JP2007138297A - 耐硫化性銀系被覆、そのような被覆を堆積させる方法、およびその使用 - Google Patents
耐硫化性銀系被覆、そのような被覆を堆積させる方法、およびその使用 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】銀系材料被覆の耐硫化性は、被覆の自由表面から10nm〜1μm、特に100nm〜1μmの深さまで、銀、酸素および材料中に存在することがある一種以上の酸化し得る合金化元素の濃度勾配を形成することにより、さらに改良される。そこで、本被覆は、1個の、銀系材料から製造された主要層1および1個の、酸化された薄膜2の積重構造を含んでなる。これによって、厚さ10nm〜1μmの薄膜が、薄膜2と主要層1との間の界面3から該薄膜2の自由表面2aに向かって減少して行く銀濃度勾配を有する。支持体上への被覆の堆積は、2つの連続した物理的蒸着工程により、より詳しくは、マグネトロン陰極スパッタリングにより、達成することができる。
【選択図】図1
Description
工程 アルゴン圧 室中に注入 ターゲット 基材分極
されたガス 電力 電位
(Pa) 流量(sccm) (W) (V)
1)堆積室中の真空 8.10 -4 - - -
2)ターゲットのエッチング 0.5 Ar:145 100 -
(マスクによる)
3)主要層1の堆積 0.5 Ar:145 300 -130
4)酸化された薄膜2の堆積 0.5 Ar:145 300 -300
O 2 :10〜60
−黒色に対するL=0%から、白色に対するL=100%までの、百分率で表す輝度
−緑(a=−120)から赤(a=120)までの色領域
−青(b=−120)から黄(b=120)までの色領域
に対応する。
−一定電位−130Vで分極させた基材上に、堆積工程の際に酸素を全く投入せずに、マグネトロン陰極スパッタリングにより得た、C1被覆と呼ぶAgGeSn被覆、
−本発明の第一の実施態様により、一定電位−130Vで分極させた基材上に、第二堆積工程の際に酸素流量10sccmを投入し、マグネトロン陰極スパッタリングにより得た、C2被覆と呼ぶAgGeSn被覆、
−本発明の第二の実施態様により、第一堆積工程の際に一定電位−130Vで、次いで第二堆積工程の際に第二の一定電位−300Vで分極させた基材上に、第二堆積工程の際に酸素流量10sccmを投入し、マグネトロン陰極スパッタリングにより得た、C3被覆と呼ぶAgGeSn被覆
に対して行った。
Claims (11)
- 1個の主要層(1)および1個の酸化された薄膜(2)の積重構造を含んでなる銀系材料被覆であって、前記酸化された薄膜(2)が、10nm〜1μmの厚さを有し、前記薄膜(2)と前記主要層(1)との間の界面(3)から前記薄膜(2)の自由表面(2a)に向かって減少して行く銀濃度勾配を有する、被覆。
- 前記酸化された薄膜(2)が、前記薄膜(2)と前記主要層(1)との間の前記界面(3)から前記薄膜(2)の前記自由表面(2a)に向かって増加して行く酸素濃度勾配を有する、請求項1に記載の被覆。
- 前記銀系材料が、少なくとも一種の酸化し得る合金化元素を含む銀系合金である、請求項1または2に記載の被覆。
- 前記酸化し得る合金化元素が、スズ、インジウム、亜鉛、ゲルマニウム、アルミニウム、マグネシウム、マンガンおよびチタンから選択される、請求項3に記載の被覆。
- 前記薄膜(2)が、前記薄膜(2)と前記主要層(1)との間の前記界面(3)から前記薄膜(2)の前記自由表面(2a)に向かって増加して行く合金化元素濃度勾配を有する、請求項3または4に記載の被覆。
- 前記酸化された薄膜(2)の厚さが100nm〜1μmである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の被覆。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の被覆を支持体上に堆積させる方法であって、少なくとも2つの連続した、それぞれ前記主要層(1)および前記酸化された薄膜(2)の物理的蒸着工程を含んでなる、方法
- 前記堆積工程が、マグネトロン陰極スパッタリングによる堆積工程である、請求項7に記載の方法
- 前記支持体が、前記主要層(1)の前記堆積工程の際に、一定の陰性第一分極電位に、および前記酸化された薄膜(2)の前記堆積工程の際に、前記第一電位より低い一定の陰性第二分極電位にかけられる、請求項8に記載の方法
- 前記酸化された薄膜(2)の前記堆積工程の際に、酸素が投入される、請求項8または9に記載の方法
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の被覆の、宝飾品、抗菌装置または接続装置への使用。
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