、Prを含むすべての元素の平均イオン半径と置換イオンであるPrのイオン半径とに着目した材料設計は、過去に例がない。被置換イオンサイトにLa又はGdが含まれるガーネット型以外の母体酸化物についても、事情は同様である。すなわち、Prがドープされた被置換イオンサイトをなす、Prを含むすべての元素の平均イオン半径と置換イオンであるPrのイオン半径とに着目して、Prドープ無機化合物を設計するという本発明の材料設計は、設計思想自体が新規である。
本発明のPrドープ無機化合物としては、下記一般式で表されるガーネット型化合物(1)及び(2)が好ましい。
(1)下記一般式で表されるガーネット型化合物
一般式:(A13−x−yA2Pr)B12
[式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、C:Cサイトの元素、
A1:La、若しくは、A1:La及びGd、
A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
B:Lu,Sc,Ga,及びAlからなる群より選ばれた1種以上の元素、
C:Ga及びAlからなる群より選ばれた1種以上の元素、
0≦x<3、0<y≦3、0<x+y≦3、
O:酸素]
(2)下記一般式で表されるガーネット型化合物
一般式:(A13−x−yA2Pr)B12
[式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、C:Cサイトの元素、
A1:La、若しくは、A1:La及びGd、
A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
B:Lu,Sc,Ga,及びAlからなる群より選ばれた2種以上の元素、
C:Ga及びAlからなる群より選ばれた1種以上の元素、
0≦x<3、0<y≦3、0<x+y≦3、
O:酸素]
本発明のPrドープ無機化合物は、ガーネット型化合物以外に、C-希土類型化合物、ペロブスカイト型化合物等にも適用可能である。
本発明の発光性組成物は、上記の本発明のPrドープ無機化合物を含むことを特徴とするものである。
本発明の発光体は、上記の本発明のPrドープ無機化合物を含み、所定の形状に成形されたものであることを特徴とするものである。
本発明の発光体の形態としては、本発明のPrドープ無機化合物の単結晶体、本発明のPrドープ無機化合物の多結晶焼結体、及び粉末状の本発明のPrドープ無機化合物が固体媒質中に分散された成形体が挙げられる。
本発明の発光装置は、上記の本発明の発光体と、該発光体に励起光を照射する励起光源とを備えたことを特徴とするものである。
本発明の固体レーザ装置は、上記の本発明の発光体からなる固体レーザ媒質と、該固体レーザ媒質に励起光を照射する励起光源とを備えたことを特徴とするものである。
本発明の電離放射線検出装置は、上記の本発明の発光体からなるシンチレータと、該シンチレータから出射される光を検出するシンチレーション光検出器とを備えたことを特徴とするものである。
本発明のPrドープ無機化合物は、母体酸化物の被置換イオンサイトに含まれる1種又は2種以上の被置換イオンの少なくとも一部をPrで固溶置換した化合物であり、Prがドープされた被置換イオンサイトをなす、Prを含むすべての元素の平均イオン半径をr1とし、Prのイオン半径をr2としたとき、下記式を充足するものである。上記被置換イオンには、La及び/又はGdが含まれることが好ましい。
0.91r2≦r1≦1.05r2
本発明では、Prがドープされた被置換イオンサイトの平均イオン半径r1が、置換イオンであるPrのイオン半径r2に近くなるよう、材料設計を行っている。かかる構成では、被置換イオンがPrに固溶置換されやすく、母体酸化物へのPrドープを容易化することができる。
本発明によれば、Prドープの容易化により、Prの高濃度ドープを実現することができる。本発明によればまた、Prドープの容易化により、蛍光強度等の発光特性に優れたPrドープ無機化合物を提供することができる。
以下、本発明について詳述する。
「Prドープ無機化合物」
本発明のPrドープ無機化合物は、母体酸化物の被置換イオンサイトに含まれる1種又は2種以上の被置換イオンの少なくとも一部をPrで固溶置換してなるPrドープ無機化合物において、
Prがドープされた前記被置換イオンサイトをなす、Prを含むすべての元素の平均イオン半径をr1とし、Prのイオン半径をr2としたとき、下記式を充足することを特徴とするものである。
0.91r2≦r1≦1.05r2
8配位と6配位について、主な3価の希土類イオンのイオン半径r、及びイオン半径rとPrのイオン半径r2とのイオン半径比(=r/r2)を表1に示す(表中、イオン半径rの単位は「Å」である。)。
表1に示す如く、従来提案されているPrドープ無機化合物の母体酸化物の被置換イオンであるLuやYはPrとのイオン半径差が大きく、r/r2<0.91である。r/r2<0.91の被置換イオンでは、Prがドープされた被置換イオンサイトをなす、Prを含むすべての元素の平均イオン半径r1が、上記式を充足することは難しい。
本発明は、母体酸化物が、被置換イオンとしてLu及びYよりもイオン半径がPrに近い元素イオンを含む組成とし、上記式を充足するように設計したものである。具体的には、被置換イオンとして、イオン半径rが0.91r2≦r≦1.05r2を充足するLa及び/又はGdを含むようにすればよい。
Figure 2007186399
本発明では、Prがドープされた被置換イオンサイトの平均イオン半径r1が、置換イオンであるPrのイオン半径r2に近くなるよう、材料設計を行っている。かかる構成では、被置換イオンがPrに固溶置換されやすく、母体酸化物へのPrドープを容易化することができる。被置換イオンサイトのPrによる全置換も可能である。
本発明によれば、Prドープの容易化により、Prの高濃度ドープを実現することができる。本発明によればまた、Prドープの容易化により、蛍光強度等の発光特性に優れたPrドープ無機化合物を提供することができる。
母体酸化物は、被置換イオンとして、LaとGdのうち少なくともLaを含むことが特に好ましい。表1に示す如く、Laは、Prとのイオン半径差がGdより小さく、しかもPrより大きいイオン半径を有するので、Prがより容易に固溶置換する。
本発明者は、後記実施例1及び実施例5の評価において、イオン半径の大きいLaサイトに、イオン半径の小さいPrを固溶置換する系では、Prドープ量の増加に対して格子定数がほぼ線形に変化するベガード則がPrドープ量の広範囲において成立し、Prの高濃度ドープが容易であることを実証している(図6(a)及び図14を参照)。
本発明は、例えばガーネット型化合物に適用可能である。本発明のPrドープガーネット型化合物としては、下記化合物(1)及び(2)が具体的に挙げられる。
(1)下記一般式で表されるガーネット型化合物
一般式:(A13−x−yA2Pr)B12
[式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、C:Cサイトの元素、
A1:La、若しくは、A1:La及びGd、
A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
B:Lu,Sc,Ga,及びAlからなる群より選ばれた1種以上の元素、
C:Ga及びAlからなる群より選ばれた1種以上の元素、
0≦x<3、0<y≦3、0<x+y≦3、
O:酸素]
本発明のガーネット型化合物(1)においては、A1がLaであり、A2がLuであり、BがLu及びGaからなる群より選ばれた1種以上の元素であり、CがGaであるPr:LLGGが好ましい。
本発明者は、上記組成のPr:LLGGでは、0<x<0.7、好ましくは0.2≦x≦0.6において、安定的に良好な単相構造が得られることを見出している(図11(a)を参照)。
本発明者は、上記組成のPr:LLGGでは、0<x≦0.8の広範囲に渡ってPr:YAGと同等レベル以上の蛍光強度が得られることを見出している(図11(b)を参照)。
本発明者は、上記組成のPr:LLGGでは、0<y<1.35において発光性を示し、0<y≦0.3、好ましくは0<y≦0.21において、高い蛍光強度が得られることを見出している(図9を参照)。
本発明のガーネット型化合物(1)においては、A1がLaであり、A2がScであり、BがSc及びGaからなる群より選ばれた1種以上の元素であり、CがGaであるPr:LSGGも好ましい。
本発明者は、A1がLaであり、A2がScであり、BがScであり、CがGaであるPr:LSGGでは、0<x<0.25、好ましくは0.05≦x≦0.2において、安定的に良好な単相構造が得られることを見出している(図17を参照)。本発明者は、かかる組成のPr:LSGGでは、0<y<0.9、好ましくは0<y≦0.6において発光性を示すことを見出している(図16を参照)。本発明者はさらに、Pr:LLGGよりPr:LSGGの方が、より高い蛍光強度が得られることを見出している(図11(b)及び図18を参照)。
(2)下記一般式で表されるガーネット型化合物
一般式:(A13−x−yA2Pr)B12
[式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、C:Cサイトの元素、
A1:La、若しくは、A1:La及びGd、
A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
B:Lu,Sc,Ga,及びAlからなる群より選ばれた2種以上の元素、
C:Ga及びAlからなる群より選ばれた1種以上の元素、
0≦x<3、0<y≦3、0<x+y≦3、
O:酸素]
ガーネット型化合物(2)においては、下記一般式(2a)で表されるPr:LLGGが挙げられる。
一般式:(A13−x−yA2Pr)(B12−zB2)C12・・・(2a)
[式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B1及びB2:Bサイトの元素、C:Cサイトの元素、
A1:La、A2:Lu、B1:Lu、B2:Ga、C:Ga、
0≦x<3、0<y≦3、0<x+y≦3、0<z<2、
O:酸素]
本発明者は、上記組成のPr:LLGG(2a)では、Bサイトに少量のGaが入ることで、BサイトにGaがない組成よりも蛍光強度が増大することを見出している。具体的には、0<z≦0.4の範囲内においてPr:YAGと同等以上の蛍光強度が得られ、特に0.1≦z≦0.3の範囲内においてPr:YAGよりも高い蛍光強度が得られることを見出している(図12を参照)。
本発明者は、上記の本発明のガーネット型化合物(1)及び(2)は、300〜500nmの可視光によって励起され、可視域(400〜700nm)の蛍光を示すことを見出している(図7(a)及び図15(a)を参照)。本発明者はまた、上記の本発明のガーネット型化合物(1)及び(2)は、300nm以下の紫外線又は放射線によって励起され、紫外域〜可視域(250〜700nm)の蛍光を示すことを見出している(図8(a)及び図15(b)を参照)。
本発明は、ガーネット型化合物以外の無機化合物にも適用可能である。ガーネット型以外の本発明のPrドープ化合物としては、下記化合物(3)〜(10)が具体的に挙げられる。
(3)下記一般式で表される化合物
一般式:(A12−x−yA2Pr)O
[式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、
A1:Gd、若しくは、A1:La及びGd、
A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
0≦x<2、0<y≦2、0<x+y≦2、
O:酸素]
(4)下記一般式で表されるC-希土類型化合物
一般式:(A12−x−yA2Pr
[式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、
A1:Gd、若しくは、A1:La及びGd、
A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
0≦x<2、0<y≦2、0<x+y≦2、
O:酸素]
(5)下記一般式で表されるペロブスカイト型化合物
一般式:(A11−x−yA2Pr)BO
[式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、
A1:Gd、若しくは、A1:La及びGd、
A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
B:Sc,Ga,及びAlからなる群より選ばれた1種以上の元素、
0≦x<1、0<y≦1、0<x+y≦1、
O:酸素]
(6)下記一般式で表される化合物
一般式:(A14−x−yA2Pr)B
[式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、
A1:La及びGdからなる群より選ばれた1種以上の元素、
A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
B:Lu,Sc,Gd,及びAlからなる群より選ばれた1種以上の元素、
0≦x<4、0<y≦4、0<x+y≦4、
O:酸素]
(7)下記一般式で表される化合物
一般式:(A11−x−yA2Pr)VO
[式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、
A1:La、若しくは、A1:La及びGd、
A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
0≦x<1、0<y≦1、0<x+y≦1、
V:バナジウム、O:酸素]
(8)下記一般式で表される化合物
一般式:(A12−x−yA2Pr)BO
[式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、
A1:La及びGdからなる群より選ばれた1種以上の元素、
A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
B:Si及びGeからなる群より選ばれた1種以上の元素、
0≦x<2、0<y≦2、0<x+y≦2、
O:酸素]
(9)下記一般式で表される化合物
一般式:(A12−x−yA2Pr)B
[式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、
A1:La及びGdからなる群より選ばれた1種以上の元素、
A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
B:Si及びGeからなる群より選ばれた1種以上の元素、
0≦x<2、0<y≦2、0<x+y≦2、
O:酸素]
(10)下記一般式で表される化合物
一般式:(A11−x−yA2Pr)PO
[式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、
A1:La及びGdからなる群より選ばれた1種以上の元素、
A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
0≦x<1、0<y≦1、0<x+y≦1、
P:リン、O:酸素]
<結晶構造、製造方法>
本発明のPrドープ無機化合物は、単結晶構造でも多結晶構造でもよく、不可避不純物を含むものであってもよい。また、全体が単相であることが好ましいが、特性上支障のない範囲内で異相を含むものであってもよい。本発明のPrドープ無機化合物の形態は、ペレット状、ディスク状、及びロッド状等のバルク体であってもよいし、基板上に成膜された膜であってもよいし、粉末であってもよい。
単結晶構造のPrドープ無機化合物の態様としては、引き上げ法(チョクラルスキー法、CZ法)、融液封止引き上げ法(LEC法)、EFG法、ブリッジマン法(BS法)、ベルヌーイ法、浮遊帯域法(FZ法)、水熱合成法、フラックス法、マイクロ引き下げ法等の単結晶育成法により育成された単結晶体、真空蒸着法・スパッタリング法等の気相堆積法により得られた単結晶膜等が挙げられる。
多結晶構造のPrドープ無機化合物の態様としては、原料粉体が所定の形状に成型されて焼結された多結晶焼結体やその粉砕物、原料溶液から析出反応により得られた多結晶粒子析出物、ゾルゲル法により得られた多結晶体、真空蒸着法・スパッタリング法等の気相堆積法により得られた多結晶膜等が挙げられる。
単結晶体及び多結晶体は、必要に応じて、熱処理や切削、研磨等の機械的加工が施されて、使用される。
多結晶体では、単結晶体に比して組成の設計自由度が高く、Prの高濃度ドープもより容易に実施でき、単結晶では実現できない組成の化合物を製造することも可能である。特に、多結晶焼結体は、高密度化や大型化を低コストに実施でき、好ましい。
白色発光ダイオード用蛍光体、固体レーザ媒質、ファイバアンプ、シンチレータ等の用途に、本発明のPrドープ無機化合物の多結晶焼結体を用いる場合、多結晶焼結体は透光性を有する必要がある。特に、固体レーザ媒質、ファイバアンプ等の用途では、実質的に散乱が認められない程度に透明であることが好ましい。
透光性(透明性)を考慮すれば、多結晶焼結体では、単相構造であることが好ましい。
また、透光性(透明性)を考慮すれば、多結晶焼結体では、複屈折の影響のない立方晶系の結晶構造を有することが好ましい。すなわち、上記で挙げた本発明の化合物(1)〜(10)の中でも、立方晶系の結晶構造を有する化合物、具体的にはガーネット型化合物(1)・(2)及びC-希土類型化合物(4)等が好ましい。C-希土類型化合物(4)は、融点が2000℃を超えるために製造プロセス上の制約が大きく、A-希土類型、B-希土類型等の非立方晶系の結晶構造となる場合もあるので、特に、ガーネット型化合物(1)・(2)が好ましい。
多結晶焼結体では、理論密度同等に高密度であるか、散乱の影響が出ない程度に薄い形状であることが好ましい。
「本発明の発光性組成物」
本発明の発光性組成物は、上記の本発明のPrドープ無機化合物を含むことを特徴とするものである。
本発明の発光性組成物は、本発明のPrドープ無機化合物以外の任意成分を含むことができる。
例えば、本発明の発光性組成物は、粉末状の本発明のPrドープ無機化合物が、(メタ)アクリル系樹脂等の透光性樹脂、ガラス、水、有機溶媒等の媒質に分散されたものなどが挙げられる。かかる組成物を製造するに際しては、粉末状の本発明のPrドープ無機化合物を製造してから上記媒質に分散させてもよいし、上記媒質中で粉末状の本発明のPrドープ無機化合物を析出してもよい。
「発光体」
本発明の発光体は、上記の本発明のPrドープ無機化合物を含み、所定の形状に成形されたものである。
本発明の発光体としては、本発明のPrドープ無機化合物の単結晶体、本発明のPrドープ無機化合物の多結晶焼結体、粉末状の本発明のPrドープ無機化合物が(メタ)アクリル系樹脂等の透光性樹脂やガラス等の固体媒質中に分散された成形体等が挙げられる。
透光性(透明性)を考慮すれば、粉末状の本発明のPrドープ無機化合物が固体媒質中に分散された成形体では、本発明のPrドープ無機化合物の平均粒子径は、光の波長より充分に小さいことが好ましく、100nm以下であることが好ましく、数十nm以下であることが特に好ましい。
本発明の発光体の形状は任意であり、ペレット状、ディスク状、及びロッド状等が挙げられる。粉末状の本発明のPrドープ無機化合物が固体媒質中に分散された発光体では、ファイバ状も可能である。
「発光装置」
本発明の発光装置は、上記の本発明の発光体と、該発光体に励起光を照射する励起光源とを備えたことを特徴とするものである。
図1に基づいて、本発明に係る実施形態の発光装置の構造について説明する。図1は、回路基板2の厚み方向の断面図である。
本実施形態の発光装置1は、円板状の回路基板2の表面中央に、励起光源である発光素子3が実装され、回路基板2上に発光素子3を囲むようにドーム状の発光体5が成形されたものである。
発光体5を励起する励起光を出射する発光素子3は、半導体発光ダイオード等からなり、回路基板2にボンディングワイヤ4を介して導通されている。
本実施形態では、発光体5は、Pr:LLGGやPr:LSGG等の本発明のPrドープ無機化合物の多結晶焼結体の粉砕物が、(メタ)アクリル系樹脂等の透光性樹脂に分散された成形体である。
発光体5は、本発明のPrドープ無機化合物の多結晶焼結体を乳鉢で粉砕して粉砕物を得、この粉砕物と(メタ)アクリル系樹脂等の透光性樹脂とを樹脂溶融状態で混練して混合物を得(例えば、Prドープ無機化合物:PMMA樹脂=3:4(質量比))、発光素子3を実装した回路基板2を金型内に載置して射出成形を実施して、成形することができる。
Pr:LLGGやPr:LSGG等は、300〜500nmの光によって励起されて可視域(400〜700nm)の蛍光を示し、300nm以下の紫外線又は放射線によって励起されて紫外域〜可視域(250〜700nm)の蛍光を示すので、所望の発光波長に応じて、励起光源を選定すればよい。
励起光源である発光素子3としては、GaN,AlGaN,InGaN,InGaNAs,GaNAs等の含窒素半導体化合物を1種又は2種以上含む活性層を備えたナイトライド系半導体発光ダイオード(発振ピーク波長:360〜500nm)、ZnSSe系半導体発光ダイオード(発振ピーク波長:450〜520nm)、ZnO系半導体発光ダイオード(発振ピーク波長:360〜450nm)等が好ましく用いられる。
本実施形態では、発光素子3からの出射光とは異なる色調の光が発光体5から発光され、発光素子3からの出射光と発光体5からの発光とが混ざり合った色の光が発光装置1から出射される。
本実施形態の発光装置1は、本発明のPrドープ無機化合物を含む発光体5を備えたものであるので、蛍光強度等の発光特性に優れたものとなる。発光装置1は、白色発光ダイオード等として好ましく利用することができる。
「固体レーザ装置」
本発明の固体レーザ装置は、上記の本発明のPrドープ無機化合物を含む発光体からなる固体レーザ媒質と、該固体レーザ媒質に励起光を照射する励起光源とを備えたことを特徴とするものである。
図2(a)に基づいて、本発明に係る実施形態の固体レーザ装置の構造について説明する。
本実施形態の固体レーザ装置10は、本発明の化合物を含む発光体からなる固体レーザ媒質13と、固体レーザ媒質13に励起光を照射する励起光源である半導体レーザダイオード11とを備えたレーザダイオード励起固体レーザ装置である。
半導体レーザダイオード11と固体レーザ媒質13との間に集光レンズ12が配置され、固体レーザ媒質13の後段に出力ミラー14が配置されている。
固体レーザ媒質13の励起光入射面13aには、励起波長の光を透過し出力波長の光を反射するコートがなされている。出力ミラー14の光入射面14aには、出力波長の光の一部を透過し、その他の光を反射するコートが施されている。そして、固体レーザ媒質13の励起光入射面13aと出力ミラー14の光入射面14aとの間で、共振器構造が構成されている。
本実施形態において、固体レーザ媒質13は、透明性に優れた、Pr:LLGGやPr:LSGG等の本発明のPrドープ無機化合物の単結晶体又は多結晶焼結体により構成されている。
Pr:LLGGやPr:LSGG等は、300〜500nmの光によって励起されて可視域(400〜700nm)の蛍光を示し、300nm以下の紫外線又は放射線によって励起されて紫外域〜可視域(250〜700nm)の蛍光を示すので、所望の発光波長に応じて、励起光源を選定すればよい。
励起光源である半導体レーザダイオード11としては、GaN,AlGaN,InGaN,InGaNAs,GaNAs等の含窒素半導体化合物を1種又は2種以上含む活性層を備えたナイトライド系半導体レーザダイオード(発振ピーク波長:360〜500nm)、ZnSSe系半導体レーザダイオード(発振ピーク波長:450〜520nm)、ZnO系半導体レーザダイオード(発振ピーク波長:360〜450nm)等が好ましく用いられる。
本実施形態の固体レーザ装置10では、固体レーザ媒質13が半導体レーザダイオード11により励起されて、励起波長とは異なる波長のレーザ光が発振される。
本実施形態の固体レーザ装置10では、固体レーザ媒質13の励起光入射面13aと出力ミラー14の光入射面14aに施すコートを変える、励起光源を変えるなどによって、出力光の波長を変更することができる。
本実施形態の固体レーザ装置10は、本発明のPrドープ無機化合物からなる固体レーザ媒質13を用いたものであるので、高輝度レーザ光を得ることが可能である。
(設計変更例)
本発明の固体レーザ装置は上記実施形態に限らず、装置構成は適宜設計変更可能である。例えば、図2(b)に示す如く、固体レーザ媒質13と出力ミラー14との間に、非線形光学結晶体等の波長変換素子15を配置し、固体レーザ媒質13から発振されたレーザ光を第2高調波等に波長変換(短波長化)して出射させる構成とすることができる。光波長変換素子15は、共振器構造の中に配置しても外に配置してもよい。
上記実施形態では、いわゆるエンドポンプ型について説明したが、サイドポンプ型にも適用可能である。
「ファイバレーザ、ファイバアンプ」
本発明のPrドープ無機化合物の微粒子を、SiO系ガラス、フッ化物系ガラス、カルコゲニド系ガラス、(メタ)アクリル系樹脂等の光ファイバ材料中で析出させることで、本発明のPrドープ無機化合物がかかる媒質中に分散された微粒子分散物が得られる。これをコア材料として用いることで、本発明のPrドープ無機化合物を含むコアを有するPrドープ光ファイバが得られる。
このPrドープ光ファイバに半導体レーザダイオード等の単数又は複数の励起光源を接続することで、ファイバレーザやファイバアンプを構成することができる。かかるファイバレーザやファイバアンプは、本発明のPrドープ無機化合物を含むPrドープ光ファイバを用いているので、高輝度光を得ることが可能である。
「電離放射線検出装置」
本発明の電離放射線検出装置は、上記の本発明のPrドープ無機化合物を含む発光体からなるシンチレータと、該シンチレータから出射される光を検出するシンチレーション光検出器とを備えたことを特徴とするものである。シンチレーション検出器としては、フォトダイオード、光電子増倍管、撮像素子(CCD)等が挙げられる。電離放射線としては、X線やγ線等が挙げられる。
本発明の電離放射線検出装置は、本発明のPrドープ無機化合物を含むシンチレータを備えたものであるので、シンチレータから出射される光の光量を増大させることが可能であり、高感度化が可能である。
本発明の電離放射線検出装置に、必要に応じて電離放射線源(X線源等)、及びデータ処理用コンピュータ等を組み合わせることで、断層撮影装置等を構成することができる。
図3に基づいて、陽電子放射断層撮影装置(PET)の構成例について説明する。図中、符号40が被検体である。被検体40が人体である場合について説明する。
図3(a)は断層撮影装置20を被検体40の頭部側から見た図、図3(b)は断層撮影装置20を被検体40の側方から見た図である。図3(c)は、1ブロックのγ線検出装置22におけるシンチレータ23及び光電子増倍管24の配列パターンを示す図である。
陽電子放射断層撮影装置20を用いた断層撮影では、被検体40にフルオロデオキシグルコース等の陽電子放射剤を摂取させて、被検体40内に陽電子を発生させ、発生した陽電子から発生するγ線25を検出して、断層像を得る。
陽電子放射断層撮影装置20は、多数のγ線検出装置(電離放射線検出装置)22がリング状に配置されてユニット化されたγ線検出ユニット21と、データ処理用コンピュータ(図示略)とから概略構成されている。
被検体40はγ線検出ユニット21の中心に配置され、γ線検出ユニット21に対して体軸方向Dに相対走査可能とされている。
γ線検出ユニット21においては、複数のγ線検出装置22が略円周状に複数配置され、さらに略円周状に複数配置された複数のγ線検出装置22のユニットが、被検体40の体軸方向Dに複数配置されている。γ線検出装置22の個数や配列パターンについては適宜設計できる。例えば、γ線検出装置22は、周方向に100ブロック×体軸方向Dに5ブロック、配置される(図面上は簡略化してある。)。
陽電子放射断層撮影装置20では、γ線検出ユニット21に対して被検体40が体軸方向Dのある相対位置にある時に、被検体40から360°方向に発せられたγ線25を、周方向に配置された複数のγ線検出装置22を含むγ線検出ユニット21により検出することで、この相対位置における断層像を得ることができる。この際、検出される断層数は、例えば2500層である。被検体40をγ線検出ユニット21に対して体軸方向Dに相対走査して、同様に検出を行うことで、3次元断層像を得ることができる。
個々(1ブロック)のγ線検出装置22は、上記の本発明のPrドープ無機化合物を含む発光体からなるシンチレータ23と、シンチレータ23から出射される光を検出する光電子増倍管(シンチレーション光検出器)24とから概略構成されている。陽電子放射断層撮影装置20では、シンチレータ23にγ線25が入射して発生する紫外域〜可視域の光が光電子増倍管24により電気信号に変換されて、検出される。
個々のγ線検出装置22を構成するシンチレータ23及び光電子増倍管24の個数と配列パターンは適宜設計される。図3(c)に示す例では、シンチレータ23が周方向に9個×体軸方向Dに10個アレイ状に配置され、被検体40から見てシンチレータ23の径方向外側に、これら多数のシンチレータ23をほぼ全体的に覆うように、角型2素子24a、24b入りの光電子増倍管24が体軸方向に2個配置されている(図3(b)では配列パターンを簡略化してある。)。
図4(a)に基づいて、X線断層撮影装置の構成例について説明する。図4(a)は、図3(a)に対応する図であり、同じ構成要素には同じ参照符号を付して、説明は省略する。
X線断層撮影装置30は、多数のX線検出装置(電離放射線検出装置)32がリング状に配置されてユニット化されたX線検出ユニット31と、X線源35と、データ処理用コンピュータ(図示略)とから概略構成されている。
被検体40はX線検出ユニット31の中心に配置され、X線検出ユニット31に対して体軸方向に相対走査可能とされている。
X線検出ユニット31においては、複数のX線検出装置32が略円周状に複数配置され、さらに略円周状に複数配置された複数のX線検出装置32のユニットが、被検体40の体軸方向Dに複数配置されている。X線検出装置32の個数や配列パターンについては適宜設計できる。例えば、X線検出装置32は、周方向に100ブロック×体軸方向に5ブロック、配置される(図面上は簡略化してある。)。
X線検出ユニット31と被検体40との間に、周方向回動自在にX線源35が配置されている。
X線断層撮影装置30では、X線源35から被検体40にX線36が照射され、被検体40を透過した透過X線37が、被検体40から見てX線源35と反対側に位置するX線検出装置32により検出される。X線源35及びX線検出ユニット31に対して被検体40が体軸方向のある相対位置にある時に、X線源35を周方向に回動させ、周方向に配置された複数のX線検出装置32を含むX線検出ユニット31により透過X線37を検出することで、この相対位置における断層像を得ることができる。被検体40をX線検出ユニット31及びX線源35に対して体軸方向に相対走査して、同様に検出を行うことで、3次元断層像を得ることができる。
個々(1ブロック)のX線検出装置32の内部構成は、図3に示した陽電子放射断層撮影装置20のγ線検出装置22と同様である。すなわち、個々のX線検出装置32は、上記の本発明のPrドープ無機化合物を含む発光体からなるシンチレータと、シンチレータから出射される光を検出する光電子増倍管(シンチレーション光検出器)とから概略構成されている(図示略、図3(b)及び(c)を参照)。
X線断層撮影装置30では、図4(b)に示す如く、X線検出装置32の数を少なくし、X線検出装置32をX線源35と同期させて周方向に回動させて検出を行う構成としてもよい。
図3及び図4に示した陽電子放射断層撮影装置20及びX線断層撮影装置30は、本発明の電離放射線検出装置を備えたものであるので、高感度に断層像を取得することができる。
本発明の化合物、組成物、及び発光体は、上記用途に限らず、種々の用途に利用することができる。
本発明に係る実施例及び比較例について説明する。
(実施例1)(La2.7−yLu0.3Pr)LuGa12 [0<y≦2.7、Pr:LLGG]
下記手順にて、本発明のガーネット型化合物(1)において、A1がLaであり、A2がLuであり、BがLuであり、CがGaである化合物(Pr:LLGG)の多結晶焼結体を調製した。xを0.3に固定し、y=0.003、0.009、0.018、0.03、0.06、0.09、0.15、0.21、0.30、0.60、0.90、1.35、2.7の計13種の試料を調製した。
はじめに、La粉末(純度99.99%)、Lu粉末(純度99.99%)、Ga粉末(純度99.99%)、及びPr11粉末(純度99.99%)を、所望の組成となるようそれぞれ秤量した。原料粉末組成は、例えばy=0.03では、La粉末43.496g、Lu粉末45.762g、Ga粉末28.117g、及びPr11粉末0.511gとした。
上記の原料粉末とエタノール100mlと混合用のアルミナボールとをポットミルに入れ、12時間湿式混合を行った。アルミナボールを取り除き、得られた混合粉末スラリー中のエタノールをロータリーエバポレータを用いて除去した後、100℃で12時間乾燥し、得られた乾燥粉末を乳鉢で軽くほぐした。得られた乾燥粉末約1.3gを、成型圧100MPaで、径10mmφのペレット状(円柱状、高さは試料によって適宜設定)に一軸圧縮成型した。
得られた圧縮成型体に対して、電気炉にて、大気雰囲気下、500℃/hrで1450℃まで昇温し、同温度で2時間保持し、500℃/hrで1000℃まで冷却し、自然炉冷するという仮焼成プロセスを実施した。
常温まで冷却した仮焼結体をアルミナ乳鉢・アルミナ乳棒を用いて粉砕し、再度、成型圧100MPaで、径10mmφのペレット状(円柱状、高さは試料によって適宜設定)に一軸圧縮成型した。
得られた再圧縮成型体に対して、電気炉にて、大気雰囲気下、500℃/hrで1550℃まで昇温し、同温度で2時間保持し、500℃/hrで1000℃まで冷却し、自然炉冷するという本焼成プロセスを実施し、上記組成の多結晶焼結体(Pr:LLGG)を調製した。
(比較例1)(Y3-yPr)Al12[0<y≦1.5、Pr:YAG]
原料粉末を、Y粉末(純度99.9%)とα−Al粉末(純度99.99%)とPr11粉末(純度99.99%)に変更し、本焼成プロセスの焼成温度を1750℃とした以外は、実施例1と同様にして、Y3-yPrAl12(0<y≦1.5、Pr:YAG)の多結晶焼結体を調製した。y=0.009、0.015、0.024、0.03、0.06、0.09、0.30、1.5の計8種の試料を調製した。
原料粉末組成は、例えばy=0.03では、Y粉末35.533g、α−Al粉末25.490g、及びPr11粉末0.511gとした。
(実施例1及び比較例1の評価)
<粉末X線回折(XRD)測定>
実施例1で調製したPr:LLGG(x=0.3、0<y≦2.7)の多結晶焼結体について各々、アルミナ乳鉢・アルミナ乳棒を用いて粉砕して、リガク社製X線回折装置にて粉末X線回折(XRD)測定を実施し、試料の同定を行った。いずれも(La2.7Lu0.3)LuGa12[ノンドープLLGG]立方晶の既知回折ピーク(Journal of Solid State Chemistry 8,357(1973),PDF#27-0227)とほぼ一致しており、単相構造を有することが確認された。
実施例1で調製したPr:LLGGでは、0<y≦2.7の全範囲に渡って、投入したすべてのPrが母体酸化物中に入って、AサイトのLaがPrに良好に固溶置換されることが明らかとなった。代表として、実施例1で調製したy=0.03のPr:LLGG[(La2.67Lu0.3Pr0.03)LuGa12]のXRDパターンを図5に示しておく。
比較例1で調製したPr:YAGについても、同様にXRD測定を実施した。0<y<0.3の範囲ではYAG立方晶の既知回折ピークがほぼ一致し、単相構造を有することが確認されたが、y=0.3及び1.5では、YAG立方晶の回折ピークに加えて、PrAlO菱面体晶の回折ピークが見られ、異相が存在することが明らかとなった。このことは、Pr:YAGでは、Prドープ量がある範囲を超えると、Pr3+のイオン半径が大きいため、投入したPrの一部は母体酸化物中に入らず、PrAlOとして存在することを示している。
<格子定数>
実施例1及び比較例1で調製した多結晶焼結体について各々、上記XRD測定の結果から格子定数を求めた。すなわち、2θ=100〜150°における回折ピーク値を接線法を用いて得、Nelson−Riley関数を用いて、正確な格子定数を算出した。算出された格子定数を図6(a)、(b)に示す。
実施例1で調製した(La2.7−yLu0.3Pr)LuGa12[0<y≦2.7、Pr:LLGG]では、0<y≦2.7の全範囲に渡ってPrモル数yの増加に対して格子定数がほぼ線形に変化するベガード則が成立し、投入したすべてのPrが母体酸化物中に入って、AサイトのLaがPrに良好に固溶置換されることが明らかとなった。このことは、任意の濃度でPrをドープすることが可能であり、AサイトのLaをすべてPrに固溶置換すること(AサイトのLaをすべてPrに固溶置換した場合、y=2.7)も可能であることが示された。
格子定数がベガード則に従ってほぼ線形に変化することは、ドープしたPrと母体化合物とのマッチングが良好であることを示しており、Pr高濃度ドープにおいても、Pr近傍の格子歪や格子欠陥が非常に少ないことを間接的に示している。格子歪や格子欠陥は、励起された光子の失活の要因となり得るため、格子歪や格子欠陥が非常に少ない実施例1のPr:LLGGは、蛍光強度等の発光特性が良好となる。
ただし、本発明者は、実施例1のPr:LLGGにおいて、y=1.35以上(Prドープ量45モル%以上)では、発光性を示さないことを見出している(図9を参照)。したがって、発光性を要する用途では、0<y<1.35であることが好ましい。
上記実施例1の結果に対して、比較例1で調製したPr:YAGでは、0<y<0.3の範囲内についてはPrモル数yの増加に対して格子定数がほぼ線形に変化するベガード則に従うが、y=0.3及び1.5ではPrモル数yの増加に対して格子定数は横ばいになっている。XRD結果と格子定数の結果から、Pr:YAGでは、y=0.3及び1.5では異相が副生して、投入したPrの一部は母体酸化物中に入らずPrAlOとして存在するため、Prの高濃度ドープが難しいことが示された。
<発光特性>
実施例1及び比較例1で調製した多結晶焼結体について各々、日立分光蛍光光度計F−4500にて、蛍光スペクトル(発光スペクトル)測定を行った。
実施例1で調製した(La2.67Lu0.3Pr0.03)LuGa12 [y=0.03、Pr:LLGG]の蛍光スペクトルを図7(a)及び図8(a)に示す。励起波長λexは励起スペクトルをとったときに2番目に大きい蛍光強度を示す449nmと、最大蛍光強度を示す284nmとした。
励起波長449nm(可視励起)、励起波長284nm(紫外励起)のいずれにおいても、可視域(400〜700nm)全体に渡って多数の蛍光ピークが見られ、484nmに最も強い蛍光ピークが見られた。
比較例1で調製した(Y2.97Pr0.03)Al12(y=0.03、Pr:YAG)の蛍光スペクトルを図7(b)及び図8(b)に示す。励起波長λexは励起スペクトルをとったときに2番目に大きい蛍光強度を示す452nmと、最大蛍光強度を示す292nmとした。
励起波長452nm(可視励起)では、可視域(400〜700nm)全体に渡って多数の蛍光ピークが見られ、487nmに最も強い蛍光ピークが見られた。励起波長292nm(紫外励起)では、可視域全体に渡って多数の蛍光ピークが見られるのに加えて、紫外及び赤〜赤外域にブロードなスペクトルが観測された。
Prモル数y=0.03の条件においては、可視励起では実施例1のPr:LLGGと比較例1のPr:YAGに大きな差は見られなかったが、紫外励起では実施例1のPr:LLGGの方が比較例1のPr:YAGより可視域の蛍光強度が大きいことが明らかとなった。
実施例1で調製した(La2.7−yLu0.3Pr)LuGa12(0<y≦2.7、Pr:LLGG)について、Prモル数yと、励起波長λexを449nmとしたときの484nmにおける蛍光強度との関係を図9に示す。
比較例1で調製した(Y3−yPr)Al12[0<y≦1.5、Pr:YAG]について、Prモル数yと、励起波長λexを452nmとしたときの487nmにおける蛍光強度との関係を図9に示す。
蛍光強度は、比較例1で調製した1.0%Pr:YAG(1.0%はPrドープ量(モル%)を示している。)において、励起波長λexを452nmとしたときの487nmにおける蛍光強度を1としたときの相対値とした。
y≦0.03の低濃度Prドープ領域では、実施例1のPr:LLGGと比較例1のPr:YAGに大きな差は見られず、0<y≦0.03の全範囲に渡って、実施例1のPr:LLGGと比較例1のPr:YAGのいずれも高い蛍光強度を示した。
それよりも高濃度のPrドープ(y>0.03)では、比較例1のPr:YAGでは蛍光強度が急激に減衰する濃度消光現象が顕著に見られた。比較例1のPr:YAGでは、Prを高濃度ドープすると、蛍光強度が急激に減衰し、異相の現れるy≧0.3(Prドープ量≧10モル%)で蛍光強度は0となった。
これに対して、実施例1のPr:LLGGでは濃度消光は緩やかであり、0<y<1.35(Prドープ量0モル%超45モル%未満)の範囲の広範囲に渡って蛍光を示した。実施例1のPr:LLGGでは、Prを高濃度ドープしても、格子歪や格子欠陥が非常に小さく抑えられ、良好な発光特性が得られることが示された。実施例1のPr:LLGGは、Prを高濃度ドープしても濃度消光を起こしにくく、0<y≦0.3、好ましくは0<y≦0.21において、高い蛍光強度が得られることが明らかとなった。Prを高濃度ドープしても濃度消光を起こしにくい実施例1のPr:LLGGは、例えば固体レーザ媒質として用いた場合に励起光の吸収量を増加させることが可能であるなど、有用である。
(参考例1)(La3-xLu)LuGa12[0≦x≦1.5、LLGG]
母体酸化物LLGGにおいて、AサイトのLuモル数xの好適な範囲について検討を行った。原料粉末組成を変える以外は実施例1と同様にして、xを0、0.1、0.2、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、1.0、1.5に変えて、計11種のLLGGの多結晶焼結体を調製した。各多結晶焼結体について、実施例1と同様にXRD測定を実施して、格子定数を求めた。AサイトをなすLuのモル数xと格子定数の関係を図10に示す。
XRD測定と格子定数の結果から、LLGGでは、AサイトにLuが全くないx=0では異相が生じ、AサイトにLuが少量入ると単相構造となり、AサイトのLuモル数xが0.7以上となると異相が生じることが明らかとなった。LLGGでは、AサイトのLuモル数xが0<x<0.7、好ましくは0.1≦x≦0.6を充たすときに、xに対する格子定数はベガード則に良好に従い、安定的にLaとLuとが良好に固溶した単相構造となることが明らかとなった。
(実施例2)PrLuGa12
原料粉末組成を変える以外は実施例1と同様にして、AサイトをPrで全置換した組成のPrLuGa12の多結晶焼結体を調製した。この多結晶焼結体は非発光体である。
得られた多結晶焼結体についてXRD測定を実施したところ、単相構造であった。また、格子定数を求めた結果を、図6(a)に合わせてプロットしておく。
(実施例3)(La2.97−xLuPr0.03)LuGa12[0≦x≦0.8、Pr:LLGG]
実施例1ではAサイトのLuモル数xを0.3に固定して、Prモル数yを変化させたのに対して、実施例3では、Prモル数yを0.03に固定して、AサイトのLuモル数xを変えて、原料粉末組成を変える以外は実施例1と同様にして、複数種のPr:LLGGの多結晶焼結体を調製した。x=0.0、0.1、0.183、0.35、0.367、0.40、0.45、0.50、0.552、0.60、0.736とした。
得られた多結晶焼結体について、実施例1と同様にXRD測定を行った。0<x<0.7、好ましくは0.2≦x≦0.6の範囲で単相構造が得られ、この範囲外では、特性上支障のない範囲であるが若干異相が見られることが明らかとなった。実施例1と同様に格子定数を求めた結果を図11(a)に示す。単相構造が得られる組成の格子定数は12.94〜13.03の範囲内であった。
得られた多結晶焼結体について、実施例1と同様に蛍光スペクトル(発光スペクトル)測定を行った。AサイトのLuモル数xと、励起波長λexを449nmとしたときの484nmにおける蛍光強度との関係を図11(b)に示す。蛍光強度は、比較例1で調製した1.0%Pr:YAGにおいて、励起波長λexを452nmとしたときの487nmにおける蛍光強度を1としたときの相対値とした。
図11(b)に示すように、Pr:LLGGでは、0<x≦0.8の広範囲に渡ってPr:YAGと同等レベル以上の蛍光強度が得られることが明らかとなった。
(実施例4)(La2.67Lu0.3Pr0.03)(Lu2-zGa)Ga12[0≦z≦0.4、Pr:LLGG]
実施例4では、Pr:LLGGにおいて、AサイトのLuモル数xを0.3に固定し、Prモル数yを0.03に固定して、BサイトのLuの一部をGaに固溶置換する系について検討を行った。BサイトのGaモル数zを0≦z≦0.4の範囲内で変えて、原料粉末組成を変える以外は実施例1と同様にして、複数種のPr:LLGGの多結晶焼結体を調製した。z=0、0.1、0.2、0.3、0.4とした。
得られた多結晶焼結体について、実施例3と同様に蛍光スペクトル(発光スペクトル)測定を行った。BサイトのGaモル数zと、励起波長λexを449nmとしたときの484nmにおける蛍光強度との関係を図12に示す。蛍光強度は、1.0%Pr:YAGにおいて、励起波長λexを452nmとしたときの487nmにおける蛍光強度を1としたときの相対値とした。
図12に示すように、実施例4のPr:LLGGでは、0<z≦0.4の範囲内においてPr:YAGと同等以上の蛍光強度が得られ、特に0.1≦z≦0.3の範囲内においてPr:YAGよりも高い蛍光強度が得られることが明らかとなった。すなわち、Pr:LLGGでは、Bサイトに少量のGaが入ることで、蛍光強度が増大することが明らかとなった。
ただし、本発明者は、XRD測定結果から、0.1≦z≦0.3のPr:LLGGでは、特性上支障のない範囲であるが、若干異相が見られることを見出している。
(実施例5)(La2.8−ySc0.2Pr)ScGa12[0<y≦2.8、Pr:LSGG]
本発明のガーネット型化合物(1)において、A1がLaであり、A2がScであり、BがScであり、CがGaである化合物(Pr:LSGG)の多結晶焼結体を調製した。圧縮成型体を作る際の乾燥粉末の質量は約1.0gとした。
xを0.2に固定し、y=0.0015、0.003、0.015、0.03、0.06、0.09、0.15、0.21、0.30、0.45、0.60、0.90、1.35、2.80の計14種の試料を調製した。
原料粉末として、La粉末(純度99.99%)、Sc粉末(純度99.99%)、Ga粉末(純度99.99%)、及びPr11粉末(純度99.99%)を用い、原料粉末組成を変える以外は実施例1と同様にして、多結晶焼結体を調製した。
原料粉末組成は、例えばy=0.03では、La粉末45.125g、Sc粉末15.170g、Ga粉末28.117g、及びPr11粉末0.551 gとした。
得られた多結晶焼結体について、実施例1と同様にXRD測定を行った。いずれも単相構造を有することが確認された。実施例5で調製したPr:LSGGでは、0<y≦2.8の全範囲に渡って、投入したすべてのPrが母体酸化物中に入って、AサイトのLaがPrに良好に固溶置換されることが明らかとなった。代表として、実施例5で調製したy=0.03のPr:LSGG[(La2.77Sc0.2Pr0.03)ScGa12]のXRDパターンを図13に示しておく。
実施例1と同様に格子定数を求めた結果を図14に示す。実施例5で調製した(La2.8−ySc0.2Pr)ScGa12[0<y≦2.8、Pr:LSGG]では、0<y≦2.8の全範囲に渡ってPrモル数yの増加に対して格子定数がほぼ線形に変化するベガード則が成立し、投入したすべてのPrが母体酸化物中に入って、AサイトのLaがPrに良好に固溶置換されることが明らかとなった。このことは、任意の濃度でPrをドープすることが可能であり、AサイトのLaをすべてPrに固溶置換すること(AサイトのLaをすべてPrに固溶置換した場合、y=2.8)も可能であることが示された。
格子定数がベガード則に従ってほぼ線形に変化することは、ドープしたPrと母体化合物とのマッチングが良好であることを示しており、Pr高濃度ドープにおいても、Pr近傍の格子歪や格子欠陥が非常に少ないことを間接的に示している。格子歪や格子欠陥は、励起された光子の失活の要因となり得るため、格子歪や格子欠陥が非常に少ない実施例5のPr:LSGGは、蛍光強度等の発光特性が良好となる。
得られた多結晶焼結体について、実施例1と同様に蛍光スペクトル(発光スペクトル)測定を行った。
代表として、実施例5で調製したy=0.03のPr:LSGG[(La2.77Sc0.2Pr0.03)ScGa12]の蛍光スペクトルを図15(a)、(b)に示しておく。励起波長λexは励起スペクトルをとったときに2番目に大きい蛍光強度を示す449nmと、最大蛍光強度を示す284nmとした。励起波長449nm(可視励起)、励起波長284nm(紫外励起)のいずれにおいても、可視域(400〜700nm)全体に渡って多数の蛍光ピークが見られ、484nmに最も強い蛍光ピークが見られた。
Prのモル数yと、励起波長λexを449nmとしたときの484nmにおける蛍光強度との関係を図16に示す。蛍光強度は、1.0%Pr:YAGにおいて、励起波長λexを452nmとしたときの487nmにおける蛍光強度を1としたときの相対値とした。この図では、Pr:YAGのデータも合わせて図示してある。
図16に示すように、実施例5のPr:LSGGでは、y≧0.9で発光性を示さず、0<y≦0.6で発光性を示した。すなわち、実施例5の組成では、0<y<0.9、好ましくは0<y≦0.6の範囲で発光性を示すことが明らかとなった。また、実施例5のPr:LSGGでは、0<y≦0.6の範囲に渡って、Pr:YAGよりも高い蛍光強度が得られることが明らかとなった。
(実施例6)(La2.97−xScPr0.03)ScGa12[0≦x≦0.5、Pr:LSGG]
実施例5ではAサイトのScモル数xを0.2に固定して、Prモル数yを変化させたのに対して、実施例6では、Prモル数yを0.03に固定して、AサイトのScモル数xを変えて、原料粉末組成を変える以外は実施例5と同様にして、複数種のPr:LSGGの多結晶焼結体を調製した。
x=0.0、0.05、0.10、0.15、0.20、0.25、0.30、0.35、0.40、0.50とした。
得られた多結晶焼結体について、実施例1と同様にXRD測定を行った。0<x<0.25、好ましくは0.05≦x≦0.2の範囲において単相構造が得られ、この範囲外では、特性上支障のない範囲であるが異相が見られることが明らかとなった。実施例1と同様に格子定数を求めた結果を図17に示す。
得られた多結晶焼結体について、実施例1と同様に蛍光スペクトル(発光スペクトル)測定を行った。AサイトのScモル数xと、励起波長λexを449nmとしたときの484nmにおける蛍光強度との関係を図18に示す。蛍光強度は、1.0%Pr:YAGにおいて、励起波長λexを452nmとしたときの487nmにおける蛍光強度を1としたときの相対値とした。0≦x≦0.5の全範囲に渡ってPr:YAGよりも高い蛍光強度が得られ、Pr:YAGの1.5倍以上の蛍光強度が得られることが明らかとなった。図11(b)と図18との比較から明らかなように、Pr:LSGGではPr:LLGGよりもより高い蛍光強度が得られることが明らかとなった。
(実施例7)(La0.99Pr0.01)GaO[Pr:LaGaO]
本発明のペロブスカイト型化合物(5)において、A1がLaであり、A2がなく、BがGaである化合物(Pr:LaGaO)の多結晶焼結体を調製した。原料粉末組成を変える以外は実施例1と同様にして、多結晶焼結体を調製した。
得られた多結晶焼結体について、実施例1と同様にXRD測定を行ったところ、単相構造を有することが確認された。
得られた多結晶焼結体について、実施例1と同様に蛍光スペクトル(発光スペクトル)測定を行った。蛍光スペクトルを図19に示す。励起波長λexは励起スペクトルをとったときに2番目に大きい蛍光強度を示す447nmとした。Pr:LLGG及びPr:LSGGと同様に、可視域(400〜700nm)全体に渡って多数の蛍光ピークが見られた。484nmに2番目に強い蛍光ピークが見られ、496nmに最も強い蛍光ピーク見られた。蛍光強度は、1.0%Pr:YAGと同等以上であった。
本発明のPrドープ無機化合物は、Prドープガーネット型化合物等に好ましく適用できる。本発明の化合物は、白色発光ダイオード用蛍光体、固体レーザ媒質、ファイバアンプ、シンチレータ等の用途に利用することができる。
本発明に係る実施形態の発光装置の構造を示す図 (a)は本発明に係る実施形態の固体レーザ装置の構造を示す図、(b)は設計変更例を示す図 本発明の電離放射線検出装置を備えた断層撮影装置の構成例を示す図 本発明の電離放射線検出装置を備えた断層撮影装置の構成例を示す図 本発明の電離放射線検出装置を備えた断層撮影装置の構成例を示す図 (a)〜(b)は本発明の電離放射線検出装置を備えた断層撮影装置の構成例を示す図 実施例1(Pr:LLGG)のXRDパターン (a)及び(b)は、実施例1(Pr:LLGG)及び比較例1(Pr:YAG)のPrモル数yと格子定数との関係を示す図 (a)及び(b)は、実施例1(Pr:LLGG)及び比較例1(Pr:YAG)の蛍光スペクトル (a)及び(b)は、実施例1(Pr:LLGG)及び比較例1(Pr:YAG)の蛍光スペクトル 実施例1(Pr:LLGG)及び比較例1(Pr:YAG)のPrモル数yと蛍光強度との関係を示す図 参考例1(LLGG)のAサイトのLuモル数xと格子定数との関係を示す図 (a)は実施例3(Pr:LLGG)のAサイトのLuモル数xと格子定数との関係を示す図、(b)は実施例3(Pr:LLGG)のAサイトのLuモル数xと蛍光強度との関係を示す図 実施例4(Pr:LLGG)のBサイトのGaモル数zと蛍光強度との関係を示す図 実施例5(Pr:LSGG)のXRDパターン 実施例5(Pr:LSGG)のPrモル数yと格子定数との関係を示す図 (a)及び(b)は、実施例5(Pr:LSGG)の蛍光スペクトル 実施例5(Pr:LSGG)のPrモル数yと蛍光強度との関係を示す図 実施例6(Pr:LSGG)のAサイトのScモル数xと格子定数との関係を示す図 実施例6(Pr:LSGG)のAサイトのScモル数xと蛍光強度との関係を示す図 実施例7(Pr:LaGaO)の蛍光スペクトル YAGにドープする希土類イオンのイオン半径と偏析係数との関係を示す図
符号の説明
1 発光装置
3 発光素子(励起光源)
5 発光体
10 固体レーザ装置
11 半導体レーザダイオード(励起光源)
13 固体レーザ媒質(発光体)
20、30 断層撮影装置
22 γ線検出装置(電離放射線検出装置)
23 シンチレータ
24 光電子増倍管(シンチレーション光検出器)
32 X線検出装置(電離放射線検出装置)

Claims (27)

  1. 母体酸化物の被置換イオンサイトに含まれる1種又は2種以上の被置換イオンの少なくとも一部をPrで固溶置換してなるPrドープ無機化合物において、
    Prがドープされた前記被置換イオンサイトをなす、Prを含むすべての元素の平均イオン半径をr1とし、Prのイオン半径をr2としたとき、下記式を充足することを特徴とするPrドープ無機化合物。
    0.91r2≦r1≦1.05r2
  2. 前記被置換イオンに、La及び/又はGdが含まれることを特徴とする請求項1に記載のPrドープ無機化合物。
  3. 結晶構造が立方晶系であることを特徴とする請求項1又は2に記載のPrドープ無機化合物。
  4. 下記一般式(1)で表されるガーネット型化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のPrドープ無機化合物。
    一般式:(A13−x−yA2Pr)B12・・・(1)
    [式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、C:Cサイトの元素、
    A1:La、若しくは、A1:La及びGd、
    A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    B:Lu,Sc,Ga,及びAlからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    C:Ga及びAlからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    0≦x<3、0<y≦3、0<x+y≦3、
    O:酸素]
  5. A1がLaであり、A2がLuであり、BがLu及びGaからなる群より選ばれた1種以上の元素であり、CがGaであることを特徴とする請求項4に記載のPrドープ無機化合物。
  6. 0<x<0.7であることを特徴とする請求項5に記載のPrドープ無機化合物。
  7. 0<y<1.35であることを特徴とする請求項5に記載のPrドープ無機化合物。
  8. A1がLaであり、A2がScであり、BがSc及びGaからなる群より選ばれた1種以上の元素であり、CがGaであることを特徴とする請求項4に記載のPrドープ無機化合物。
  9. A1がLaであり、A2がScであり、BがScであり、CがGaであり、0<x<0.25であることを特徴とする請求項8に記載のPrドープ無機化合物。
  10. 0<y<0.9であることを特徴とする請求項9に記載のPrドープ無機化合物。
  11. 下記一般式(2)で表されるガーネット型化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のPrドープ無機化合物。
    一般式:(A13−x−yA2Pr)B12・・・(2)
    [式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、C:Cサイトの元素、
    A1:La、若しくは、A1:La及びGd、
    A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    B:Lu,Sc,Ga,及びAlからなる群より選ばれた2種以上の元素、
    C:Ga及びAlからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    0≦x<3、0<y≦3、0<x+y≦3、
    O:酸素]
  12. 下記一般式(2a)で表されるガーネット型化合物であることを特徴とする請求項11に記載のPrドープ無機化合物。
    一般式:(A13−x−yA2Pr)(B12−zB2)C12・・・(2a)
    [式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B1及びB2:Bサイトの元素、C:Cサイトの元素、
    A1:La、A2:Lu、B1:Lu、B2:Ga、C:Ga、
    0≦x<3、0<y≦3、0<x+y≦3、0<z<2、
    O:酸素]
  13. 0<z≦0.4であることを特徴とする請求項12に記載のPrドープ無機化合物。
  14. 下記一般式(3)で表される化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のPrドープ無機化合物。
    一般式:(A12−x−yA2Pr)O・・・(3)
    [式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、
    A1:Gd、若しくは、A1:La及びGd、
    A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    0≦x<2、0<y≦2、0<x+y≦2、
    O:酸素]
  15. 下記一般式(4)で表されるC-希土類型化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のPrドープ無機化合物。
    一般式:(A12−x−yA2Pr・・・(4)
    [式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、
    A1:Gd、若しくは、A1:La及びGd、
    A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    0≦x<2、0<y≦2、0<x+y≦2、
    O:酸素]
  16. 下記一般式(5)で表されるペロブスカイト型化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のPrドープ無機化合物。
    一般式:(A11−x−yA2Pr)BO・・・(5)
    [式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、
    A1:Gd、若しくは、A1:La及びGd、
    A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    B:Sc,Ga,及びAlからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    0≦x<1、0<y≦1、0<x+y≦1、
    O:酸素]
  17. 下記一般式(6)で表される化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のPrドープ無機化合物。
    一般式:(A14−x−yA2Pr)B・・・(6)
    [式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、
    A1:La及びGdからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    B:Lu,Sc,Gd,及びAlからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    0≦x<4、0<y≦4、0<x+y≦4、
    O:酸素]
  18. 下記一般式(7)で表される化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のPrドープ無機化合物。
    一般式:(A11−x−yA2Pr)VO・・・(7)
    [式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、
    A1:La、若しくは、A1:La及びGd、
    A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    0≦x<1、0<y≦1、0<x+y≦1、
    V:バナジウム、O:酸素]
  19. 下記一般式(8)で表される化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のPrドープ無機化合物。
    一般式:(A12−x−yA2Pr)BO・・・(8)
    [式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、
    A1:La及びGdからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    B:Si及びGeからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    0≦x<2、0<y≦2、0<x+y≦2、
    O:酸素]
  20. 下記一般式(9)で表される化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のPrドープ無機化合物。
    一般式:(A12−x−yA2Pr)B・・・(9)
    [式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、B:Bサイトの元素、
    A1:La及びGdからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    B:Si及びGeからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    0≦x<2、0<y≦2、0<x+y≦2、
    O:酸素]
  21. 下記一般式(10)で表される化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のPrドープ無機化合物。
    一般式:(A11−x−yA2Pr)PO・・・(10)
    [式中、A1、A2、及びPr:Aサイトの元素、
    A1:La及びGdからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    A2:Y,Lu,及びScからなる群より選ばれた1種以上の元素、
    0≦x<1、0<y≦1、0<x+y≦1、
    P:リン、O:酸素]
  22. 請求項1〜21のいずれかに記載のPrドープ無機化合物を含むことを特徴とする発光性組成物。
  23. 請求項1〜21のいずれかに記載のPrドープ無機化合物を含み、所定の形状に成形されたものであることを特徴とする発光体。
  24. 前記Prドープ無機化合物の単結晶体、前記Prドープ無機化合物の多結晶焼結体、粉末状の前記Prドープ無機化合物が固体媒質中に分散された成形体のうちいずれかからなることを特徴とする請求項23に記載の発光体。
  25. 請求項23又は24に記載の発光体と、該発光体に励起光を照射する励起光源とを備えたことを特徴とする発光装置。
  26. 請求項23又は24に記載の発光体からなる固体レーザ媒質と、該固体レーザ媒質に励起光を照射する励起光源とを備えたことを特徴とする固体レーザ装置。
  27. 請求項23又は24に記載の発光体からなるシンチレータと、該シンチレータから出射される光を検出するシンチレーション光検出器とを備えたことを特徴とする電離放射線検出装置。
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