JP2007123485A - 形状シミュレーション方法、プログラム及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シミュレーション環境構築部16は複数の格子点を直交配置したシミュレーション用の三次元仮想空間を構築すると共に、複数の格子点毎に情報を格納する記憶領域を記憶ステップに確保する。表面形状処理部18は三次元仮想空間で素材の表面形状を製造プロセス条件に従って逐次的に成長変化させ、各格子点毎に素材の表面からの距離を表すレベル値を算出し、レベル値を対応する格子点の記憶領域に格納して表面形状を表現する。素材内部情報処理部20は素材の成長変化により表面が格子点を通過した際に、素材内部の素材内部情報を算出し、素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納する。
【選択図】 図1
Description
複数の格子点を交配置したシミュレーション用の二次元または三次元の仮想空間を構築すると共に、複数の格子点毎に情報を格納する記憶領域を記憶部に確保するシミュレーション環境構築ステップと、
仮想空間で素材の表面形状を製造プロセス条件に従って逐次的に成長変化させ、各格子点毎に素材の表面からの距離を表すレベル値を算出し、レベル値を対応する格子点の記憶領域に格納して表面形状を表現する表面形状処理ステップと、
素材の成長変化により表面が格子点を通過した際に、素材内部の素材内部情報を算出し、素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納する素材内部情報処理ステップと、
を備えたことを特徴とする。
複数の格子点を配置したシミュレーション用の仮想空間を構築すると共に、複数の格子点毎に情報を格納する記憶領域を記憶ステップに確保するシミュレーション環境構築ステップと、
仮想空間で素材の表面形状を製造プロセス条件に従って逐次的に成長変化させ、各格子点毎に素材の表面からの距離を表すレベル値を算出し、レベル値を対応する格子点の記憶領域に格納して表面形状を表現する表面形状処理ステップと、
素材の成長変化により表面が格子点を通過した際に、素材内部の素材内部情報を算出し、素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納する素材内部情報処理ステップと、
を実行させることを特徴とする。
複数の格子点を配置したシミュレーション用の仮想空間を構築すると共に、複数の格子点毎に情報を格納する記憶領域を記憶部に確保するシミュレーション環境構築部と、
仮想空間で素材の表面形状を製造プロセス条件に従って逐次的に成長変化させ、各格子点毎に素材の表面からの距離を表すレベル値を算出し、レベル値を対応する格子点の記憶領域に格納して表面形状を表現する表面形状処理部と、
素材の成長変化により表面が格子点を通過した際に、素材内部の素材内部情報を算出し、素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納する素材内部情報処理部と、
を備えたことを特徴とする。
(付記)
(付記1)
複数の格子点を配置したシミュレーション用の二次元または三次元の仮想空間を構築すると共に、前記複数の格子点毎に情報を格納する記憶領域を記憶部に確保するシミュレーション環境構築ステップと、
前記仮想空間で素材の表面形状を製造プロセス条件に従って逐次的に成長変化させ、各格子点毎に前記素材の表面からの距離を表すレベル値を算出し、前記レベル値を対応する格子点の記憶領域に格納して前記表面形状を表現する表面形状処理ステップと、
前記素材の成長変化により前記表面が格子点を通過した際に、素材内部情報を算出し、前記素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納する素材内部情報処理ステップと、
を備えたことを特徴とする形状シミュレーション方法。(1)
付記1記載の形状シミュレーション方法に於いて、更に、前記格子点以外の座標点が指定された際に、前記指定座標点が含まれる立方体を構成する格子点の素材内部情報に基づいて前記指定座標点の素材内部情報を補間計算する補間処理ステップを設けたことを特徴とする形状シミュレーション方法。(2)
付記1記載の形状シミュレーション方法に於いて、前記素材内部情報処理ステップは、前記表面形状処理ステップにおけるレベル値が更新前と更新後で符号が反転したか否か判別し、符号反転を判別した場合に素材内部情報を算出し、前記素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納することを特徴とする形状シミュレーション方法。(3)
付記1記載の形状シミュレーション方法に於いて、前記素材内部情報処理ステップにより算出して格納する素材内部情報は、素材表面の成長方向を示す成長ベクトルであることを特徴とする形状シミュレーション方法。
付記1記載の形状シミュレーション方法に於いて、前記素材内部情報処理ステップにより算出して格納する素材内部情報は、素材を生成する複数成分の成分比率であることを特徴とする形状シミュレーションプログラム。
複数の格子点を配置したシミュレーション用の仮想空間を構築すると共に、前記複数の格子点毎に情報を格納する記憶領域を記憶ステップに確保するシミュレーション環境構築ステップと、
前記仮想空間で素材の表面形状を製造プロセス条件に従って逐次的に成長変化させ、各格子点毎に前記素材の表面からの距離を表すレベル値を算出し、前記レベル値を対応する格子点の記憶領域に格納して前記表面形状を表現する表面形状処理ステップと、
前記素材の成長変化により前記表面が格子点を通過した際に、素材内部の素材内部情報を算出し、前記素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納する素材内部情報処理ステップと、
を実行させることを特徴とする形状シミュレーションプログラム。(4)
付記6記載の形状シミュレーションプログラムに於いて、更に、前記格子点以外の座標点が指定された際に、前記指定座標点が含まれる立方体を構成する格子点の素材内部情報に基づいて前記指定座標点の素材内部情報を補間計算する補間処理ステップを設けたことを特徴とする形状シミュレーションプログラム。
付記6記載の形状シミュレーションプログラムに於いて、前記素材内部情報処理ステップは、前記表面形状処理ステップにおけるレベル値が更新前と更新後で符号が反転したか否か判別し、符号反転を判別した場合に素材内部情報を算出し、前記素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納することを特徴とする形状シミュレーションプログラム。
付記6記載の形状シミュレーションプログラムに於いて、前記素材内部情報処理ステップにより算出して格納する素材内部情報は、素材表面の成長方向を示す成長ベクトルであることを特徴とする形状シミュレーションプログラム。
付記6記載の形状シミュレーションプログラムに於いて、前記素材内部情報処理ステップにより算出して格納する素材内部情報は、素材を生成する複数成分の成分比率であることを特徴とする形状シミュレーションプログラム。
複数の格子点を配置したシミュレーション用の仮想空間を構築すると共に、前記複数の格子点毎に情報を格納する記憶領域を記憶部に確保するシミュレーション環境構築部と、
前記仮想空間で素材の表面形状を製造プロセス条件に従って逐次的に成長変化させ、各格子点毎に前記素材の表面からの距離を表すレベル値を算出し、前記レベル値を対応する格子点の記憶領域に格納して前記表面形状を表現する表面形状処理部と、
前記素材の成長変化により前記表面が格子点を通過した際に、素材内部の素材内部情報を算出し、前記素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納する素材内部情報処理部と、
を備えたことを特徴とする形状シミュレーション装置。(5)
付記11記載の形状シミュレーション装置に於いて、更に、前記格子点以外の座標点が指定された際に、前記指定座標点が含まれる立方体を構成する格子点の素材内部情報に基づいて前記指定座標点の素材内部情報を補間計算する補間処理部を設けたことを特徴とする形状シミュレーション装置。
付記11記載の形状シミュレーション装置に於いて、前記素材内部情報処理部は、前記表面形状処理部におけるレベル値が更新前と更新後で符号が反転したか否か判別し、符号反転を判別した場合に素材内部情報を算出し、前記素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納することを特徴とする形状シミュレーション装置。
付記11記載の形状シミュレーション装置に於いて、前記素材内部情報処理部により算出して格納する素材内部情報は、表面の成長方向を示す成長ベクトルであることを特徴とする形状シミュレーション装置。
付記11記載の形状シミュレーション装置に於いて、前記素材内部情報処理部により算出して格納する素材内部情報は、素材を生成する複数成分の成分比率であることを特徴とする形状シミュレーション装置。
12:入力デバイス
12−1:製造プロセス
12−2:素材内部情報
14:表示デバイス
15:シミュレーション環境構築部
16:表面形状処理部
18:素材内部情報処理部
20:シミュレーション結果ファイル
22:補間処理部
24:プロセス条件設定部
25:プロセス条件計算部
26:レベル値計算部
28:符号反転判別部
30:レベル値更新部
32:記録領域形成部
34:素材内部情報計算部
36:素材内部情報記録部
40:CPU
42:バス
44:RAM
46:ROM
48:ハードディクドライブ
50:デバイスインタフェース
52:キーボード
54:マウス
56:ディスプレイ
58:ネットワークアダプタ
60:格子点識別番号
62:基板
64:素材
66−1〜66−3:成長膜
72:直交格子空間
74−1,74−2,74−11=74−14,74−21〜74−24:格子点
76−1,76−2:表面
78:メモリ領域
80:レベル値
82:成長ベクトル
84:組成比率
Claims (5)
- 複数の格子点を配置したシミュレーション用の二次元または三次元の仮想空間を構築すると共に、前記複数の格子点毎に情報を格納する記憶領域を記憶部に確保するシミュレーション環境構築ステップと、
前記仮想空間で素材の表面形状を製造プロセス条件に従って逐次的に成長変化させ、各格子点毎に前記素材の表面からの距離を表すレベル値を算出し、前記レベル値を対応する格子点の記憶領域に格納して前記表面形状を表現する表面形状処理ステップと、
前記素材の成長変化により前記表面が格子点を通過した際に、素材内部情報を算出し、前記素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納する素材内部情報処理ステップと、
を備えたことを特徴とする形状シミュレーション方法。
- 請求項1記載の形状シミュレーション方法に於いて、更に、前記格子点以外の座標点が指定された際に、前記指定座標点が含まれる立方体を構成する格子点の素材内部情報に基づいて前記指定座標点の素材内部情報を補間計算する補間処理ステップを設けたことを特徴とする形状シミュレーション方法。
- 請求項1記載の形状シミュレーション方法に於いて、前記素材内部情報処理ステップは、前記表面形状処理ステップにおけるレベル値が更新前と更新後で符号が反転したか否か判別し、符号反転を判別した場合に素材内部情報を算出し、前記素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納することを特徴とする形状シミュレーション方法。
- コンピュータに、
複数の格子点を配置したシミュレーション用の仮想空間を構築すると共に、前記複数の格子点毎に情報を格納する記憶領域を記憶ステップに確保するシミュレーション環境構築ステップと、
前記仮想空間で素材の表面形状を製造プロセス条件に従って逐次的に成長変化させ、各格子点毎に前記素材の表面からの距離を表すレベル値を算出し、前記レベル値を対応する格子点の記憶領域に格納して前記表面形状を表現する表面形状処理ステップと、
前記素材の成長変化により前記表面が格子点を通過した際に、素材内部の素材内部情報を算出し、前記素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納する素材内部情報処理ステップと、
を実行させることを特徴とする形状シミュレーションプログラム。
- 複数の格子点を配置したシミュレーション用の仮想空間を構築すると共に、前記複数の格子点毎に情報を格納する記憶領域を記憶部に確保するシミュレーション環境構築部と、
前記仮想空間で素材の表面形状を製造プロセス条件に従って逐次的に成長変化させ、各格子点毎に前記素材の表面からの距離を表すレベル値を算出し、前記レベル値を対応する格子点の記憶領域に格納して前記表面形状を表現する表面形状処理部と、
前記素材の成長変化により前記表面が格子点を通過した際に、素材内部の素材内部情報を算出し、前記素材内部情報を対応する格子点の記憶領域に格納する素材内部情報処理部と、
を備えたことを特徴とする形状シミュレーション装置。
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Families Citing this family (3)
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---|---|---|---|---|
JP4778558B2 (ja) * | 2006-08-30 | 2011-09-21 | 富士通株式会社 | 有限要素法と境界要素法による結合方程式の高速演算処理方法 |
JP5165907B2 (ja) * | 2007-03-06 | 2013-03-21 | 株式会社東芝 | 成膜形状シミュレーション方法及び電子デバイスの製造方法 |
JP5422063B2 (ja) * | 2011-12-06 | 2014-02-19 | 株式会社Jsol | シミュレーション装置、シミュレーション方法及びコンピュータプログラム |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001274152A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Toshiba Corp | 成膜プロセス評価装置、成膜プロセス評価方法、成膜プロセス評価プログラムを格納したコンピュータ読取り可能な記録媒体および半導体素子製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0449422B1 (en) * | 1990-02-26 | 1997-06-18 | Nec Corporation | Semiconductor memory device |
JP3255469B2 (ja) * | 1992-11-30 | 2002-02-12 | 三菱電機株式会社 | レーザ薄膜形成装置 |
TW442693B (en) * | 1997-02-24 | 2001-06-23 | Seiko Epson Corp | Color filter and its manufacturing method |
JP3388203B2 (ja) | 1999-05-28 | 2003-03-17 | 株式会社半導体先端テクノロジーズ | 形状シミュレーション方法、装置および記録媒体 |
JP2001117213A (ja) * | 1999-08-10 | 2001-04-27 | Nikon Corp | フォトマスク、該フォトマスクの製造方法、該フォトマスクを扱う投影露光装置、及び投影露光方法 |
US20050174473A1 (en) * | 1999-11-18 | 2005-08-11 | Color Kinetics, Inc. | Photography methods and systems |
JP2001168000A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-06-22 | Nikon Corp | 露光装置の製造方法、および該製造方法によって製造された露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法 |
US6534751B2 (en) * | 2000-02-28 | 2003-03-18 | Kyocera Corporation | Wafer heating apparatus and ceramic heater, and method for producing the same |
EP1367150B1 (en) * | 2001-02-14 | 2009-08-19 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Production method for semiconductor crystal and semiconductor luminous element |
US6488771B1 (en) * | 2001-09-25 | 2002-12-03 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Method for growing low-defect single crystal heteroepitaxial films |
KR100504693B1 (ko) * | 2003-02-10 | 2005-08-03 | 삼성전자주식회사 | 강유전체 메모리 소자 및 그 제조방법 |
JP4314462B2 (ja) * | 2003-07-25 | 2009-08-19 | 信越化学工業株式会社 | フォトマスクブランク用基板の製造方法 |
-
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001274152A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Toshiba Corp | 成膜プロセス評価装置、成膜プロセス評価方法、成膜プロセス評価プログラムを格納したコンピュータ読取り可能な記録媒体および半導体素子製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9152741B2 (en) | 2012-01-17 | 2015-10-06 | Sony Corporation | Three-dimensional shape generation method, program, and recording medium |
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