JP2007165371A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 チップ欠けやチップクラックなどの発生及び裏面電極バリなどの発生を抑えたウェーハ個片化方法を有する半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 半導体素子が形成されたウェーハ1の裏面に半導体素子形成領域の境界に沿ってV溝4を形成し、V溝4が形成されたウェーハ裏面に裏面電極膜6を形成し、裏面電極膜6にダイシングテープ7を貼り付ける。ウェーハ1の裏面に対向する主面に半導体素子形成領域の境界に沿ってV溝4aを形成し、ウェーハ裏面及び主面に形成されたV溝4、4a間であって半導体素子形成領域の境界にレーザを照射してV溝間に改質層3を形成し、ウェーハ1を引き伸ばして改質層3から分離させてウェーハを個片化する。
【選択図】 図3
【解決手段】 半導体素子が形成されたウェーハ1の裏面に半導体素子形成領域の境界に沿ってV溝4を形成し、V溝4が形成されたウェーハ裏面に裏面電極膜6を形成し、裏面電極膜6にダイシングテープ7を貼り付ける。ウェーハ1の裏面に対向する主面に半導体素子形成領域の境界に沿ってV溝4aを形成し、ウェーハ裏面及び主面に形成されたV溝4、4a間であって半導体素子形成領域の境界にレーザを照射してV溝間に改質層3を形成し、ウェーハ1を引き伸ばして改質層3から分離させてウェーハを個片化する。
【選択図】 図3
Description
本発明は、半導体装置のチップクラックやチップ欠け等のないチップ個片化技術に係る半導体装置の製造方法に関するものである。
従来の半導体装置は、次のような製造工程により形成される。まず、半導体ウェーハの表面領域に半導体素子を形成するウェーハ処理を行ってから半導体素子間にダイシングラインを形成し、このダイシングラインに沿って半導体ウェーハをダイシングして、半導体素子が形成された複数の半導体チップに個片化される。
従来技術のウェーハ裏面を加工する工程において、次のような問題があり半導体装置の信頼性の面と製造加工を安定加工する面で膨大なロスを抱えており、円滑な生産活動に支障を与えている。即ち、半導体ウェーハから半導体チップを個片化するダイシング時にチップクラックが発生し易くこれによる歩留まり低下が大きくなる。また、ダイシング時にチップコーナーにチップ欠けが発生しこれによる信頼性が低下する。また、半導体チップを個片化するダイシング時に裏面電極膜バリなどが発生しこれによりダイボンディング時の接合性が悪化する。さらに、ダイボンディング時などの組立時のダメージによって生ずるチップコーナー部のチップクラックやチップ欠けなどが発生するという問題が生じている。
従来技術として、特許文献1にウェーハ裏面から一回目のダイシングを行い、その後裏面電極を形成し、裏面から2回目のダイシングを行う技術が開示されている。
特開2002−134441号公報
従来技術として、特許文献1にウェーハ裏面から一回目のダイシングを行い、その後裏面電極を形成し、裏面から2回目のダイシングを行う技術が開示されている。
本発明は、チップ欠けやチップクラックなどの発生及び裏面電極バリなどの発生を抑えたウェーハ個片化方法を有する半導体装置の製造方法を提供する。
本発明の半導体装置の製造方法の一態様は、半導体素子が形成された半導体ウェーハ裏面に半導体素子形成領域の境界に沿ってV溝を形成する工程と、前記V溝が形成された前記半導体ウェーハ裏面に裏面電極膜を形成する工程と、前記裏面電極膜にダイシングテープを貼り付ける工程と、前記半導体ウェーハの半導体素子形成領域の境界に沿ってダイシングして前記半導体ウェーハを個片化する工程とを備えたことを特徴としている。
本発明の半導体装置の製造方法の一態様は、半導体素子が形成された半導体ウェーハ裏面に半導体素子形成領域の境界に沿ってV溝を形成する工程と、前記V溝が形成された前記半導体ウェーハ裏面に裏面電極膜を形成する工程と、前記裏面電極膜にダイシングテープを貼り付ける工程と、前記半導体ウェーハの前記裏面に対向する主面に半導体素子形成領域の境界に沿ってV溝を形成する工程と、 前記半導体ウェーハの前記裏面及び主面に形成された前記V溝間であって、半導体素子形成領域の境界にレーザを照射して前記V溝間に改質層を形成する工程と、前記半導体ウェーハを引き伸ばして前記改質層から分離させて前記半導体ウェーハを個片化する工程を備えたことを特徴としている。
本発明の半導体装置の製造方法の一態様は、半導体素子が形成された半導体ウェーハ裏面に半導体素子形成領域の境界に沿ってV溝を形成する工程と、前記V溝が形成された前記半導体ウェーハ裏面に裏面電極膜を形成する工程と、前記裏面電極膜にダイシングテープを貼り付ける工程と、前記半導体ウェーハの前記裏面に対向する主面に半導体素子形成領域の境界に沿ってV溝を形成する工程と、 前記半導体ウェーハの前記裏面及び主面に形成された前記V溝間であって、半導体素子形成領域の境界にレーザを照射して前記V溝間に改質層を形成する工程と、前記半導体ウェーハを引き伸ばして前記改質層から分離させて前記半導体ウェーハを個片化する工程を備えたことを特徴としている。
チップ欠けやチップクラックなどの発生及び裏面電極バリなどの発生を抑えたウェーハ個片化方法を有する半導体装置の製造方法が得られる。
以下、実施例を参照して発明の実施の形態を説明する。
図1乃至図3を参照して実施例1を説明する。
図1乃至図3は、半導体装置の製造工程断面図である。インゴットに成長したシリコンなどの半導体単結晶をスライスしてウェーハを形成する。そして、ウェーハを処理して、ウェーハ主面の表面領域に複数の半導体素子を形成し、その後、裏面を研削してウェーハ厚を薄くする。この実施例は、裏面研削後に半導体素子毎にウェーハをダイシングして、半導体素子が形成されたチップに個片化する工程を説明するものである。以下の実施例で用いられるシリコンなどのウェーハの厚さは、80μm〜100μm程度の厚さの前後のものを用いている。通常80μm以上の厚さのウェーハは、ブレードダイシングで個片化され、100μm以下の厚さのウェーハは、レーザダイシングにより個片化される(重なる領域は、ブレードダイシング及びレーザダイシングのいずれかが選択される)。V溝形成は、ウェーハ厚さの高々1/5程度のまで行われ、1μmから1000μmまでの深さが可能である。好ましくは、10μm〜100μmの深さが適当である。浅いとV溝形成の効果が少なく、100μmより深いと素子特性が劣化するようになる。従来のウェーハ個片化工程ではハーフカットを用いることがあるが、これは通常ウェーハ厚の半分位を厚幅でブレードによるハーフカットを行い、更に同じ面から細幅でフルカットする方法である。
図1乃至図3は、半導体装置の製造工程断面図である。インゴットに成長したシリコンなどの半導体単結晶をスライスしてウェーハを形成する。そして、ウェーハを処理して、ウェーハ主面の表面領域に複数の半導体素子を形成し、その後、裏面を研削してウェーハ厚を薄くする。この実施例は、裏面研削後に半導体素子毎にウェーハをダイシングして、半導体素子が形成されたチップに個片化する工程を説明するものである。以下の実施例で用いられるシリコンなどのウェーハの厚さは、80μm〜100μm程度の厚さの前後のものを用いている。通常80μm以上の厚さのウェーハは、ブレードダイシングで個片化され、100μm以下の厚さのウェーハは、レーザダイシングにより個片化される(重なる領域は、ブレードダイシング及びレーザダイシングのいずれかが選択される)。V溝形成は、ウェーハ厚さの高々1/5程度のまで行われ、1μmから1000μmまでの深さが可能である。好ましくは、10μm〜100μmの深さが適当である。浅いとV溝形成の効果が少なく、100μmより深いと素子特性が劣化するようになる。従来のウェーハ個片化工程ではハーフカットを用いることがあるが、これは通常ウェーハ厚の半分位を厚幅でブレードによるハーフカットを行い、更に同じ面から細幅でフルカットする方法である。
まず、ウェーハ1裏面に面粗さRaが0〜0.02μmになるように研削加工を施す(図1(a))。次に、操作をし易くするためにウェーハ1の主面に耐熱性のあるウェーハ補強治具2を取り付ける。ウェーハ補強治具2としては補強リング、補強テープ、補強円板などのウェーハ1を保護する任意の形状の治具が用いられる(図1(b))。主面に補強治具2が取り付けられたウェーハ1は、裏面から半導体素子間の境界に添ってレーザ照射される。レーザ照射は、例えば、浜松ホトニクス・東京精密社製のレーザ装置を用い、照射された半導体素子間に裏面から主面にかけて改質層3が形成される。改質層3は、レーザエネルギーによってシリコン単結晶のSiとSiとの原子間結合が一部切られた状態になっており、その部分から分離し易くなっている(図1(c))。
次に、ウェーハ1裏面へ半導体素子間に沿ってブレードを入れ、その部分にV溝4を形成する。V溝4は、切り込みを入れる深さではなく、個片化後のチップ角部の面取りを行う程度の深さである。この時のV溝4の断面形状は60〜120度が適当である(図2(a))。その後、ウェーハ1裏面に面粗さRaが0〜0.35μmになるよう薬液エッチングやドライエッチングなどのエッチングを施して裏面に粗面5を形成する(図2(b))。次に、フレームと半導体装置の接合剤となる裏面電極膜6を粗面5上に形成する(図2(c))。
次に、ウェーハ1の裏面電極膜6をダイシングテープ7へ貼り付ける。このように、ウェーハ1をダイシングテープ7に固定してから、ウェーハ主面に取り付けられたウェーハ補強治具2を取り外す(図3(a))。次に、ウェーハ補強治具2が取り外されたウェーハ1主面へ半導体素子間に沿ってブレードを入れ、その部分にV溝4aを形成する。V溝4aは、切り込みを入れる深さではなく、個片化後のチップ角部の面取りを行う程度の深さである。この時のV溝4aの断面形状は60〜120度が適当である。V溝4aは、裏面に形成されたV溝4と同じ形状でも良いし、形状が異なっていても良い(図3(b))。その後、ウェーハ1が固定されているダイシングテープ7を外方に引っ張ると、ウェーハ1は、改質層3から分離して半導体素子が形成されたチップ10毎に個片化される。個片化されたチップ10は、次工程の組立工程によりパッケージングされて半導体装置として製品化される。
この実施例は、以上の構成により、チップ欠けやチップクラックなどの発生及び裏面電極バリなどの発生を抑えたウェーハ個片化方法が得られる。また、裏面電極膜形成前に裏面にV溝を形成を行うことにより、ダイシングテープの引き伸ばしによるチップ個片化の際に、裏面電極膜の破断部をV溝内に抑えることが出来る。そのため、ダイボンディングの際、接合異常発生を抑えることが可能になったので歩留りが向上する。また、このようなチップ個片化の際、裏面電極膜のバリをV溝内に抑えることが出来るため、ダイボンディングの際、接合異常発生を抑えて歩留りが向上する。
この実施例では、ウェーハ1を複数のチップ10に個片化することにより、チップ10の断面形状が八角形になる。このような形状によりダイボンディングなどの組立時のダメージなどによるチップコーナー部のチップクラックなどを抑えることができるので製造歩留りが向上すると共に信頼性が向上する。
この実施例では、ウェーハ1を複数のチップ10に個片化することにより、チップ10の断面形状が八角形になる。このような形状によりダイボンディングなどの組立時のダメージなどによるチップコーナー部のチップクラックなどを抑えることができるので製造歩留りが向上すると共に信頼性が向上する。
次に、図4乃至図6を参照して実施例2を説明する。
図4乃至図6は、半導体装置の製造工程断面図である。インゴットに成長したシリコンなどの半導体単結晶をスライスしてウェーハを形成する。そして、ウェーハを処理して、ウェーハ主面の表面領域に複数の半導体素子を形成し、その後、裏面を研削してウェーハ厚を薄くする。この実施例は、裏面研削後に半導体素子毎にウェーハをダイシングして、半導体素子が形成されたチップに個片化する工程を説明するものである。ウェーハ21裏面に面粗さRaが0〜0.35μmになるよう薬液エッチングやドライエッチングなどのエッチングを施して裏面に粗面25を形成する(図4(a))。次に、操作をし易くするためにウェーハ21の主面に耐熱性のあるウェーハ補強治具22を取り付ける。ウェーハ補強治具22としては補強リング、補強テープ、補強円板などのウェーハ21を保護する任意の形状の治具が用いられる(図4(b))。次に、ウェーハ21裏面へ半導体素子間に沿ってブレードを入れ、その部分にV溝24を形成する。V溝24は、切り込みを入れる深さではなく、個片化後のチップ角部の面取りを行う程度の深さである。この時のV溝24の断面形状は60〜120度が適当である(図4(c))。次に、フレームと半導体装置の接合剤となる裏面電極膜26を裏面上に形成する(図4(d))。
図4乃至図6は、半導体装置の製造工程断面図である。インゴットに成長したシリコンなどの半導体単結晶をスライスしてウェーハを形成する。そして、ウェーハを処理して、ウェーハ主面の表面領域に複数の半導体素子を形成し、その後、裏面を研削してウェーハ厚を薄くする。この実施例は、裏面研削後に半導体素子毎にウェーハをダイシングして、半導体素子が形成されたチップに個片化する工程を説明するものである。ウェーハ21裏面に面粗さRaが0〜0.35μmになるよう薬液エッチングやドライエッチングなどのエッチングを施して裏面に粗面25を形成する(図4(a))。次に、操作をし易くするためにウェーハ21の主面に耐熱性のあるウェーハ補強治具22を取り付ける。ウェーハ補強治具22としては補強リング、補強テープ、補強円板などのウェーハ21を保護する任意の形状の治具が用いられる(図4(b))。次に、ウェーハ21裏面へ半導体素子間に沿ってブレードを入れ、その部分にV溝24を形成する。V溝24は、切り込みを入れる深さではなく、個片化後のチップ角部の面取りを行う程度の深さである。この時のV溝24の断面形状は60〜120度が適当である(図4(c))。次に、フレームと半導体装置の接合剤となる裏面電極膜26を裏面上に形成する(図4(d))。
次に、ウェーハ21の裏面電極膜26をダイシングテープ27へ貼り付ける。このように、ウェーハ21をダイシングテープ27に固定する(図5(a))。その後、ウェーハ21主面に取り付けられたウェーハ補強治具22をウェーハ21から取り外す(図5(b))。そして、ダイシングラインに沿ってウェーハ21をダイシング28して、半導体素子が形成された複数のチップ20に個片化する(図5(c))。チップ20は、断面形状が六角形である。個片化されたチップ20は、次工程の組立工程によりパッケージングされて半導体装置として製品化される。
この実施例は、以上の構成により、チップ欠けやチップクラックなどの発生及び裏面電極バリなどの発生を抑えたウェーハ個片化方法が得られる。また、裏面電極膜形成前に裏面にV溝を形成を行うことにより、ダイシングなどによりウェーハのチップ個片化を行う際において、裏面電極膜のバリをV溝内に抑えることが出来る。そのため、ダイボンディングの際、接合異常発生を抑えることが可能になったので歩留りが向上する。
この実施例は、以上の構成により、チップ欠けやチップクラックなどの発生及び裏面電極バリなどの発生を抑えたウェーハ個片化方法が得られる。また、裏面電極膜形成前に裏面にV溝を形成を行うことにより、ダイシングなどによりウェーハのチップ個片化を行う際において、裏面電極膜のバリをV溝内に抑えることが出来る。そのため、ダイボンディングの際、接合異常発生を抑えることが可能になったので歩留りが向上する。
この実施例では、ウェーハ21を複数のチップ20に個片化することにより、チップ20の断面形状が六角形になる。このような形状によりダイボンディングなどの組立時のダメージなどによるチップコーナー部のチップクラックなどを抑えることができるので製造歩留りが向上すると共に信頼性が向上する。
図7及び図8を参照して実施例3を説明する。
図7及び至図8は、半導体装置の製造工程断面図である。インゴットに成長したシリコンなどの半導体単結晶をスライスしてウェーハを形成する。そして、ウェーハを処理して、ウェーハ主面の表面領域に複数の半導体素子を形成し、その後裏面を研削してウェーハ厚を薄くする。この実施例は、裏面研削後に半導体素子毎にウェーハをダイシングして、半導体素子が形成されたチップに個片化する工程を説明するものである。シリコンなどのウェーハに対して処理を行って半導体素子などを形成し、裏面研削を行ってウェーハ31を所定の厚さにする(図7(a))。裏面研削後のウェーハ31は、裏面を面粗さRa:0〜0.02μmになるように研削加工を施し、その後、ウェーハ31は、その裏面よりレーザ照射装置(浜松ホトニクス・東京精密製)によるレーザダイシングでウェーハ31のチップ形成領域の境界に改質層33を形成する(図7(b))。次に、ウェーハ31裏面へのブレードダイシングにより断面V字状の溝34を改質層33上に沿って形成する(図7(c))。その後、ウェーハ1裏面を粗面化する。即ち、面粗さRa:0〜0.35μmになるように薬液エッチング、ドライエッチングを行って、裏面に研削エッチングによる凹凸面35を形成する(図7(d))。
図7及び至図8は、半導体装置の製造工程断面図である。インゴットに成長したシリコンなどの半導体単結晶をスライスしてウェーハを形成する。そして、ウェーハを処理して、ウェーハ主面の表面領域に複数の半導体素子を形成し、その後裏面を研削してウェーハ厚を薄くする。この実施例は、裏面研削後に半導体素子毎にウェーハをダイシングして、半導体素子が形成されたチップに個片化する工程を説明するものである。シリコンなどのウェーハに対して処理を行って半導体素子などを形成し、裏面研削を行ってウェーハ31を所定の厚さにする(図7(a))。裏面研削後のウェーハ31は、裏面を面粗さRa:0〜0.02μmになるように研削加工を施し、その後、ウェーハ31は、その裏面よりレーザ照射装置(浜松ホトニクス・東京精密製)によるレーザダイシングでウェーハ31のチップ形成領域の境界に改質層33を形成する(図7(b))。次に、ウェーハ31裏面へのブレードダイシングにより断面V字状の溝34を改質層33上に沿って形成する(図7(c))。その後、ウェーハ1裏面を粗面化する。即ち、面粗さRa:0〜0.35μmになるように薬液エッチング、ドライエッチングを行って、裏面に研削エッチングによる凹凸面35を形成する(図7(d))。
その後、半導体装置をフレームに取り付ける際の接合剤となる電極膜36をウェーハ31裏面に形成する(図8(a))。次に、電極膜36を形成したウェーハ31裏面をダイシングテープ37へ貼り付ける(図8(b))。そして、ウェーハ31表面(主面)にブレードダイシングなどにより断面V字状の溝34aを形成する(図8(c))。その後、ウェーハ31を引き伸ばすことによって、断面V字状の溝34、34a及び改質層33の部分で分離されチップ個片化する。チップ30は、14面体であり、断面は、図に示すように、八角形である。その後、各チップは、パッケージングされ、検査されて製品として出荷される。
この実施例は、以上の構成により、チップ欠けやチップクラックなどの発生及び裏面電極バリなどの発生を抑えたウェーハ個片化方法が得られる。また、裏面電極膜形成前に裏面にV溝を形成を行うことにより、ダイシングテープの引き伸ばしによるチップ個片化の際に、裏面電極膜の破断部をV溝内に抑えることが出来る。そのため、ダイボンディングの際、接合異常発生を抑えることが可能になったので歩留りが向上する。また、このようなチップ個片化の際、裏面電極膜のバリをV溝内に抑えることが出来るため、ダイボンディングの際、接合異常発生を抑えて歩留りが向上する。
この実施例では、ウェーハ31を複数のチップ30に個片化することにより、チップ30の断面形状が八角形になる。このような形状によりダイボンディングなどの組立時のダメージなどによるチップコーナー部のチップクラックなどを抑えることができるので製造歩留りが向上すると共に信頼性が向上する。
この実施例では、ウェーハ31を複数のチップ30に個片化することにより、チップ30の断面形状が八角形になる。このような形状によりダイボンディングなどの組立時のダメージなどによるチップコーナー部のチップクラックなどを抑えることができるので製造歩留りが向上すると共に信頼性が向上する。
次に、図9及び図10を参照して実施例4を説明する。
図9及び図10は、半導体装置の製造工程断面図である。インゴットに成長したシリコンなどの半導体単結晶をスライスしてウェーハを形成する。そして、ウェーハを処理して、ウェーハ主面の表面領域に複数の半導体素子を形成し、その後、裏面を研削してウェーハ厚を薄くする。この実施例は、裏面研削後に半導体素子毎にウェーハをダイシングして、半導体素子が形成されたチップに個片化する工程を説明するものである。まず、ウェーハ41裏面に面粗さRaが0〜0.35μmになるよう薬液エッチングやドライエッチングなどのエッチングを施して裏面に粗面45を形成する(図9(a))。次に、ウェーハ41裏面へ半導体素子間に沿ってブレードを入れ、その部分にV溝44を形成する。V溝44は、切り込みを入れる深さではなく、個片化後のチップ角部の面取りを行う程度の深さである。この時のV溝44の断面形状は60〜120度が適当である(図9(b))。次に、フレームと半導体装置の接合剤となる裏面電極膜46を裏面上に形成する(図9(c))。
図9及び図10は、半導体装置の製造工程断面図である。インゴットに成長したシリコンなどの半導体単結晶をスライスしてウェーハを形成する。そして、ウェーハを処理して、ウェーハ主面の表面領域に複数の半導体素子を形成し、その後、裏面を研削してウェーハ厚を薄くする。この実施例は、裏面研削後に半導体素子毎にウェーハをダイシングして、半導体素子が形成されたチップに個片化する工程を説明するものである。まず、ウェーハ41裏面に面粗さRaが0〜0.35μmになるよう薬液エッチングやドライエッチングなどのエッチングを施して裏面に粗面45を形成する(図9(a))。次に、ウェーハ41裏面へ半導体素子間に沿ってブレードを入れ、その部分にV溝44を形成する。V溝44は、切り込みを入れる深さではなく、個片化後のチップ角部の面取りを行う程度の深さである。この時のV溝44の断面形状は60〜120度が適当である(図9(b))。次に、フレームと半導体装置の接合剤となる裏面電極膜46を裏面上に形成する(図9(c))。
次に、ウェーハ41の裏面電極膜46をダイシングテープ47へ貼り付ける。このように、ウェーハ41をダイシングテープ47に固定する(図10(a))。その後、ダイシングラインに沿ってウェーハ41をダイシング48して、半導体素子が形成された複数のチップ40に個片化する(図10(b))。チップ40は、断面形状が六角形である。個片化されたチップ40は、次工程の組立工程によりパッケージングされて半導体装置として製品化される。
この実施例は、以上の構成により、チップ欠けやチップクラックなどの発生及び裏面電極バリなどの発生を抑えたウェーハ個片化方法が得られる。また、裏面電極膜形成前に裏面にV溝を形成を行うことにより、ダイシングなどによりウェーハのチップ個片化を行う際において、裏面電極膜のバリをV溝内に抑えることが出来る。そのため、ダイボンディングの際、接合異常発生を抑えることが可能になったので歩留りが向上する。
この実施例は、以上の構成により、チップ欠けやチップクラックなどの発生及び裏面電極バリなどの発生を抑えたウェーハ個片化方法が得られる。また、裏面電極膜形成前に裏面にV溝を形成を行うことにより、ダイシングなどによりウェーハのチップ個片化を行う際において、裏面電極膜のバリをV溝内に抑えることが出来る。そのため、ダイボンディングの際、接合異常発生を抑えることが可能になったので歩留りが向上する。
この実施例では、ウェーハ41を複数のチップ40に個片化することにより、チップ40の断面形状が六角形になる。このような形状によりダイボンディングなどの組立時のダメージなどによるチップコーナー部のチップクラックなどを抑えることができるので製造歩留りが向上すると共に信頼性が向上する。
1、21、31、41・・・ウェーハ
2、22・・・ウェーハ補強治具
3、33・・・改質層
4、34・・・V溝
5、25、35、45・・・研削エッチング凹凸面
6、26、36、46・・・裏面電極膜
7、27、37、47・・・ダイシングテープ
28、48・・・ダイシング
2、22・・・ウェーハ補強治具
3、33・・・改質層
4、34・・・V溝
5、25、35、45・・・研削エッチング凹凸面
6、26、36、46・・・裏面電極膜
7、27、37、47・・・ダイシングテープ
28、48・・・ダイシング
Claims (5)
- 半導体素子が形成された半導体ウェーハ裏面に半導体素子形成領域の境界に沿ってV溝を形成する工程と、
前記V溝が形成された前記半導体ウェーハ裏面に裏面電極膜を形成する工程と、
前記裏面電極膜にダイシングテープを貼り付ける工程と、
前記半導体ウェーハの半導体素子形成領域の境界に沿ってダイシングして前記半導体ウェーハを個片化する工程とを備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体素子が形成された半導体ウェーハ裏面に半導体素子形成領域の境界に沿ってV溝を形成する工程と、
前記V溝が形成された前記半導体ウェーハ裏面に裏面電極膜を形成する工程と、
前記裏面電極膜にダイシングテープを貼り付ける工程と、
前記半導体ウェーハの前記裏面に対向する主面に半導体素子形成領域の境界に沿ってV溝を形成する工程と、
前記半導体ウェーハの前記裏面及び主面に形成された前記V溝間であって、半導体素子形成領域の境界にレーザを照射して前記V溝間に改質層を形成する工程と、
前記半導体ウェーハを引き伸ばして前記改質層から分離させて前記半導体ウェーハを個片化する工程を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記半導体ウェーハ裏面にV溝を形成する工程の前に前記半導体ウェーハ主面にウェーハ補強治具を取り付ける工程を更に有することを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体ウェーハは、前記裏面にV溝を形成する工程の前に裏面研削を行うことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体ウェーハ裏面は、前記裏面電極膜を形成する前に粗面化されることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
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