JP2007144564A - 研磨装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】研磨定盤10と、基板保持機構12、ドレッサー30を備え、基板保持機構12で保持した研磨対象基板Wを研磨定盤10の研磨面に接触押圧して、研磨する研磨装置であって、ドレッサー30は第1ドレッシング部31と第2ドレッシング部32を備え、第1ドレッシング部31は研磨対象基板Wよりも大きい円形状で、第2ドレッシング部32は第1ドレッシング部31の周りを囲む形状大きさであり、第1ドレッシング部31と第2ドレッシング部32が互いに独立して研磨面に接触できる。
【選択図】図1
Description
前記ドレッサーは、円板状のダミー研磨対象基板を吸着保持する円板状保持部材と、該円板状保持部材の外周部に位置するドレッシング部を備えたことを特徴とする。
11 研磨パッド
12 基板保持機構(トップリング)
13 基板保持部材
14 空間室
15 真空源
16 バルブ
17 回転軸
18 自在継手
19 ヘッド部材
20 支持シャフト
21 エアシリンダー
22 ピストン部材
23 ベアリング
24 駆動モータ
25 タイミングプーリ
26 タイミングプーリ
27 タイミングベルト
28 ガイドリング
30 ドレッサー
31 第1ドレッシング部
32 第2ドレッシング部
33 回転軸
34 回転軸
35 ベアリング
36 ベアリング
37 ヘッド部材
38 ヘッド部材
39 エアシリンダー
40 ピストン部材
41 ベアリング
42 エアシリンダー
43 ピストン部材
44 ベアリング
45 駆動モータ
47 タイミングプーリ
48 タイミングプーリ
49 タイミングベルト
50 駆動モータ
51 タイミングプーリ
52 タイミングプーリ
53 タイミングベルト
54 支持シャフト
60 円板状保持部材
61 ドレッシング部
62 空間室
63 バルブ
64 真空源
Claims (14)
- 研磨定盤と、該研磨定盤の研磨面の目立てを行うドレッサーを備え、基板保持機構で保持した研磨対象基板を前記研磨定盤の研磨面に接触押圧し、該研磨面と研磨対象基板の相対的運動により該研磨対象基板を研磨する研磨装置であって、
前記ドレッサーは第1ドレッシング部と第2ドレッシング部を備え、第1ドレッシング部は研磨対象基板よりも大きい径の円形状で、第2ドレッシング部は前記第1ドレッシング部の周りを囲む形状大きさであり、該第1ドレッシング部と第2ドレッシング部が互いに独立して前記研磨定盤の研磨面に接触できるようになっていることを特徴とする研磨装置。 - 請求項1に記載の研磨装置において、
前記第1ドレッシング部と第2ドレッシング部はそれぞれ回転軸を備え、前記第1ドレッシング部の回転軸と第2ドレッシング部の回転軸は同心で且つそれぞれ独立して回転可能に構成されていることを特徴とする研磨装置。 - 請求項1又は2に記載の研磨装置において、
前記第1ドレッシング部の前記研磨定盤の研磨面のカットレートが、前記第2ドレッシング部のカットレートより小さいことを特徴とする研磨装置。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の研磨装置において、
前記研磨対象基板の研磨中、前記第1ドレッシング部が前記研磨定盤の研磨面の研磨面のドレッシングを行うことを特徴とする研磨装置。 - 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の研磨装置において、
前記第1ドレッシング部と第2ドレッシング部が前記研磨定盤の研磨面に対する押圧力をそれぞれ個別に制御できるようになっていることを特徴とする研磨装置。 - 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の研磨装置において、
前記第1ドレッシング部が、内部に冷却又は加熱媒体が循環する流路を備えたことを特徴とする研磨装置。 - 請求項6に記載の研磨装置において、
前記流路を循環する冷却又は加熱媒体の温度を調節・制御する温度制御手段を設けたことを特徴とする研磨装置。 - 研磨定盤と、該研磨定盤の研磨面の目立てを行うドレッサーを備え、基板保持機構で保持した研磨対象基板を前記研磨定盤の研磨面に接触押圧し、該研磨面と研磨対象基板の相対的運動により該研磨対象基板を研磨する研磨装置であって、
前記ドレッサーは、円板状のダミー研磨対象基板を吸着保持する円板状保持部材と、該円板状保持部材の外周部に位置するドレッシング部を備えたことを特徴とする研磨装置。 - 請求項8に記載の研磨装置において、
前記円板状保持部材と前記ドレッシング部はそれぞれ回転軸を備え、前記円板状保持部材の回転軸と前記ドレッシング部の回転軸はそれぞれ同心で且つ独立して回転可能に構成されていることを特徴とする研磨装置。 - 請求項8又は9に記載の研磨装置において、
前記ダミー研磨対象基板を吸着保持する円板状保持部材の内部に冷却又は加熱媒体が循環する流路を設けたことを特徴とする研磨装置。 - 請求項10に記載の研磨装置において、
前記研磨対象基板の研磨中、前記円板状保持部材に保持されたダミー研磨対象基板を前記研磨定盤の研磨面に接触押圧することを特徴とする研磨装置。 - 請求項11に記載の研磨装置において、
前記研磨定盤の研磨面は、該研磨定盤上面に貼り付けた研磨パッド面であり、
前記研磨パッドを貼り替えた直後、前記円板状保持部材に保持されたダミー研磨対象基板と前記ドレッシング部を前記研磨面に押付けることで、該研磨面のブレークインを行うことを特徴とする研磨装置。 - 請求項8乃至12のいずれか1項に記載の研磨装置において、
前記ダミー研磨対象基板に替えてSiCウエハを使用することを特徴とする研磨装置。 - 請求項8乃至13のいずれか1項に記載の研磨装置において、
前記研磨対象基板の研磨中、前記円板状保持部材に吸着されたダミー研磨対象基板を前記研磨定盤の研磨面に接触押圧することを特徴とする研磨装置。
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