JP2005239925A - 硬化性高屈折率材料及び該硬化性高屈折率材料を用いてなる積層体 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、樹脂単独で高い屈折率を有し、かつ十分な鉛筆硬度を有する感光性材料を提供することを目的とする。
【解決手段】
エポキシ基と反応する官能基（ａ）、臭素化ベンゼン環、および重合性二重結合を有する化合物（Ｃ'）と、
エポキシ基と重合性二重結合と有する化合物（Ｄ）と、
を反応させることを特徴とする硬化性高屈折率材料の製造方法。
エポキシ基と反応する官能基（ａ）、臭素化ベンゼン環、および重合性二重結合を有する化合物（Ｃ'）が、
臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）と、水酸基と重合性二重結合とを有する化合物（Ｂ）とを反応させたものである上記硬化性高屈折率材料の製造方法。
【解決手段】
エポキシ基と反応する官能基（ａ）、臭素化ベンゼン環、および重合性二重結合を有する化合物（Ｃ'）と、
エポキシ基と重合性二重結合と有する化合物（Ｄ）と、
を反応させることを特徴とする硬化性高屈折率材料の製造方法。
エポキシ基と反応する官能基（ａ）、臭素化ベンゼン環、および重合性二重結合を有する化合物（Ｃ'）が、
臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）と、水酸基と重合性二重結合とを有する化合物（Ｂ）とを反応させたものである上記硬化性高屈折率材料の製造方法。
Description
本発明は、光硬化性があり、鉛筆硬度も高く、高屈折率である透明な硬化性材料に関する。本発明の硬化性樹脂は、レンズ、導波路、光ファイバー、あるいは、低屈折率の層と交互に積層した干渉膜、光学フィルター、ホログラムなどの光学素子などに用いることができる。
近年、高屈折率である透明な樹脂が光学用物品で求められている。このような硬化性樹脂は、レンズ、導波路、光ファイバー、あるいは、低屈折率の層と交互に積層した干渉膜、光学フィルター、ホログラムなどの光学素子などへの検討が盛んに行われている。（特許文献１−５参照）
これらの用途では高屈折率性以外にもハードコート性など、いろいろな要求物性がある。しかしながら、従来は屈折率を上げるために無機系材料の配合比率を高めて対処していたが、無機系材料の配合比率が高くなるほど有機系材料の利点が発現しにくくなり、ハードコート性は発現させにくくなる。そこで樹脂自身の屈折率を上昇させ無機微粒子の配合比を減らす必要がある。
特開平７−１３４７２号公報
特開平８−２１７８２５号公報
特開平９−２０８５２９号公報
特開平１１−２４０８６４号公報
特開平１０−７３７１８号公報
これらの用途では高屈折率性以外にもハードコート性など、いろいろな要求物性がある。しかしながら、従来は屈折率を上げるために無機系材料の配合比率を高めて対処していたが、無機系材料の配合比率が高くなるほど有機系材料の利点が発現しにくくなり、ハードコート性は発現させにくくなる。そこで樹脂自身の屈折率を上昇させ無機微粒子の配合比を減らす必要がある。
本発明は、樹脂単独で高い屈折率を有し、かつ十分な鉛筆硬度を有する感光性材料を提供することを目的とする。
すなわち、本発明は、エポキシ基と反応する官能基（ａ）、臭素化ベンゼン環、および重合性二重結合を有する化合物（Ｃ'）と、
エポキシ基と重合性二重結合と有する化合物（Ｄ）と、
を反応させることを特徴とする硬化性高屈折率材料の製造方法に関する。
エポキシ基と重合性二重結合と有する化合物（Ｄ）と、
を反応させることを特徴とする硬化性高屈折率材料の製造方法に関する。
また、本発明は、エポキシ基と反応する官能基（ａ）、臭素化ベンゼン環、および重合性二重結合を有する化合物（Ｃ'）が、
臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）と、水酸基と重合性二重結合とを有する化合物（Ｂ）とを反応させたものである請求項１記載の硬化性高屈折率材料の製造方法に関する。
臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）と、水酸基と重合性二重結合とを有する化合物（Ｂ）とを反応させたものである請求項１記載の硬化性高屈折率材料の製造方法に関する。
また、本発明は、上記製造方法で製造されてなる硬化性高屈折率材料に関する。
また、本発明は、高屈折率材料が、厚さ５μｍの塗膜としたときの屈折率が１．５７以上であって、かつ、鉛筆硬度がＨ以上である上記硬化性高屈折率材料に関する。
また、本発明は、上記硬化性高屈折率材料と、少なくとも１つの重合性二重結合を有する化合物（Ｅ）と含んでなる硬化性組成物に関する。
また、本発明は、上記硬化性組成物を、硬化させてなる硬化物に関する。
本発明により、樹脂単独で高い屈折率を有し、かつ十分な鉛筆硬度を有する感光性材料を提供することができた。
＜エポキシ基と反応する官能基（ａ）、臭素化ベンゼン環、および重合性二重結合を有する化合物（Ｃ'）＞
化合物（Ｃ'）は、エポキシ基と反応する官能基（ａ）と、臭素化ベンゼン環と、重合性二重結合とを有する。
エポキシ基と反応する官能基（ａ）としては、例えば、カルボキシル基、水酸基、アミノ基が挙げられる。
臭素化ベンゼン環は、ベンゼン環に臭素原子が置換しているもので、ベンゼン環は、ナフタレン環などの縮合環であってもよい。また、臭素原子は、１つであっても、２つ以上であってもよい。
化合物（Ｃ'）は、エポキシ基と反応する官能基（ａ）と、臭素化ベンゼン環と、重合性二重結合とを有する。
エポキシ基と反応する官能基（ａ）としては、例えば、カルボキシル基、水酸基、アミノ基が挙げられる。
臭素化ベンゼン環は、ベンゼン環に臭素原子が置換しているもので、ベンゼン環は、ナフタレン環などの縮合環であってもよい。また、臭素原子は、１つであっても、２つ以上であってもよい。
化合物（Ｃ'）は、例えば、臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）と、水酸基と重合性二重結合とを有する化合物（Ｂ）とを反応させて得ることができる。
＜臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）＞
臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）は、臭素化フタル酸、もしくは、臭素化フタル酸の誘導体である。
臭素化フタル酸の誘導体としては、例えば、一般式（１）もしくは（２）で表される化合物が挙げられる。
一般式（１）
臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）は、臭素化フタル酸、もしくは、臭素化フタル酸の誘導体である。
臭素化フタル酸の誘導体としては、例えば、一般式（１）もしくは（２）で表される化合物が挙げられる。
一般式（１）
（式中のＲ1〜Ｒ4はＨかＢｒか１価の有機残基かであるが、少なくとも一つはＢｒである。）
本発明でいう１価の有機残基とは、炭素原子、水素原子、ヘテロ原子を含む脂肪族または芳香族の原子団を単独もしくは組み合わせてなる原子団であり、具体的には、アルキル基、シクロアルキル基、アルキルオキシ基などの脂肪族、アリール基などの芳香族の有機残基が挙げられる。
本発明でいう１価の有機残基とは、炭素原子、水素原子、ヘテロ原子を含む脂肪族または芳香族の原子団を単独もしくは組み合わせてなる原子団であり、具体的には、アルキル基、シクロアルキル基、アルキルオキシ基などの脂肪族、アリール基などの芳香族の有機残基が挙げられる。
一般式（１）で示される臭素化フタル酸の誘導体は市販品として入手できる。例えば、テトラブロモ無水フタル酸（グレートレイクスケミカル株式会社製、商品名：ＰＨＴ４）が挙げられる。
一般式（２）
（式中のＲ1〜Ｒ4はＨかＢｒか１価の有機残基かであるが、少なくとも一つはＢｒである。Ｒ5は少なくとも一つの水酸基、カルボキシル基、アミノ基のいづれかを有する１価の有機残基である。）
一般式（２）で示される臭素化フタル酸の誘導体としては、例えば、臭素化フタル酸モノメチルエステル、臭素化フタル酸モノエチルエステル等が挙げられる。
一般式（２）で示される臭素化フタル酸の誘導体としては、例えば、臭素化フタル酸モノメチルエステル、臭素化フタル酸モノエチルエステル等が挙げられる。
その他の臭素化フタル酸の誘導体として、臭素化フタル酸、臭素化フタル酸イミド、臭素化フタル酸アミド、臭素化フタル酸ハロゲン化物、臭素化フタル酸ジエステルが挙げられる。
＜水酸基と重合性二重結合とを有する化合物（Ｂ）＞
水酸基と重合性二重結合とを有する化合物（Ｂ）としては水酸基と重合性二重結合とを共に有する化合物として、公知のものを使用することができる。例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチル−フタル酸、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、などが挙げられる。
水酸基と重合性二重結合とを有する化合物（Ｂ）としては水酸基と重合性二重結合とを共に有する化合物として、公知のものを使用することができる。例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチル−フタル酸、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、などが挙げられる。
臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）と、水酸基と重合性二重結合とを有する化合物（Ｂ）とを反応させてなる化合物（Ｃ）は臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）がカルボキシル基を有する際には水酸基と反応して、エステル結合を生成する。臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）が酸無水物基を有する際には水酸基と反応して、エステル結合とカルボキシル基を生成する。
その他、エステル交換反応や、酸アミド交換反応などを経て、エステル結合などを形成して化合物（Ｃ）が形成されることもある。
臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）と水酸基と重合性二重結合とを有する化合物（Ｂ）との反応は、公知の技術を用いて合成することができる。
化合物（Ｃ’）は、エポキシ基と反応しうる官能基（ａ）を有する必要があるため、臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）として、一般式（１）もしくは（２）で表される化合物を用いると、反応物である化合物（Ｃ）がそのまま、化合物（Ｃ’）として用いることができる。
しかし、化合物（Ｃ）では、エポキシ基と反応しうる官能基（ａ）を有していなくても、その後の官能基変換・導入で、カルボキシル基、水酸基、アミノ基などが有することができれば、それも化合物（Ｃ’）として用いることができる。
その他、エステル交換反応や、酸アミド交換反応などを経て、エステル結合などを形成して化合物（Ｃ）が形成されることもある。
臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）と水酸基と重合性二重結合とを有する化合物（Ｂ）との反応は、公知の技術を用いて合成することができる。
化合物（Ｃ’）は、エポキシ基と反応しうる官能基（ａ）を有する必要があるため、臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）として、一般式（１）もしくは（２）で表される化合物を用いると、反応物である化合物（Ｃ）がそのまま、化合物（Ｃ’）として用いることができる。
しかし、化合物（Ｃ）では、エポキシ基と反応しうる官能基（ａ）を有していなくても、その後の官能基変換・導入で、カルボキシル基、水酸基、アミノ基などが有することができれば、それも化合物（Ｃ’）として用いることができる。
＜エポキシ基と重合性二重結合と有する化合物（Ｄ）＞
エポキシ基と重合性二重結合と有する化合物（Ｄ）としては、エポキシ基と重合性二重結合とを共に有する化合物として、公知のものを使用することができる。例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、４ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、グリシジルアリルエーテル、２，３−エポキシ−２−メチルプロピル（メタ）アクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、４−ビニル−１−シクロヘキセン１，２エポキシドなどが挙げられる。
エポキシ基と重合性二重結合と有する化合物（Ｄ）としては、エポキシ基と重合性二重結合とを共に有する化合物として、公知のものを使用することができる。例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、４ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、グリシジルアリルエーテル、２，３−エポキシ−２−メチルプロピル（メタ）アクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、４−ビニル−１−シクロヘキセン１，２エポキシドなどが挙げられる。
本発明の硬化性高屈折率材料は、化合物（Ｃ’）が有するエポキシ基と反応する官能基（ａ）と、化合物（Ｄ）が有するエポキシ基とを反応させることができる。
エポキシ基と反応する官能基（ａ）としては水酸基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。
カルボキシル基がエポキシ基と反応すると、エポキシ基が開裂し、水酸基とエステル結合が生成する。
水酸基がエポキシ基と反応すると、エポキシ基が開裂し、水酸基とエーテル結合が生成する。
アミノ基がエポキシ基と反応するとエポキシ基が開裂し、水酸基とアミノ基が生成する。
エポキシ基と反応する官能基（ａ）としては水酸基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。
カルボキシル基がエポキシ基と反応すると、エポキシ基が開裂し、水酸基とエステル結合が生成する。
水酸基がエポキシ基と反応すると、エポキシ基が開裂し、水酸基とエーテル結合が生成する。
アミノ基がエポキシ基と反応するとエポキシ基が開裂し、水酸基とアミノ基が生成する。
＜触媒＞
エポキシ基と反応する官能基（ａ）とエポキシ基との反応を進行させるときには、必要に応じて、アミン類等の触媒を添加して行っても良い。使用される触媒としたは公知の触媒を使用することができる。触媒は、以下の化合物が挙げられる。触媒の好ましい具体例を以下に示すが、本発明は、これらに何ら限定されるものではない。
エポキシ基と反応する官能基（ａ）とエポキシ基との反応を進行させるときには、必要に応じて、アミン類等の触媒を添加して行っても良い。使用される触媒としたは公知の触媒を使用することができる。触媒は、以下の化合物が挙げられる。触媒の好ましい具体例を以下に示すが、本発明は、これらに何ら限定されるものではない。
（１）３級アミン類及び／又はその塩類トリエチルアミン、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、Ｎ−メチルピペラジン等
（２）イミダゾール類及び／又はその塩類２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、2,4−ジシアノ−６−[２−メチルイミダゾリル−（１）]−エチル−Ｓ−トリアジン等
（２）イミダゾール類及び／又はその塩類２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、2,4−ジシアノ−６−[２−メチルイミダゾリル−（１）]−エチル−Ｓ−トリアジン等
（３）ジアザビシクロ化合物類
1,5−ジアザビシクロ［5.4.0］−７−ウンデカン、1,5−ジアザビシクロ［4.3.0］−５−ノネン、1,4−ジアビシクロ［2.2.2］オクタン等
（４）ホスフィン類
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（ジメトキシフェニル）ホスフィン、トリス（ヒドロキシプロピル）ホスフィン、トリス（シアノエチル）ホスフィン等
（５）ホスホニウム塩類
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレート等
1,5−ジアザビシクロ［5.4.0］−７−ウンデカン、1,5−ジアザビシクロ［4.3.0］−５−ノネン、1,4−ジアビシクロ［2.2.2］オクタン等
（４）ホスフィン類
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（ジメトキシフェニル）ホスフィン、トリス（ヒドロキシプロピル）ホスフィン、トリス（シアノエチル）ホスフィン等
（５）ホスホニウム塩類
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレート等
本発明で用いられるエポキシ樹脂と触媒の配合割合は、エポキシ樹脂１００重量部に対し、触媒が０.０１〜１０重量部である。触媒が０.０１重量部未満であると反応が遅くなり、１０重量部を越えると硬化物の耐水性が低下するため好ましくない。
エポキシ基と反応する官能基（ａ）とエポキシ基の反応を進行させるときには、用いるエポキシ樹脂の軟化温度が反応温度範囲よりも低い場合には無溶剤にて行うことができる。また、用いるエポキシ樹脂の軟化温度に関わらず適当な溶剤を用いて行うこともできる。この時用いる溶剤としては、エポキシ基、水酸基、有機酸と反応しないものであれば特に制限なく、用いることができる。例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、アセトン、ベンゼン等の公知の溶剤を使用できる。
本発明の感光性材料には、必要に応じて、バインダー樹脂、不飽和化合物、光重合開始剤などを添加できる。バインダー樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂などに重合性不飽和二重結合を導入したものが挙げられる。重合性不飽和二重結合の導入方法はどのようなものであっても構わない。これらの樹脂を単独で添加しても良いし、他の樹脂を含む、複数の樹脂を混合して添加しても良い。
＜少なくとも１つの重合性二重結合を有する化合物（Ｅ）＞
少なくとも１つの重合性二重結合を有する化合物（Ｅ）としては、公知のものを使用することができる。
例えば、（メタ）アクリレート系化合物としては、アルキル系（メタ）アクリレート、アルキレングリコール系（メタ）アクリレート等が例示できる。
少なくとも１つの重合性二重結合を有する化合物（Ｅ）としては、公知のものを使用することができる。
例えば、（メタ）アクリレート系化合物としては、アルキル系（メタ）アクリレート、アルキレングリコール系（メタ）アクリレート等が例示できる。
更に具体的に例示すると、アルキル系（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、イコシル（メタ）アクリレート、ヘンイコシル（メタ）アクリレート、ドコシル（メタ）アクリレート等の炭素数1〜２２のアルキル（メタ）アクリレートがあり、極性の調節を目的とする場合には好ましくは炭素数2〜10、さらに好ましくは炭素数2〜8のアルキル基を有するアルキル基含有アクリレートまたは対応するメタクリレートが挙げられる。レベリング性の調節等を目的とする場合には炭素数６以上が好ましい。
また、アルキレングリコール系(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）等、末端に水酸基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタアクリレート等、
メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、末端にアルコキシ基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタアクリレート等、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレートなど末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキシアルキレン系アクリレートまたは対応するメタアクリレートがある。
カルボキシル基含有不飽和化合物としてはマレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、テレフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等を例示することが出来る。
上記以外の水酸基含有不飽和化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、４-ヒドロキシビニルベンゼンなどが挙がられる。
窒素含有不飽和化合物としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ペントキシメチル−（メタ）アクリルアミドなどのモノアルキロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−メチロール−Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−メトキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−プロポキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（プロポキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（メトキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ペントキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−（ペントキシメチル）メタアクリルアミドなどのジアルキロール（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系不飽和化合物、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレートメチルエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物および対イオンとしてＣｌ-，Ｂｒ-，Ｉ-等のハロゲンイオンまたはＱＳＯ3 -（Ｑ：炭素数1〜12アルキル基）を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合物の4級アンモニウム塩を例示できる。
更にその他の不飽和化合物としては、パーフルオロメチルメチル（メタ）アクリレート、パーフルオロエチルメチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロブチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロプロピルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルアミル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルウンデシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基を有するパーフルオロアルキルアルキル（メタ）アクリレート類；パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル、アルキレン類等のパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-（メタ）ア
クリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体、グリシジルアクリレート、３、４-エポキシシクロヘキシルアクリレートなどのグリシジル基含有アクリレートなどを挙げることができ、これらの群から複数用いることができる。
クリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体、グリシジルアクリレート、３、４-エポキシシクロヘキシルアクリレートなどのグリシジル基含有アクリレートなどを挙げることができ、これらの群から複数用いることができる。
脂肪酸ビニル化合物としては、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ヘキサン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリル酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等が挙げられる。
アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。
アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。
α−オレフィン化合物としては、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン等が挙げられる。
ビニル化合物としては、酢酸アリル、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α-メチルスチレン、2-メチルスチレン、クロロスチレン、などが挙げられる。
エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等が挙げられる。これらは単独もしくは２種類以上を併用して使用することもできる。
ビニル化合物としては、酢酸アリル、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α-メチルスチレン、2-メチルスチレン、クロロスチレン、などが挙げられる。
エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等が挙げられる。これらは単独もしくは２種類以上を併用して使用することもできる。
少なくとも１つの重合性二重結合を有する化合物（Ｅ）の多官能のものとしては具体的に下記のものを挙げることができる。
先ず、重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物の内、非ハロゲン系脂肪族系化合物を例示する。具体的には、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビス（アクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、ビス（メタクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート：日本化薬製カヤラッドＲ−１６７、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート：日本化薬製カヤラッドＨＸシリーズなどのアルキル型（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジ（メタ）アクリレート：長瀬産業デナコールＤＡ（Ｍ）−８１１、エピクロルヒドリン変性ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート：長瀬産業デナコールＤＡ（Ｍ）−８５１、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性プロレングリコールジ（メタ）アクリレート：長瀬産業デナコールＤＡ（Ｍ）−９１１などのアルキレングリコール型（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート：日本化薬製カヤラッドＲ−６０４、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート：サートマーＳＲ−４５４、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート：日本化薬製ＴＰＡ−３１０、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート：長瀬産業ＤＡ（Ｍ）−３２１などのトリメチロールプロパン型（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート：東亜合成アロニックスＭ−２３３、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート類：日本化薬製カヤラッドＤ−３１０，３２０，３３０など、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート類：日本化薬製カヤラッドＤＰＣＡ−２０，３０，６０，１２０などのペンタエリスリトール型（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート：長瀬産業デナコールＤＡ（Ｍ）−３１４、トリグリセロールジ（メタ）アクリレートなどのグリセロール型（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、トリシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート：山陽国策パルプＣＡＭ−２００などの脂環式（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート：東亜合成アロニックスＭ−３１５、トリス（メタクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（メタクリロキシエチル）イソシアヌレートなどのイソシアヌレート型（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
また、脂肪族基からのみ構成される重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物の内、硫黄原子をさらに分子内に含有する化合物を例示する。１，３−プロパンジオールジチオ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジチオ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジチオ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジチオ（メタ）アクリレート、ビス（チオアクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、ビス（チオメタクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールジチオ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジチオ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジチオ（メタ）アクリレートなどのアルキル型チオ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性ジエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性プロレングリコールジチオ（メタ）アクリレートなどのアルキレングリコール型チオ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジチオ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレートなどのトリメチロールプロパン型チオ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリチオ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラチオ（メタ）アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジチオ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサチオ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタチオ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールポリチオ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールポリチオ（メタ）アクリレート類などペンタエリスリトール型チオ（メタ）アクリレート、グリセロールジチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリチオ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジチオ（メタ）アクリレートなどのグリセロール型チオ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジチオ（メタ）アクリレート、トリシクロペンタニルジチオ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジチオ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジチオ（メタ）アクリレートなどの脂環式チオ（メタ）アクリレート、トリス（チオアクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（チオメタクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（チオアクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（チオメタクリロキシエチル）イソシアヌレートなどのイソシアヌレート型チオ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらは単独あるいは複数混合して用いても良い。
芳香族ポリヒドロキシ化合物、例えば、ヒドロキノン、レゾルシン、カテコール、ピロガロール等のジあるいはポリ（メタ）アクリレート化合物、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチ（プロピ）レンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エチ（プロピ）レンオキサイド変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、エチ（プロピ）レンオキサイド変性ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性フタル酸ジ（メタ）アクリレートなどの芳香族基を有する（メタ）アクリレート化合物、テトラクロロビスフェノールＳエチ（プロピ）レンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＳエチ（プロピ）レンオキシド変性ジ（メタ）アクリレートなどの塩素以上の原子量を持つハロゲン原子で置換された芳香族基を有するスチレン類および（メタ）アクリレート化合物などが挙げられる。
ウレタンアクリレート、例えば、フェニルグリシジルエーテルアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＡＨ−６００、フェニルグリシジルエーテルアクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＡＴ−６００、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ―３０６Ｈ、フェニルグリシジルエーテルアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＡＩ−６００、グリセリンジメタクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ−１０１Ｔ、グリセリンジメタクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ−１０１Ｉ、ペンタエリスリトールトリアクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ―３０６Ｔ、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ―３０６Ｉなどが挙げられる。
＜光重合開始剤＞
光重合開始剤は、紫外線により感光性組成物を硬化させる場合に添加される。なお、電子線により硬化させる場合には開始剤は特に必要ではない。
光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。
光重合開始剤は、紫外線により感光性組成物を硬化させる場合に添加される。なお、電子線により硬化させる場合には開始剤は特に必要ではない。
光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。
具体的にモノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、4-メチル-ベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、メチル-o-ベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、4-(4-メチルフェニルチオ)フェニル-エネタノン、3,3'-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、4-(1,3-アクリロイル-1,4,7,10,13-ペンタオキソトリデシル)ベンゾフェノン、3,3'4,4'-テトラ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-N,N,N-トリメチルベンゼンメタアンモニウムクロリド、2-ヒドロキシ-3-(4-ベンゾイル-フェノキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、4-ベンゾイル-N,N-ジメチル-N-[2-(1-オキソ-2-プロペニルオキシエチル)メタアンモニウム臭酸塩、2-/4-iso-プロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、2-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメチル-9-オキソ-9Hチオキサントン-2-イロキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン-3-メチルナフト(1,2-d)チアゾリン等が挙げられる。
ジカルボニル化合物としては、1,7,7-トリメチル-ビシクロ[2.1.1]ヘプタン-2,3-ジオン、ベンザイル、2-エチルアントラキノン、9,10-フェナントレンキノン、メチル-α-オキソベンゼンアセテート、4-フェニルベンザイル等が挙げられる。
ジカルボニル化合物としては、1,7,7-トリメチル-ビシクロ[2.1.1]ヘプタン-2,3-ジオン、ベンザイル、2-エチルアントラキノン、9,10-フェナントレンキノン、メチル-α-オキソベンゼンアセテート、4-フェニルベンザイル等が挙げられる。
アセトフェノン化合物としては、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-ジ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-スチリルプロパン-1-オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2,2-ジエトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノ-フェニル)ブタン-1-オン、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)オキシム、3,6-ビス(2-メチル-2-モルホリノ-プロパノニル)-9-ブチルカルバゾール等が挙げられる。
ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-n-プロピルフェニル-ジ(2,6-ジクロロベンゾイル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-n-プロピルフェニル-ジ(2,6-ジクロロベンゾイル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。
アミノカルボニル化合物としては、メチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、エチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-nブトキシエチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、イソアミル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、4,4'-ビス-4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4'-ビス-4-ジエチルアミノベンゾフェノン、2,5'-ビス-(4-ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン等が挙げられる。
これらは上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があればどのようなものでも構わない。これらは単独使用または併用することができ、使用量に制限はないが、被硬化物の乾燥重量の合計１００重量部に対して１〜２０重量部の範囲で添加されるのが好ましい。また、増感剤として公知の有機アミンを加えることもできる。
＜有機溶剤＞
本発明の硬化性組成物は、有機溶剤を含まない硬化性組成物としても、有機溶剤を含む硬化性組成物としても用いることができる。
有機溶剤を含む場合には、各種基材に塗布し、前記有機溶剤を揮発させた後に硬化に必要な紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射すればよい。
本発明の被覆剤に用いられる有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。具体的には、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、トルエン、メチルプロピレングリコールアセテート等が挙げられる。
本発明の硬化性組成物は、有機溶剤を含まない硬化性組成物としても、有機溶剤を含む硬化性組成物としても用いることができる。
有機溶剤を含む場合には、各種基材に塗布し、前記有機溶剤を揮発させた後に硬化に必要な紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射すればよい。
本発明の被覆剤に用いられる有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。具体的には、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、トルエン、メチルプロピレングリコールアセテート等が挙げられる。
＜その他＞
この他、本発明の感光性組成物には目的を損なわない範囲で任意成分として、さらに溶剤、染料、酸化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤、球状フィラー等を添加することができる。
この他、本発明の感光性組成物には目的を損なわない範囲で任意成分として、さらに溶剤、染料、酸化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤、球状フィラー等を添加することができる。
本発明の感光性組成物は、公知のラジエーション硬化方法により硬化させ硬化物とすることができ、活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、４００〜５００ｎｍの可視光を使用することができる。
照射する電子線の線源には熱電子放射銃、電界放射銃等が使用できる。また、紫外線および４００〜５００ｎｍの可視光の線源（光源）には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。具体的には、点光源であること、輝度の安定性から、超高圧水銀ランプ、キセノン水銀ランプが用いられることが多い。照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪの範囲で適時設定できるが、工程上管理しやすい５０〜１０００ｍＪの範囲であることが好ましい。
また、これら紫外線または電子線と、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。
照射する電子線の線源には熱電子放射銃、電界放射銃等が使用できる。また、紫外線および４００〜５００ｎｍの可視光の線源（光源）には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。具体的には、点光源であること、輝度の安定性から、超高圧水銀ランプ、キセノン水銀ランプが用いられることが多い。照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪの範囲で適時設定できるが、工程上管理しやすい５０〜１０００ｍＪの範囲であることが好ましい。
また、これら紫外線または電子線と、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。
本発明の感光性樹脂組成物は、基材に塗工後、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行っても良いし、塗工に続いてラジエーション硬化させた後に自然または強制乾燥しても構わないが、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化した方が好ましい。電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害又は有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行うのが好ましい。ラジエーション硬化のタイミングは塗工と同時でも構わないし、塗工後でも構わない。
以下に製造例、実施例をもって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、重量平均分子量はＧＰＣにより測定された標準ポリスチレン換算分子量を示す。
また、特に断らない限り、数字は重量基準で記載した。
また、特に断らない限り、数字は重量基準で記載した。
合成例１
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにテトラブロモ無水フタル酸（グレートレイクスケミカル株式会社製、商品名：ＰＨＴ４）１００．０ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業株式会社、商品名：ビスコート＃３００）１２８．６ｇ、ヒドロキノン０．１１ｇ（和光純薬工業株式会社製）を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）１．１４ｇを加え、８５℃で１０時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３３．４ｇ、トルエン２９．３ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）１．８４ｇを加え、８５℃で２時間撹拌し、室温まで冷却したのちトルエン１４７．３ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ７００、重量平均分子量ＭＷ８８０であった。
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにテトラブロモ無水フタル酸（グレートレイクスケミカル株式会社製、商品名：ＰＨＴ４）１００．０ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業株式会社、商品名：ビスコート＃３００）１２８．６ｇ、ヒドロキノン０．１１ｇ（和光純薬工業株式会社製）を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）１．１４ｇを加え、８５℃で１０時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３３．４ｇ、トルエン２９．３ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）１．８４ｇを加え、８５℃で２時間撹拌し、室温まで冷却したのちトルエン１４７．３ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ７００、重量平均分子量ＭＷ８８０であった。
合成例２
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにテトラブロモ無水フタル酸（グレートレイクスケミカル株式会社製、商品名：ＰＨＴ４）１００．０ｇ、アクリル酸２−ヒドロキシエチル（日本触媒株式会社製）５０．０ｇ、ヒドロキノン０．０８ｇ（和光純薬工業株式会社製）を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）０．７５ｇを加え、８５℃で１０時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（日本触媒株式会社製）グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）２０．１ｇ、トルエン２０．２ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）１．２１ｇを加え、８５℃で２時間撹拌し、室温まで冷却したのちトルエン１０１．６ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ５３０、重量平均分子量ＭＷ６４０であった。
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにテトラブロモ無水フタル酸（グレートレイクスケミカル株式会社製、商品名：ＰＨＴ４）１００．０ｇ、アクリル酸２−ヒドロキシエチル（日本触媒株式会社製）５０．０ｇ、ヒドロキノン０．０８ｇ（和光純薬工業株式会社製）を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）０．７５ｇを加え、８５℃で１０時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（日本触媒株式会社製）グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）２０．１ｇ、トルエン２０．２ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）１．２１ｇを加え、８５℃で２時間撹拌し、室温まで冷却したのちトルエン１０１．６ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ５３０、重量平均分子量ＭＷ６４０であった。
合成例３
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにテトラブロモ無水フタル酸（グレートレイクスケミカル株式会社製、商品名：ＰＨＴ４）１００．０ｇ、アロニックスＭ−２１５（東亞合成株式会社製）１５９．１ｇ、ヒドロキノン０．１３ｇ（和光純薬工業株式会社製）を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）１．３０ｇを加え、８５℃で１０時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３０．６ｇ、トルエン３２．４ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）２．０８ｇを加え、８５℃で２時間撹拌し、室温まで冷却したのちトルエン１６３．１ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ５７０、重量平均分子量ＭＷ６６０であった。
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにテトラブロモ無水フタル酸（グレートレイクスケミカル株式会社製、商品名：ＰＨＴ４）１００．０ｇ、アロニックスＭ−２１５（東亞合成株式会社製）１５９．１ｇ、ヒドロキノン０．１３ｇ（和光純薬工業株式会社製）を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）１．３０ｇを加え、８５℃で１０時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３０．６ｇ、トルエン３２．４ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）２．０８ｇを加え、８５℃で２時間撹拌し、室温まで冷却したのちトルエン１６３．１ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ５７０、重量平均分子量ＭＷ６６０であった。
合成例４
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにテトラブロモ無水フタル酸（グレートレイクスケミカル株式会社製、商品名：ＰＨＴ４）１００．０ｇ、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート（共栄社化学株式会社製、ライトエステルＧ−２０１Ｐ）９２．３ｇ、ヒドロキノン０．１０ｇ（和光純薬工業株式会社製）を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）０．９６ｇを加え、８５℃で１０時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３０．６ｇ、トルエン２４．９ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）１．５５ｇを加え、８５℃で２時間撹拌し、室温まで冷却したのちトルエン１２５．５ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ６２０、重量平均分子量ＭＷ７６０であった。
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにテトラブロモ無水フタル酸（グレートレイクスケミカル株式会社製、商品名：ＰＨＴ４）１００．０ｇ、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート（共栄社化学株式会社製、ライトエステルＧ−２０１Ｐ）９２．３ｇ、ヒドロキノン０．１０ｇ（和光純薬工業株式会社製）を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）０．９６ｇを加え、８５℃で１０時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３０．６ｇ、トルエン２４．９ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）１．５５ｇを加え、８５℃で２時間撹拌し、室温まで冷却したのちトルエン１２５．５ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ６２０、重量平均分子量ＭＷ７６０であった。
合成例５ 比較例１
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに無水フタル酸（和光純薬株式会社製）５０．０ｇ、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート（共栄社化学株式会社製、ライトエステルＧ−２０１Ｐ）１４４．５ｇ、ヒドロキノン０．１０ｇ（和光純薬工業株式会社製）を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）０．９７ｇを加え、８５℃で１０時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）４８．０ｇ、トルエン２７．１ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）１．５６ｇを加え、８５℃で２時間撹拌し、室温まで冷却したのちトルエン１３６．４ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ６２０、重量平均分子量ＭＷ７６０であった。
実施例１
＜ハードコート用途評価＞
＜塗工方法＞
上記樹脂溶液メチルイソブチルケトンを加えて粘度が１０〜１００ｍＰａ・Ｓになるように調整した。この樹脂溶液１００重量部に対して光重合開始剤イルカギュア１８４を５重量部加え、ＰＥＴフィルムにバーコーダーで乾燥塗膜が５μｍになるように塗工し、１００℃−２分乾燥し、メタルハライドランプで４００ｍＪの紫外線を照射し、塗工物を作製した。室温で１週間経過したものを以下の測定に用いた。
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに無水フタル酸（和光純薬株式会社製）５０．０ｇ、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート（共栄社化学株式会社製、ライトエステルＧ−２０１Ｐ）１４４．５ｇ、ヒドロキノン０．１０ｇ（和光純薬工業株式会社製）を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）０．９７ｇを加え、８５℃で１０時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）４８．０ｇ、トルエン２７．１ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）１．５６ｇを加え、８５℃で２時間撹拌し、室温まで冷却したのちトルエン１３６．４ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分６０％、数平均分子量ＭＮ６２０、重量平均分子量ＭＷ７６０であった。
実施例１
＜ハードコート用途評価＞
＜塗工方法＞
上記樹脂溶液メチルイソブチルケトンを加えて粘度が１０〜１００ｍＰａ・Ｓになるように調整した。この樹脂溶液１００重量部に対して光重合開始剤イルカギュア１８４を５重量部加え、ＰＥＴフィルムにバーコーダーで乾燥塗膜が５μｍになるように塗工し、１００℃−２分乾燥し、メタルハライドランプで４００ｍＪの紫外線を照射し、塗工物を作製した。室温で１週間経過したものを以下の測定に用いた。
＜屈折率＞
上記塗工物をアッベ屈折計（アタゴ株式会社）を用いて屈折率を測定した。屈折率は表１のようになった。
屈折率が
１．５７以上のものを○
１．５７未満のものを×
として評価した。
上記塗工物をアッベ屈折計（アタゴ株式会社）を用いて屈折率を測定した。屈折率は表１のようになった。
屈折率が
１．５７以上のものを○
１．５７未満のものを×
として評価した。
＜鉛筆硬度＞
鉛筆硬度はJIS K 5400 8.4.2に従って試験を行った。
鉛筆硬度が
Ｈ以上のものを○
Ｈより低いものを×
として評価した。
鉛筆硬度はJIS K 5400 8.4.2に従って試験を行った。
鉛筆硬度が
Ｈ以上のものを○
Ｈより低いものを×
として評価した。
Claims (6)
- エポキシ基と反応する官能基（ａ）、臭素化ベンゼン環、および重合性二重結合を有する化合物（Ｃ'）と、
エポキシ基と重合性二重結合と有する化合物（Ｄ）と、
を反応させることを特徴とする硬化性高屈折率材料の製造方法。 - エポキシ基と反応する官能基（ａ）、臭素化ベンゼン環、および重合性二重結合を有する化合物（Ｃ'）が、
臭素化フタル酸もしくはその誘導体（Ａ）と、水酸基と重合性二重結合とを有する化合物（Ｂ）とを反応させたものである請求項１記載の硬化性高屈折率材料の製造方法。 - 請求項１または２記載の製造方法で製造されてなる硬化性高屈折率材料。
- 高屈折率材料が、厚さ５μｍの塗膜としたときの屈折率が１．５７以上であって、かつ、鉛筆硬度がＨ以上である請求項３記載の硬化性高屈折率材料。
- 請求項３または４記載の硬化性高屈折率材料と、少なくとも１つの重合性二重結合を有する化合物（Ｅ）と含んでなる硬化性組成物。
- 請求項５記載の硬化性組成物を、硬化させてなる硬化物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004053010A JP2005239925A (ja) | 2004-02-27 | 2004-02-27 | 硬化性高屈折率材料及び該硬化性高屈折率材料を用いてなる積層体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004053010A JP2005239925A (ja) | 2004-02-27 | 2004-02-27 | 硬化性高屈折率材料及び該硬化性高屈折率材料を用いてなる積層体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005239925A true JP2005239925A (ja) | 2005-09-08 |
Family
ID=35021989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004053010A Pending JP2005239925A (ja) | 2004-02-27 | 2004-02-27 | 硬化性高屈折率材料及び該硬化性高屈折率材料を用いてなる積層体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005239925A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE112006001968T5 (de) | 2005-08-22 | 2008-07-31 | Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. | Komponentenmontageverfahren |
| EP2219075A1 (de) * | 2009-02-17 | 2010-08-18 | Bayer MaterialScience AG | Neue holografische Medien und Photopolymere |
-
2004
- 2004-02-27 JP JP2004053010A patent/JP2005239925A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE112006001968T5 (de) | 2005-08-22 | 2008-07-31 | Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. | Komponentenmontageverfahren |
| EP2219075A1 (de) * | 2009-02-17 | 2010-08-18 | Bayer MaterialScience AG | Neue holografische Medien und Photopolymere |
| CN101807003A (zh) * | 2009-02-17 | 2010-08-18 | 拜尔材料科学股份公司 | 新型全息介质和光聚合物 |
| EP2219073A1 (de) * | 2009-02-17 | 2010-08-18 | Bayer MaterialScience AG | Neue holografische Medien und Photopolymere |
| JP2010191427A (ja) * | 2009-02-17 | 2010-09-02 | Bayer Materialscience Ag | 新規なホログラフィック媒体およびフォトポリマー |
| US8329773B2 (en) | 2009-02-17 | 2012-12-11 | Bayer Materialscience Ag | Holographic media and photopolymers |
| CN101807003B (zh) * | 2009-02-17 | 2014-08-13 | 拜尔材料科学股份公司 | 新型全息介质和光聚合物 |
| TWI480684B (zh) * | 2009-02-17 | 2015-04-11 | Bayer Materialscience Ag | 新穎的全像媒體及光聚合物 |
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