JP2007157506A - 電極脱落防止装置付きイオナイザ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】一対の電極11,11を有する電極カートリッジ7を、ハウジング5の電極取付口6内に、中心軸線の回りに回転させることによって係脱自在なるように装着したイオナイザにおいて、上記ハウジング5に脱落防止カバー3を取り付け、この脱落防止カバー3には、上記電極カートリッジ7が嵌合する嵌合孔13を形成し、この嵌合孔13で該電極カートリッジ7の回転を規制することによってこの電極カートリッジ7の脱落を防止する。
【選択図】図5
Description
この場合、上記ハウジングが、両側面の下端の上記下面寄りの位置に該ハウジングの長手方向に延びる一対の取付溝を有し、また、上記脱落防止カバーは、左右の側壁が互いの開閉方向に弾性変形自在となっていて、該側壁の先端に内向きに突出する突縁を有し、該突縁を上記取付溝に弾力的に係止させることによって上記ハウジングに取り付けられていることが望ましい。
あるいは、上記脱落防止カバーが、該脱落防止カバーと上記ハウジングとを取り巻くバンドで該ハウジングに取り付けられていても構わない。
さらには、上記脱落防止カバーを螺子で上記ハウジングに取り付けることもできる。
上記イオナイザ本体2は、横に細長い中空のハウジング5を有している。このハウジング5は、縦方向に長い矩形又は長円形あるいはそれらに類似する断面形状を有していて、その下面5aに、軸線方向(長手方向)に細長い長円形をした複数の電極取付口6が、該軸線方向に等間隔で形成され、各電極取付口6に、電極カートリッジ7が着脱自在に取り付けられている。図中8は、上記ハウジング5の長手方向の両端部を塞ぐエンドプレートである。
かくして、上記脱落防止カバー3で電極カートリッジ7の回転が規制される結果、該電極カートリッジ7の取付用突起13がハウジング5の取付用凹部から外れるのが防止されるため、該電極カートリッジ7が電極取付口6から脱落することがなくなる。しかも、上記係止部12が嵌合孔13の孔縁に当接して係止することにより、その脱落防止効果はより確実なものとなる。
この第2実施形態の上記以外の構成は実質的に上記第1実施形態と同じであるから、それらの主要な同一構成部分に第1実施形態の場合と同じ符号を付し、その説明は省略するものとする。
従って上記ハウジング5には、上記第1及び第2実施形態のような取付溝15を形成する必要はなく、また、上記脱落防止カバー3の両側壁3bに上記取付溝15に係止する突縁3cを形成する必要もない。しかし、上記ハウジング5には、センサー等の他の部品を取り付けられるようにするため、上記取付溝15が形成されていても構わない。
3 脱落防止カバー
3a 底壁
3b 側壁
3c 突縁
5 ハウジング
5a 下面
5b 側面
6 電極取付口
7 電極カートリッジ
10 電極ホルダー
11 電極
13 嵌合孔(拘束部)
15 取付溝
20 フィルター
21 係止アーム
22 バンド
23 螺子
L0 中心軸線
Claims (8)
- 電極取付口が開口する下面及び該下面に連なる両側面を有するハウジングと、上記電極取付口内に着脱自在に取り付けられた電極カートリッジと、上記ハウジングに取り付けられて該電極カートリッジの脱落を防止する脱落防止カバーとを備え、
上記電極カートリッジは、長円形断面を有する中空の電極ホルダーに一対の電極を保持させることにより形成され、上記電極取付口内で中心軸線の回りに回転させることによって上記ハウジングに係脱自在であり、
上記脱落防止カバーは、上記ハウジングに着脱自在に取り付けられていて、電極カートリッジを拘束するための拘束部を有し、この拘束部で該電極カートリッジの回転を規制することによってこの電極カートリッジの脱落を防止するように構成されている、
ことを特徴とする電極脱落防止装置付きイオナイザ。 - 上記脱落防止カバーの拘束部が、上記電極カートリッジが嵌合する長円形の嵌合孔であることを特徴とする請求項1に記載のイオナイザ。
- 上記脱落防止カバーが、断面溝形を有していて、その底壁部分に上記嵌合孔を有し、上記ハウジングの下面に該下面を跨いだ状態に取り付けられていることを特徴とする請求項2に記載のイオナイザ。
- 上記ハウジングが、両側面の下端の上記下面寄りの位置に該ハウジングの長手方向に延びる一対の取付溝を有し、また、上記脱落防止カバーは、左右の側壁が互いの開閉方向に弾性変形自在となっていて、該側壁の先端に内向きに突出する突縁を有し、該突縁を上記取付溝に弾力的に係止させることによって上記ハウジングに取り付けられていることを特徴とする請求項3に記載のイオナイザ。
- 上記脱落防止カバーが、左右の側壁から上向きに延出してハウジングの側面又は上面に係止する係止アームを有することを特徴とする請求項1から3の何れかに記載のイオナイザ。
- 上記脱落防止カバーが、該脱落防止カバーと上記ハウジングとを取り巻くバンドで該ハウジングに取り付けられていることを特徴とする請求項1から3の何れかに記載のイオナイザ。
- 上記脱落防止カバーが、螺子で上記ハウジングに取り付けられていることを特徴とする請求項1から3の何れかに記載のイオナイザ。
- 上記脱落防止カバーの嵌合孔内に、上記電極カートリッジにおける電極ホルダー先端の開口部を覆うフィルターを設けることにより、該脱落防止カバーにフィルターホルダーの機能を兼備させたことを特徴とする請求項1から7の何れかに記載のイオナイザ。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008135377A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-06-12 | Smc Corp | イオナイザ |
JP2012248475A (ja) * | 2011-05-30 | 2012-12-13 | Kasuga Electric Works Ltd | 電極ホルダー |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7497898B2 (en) * | 2006-10-31 | 2009-03-03 | Smc Corporation | Ionizer |
JP4811731B2 (ja) | 2007-02-14 | 2011-11-09 | Smc株式会社 | イオナイザ |
US9847623B2 (en) | 2014-12-24 | 2017-12-19 | Plasma Air International, Inc | Ion generating device enclosure |
US9660425B1 (en) | 2015-12-30 | 2017-05-23 | Plasma Air International, Inc | Ion generator device support |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05297684A (ja) * | 1992-04-15 | 1993-11-12 | Ricoh Co Ltd | コロナ放電器 |
JPH1012395A (ja) * | 1996-06-19 | 1998-01-16 | Shinichi Ueda | イオン発生装置 |
JP2005108829A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-04-21 | Smc Corp | 除電方法及びその装置 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US299978A (en) * | 1884-06-10 | Spring-motor | ||
US320848A (en) * | 1885-06-23 | Oil expressing box package shaping machine | ||
US4741746A (en) * | 1985-07-05 | 1988-05-03 | University Of Illinois | Electrostatic precipitator |
US5667563A (en) * | 1995-07-13 | 1997-09-16 | Silva, Jr.; John C. | Air ionization system |
JPH10125445A (ja) * | 1996-10-18 | 1998-05-15 | Huegle Electron Kk | イオン発生装置用放電針ユニット |
JP4575603B2 (ja) * | 2001-01-18 | 2010-11-04 | 株式会社キーエンス | イオン化装置及びその放電電極バー |
JP4636710B2 (ja) * | 2001-03-01 | 2011-02-23 | 株式会社キーエンス | イオン化装置 |
US6506232B2 (en) * | 2001-03-13 | 2003-01-14 | Ion Systems, Inc. | Air ionization apparatus and method for efficient generation and cleaning |
CN1285243C (zh) * | 2003-04-17 | 2006-11-15 | 华宇电脑股份有限公司 | 电路板的静电放电防护装置 |
JP4363903B2 (ja) * | 2003-06-05 | 2009-11-11 | 株式会社キーエンス | 除電器 |
KR20050003520A (ko) * | 2003-06-27 | 2005-01-12 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 이오나이저 장치 |
US20050052815A1 (en) * | 2003-09-09 | 2005-03-10 | Smc Corporation | Static eliminating method and apparatus therefor |
JP4677609B2 (ja) * | 2005-12-05 | 2011-04-27 | Smc株式会社 | 部品増設装置付きイオナイザ |
US7497898B2 (en) * | 2006-10-31 | 2009-03-03 | Smc Corporation | Ionizer |
JP4874771B2 (ja) * | 2006-11-30 | 2012-02-15 | 株式会社キーエンス | イオン化装置 |
JP5097514B2 (ja) * | 2007-11-22 | 2012-12-12 | 国立大学法人東京工業大学 | ワイヤ電極式イオナイザ |
-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05297684A (ja) * | 1992-04-15 | 1993-11-12 | Ricoh Co Ltd | コロナ放電器 |
JPH1012395A (ja) * | 1996-06-19 | 1998-01-16 | Shinichi Ueda | イオン発生装置 |
JP2005108829A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-04-21 | Smc Corp | 除電方法及びその装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008135377A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-06-12 | Smc Corp | イオナイザ |
JP2012248475A (ja) * | 2011-05-30 | 2012-12-13 | Kasuga Electric Works Ltd | 電極ホルダー |
Also Published As
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