JP2007169380A - 硬化性高屈折率材料及び該硬化性高屈折率材料を用いてなる積層体 - Google Patents

Abstract

【課題】オリゴマー単独の硬化塗膜が２Ｈ以上の鉛筆硬度を有し、かつ表面抵抗値が１０⁹Ω／□以下であり、かつ屈折率が１．５３以上である感光性材料を提供する。
【解決手段】酸無水物基を有する化合物（Ａ）と、酸無水物基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）と、を反応させてなる化合物（Ｃ）にさらに、前記化合物（Ｃ）にビニルエーテル基を有する化合物（Ｇ）を反応させてなる化合物（Ｄ）を含んでなる感光性組成物。
【選択図】なし

Description

本発明は、感光性組成物に関し、さらに詳しくは、鉛筆硬度も高く、帯電防止性能が良好で、高屈折率である透明な塗膜を形成する感光性組成物に関する。本発明の感光性組成物は、レンズ、導波路、光ファイバー、あるいは、低屈折率の層と交互に積層した干渉膜、光学フィルター、ホログラムなどの光学素子などに用いることができる。

近年、高屈折率である透明なオリゴマーが光学用物品で求められている。このような硬化性オリゴマーは、レンズ、導波路、光ファイバー、あるいは、低屈折率の層と交互に積層した干渉膜、光学フィルター、ホログラムなどの光学素子などへの検討が盛んに行われている。（特許文献１−５参照）
これらの用途では高屈折率性以外にもハードコート性など、いろいろな要求物性がある。しかしながら、従来は屈折率を上げるために無機系材料の配合比率を高めて対処していたが、無機系材料の配合比率が高くなるほど有機系材料の利点が発現しにくくなり、ハードコート性は発現させにくくなる。そこでオリゴマー自身の屈折率を上昇させ無機微粒子の配合比を減らす必要がある。さらに、帯電防止性能を持たせることが求められており、そのためには硬化性オリゴマーの表面抵抗値ができるだけ低いものが必要となる。
特開平７−１３４７２号公報 特開平８−２１７８２５号公報 特開平９−２０８５２９号公報 特開平１１−２４０８６４号公報 特開平１０−７３７１８号公報

本発明は、硬化塗膜が２Ｈ以上の鉛筆硬度を有し、かつ表面抵抗値が１０¹⁰Ω／□未満であり、かつ屈折率が１．５３以上である感光性組成物を提供することを目的とする。

本発明は、下記一般式（１）または一般式（２）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）と、
酸無水物基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｃ）に、さらに、
前記化合物（Ｃ）のカルボキシル基と、ビニルエーテル基を有する化合物（Ｇ）のビニルエーテル基とを付加反応させてなる化合物（Ｄ）を含んでなる感光性組成物であり、
感光後の屈折率が、１．５３以上である感光性組成物に関する。

（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子もしくは１価の有機残基を表し、Ｒ３は、２価の有機残基を表し、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に水素原子もしくは１価の有機残基を表す。Ｒ１，Ｒ２は、それぞれが一体となって環を形成しても良い。Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５は、一体となって環を形成してもよい。）

さらに、本発明は、化合物（Ｇ）が、ビニルエーテル基とビニルエーテル基以外の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）である感光性組成物に関する。

さらに、本発明は、酸無水物基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）が、３つ以上の不飽和二重結合を有する化合物（Ｆ）である感光性組成物に関する。

さらに、本発明は、酸無水物基を有する化合物（Ａ）が、２つの酸無水物基を有する化合物（Ｈ）である感光性組成物に関する。

さらに、本発明は、化合物（Ｈ）が、フルオレン骨格を含有する化合物（Ｉ）である感光性組成物に関する。

さらに、本発明は、化合物（Ｂ）の酸無水物基に反応しうる官能基が、水酸基である感光性組成物に関する。

さらに、本発明は、上記記載の感光性組成物が、光重合性開始剤を含む感光性組成物に関する。

さらに、本発明は、下記一般式（１）または一般式（２）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）と、
酸無水物基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｃ）に、さらに、
前記化合物（Ｃ）のカルボキシル基と、ビニルエーテル基を有する化合物（Ｇ）のビニルエーテル基とを付加反応させることを特徴とする感光性組成物の製造方法に関する。

（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子もしくは１価の有機残基を表し、Ｒ３は、２価の有機残基を表し、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に水素原子もしくは１価の有機残基を表す。Ｒ１，Ｒ２は、それぞれが一体となって環を形成しても良い。Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５は、一体となって環を形成してもよい。）

さらに、本発明は、化合物（Ｇ）が、ビニルエーテル基とビニルエーテル基以外の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）である感光性組成物の製造方法に関する。

さらに、本発明は、基材上に、上記記載の感光性組成物を積層してなる積層体に関する。

さらに、本発明は、基材上に、上記記載の感光性組成物を積層する工程と、
前記感光性組成物に光を照射する工程とを含む積層体の製造方法に関する。

本発明により、硬化塗膜が２Ｈ以上の鉛筆硬度を有し、かつ、表面抵抗値が、１０¹⁰Ω／□未満であり、かつ屈折率が１．５３以上を得ることができる感光性組成物、およびそれを用いた積層体を提供することができた。

＜下記一般式（１）または一般式（２）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）＞
化合物（Ａ）は、以下に示すように酸無水物基を有する。これらは、２種以上の混合物であってもよい。

（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子もしくは１価の有機残基を表し、Ｒ３は、２価の有機残基を表し、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に水素原子もしくは１価の有機残基を表す。Ｒ１，Ｒ２は、それぞれが一体となって環を形成しても良い。Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５は、一体となって環を形成してもよい。）

ここで、１価の有機残基とは、脂肪族、芳香族、ヘテロ原子を含む原子団を単独もしくは組み合わせてなる原子団であり、具体的には、アルキル基、シクロアルキル基、アルキルオキシ基などの脂肪族、アリール基などの芳香族の有機残基が挙げられ、これらは、さらに、置換基を有していても良い。

本発明で言う置換基とは、特に、断らない限り、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基、アミノ基、シアノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基などをいう。

２価の有機残基とは、脂肪族、芳香族、ヘテロ原子を含む原子団を単独もしくは組み合わせてなる原子団であり、具体的には、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルキレンオキシ基などの脂肪族、アリーレン基などの芳香族の有機残基が挙げられ、これらは、さらに、置換基を有していても良い。

＜２つの酸無水物基を有する化合物（Ｈ）＞
厳密には、一般式（２）は、一般式（１）に含まれるが、特に好ましい形態として、あえて表記したものである。２つの酸無水物基を有する化合物（Ｈ）は、一般式（２）の範疇に入る。

具体的に、２つの酸無水物基を有する化合物（Ｈ）としては、一般式（２）の化合物が挙げられるが、１分子内に２つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物であれば何でも良く、例えば、テトラカルボン酸二無水物、ヘキサカルボン酸三無水物、ヘキサカルボン酸ニ無水物、無水マレイン酸共重合樹脂などの多価カルボン酸無水物類等が挙げられる。本発明において、これらの化合物を単独使用または併用で使用できる。また、反応中に脱水反応を経由して無水物と成りうるポリカルボン酸、ポリカルボン酸エステル、ポリカルボン酸ハーフエステルなどは、本発明で言う２つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物に含まれる。

さらに詳しく例示すると、テトラカルボン酸二無水物としては、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、新日本理化株式会社製「リカシッドTMTA-C」、「リカシッドMTA-10」、「リカシッドMTA-15」、「リカシッドTMEGシリーズ」、「リカシッドTDA」などが挙げられる。

なかでも、ビフェニル骨格を有するビフェニルテトラカルボン酸二無水物、p-フェニルスチレン-無水マレイン酸共重合樹脂などは、本発明において、ビフェニル骨格を分子内に効率よく導入できる化合物であり、屈折率を上げることができるので特に好ましい。

＜フルオレン骨格を含有する化合物（Ｉ）＞
２つの酸無水物基を有する化合物（Ｈ）の中でもフルオレン骨格を含有する化合物（Ｉ）は、屈折率をより効果的に上げることができる。化合物（Ｉ）は、以下に示すように酸無水物基を有する。これらは、２種以上の混合物であってもよい。

一般式（３）

（式中、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、１価の有機残基を表し、酸無水物基を含有する。Ｒ８，Ｒ９は、それぞれ独立に、水素原子もしくは１価の有機残基を表しＲ６とＲ８，Ｒ７とＲ９は、それぞれが一体となって環を形成しても良い）
ここで、１価の有機残基とは、脂肪族、芳香族、ヘテロ原子を含む原子団を単独もしくは組み合わせてなる原子団であり、具体的には、アルキル基、シクロアルキル基、アルキルオキシ基などの脂肪族、アリール基などの芳香族の有機残基が挙げられ、これらは、さらに、置換基を有していても良い。

本発明で言う置換基とは、特に、断らない限り、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基、アミノ基、シアノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基などをいう。

酸無水物基を含有する化合物としてフルオレン骨格を有する化合物（Ｉ）を使用して感光性材料を合成した場合には、容易に高い屈折率を有する材料を合成することができる。

フルオレン骨格を含有する化合物（Ｉ）として具体的には、
9,9-Bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene Dianhydride、
9,9-Bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]fluorene Dianhydrideなどの多価カルボン酸無水物類等が挙げられる。本発明において、これらの化合物を単独使用または併用で使用できる。また、反応中に脱水反応を経由して無水物と成りうるポリカルボン酸、ポリカルボン酸エステル、ポリカルボン酸ハーフエステルなどは、本発明で言うカルボン酸無水物基を有する化合物に含まれる。

無水マレイン酸共重合樹脂としては、サートマー社製SMAレジンシリーズ、株式会社岐阜セラック製造所製GSMシリーズなどのスチレン-無水マレイン酸共重合樹脂、p-フェニルスチレン-無水マレイン酸共重合樹脂、ポリエチレン-無水マレイン酸などのα-オレフィン-無水マレイン酸共重合樹脂、ダイセル化学工業株式会社製「VEMA」（メチルビニルエ−テルと無水マレイン酸の共重合体）、無水マレイン酸アクリル変性ポリオレフィン（「アウローレンシリーズ」：日本製紙ケミカル株式会社製）、無水マレイン酸共重合アクリル樹脂などが挙げられる。

さらに、酸無水物基を有する化合物（Ａ）としては、一般式（１）の化合物が挙げられるが、具体的に例示すると、
例えば無水フタル酸、無水トリメリット酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルハイミック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルペンタヒドロ無水フタル酸、メチルトリヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロへキセンジカルボン酸無水物、無水ヘット酸、テトラブロモ無水フタル酸などの脂環構造または芳香環構造を有する酸無水物を含む酸無水物が挙げられる。その他酸無水物としては、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸、ブチルコハク酸無水物、ヘキシルコハク酸無水物、オクチルコハク酸無水物、ドデシルコハク酸無水物、ブチルマレイン酸無水物、ペンチルマレイン酸無水物、ヘキシルマレイン酸無水物、オクチルマレイン酸無水物、デシルマレイン酸無水物、ドデシルマレイン酸無水物、ブチルグルタミン酸無水物、ヘキシルグルタミン酸無水物、ヘプチルグルタミン酸無水物、オクチルグルタミン酸無水物、デシルグルタミン酸無水物、ドデシルグルタミン酸無水物などが挙げられる。この中から、１種類もしくは２種類以上の酸無水物を組み合わせて使用することができる。

＜酸無水物基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）＞
酸無水物基に反応しうる官能基としては、水酸基、エポキシ基、アミノ基などが挙げられるが、反応の制御のし易さから、水酸基が特に好ましい。
不飽和二重結合としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、ビニルオキシ基、アリル基、（メタ）アクリロイルフェニル基、ビニルフェニル基、ビニルオキシフェニル基、アリルフェニル基、マレイン酸基、イタコン酸基などが挙げられる。
酸無水物基に反応しうる官能基と２つ以下の不飽和二重結合とを有する化合物としては、
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチル−フタル酸、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、ジヒドロキシアクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレートなどが挙げられる。
＜化合物（Ｂ）が３つ以上の不飽和二重結合を有する化合物（Ｆ）＞
ハードコート性を必要とする用途では、不飽和二重結合の数は、３つ以上が好ましい。
水酸基と３つ以上の不飽和二重結合とを有する化合物としては、公知のものを使用することができる。
例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

＜一般式（１）または一般式（２）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）と、酸無水物基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｃ）＞
化合物（Ｃ）は、前記化合物（Ａ）の酸無水物基と、前記化合物（Ｂ）の酸無水物基に反応しうる官能基とを反応させたものである。無水物基と、無水物基に反応しうる官能基との反応は、周知の条件で容易に反応する。このときの無水物基と官能基とのモル当量比は、５：１〜１：５の範囲で用いられるが、１：１もしくは１：１に近い範囲が好ましい。

＜ビニルエーテル基を有する化合物（Ｇ）＞
ビニルエーテル基を有する化合物（Ｇ）としては、ビニルエーテル基を有する化合物であればなんであってもよい。

ビニルエーテル基を有する化合物の例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブタンジオール-１,４-ジビニルエーテル、ビニルピロリドン、ビニルカプロラクラム、ビニルカルバゾール、ビニル−１−イミダゾール、ジビニルエチレン尿素、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルホルマリン、アリルグリシジルエーテル、アリルクロライド、ｎ−プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−アミルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、エチレングリコールブチルビニルエーテル、トリエチレングリコールメチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ブタン−１，４−ジオール−ジビニルエーテル、ヘキサン−１，６−ジオール−ジビニルエーテル、
安息香酸（４−ビニロキシ）ブチル、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール−ジビニルエーテル、イソフタル酸ジ（４−ビニロキシ）ブチル、コハク酸ジ（４−ビニロキシ）ブチルトリメチロールプロパントリビニルエーテル、グルタル酸ジ（４−ビニロキシ）ブチル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル、ビニル−４−ヒドロキシブチルエーテル、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール−モノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、３−アミノプロピルビニルエーテル、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、トリシクロデカンエポキシビニルエーテル、ポリエステルビニルエーテル等ウレタンビニルエーテル等を挙げることができる。

＜化合物（Ｃ）のカルボキシル基と、ビニルエーテル基を有する化合物（Ｇ）のビニルエーテル基とを付加反応させてなる化合物（Ｄ）＞
化合物（Ｄ）は、前記化合物（Ｃ）のカルボキシル基と、化合物（Ｇ）のビニルエーテル基とを付加反応させたものである。

＜ビニルエーテル基とビニルエーテル基以外の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）＞
ビニルエーテル基とビニルエーテル基以外の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）としてはビニルエーテル基とビニルエーテル基以外の不飽和二重結合とを有する化合物であればなんであってもよい。
ビニルエーテル基以外の不飽和二重結合としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基などが挙げられる。
ビニルエーテル基とビニルエーテル基以外の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）の例としては、２−（２‘−ビニロキシエトキシ）エチルアクリレート、２−（２‘−ビニロキシエトキシ）エチルメタクリレート等が挙げられる。

カルボキシル基とビニルエーテル基の反応を進行させるときには、用いるビニルエーテル基を有する化合物の軟化温度が反応温度範囲よりも低い場合には無溶剤にて行うことができる。また、用いるビニルエーテル基を有する化合物の軟化温度に関わらず適当な溶剤を用いて行うこともできる。この時用いる溶剤としては、ビニルエーテル基、水酸基、有機酸と反応しないものであれば特に制限なく、用いることができる。かかる溶剤としては、例えば、ｎ−ヘキサン、ベンゼンまたはトルエン等の炭化水素系溶剤、アセトン、メチルエチルケトンまたはメチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、酢酸エチルまたは酢酸ブチル等のエステル系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサン等のエーテル系溶剤、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンまたはパークレン等のハロゲン系溶剤、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン等の極性溶剤、シクロヘキサノン、トルエン、アセトン、ベンゼンなどが挙げられる。これらの溶剤は２種類以上を併用しても差し支えない。

さらに、化合物（Ｅ）と併用して、化合物（Ｃ）のカルボキシル基または水酸基と、反応するものであれば、ビニルエーテル基を有さない後述の化合物（Ｊ）または化合物（Ｋ）を反応させても構わない。ここでいう化合物（Ｃ）は、カルボキシル基の他に水酸基を含有する場合がある。それは、化合物（Ｂ）の有する酸無水物基に反応しうる官能基がエポキシ基の場合、化合物（Ｃ）は、カルボキシル基とグリシジル基由来の水酸基とを含有する。

カルボキシル基に反応しうる官能基としては、エポキシ基、オキサゾリン基、またはアミノ基、またはカルボジイミド基、またはイソシアナト基、またはイソチオシアネート基が挙げられる。
また水酸基に反応しうる官能基としては、イソシアナト基、酸ハロゲン化物、酸無水物基、カルボキシル基が挙げられる。
カルボキシル基と反応しうる官能基としては、エポキシ基が特に有用である。
感光性組成物の感光後の硬度を上げるためには、前記化合物（Ｃ）の有する官能基に反応しうる官能基と、重合性二重結合とを有する化合物が有用である。
これらの反応は、無溶剤で行なってもよく、あるいは反応に対して不活性溶剤中で行なってもよい。かかる溶剤としては、例えば、ｎ−ヘキサン、ベンゼンまたはトルエン等の炭化水素系溶剤、アセトン、メチルエチルケトンまたはメチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、酢酸エチルまたは酢酸ブチル等のエステル系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサン等のエーテル系溶剤、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンまたはパークレン等のハロゲン系溶剤、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン等の極性溶剤などが挙げられる。これらの溶剤は２種類以上を併用しても差し支えない。
また、（メタ）アクリル酸の酸ハロゲン化物との反応を行う際には、ハロゲン化水素（例えば、塩化水素など）が副生するので、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）等の有機塩基、あるいは、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、酸化マグネシウム等の無機塩基を脱塩化水素剤として使用してもよい。
以下、さらに、化合物（Ｃ）の有する官能基に反応しうる官能基と重合性二重結合とを有しビニルエーテル基を有さない化合物（Ｊ）と、化合物（Ｃ）の有する官能基に反応しうる官能基を有し、かつ、重合性二重結合とビニルエーテル基を有しない化合物（Ｋ）に分けて説明する。

＜化合物（Ｊ）＞
化合物（Ｃ）のカルボキシル基と、ビニルエーテル基を有する化合物（Ｇ）のビニルエーテル基とを付加反応させてなる化合物（Ｄ）を合成する際に、化合物（Ｃ）の有する官能基に反応しうる官能基と重合性二重結合とを有しビニルエーテル基を有さない化合物（Ｊ）を混合して反応させてもよい。
カルボキシル基と反応しうる官能基と重合性二重結合とを有する化合物としては、公知のものを使用することができる。例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、４ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、グリシジルアリルエーテル、２，３−エポキシ−２−メチルプロピル（メタ）アクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、４−ビニル−１−シクロヘキセン１，２エポキシド、グリシジルシンナメート、1,3−ブタジエンモノエポキサイド、セロキサイド２０００（ダイセル化学工業株式会社製）などが挙げられる。
水酸基と反応しうる官能基と重合性二重結合とを有する化合物としては、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（ＭＯＩ）、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、（メタ）アクリロイルイソシアネート（ＭＡＩ）、イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジルイソシアネート（ＴＭＩ）等がある。また、１，６ージイソシアナトヘキサン、ジイソシアン酸イソホロン、ジイソシアン酸４，４'−ジフェニルメタン、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、２，４−ジイソシアン酸トリレン、ジイソシアン酸トルエン、２，４−ジイソシアン酸トルエン、ジイソシアン酸ヘキサメチレン、ジイソシアン酸４−メチル−ｍ−フェニレン、ナフチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ｐ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のジイソシアン酸エステル化合物と水酸基、カルボキシル基、アミド基含有ビニルモノマーとを等モルで反応せしめた化合物もイソシアン酸エステル化合物として使用することができる。
あるいは、（メタ）アクリル酸の酸ハロゲン化物、ハロプロピオン酸類またはその酸ハロゲン化物などが挙げられる。ハロプロピオン酸類またはその酸ハロゲン化物を使用した際には、生成したハロプロピオン酸エステル化合物を、脱ハロゲン化水素して、（メタ）アクリル酸エステル化合物を製造することにより、感光性組成物の感光後の硬度を上げることができる。

＜化合物（Ｋ）＞
化合物（Ｃ）のカルボキシル基と、ビニルエーテル基を有する化合物（Ｇ）のビニルエーテル基とを付加反応させてなる化合物（Ｄ）を合成する際に、化合物（Ｃ）の有する官能基に反応しうる官能基を有しかつ重合性二重結合とビニルエーテル基を有しない化合物（Ｋ）を混合して反応させてもよい。
カルボキシル基と反応しうる官能基を有しかつ重合性二重結合を有しない化合物としては、公知のものを使用することができる。例えば、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテルなどを挙げることができる。
水酸基と反応しうる官能基を有しかつ重合性二重結合を有しない化合物としては、公知のものを使用することができる。例えば、モノイソシアネートを挙げることができる。モノイソシアネートとしてはメチルイソシアネート、エチルイソシアネート、プロピルイソシアネート、ブチルイソシアネート、オクタデシルイソシアネート、フェニルイソシアネート等が挙げられる。
また、１，６ージイソシアナトヘキサン、ジイソシアン酸イソホロン、ジイソシアン酸４，４'−ジフェニルメタン、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、２，４−ジイソシアン酸トリレン、ジイソシアン酸トルエン、２，４−ジイソシアン酸トルエン、ジイソシアン酸ヘキサメチレン、ジイソシアン酸４−メチル−ｍ−フェニレン、ナフチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ｐ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のジイソシアン酸エステル化合物と水酸基、カルボキシル基、アミド基含有で不飽和二重結合を有さない化合物を等モルで反応せしめた化合物もイソシアン酸エステル化合物として使用することができる。

＜触媒＞
化合物（Ｃ）と、化合物（Ｊ）および／または化合物（Ｋ）とを反応させる場合、必要に応じて、アミン類等の触媒を添加して行っても良い。使用される触媒としては公知の触媒を使用することができる。触媒は、以下の化合物が挙げられる。触媒の好ましい具体例を以下に示すが、本発明は、これらに何ら限定されるものではない。

（１）３級アミン類及び／又はその塩類トリエチルアミン、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、Ｎ−メチルピペラジン等
（２）イミダゾール類及び／又はその塩類２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、2,4−ジシアノ−６−[２−メチルイミダゾリル−（１）]−エチル−Ｓ−トリアジン等

（３）ジアザビシクロ化合物類
1,5−ジアザビシクロ［5.4.0］−７−ウンデカン、1,5−ジアザビシクロ［4.3.0］−５−ノネン、1,4−ジアビシクロ［2.2.2］オクタン等
（４）ホスフィン類
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（ジメトキシフェニル）ホスフィン、トリス（ヒドロキシプロピル）ホスフィン、トリス（シアノエチル）ホスフィン等
（５）ホスホニウム塩類
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレート等

化合物（Ｊ）および／または化合物（Ｋ）と触媒の配合割合は、化合物（Ｊ）および／または化合物（Ｋ）１００重量部に対し、触媒が０.０１〜１０重量部である。触媒が０.０１重量部未満であると反応が遅くなり、１０重量部を越えると硬化物の耐水性が低下するため好ましくない。

化合物（Ｃ）と化合物（Ｊ）および／または化合物（Ｋ）とを反応させる場合、化合物（Ｊ）および／または化合物（Ｋ）の軟化温度が反応温度範囲よりも低い場合には無溶剤にて行うことができる。また、用いる化合物（Ｊ）および／または化合物（Ｋ）の軟化温度に関わらず適当な溶剤を用いて行うこともできる。この時用いる溶剤としては、化合物（Ｃ）、化合物（Ｊ）および化合物（Ｋ）と反応しないものであれば特に制限なく、用いることができる。例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、アセトン、ベンゼン等の公知の溶剤を使用できる。

本発明の感光性組成物には、必要に応じて、バインダー樹脂、不飽和化合物、光重合開始剤などを添加できる。バインダー樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は、重合性不飽和二重結合が導入されていてもよい。重合性不飽和二重結合の導入方法はどのようなものであっても構わない。これらの樹脂を単独で添加しても良いし、他の樹脂を含む、複数の樹脂を混合して添加しても良い。

不飽和化合物としては、例えば、（メタ）アクリレート系化合物としては、アルキル系（メタ）アクリレート、アルキレングリコール系（メタ）アクリレート等が例示できる。

更に具体的に例示すると、アルキル系（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、イコシル（メタ）アクリレート、ヘンイコシル（メタ）アクリレート、ドコシル（メタ）アクリレート等の炭素数1〜２２のアルキル（メタ）アクリレートがあり、極性の調節を目的とする場合には好ましくは炭素数2〜10、さらに好ましくは炭素数2〜8のアルキル基を有するアルキル基含有アクリレートまたは対応するメタクリレートが挙げられる。レベリング性の調節等を目的とする場合には炭素数６以上が好ましい。

また、アルキレングリコール系(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）等、
末端に水酸基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタアクリレート等、
メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、末端にアルコキシ基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタアクリレート等、
フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレートなど末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキシアルキレン系アクリレートまたは対応するメタアクリレートがある。

カルボキシル基含有不飽和化合物としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、テレフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等を例示することが出来る。

水酸基含有不飽和化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、４-ヒドロキシビニルベンゼンなどが挙がられる。

窒素含有不飽和化合物としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ペントキシメチル−（メタ）アクリルアミドなどのモノアルキロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−メチロール−Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−メトキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−プロポキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（プロポキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（メトキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ペントキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−（ペントキシメチル）メタアクリルアミドなどのジアルキロール（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系不飽和化合物、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレートメチルエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物および対イオンとしてＣｌ^-，Ｂｒ^-，Ｉ^-等のハロゲンイオンまたはＱＳＯ₃ ^-（Ｑ：炭素数1〜12アルキル基）を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合物の4級アンモニウム塩を例示できる。

更にその他の不飽和化合物としては、パーフルオロメチルメチル（メタ）アクリレート、パーフルオロエチルメチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロブチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロプロピルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルアミル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルウンデシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基を有するパーフルオロアルキルアルキル（メタ）アクリレート類；パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル、アルキレン類等のパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-（メタ）ア
クリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体、グリシジルアクリレート、３、４-エポキシシクロヘキシルアクリレートなどのグリシジル基含有アクリレートなどを挙げることができ、これらの群から複数用いることができる。

脂肪酸ビニル化合物としては、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ヘキサン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリル酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等が挙げられる。
アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。

α−オレフィン化合物としては、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン等が挙げられる。
ビニル化合物としては、酢酸アリル、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α-メチルスチレン、2-メチルスチレン、クロロスチレン、などが挙げられる。
エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等が挙げられる。これらは単独もしくは２種類以上を併用して使用することもできる。

さらに、少なくとも１つの重合性二重結合を有する化合物であり、多官能性
のものとしては具体的に下記のものを挙げることができる。

先ず、重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物の内、非ハロゲン系脂肪族系化合物を例示する。具体的には、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビス（アクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、ビス（メタクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート：日本化薬製カヤラッドＲ−１６７、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート：日本化薬製カヤラッドＨＸシリーズなどのアルキル型（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジ（メタ）アクリレート：長瀬産業デナコールＤＡ（Ｍ）−８１１、エピクロルヒドリン変性ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート：長瀬産業デナコールＤＡ（Ｍ）−８５１、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性プロレングリコールジ（メタ）アクリレート：長瀬産業デナコールＤＡ（Ｍ）−９１１などのアルキレングリコール型（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート：日本化薬製カヤラッドＲ−６０４、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート：サートマーＳＲ−４５４、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート：日本化薬製ＴＰＡ−３１０、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート：長瀬産業ＤＡ（Ｍ）−３２１などのトリメチロールプロパン型（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート：東亜合成アロニックスＭ−２３３、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート類：日本化薬製カヤラッドＤ−３１０，３２０，３３０など、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート類：日本化薬製カヤラッドＤＰＣＡ−２０，３０，６０，１２０などのペンタエリスリトール型（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート：長瀬産業デナコールＤＡ（Ｍ）−３１４、トリグリセロールジ（メタ）アクリレートなどのグリセロール型（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、トリシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート：山陽国策パルプＣＡＭ−２００などの脂環式（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート：東亜合成アロニックスＭ−３１５、トリス（メタクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（メタクリロキシエチル）イソシアヌレートなどのイソシアヌレート型（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

また、脂肪族基からのみ構成される重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物の内、硫黄原子をさらに分子内に含有する化合物を例示する。１，３−プロパンジオールジチオ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジチオ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジチオ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジチオ（メタ）アクリレート、ビス（チオアクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、ビス（チオメタクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールジチオ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジチオ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジチオ（メタ）アクリレートなどのアルキル型チオ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性ジエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性プロレングリコールジチオ（メタ）アクリレートなどのアルキレングリコール型チオ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジチオ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレートなどのトリメチロールプロパン型チオ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリチオ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラチオ（メタ）アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジチオ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサチオ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタチオ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールポリチオ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールポリチオ（メタ）アクリレート類などペンタエリスリトール型チオ（メタ）アクリレート、グリセロールジチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリチオ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジチオ（メタ）アクリレートなどのグリセロール型チオ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジチオ（メタ）アクリレート、トリシクロペンタニルジチオ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジチオ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジチオ（メタ）アクリレートなどの脂環式チオ（メタ）アクリレート、トリス（チオアクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（チオメタクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（チオアクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（チオメタクリロキシエチル）イソシアヌレートなどのイソシアヌレート型チオ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらは単独あるいは複数混合して用いても良い。

芳香族ポリヒドロキシ化合物としては、例えば、ヒドロキノン、レゾルシン、カテコール、ピロガロール等のジあるいはポリ（メタ）アクリレート化合物、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチ（プロピ）レンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エチ（プロピ）レンオキサイド変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、エチ（プロピ）レンオキサイド変性ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性フタル酸ジ（メタ）アクリレートなどの芳香族基を有する（メタ）アクリレート化合物、テトラクロロビスフェノールＳエチ（プロピ）レンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＳエチ（プロピ）レンオキシド変性ジ（メタ）アクリレートなどの塩素以上の原子量を持つハロゲン原子で置換された芳香族基を有するスチレン類および（メタ）アクリレート化合物などが挙げられる。

ウレタンアクリレートとしては、例えば、フェニルグリシジルエーテルアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＡＨ−６００、フェニルグリシジルエーテルアクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＡＴ−６００、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ―３０６Ｈ、フェニルグリシジルエーテルアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＡＩ−６００、グリセリンジメタクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ−１０１Ｔ、グリセリンジメタクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ−１０１Ｉ、ペンタエリスリトールトリアクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ―３０６Ｔ、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ―３０６Ｉなどが挙げられる。

＜感光性組成物の感光後の屈折率＞
本発明の感光性組成物は、感光後の、すなわち、光照射後の屈折率が、１．５３以上であることが、必要である。そのために、化合物（Ａ）および化合物（Ｇ）の一方、好ましくは両方が、芳香族化合物であることが好ましい。

＜光重合開始剤＞
光重合開始剤は、紫外線により感光性組成物を硬化させる場合に添加される。なお、電子線により硬化させる場合には開始剤は特に必要ではない。
光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。

具体的にモノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、4-メチル-ベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、メチル-o-ベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、4-(4-メチルフェニルチオ)フェニル-エネタノン、3,3'-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、4-(1,3-アクリロイル-1,4,7,10,13-ペンタオキソトリデシル)ベンゾフェノン、3,3'4,4'-テトラ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-N,N,N-トリメチルベンゼンメタアンモニウムクロリド、2-ヒドロキシ-3-(4-ベンゾイル-フェノキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、4-ベンゾイル-N,N-ジメチル-N-[2-(1-オキソ-2-プロペニルオキシエチル)メタアンモニウム臭酸塩、2-/4-iso-プロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、2-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメチル-9-オキソ-9Hチオキサントン-2-イロキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン-3-メチルナフト(1,2-d)チアゾリン等が挙げられる。
ジカルボニル化合物としては、1,7,7-トリメチル-ビシクロ[2.1.1]ヘプタン-2,3-ジオン、ベンザイル、2-エチルアントラキノン、9,10-フェナントレンキノン、メチル-α-オキソベンゼンアセテート、4-フェニルベンザイル等が挙げられる。

アセトフェノン化合物としては、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-ジ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-スチリルプロパン-1-オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2,2-ジエトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノ-フェニル)ブタン-1-オン、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)オキシム、3,6-ビス(2-メチル-2-モルホリノ-プロパノニル)-9-ブチルカルバゾール等が挙げられる。

ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-n-プロピルフェニル-ジ(2,6-ジクロロベンゾイル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。

アミノカルボニル化合物としては、メチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、エチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-nブトキシエチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、イソアミル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、4,4'-ビス-4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4'-ビス-4-ジエチルアミノベンゾフェノン、2,5'-ビス-(4-ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン等が挙げられる。

これらは上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があればどのようなものでも構わない。これらは単独使用または併用することができ、使用量に制限はないが、被硬化物の乾燥重量の合計１００重量部に対して１〜２０重量部の範囲で添加されるのが好ましい。また、増感剤として公知の有機アミンを加えることもできる。

＜有機溶剤＞
本発明の硬化性組成物は、有機溶剤を含まない硬化性組成物としても、有機溶剤を含む硬化性組成物としても用いることができる。
有機溶剤を含む場合には、各種基材に塗布し、前記有機溶剤を揮発させた後に硬化に必要な紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射すればよい。
本発明の被覆剤に用いられる有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。具体的には、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、トルエン、メチルプロピレングリコールアセテート等が挙げられる。

＜その他＞
この他、本発明の感光性組成物には目的を損なわない範囲で任意成分として、さらに溶剤、染料、酸化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤、球状フィラー等を添加することができる。

本発明の感光性組成物は、公知のラジエーション硬化方法により硬化させ硬化物とすることができ、活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、４００〜５００ｎｍの可視光を使用することができる。
照射する電子線の線源には熱電子放射銃、電界放射銃等が使用できる。また、紫外線および４００〜５００ｎｍの可視光の線源（光源）には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。具体的には、点光源であること、輝度の安定性から、超高圧水銀ランプ、キセノン水銀ランプが用いられることが多い。照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲で適時設定できるが、工程上管理しやすい５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲であることが好ましい。
また、これら紫外線または電子線と、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。

本発明の感光性組成物は、基材に塗工後、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行っても良いし、塗工に続いてラジエーション硬化させた後に自然または強制乾燥しても構わないが、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化した方が好ましい。電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害又は有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行うのが好ましい。ラジエーション硬化のタイミングは塗工と同時でも構わないし、塗工後でも構わない。

以下に製造例、実施例をもって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、重量平均分子量はＧＰＣにより測定された標準ポリスチレン換算分子量を示す。
また、特に断らない限り、数字は重量基準で記載した。

合成例１
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学株式会社製）５０．０ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）１５６．０、ヒドロキノン０．１０ｇ（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン１３７．３ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）１．０３ｇを加え、８５℃で８時間撹拌し、２−（２‘−ビニロキシエトキシ）エチルアクリレート（株式会社日本触媒製、商品名：ＦＸ−ＶＥＥＡ）６３．３ｇ、シクロヘキサノン４３．０ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ７９０、重量平均分子量ＭＷ１，８３０であった。

合成例２
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに４，４‘−（９−フルオレニリデン）ビス無水フタル酸（ＪＦＥケミカル株式会社製、商品名：ＢＰＡＦ）５０．０ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）１００．１、ヒドロキノン０．０８ｇ（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン１００．１ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）０．７５ｇを加え、８５℃で８時間撹拌し、２−（２‘−ビニロキシエトキシ）エチルアクリレート（株式会社日本触媒製、商品名：ＦＸ−ＶＥＥＡ）４０．６ｇ、シクロヘキサノン２７．６ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）１．２１ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ７５０、重量平均分子量ＭＷ１，５７０であった。

合成例３
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに４，４‘−（９−フルオレニリデン）ビス無水フタル酸（ＪＦＥケミカル株式会社製、商品名：ＢＰＡＦ）４０．０ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）１４２．９、ヒドロキノン０．０９ｇ（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン１２２．０ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）０．９１ｇを加え、８５℃で８時間撹拌し、２−（２‘−ビニロキシエトキシ）エチルアクリレート（株式会社日本触媒製、商品名：ＦＸ−ＶＥＥＡ）３２．５ｇ、シクロヘキサノン２２．３ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）１．４７ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ７３０、重量平均分子量ＭＷ１，４３０であった。

合成例４
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学株式会社製）２３．９ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）７４．６、ヒドロキノン０．０５ｇ（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン６５．６ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）０．４９ｇを加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）２０．８ｇ、シクロヘキサノン１４．２ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）０．７９ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、２−（２‘−ビニロキシエトキシ）エチルアクリレート（株式会社日本触媒製、商品名：ＦＸ−ＶＥＥＡ）７．２ｇ、シクロヘキサノン０．５ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）０．９４ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ７６０、重量平均分子量ＭＷ３，６１０であった。

合成例５
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学株式会社製）２３．９ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）７４．６、ヒドロキノン０．０５ｇ（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン６５．６ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）０．４９ｇを加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）２０．８ｇ、シクロヘキサノン１４．２ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）０．７９ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、２−（２‘−ビニロキシエトキシ）エチルアクリレート（株式会社日本触媒製、商品名：ＦＸ−ＶＥＥＡ）１４．４ｇ、シクロヘキサノン５．２ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）０．９４ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ７１０、重量平均分子量ＭＷ３，６３０であった。

合成例６
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに４，４‘−（９−フルオレニリデン）ビス無水フタル酸（ＪＦＥケミカル株式会社製、商品名：ＢＰＡＦ）５０．０ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）１００．１、ヒドロキノン０．０８ｇ（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン１００．１ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）０．７５ｇを加え、８５℃で８時間撹拌し、２−ヒドロキシブチルビニルエーテル（丸善石油株式会社製、商品名：ＨＢＶＥ）２５．３ｇ、シクロヘキサノン１７．４ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）１．２１ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ８００、重量平均分子量ＭＷ１，７５０であった。

合成例７
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに無水ピロメリット酸（株式会社日本触媒製）５０．０ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業株式会社、商品名：ビスコート＃３００）２１０．５、ヒドロキノン０．１３ｇ（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン１７３．７ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）１．３０ｇを加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）６５．２ｇ、トルエン２１９．２ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）２．１０ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ１，０６０、重量平均分子量ＭＷ３，０７０であった。

実施例１
合成例１で得られたオリゴマー溶液にメチルイソブチルケトンを加えて粘度が１０〜１００ｍＰａ・Ｓになるように調整した。このオリゴマー溶液１００重量部に対して光重合開始剤イルカギュア１８４を５重量部加え、ＰＥＴフィルムにバーコーダーで乾燥塗膜が５μｍになるように塗工し、１００℃−２分乾燥し、メタルハライドランプで４００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、塗工物を作製した。室温で１週間経過したものを以下の測定に用いた。

実施例２〜６
合成例２〜６で得られたオリゴマー溶液を用いて、実施例１と同様に塗工物を作成した。

比較例１
合成例７で得られたオリゴマー溶液を用いて、実施例１と同様に塗工物を作成した。

＜ハードコート用途評価＞
＜屈折率＞
上記塗工物の屈折率は、アッベ屈折計（アタゴ株式会社）を用いて測定した。屈折率は表１のようになった。

＜鉛筆硬度＞
鉛筆硬度はJIS K 5400 8.4.2に従って試験を行った。
鉛筆硬度は表１のようになった。

＜表面抵抗値＞
デジタル超高抵抗／微少電流計Ｒ８３４０（株式会社アドバンテスト製）を用いて塗工物の表面抵抗値を測定した。尚、６×１０¹⁰（Ω／□）を「６Ｅ＋１０」と表現する。
表面抵抗値が
１０¹⁰Ω／□より低いものを○
１０¹⁰Ω／□以上のものを×
と判定した。

Claims (11)

1. 下記一般式（１）または一般式（２）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）と、
   酸無水物基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｃ）に、さらに、
   前記化合物（Ｃ）のカルボキシル基と、ビニルエーテル基を有する化合物（Ｇ）のビニルエーテル基とを付加反応させてなる化合物（Ｄ）を含んでなる感光性組成物であり、
   感光後の屈折率が、１．５３以上である感光性組成物。
   

   

   一般式（１）
   SHAPE \* MERGEFORMAT
   
   一般式（２）
   SHAPE \* MERGEFORMAT
   （式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子もしくは１価の有機残基を表し、Ｒ３は、２価の有機残基を表し、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に水素原子もしくは１価の有機残基を表す。Ｒ１，Ｒ２は、それぞれが一体となって環を形成しても良い。Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５は、一体となって環を形成してもよい。）
2. 化合物（Ｇ）が、ビニルエーテル基とビニルエーテル基以外の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）である請求項１記載の感光性組成物。
3. 酸無水物基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）が、３つ以上の不飽和二重結合を有する化合物（Ｆ）である請求項１または２記載の感光性組成物。
4. 酸無水物基を有する化合物（Ａ）が、２つの酸無水物基を有する化合物（Ｈ）である請求項１〜３いずれか記載の感光性組成物。
5. 化合物（Ｈ）が、フルオレン骨格を含有する化合物（Ｉ）である請求項４記載の感光性組成物。
6. 化合物（Ｂ）の酸無水物基に反応しうる官能基が、水酸基である請求項１〜５いずれか記載の感光性組成物。
7. さらに、光重合性開始剤を含む請求項１〜６いずれか記載の感光性組成物。
8. 下記一般式（１）または一般式（２）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）と、
   酸無水物基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｃ）に、さらに、
   前記化合物（Ｃ）のカルボキシル基と、ビニルエーテル基を有する化合物（Ｇ）のビニルエーテル基とを付加反応させることを特徴とする感光性組成物の製造方法。
   

   

   一般式（１）
   SHAPE \* MERGEFORMAT
   
   一般式（２）
   SHAPE \* MERGEFORMAT
   （式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子もしくは１価の有機残基を表し、Ｒ３は、２価の有機残基を表し、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に水素原子もしくは１価の有機残基を表す。Ｒ１，Ｒ２は、それぞれが一体となって環を形成しても良い。Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５は、一体となって環を形成してもよい。）
9. 化合物（Ｇ）が、ビニルエーテル基とビニルエーテル基以外の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）である請求項８記載の感光性組成物の製造方法。
10. 基材上に、請求項１〜７いずれか記載の感光性組成物を積層してなる積層体。
11. 基材上に、請求項１〜７いずれか記載の感光性組成物を積層する工程と、
    前記感光性組成物に光を照射する工程とを含む積層体の製造方法。