JP2007119438A - 有機ケイ素化合物 - Google Patents
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Abstract
Description
J. Am. Chem. Soc., 122 (2000), 6979- Chemistry of Materials, 8 (1996), 1592- Macromolecules, 29 (1996), 2327- Chem. Rev., 101 (2001), 2921-
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−、またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは付加重合性単量体に対する重合開始能を有する基である。
[2] Aが付加重合性単量体に対するリビングラジカル重合開始能を有する基である、[1]項に記載のケイ素化合物。
ここに、Z1は3〜20個の炭素原子を有するアルキレンであり、そしてこのアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;R3は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、R4は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、X1はハロゲンである:
ここに、Z3は炭素原子の数が2〜10であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R5は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;X2はハロゲンであり;ベンゼン環への−SO2X2の結合位置は、Z3の結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり;R5の結合位置は、Z3および−SO2X2のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である:
ここに、Z5は炭素原子の数が2〜10であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;X3はハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ5の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ5およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
ここに、Z5は炭素原子の数が2〜10であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R7およびR8は独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであって、R7およびR8は互いに結合してNと共に環を形成してもよく;そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ5の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ5およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。
ここに、Z1は3〜20個の炭素原子を有するアルキレンであり、そしてこのアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;R3は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、R4は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そしてX1はハロゲンである。
ここに、Z3は炭素原子の数が2〜10であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R5は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;X2はハロゲンであり;ベンゼン環への−SO2X2の結合位置は、Z3の結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり;R5の結合位置は、Z3および−SO2X2のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。
ここに、Z5は炭素原子の数が2〜10であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;X3はハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ5の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ5およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。
ここに、Z5は炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R7およびR8は独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであって、R7およびR8は互いに結合してNと共に環を形成してもよく;そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ5の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ5およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−、またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、A1は式(2−1−1)で示される基である:
ここに、Z2は1〜18個の炭素原子を有するアルキレンであって、このアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;R3は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、R4は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、X1はハロゲンである;
式(3−1)で示される化合物に式(4)で示される化合物を反応させることにより、式(5)で示される化合物を得る工程:
ここに、これらの式において、R1およびR2は式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である;
遷移金属触媒の存在下で、式(5)で示される化合物に式(6)で示される化合物を反応させることにより、式(7)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、これらの式において、Z2は式(2−1−1)におけるZ2と同一の意味を有し、R1およびR2は式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する;
式(7)で示される化合物に、式(8)で示される化合物を反応させることにより、式(1−1)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、R3、R4およびX1は式(2−1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Xはハロゲンである。
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、A1は式(2−1−1)で示される基である:
ここに、Z2は単結合または1〜18個の炭素原子を有するアルキレンであり、そしてこのアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;R3は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、R4は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、X1はハロゲンである。
式(3−2)で示される化合物に式(4)で示される化合物を反応させることにより、式(5)で示される化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR1およびR2は、式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。
遷移金属触媒の存在下で、式(5)で示される化合物に式(6)で示される化合物を反応させることにより、式(7)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、これらの式において、Z2は式(2−1−1)におけるZ2と同一の意味を有し、R1およびR2は式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。
式(7)で示される化合物に、式(8)で示される化合物を反応させることにより、式(1−1)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、R3、R4およびX1は式(2−1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Xはハロゲンである。
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、A3は式(2−3−1)で示される基である:
ここに、Z6は単結合または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;X3はハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ6の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ6およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
式(4)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させることにより、式(5)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、これらの式において、R1およびR2は式(1−3)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である;
式(5)で示される化合物と式(2−3−2)で示される化合物とを反応させることにより、式(1−3)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、Z6、R6、a、Z7およびX3は式(2−3−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;ベンゼン環へのZ7およびR6の結合位置は式(2−3−1)におけるこれらの結合位置と同一である。
ここに、それぞれのR1は水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;A4は式(2−4−1)で示される基である:
ここに、Z6は単結合または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R7およびR8は独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであって、R7およびR8は互いに結合してNと共に環を形成してもよく;そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ6の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ6およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
ここに、R1およびR2は式(1−4)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;A3は式(2−3−1)で示される基である;
ここに、Z6、R6、aおよびZ7は式(2−4−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;X3はハロゲンであり;ベンゼン環へのZ7およびR6の結合位置は式(2−4−1)におけるこれらの結合位置と同一である;
ここに、R7およびR8は式(2−4−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;M1は周期律表第1族または第2族の金属元素であり;そして、pはM1の原子価と同じ値である。
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、A1は式(2−1−1)で示される基である:
ここに、Z2は1〜18個の炭素原子を有するアルキレンであって、このアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;R3は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、R4は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、X1はハロゲンである;
遷移金属触媒の存在下で、式(4)で示される化合物と式(2−1−2)で示される化合物とを反応させることによって、式(2−1−3)で示される化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR2は、式(1−1)におけるR2と同一の意味を有し;Z2、R3、R4およびX1は式(2−1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。
式(2−1−3)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させることにより、式(1−1)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR1は、式(1−1)におけるR1と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である。
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、A2は式(2−2−1)で示される基である:
ここに、Z4は単結合または1〜8個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよく;R5は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;X2はハロゲンであり;ベンゼン環への−SO2X2の結合位置は、Z4の結合位置に対してオルト位、メタ位またはパラ位であり、R5の結合位置はZ4および−SO2X2のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。
遷移金属触媒の存在下で、式(4)で示される化合物と式(2−2−2)で示される化合物とを反応させることにより、式(2−2−3)で示される化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR2は、式(1−2)におけるR2と同一の意味を有し;Z4、R5、aおよびX2は、式(2−2−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;ベンゼン環への−SO2X2およびR5の結合位置は式(2−2−1)におけるこれらの結合位置と同一である。
式(2−2−3)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させることにより、式(1−2)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR1は、式(1−2)におけるR1と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である。
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、A3は式(2−3−1)で示される基である:
ここに、Z6は単結合または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;X3はハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZ5の結合位置はZ6の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ6およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
遷移金属触媒の存在下で、式(4)で示される化合物と式(2−3−2)で示される化合物とを反応させるとこにより、式(2−3−3)で示される化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR2は、式(1−3)におけるR2と同一の意味を有し;Z6、R6、a、Z7およびX3は、式(2−3−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;ベンゼン環へのZ7およびR6の結合位置は式(2−3−1)におけるこれらの結合位置と同一である;
式(2−3−3)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させることで、式(1−3)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR1は、式(1−3)におけるR1と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である。
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、B1は式(2−1−P)で示される基である:
ここに、Z2は1〜18個の炭素原子を有するアルキレンであって、このアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;R3は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、R4は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;X1はハロゲンであり;そして、P1は付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基炭素原子の数が1〜8であってと任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、B2は式(2−2−P)で示される基である:
ここに、Z4は単結合または炭素原子の数が1〜8であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R5は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;X2はハロゲンであり;ベンゼン環への−SO2−P2−X2の結合位置は、Z4の結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり;R5の結合位置は、Z4および−SO2−P2−X2のそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり;そして、P2は付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、B3は式(2−3−P)で示される基である:
ここに、Z6は単結合または炭素原子の数が1〜8であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;X3はハロゲンであり;ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ6の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり;R6の結合位置はZ6およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり;そして、P3は付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、B4は式(2−4−P)で示される基である:
ここに、Z6は単結合または炭素原子の数が1〜8であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R7およびR8は独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであって、R7およびR8は互いに結合してNと共に環を形成してもよく;ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ6の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり;R6の結合位置はZ6およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり;そして、P4は付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。
式(1)におけるR1は、水素、アルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基である。すべてのR1が同じ1つの基であることが好ましいが、2種以上の異なる基で構成されていてもよい。8個のR1が異なる基で構成される場合の例は、2種以上のアルキルで構成される場合、2種以上のアリールで構成される場合、2種以上のアリールアルキルで構成される場合、水素と少なくとも1種のアリールとで構成される場合、少なくとも1種のアルキルと少なくとも1種のアリールとで構成される場合、少なくとも1種のアルキルと少なくとも1種のアリールアルキルとで構成される場合、少なくとも1種のアリールと少なくとも1種のアリールアルキルとで構成される場合である。これらの例以外の組み合わせでもよい。少なくとも2種の異なるR1を有する化合物(1)は、これを製造する際に2種以上の原料を用いることにより得ることができる。この原料については後に述べる。
である。
式(2−1)における記号の意味は次の通りである。Z1は3〜20個の炭素原子を有するアルキレンであり、そしてこのアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよい。R3は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、R4は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルである。そして、X1はハロゲンである。
式(2−2)における記号の意味は次の通りである。Z3は炭素原子の数が2〜10であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンである。R5は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数である。X2はハロゲンである。ベンゼン環への−SO2X2の結合位置は、Z3の結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位である。R5の結合位置は、Z3および−SO2X2のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。
式(1−2)におけるR1およびR2は、式(1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。そして、A2は式(2−2−1)で示される基である。
式(2−3)における記号の意味は次の通りである。Z5は炭素原子の数が2〜10であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンである。R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数である。Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンである。X3はハロゲンである。そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ5の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ5およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。
式(1−3)におけるR1およびR2は、式(1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。そして、A3は式(2−3−1)で示される基である。
式(2−4)における記号の意味は次の通りである。Z5は炭素原子の数が2〜10であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンである。R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数である。Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンである。R7およびR8は独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであって、R7およびR8は互いに結合してNと共に環を形成してもよい。そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ5の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ5およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。
式(1−4)におけるR1およびR2は、式(1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、A4は式(2−4−1)で示される基である。
この式にけるA1は式(2−1−1)で表される基である。
式(1−1)におけるA1は式(2−1−1)で示される基である。そして、R1、R2および式(2−1−1)における記号の意味は前記の通りである。
式(3−1)において、R1は式(1)中のR1と同一の意味を有し、Mは1価のアルカリ金属原子である。アルカリ金属の好ましい例はナトリウムおよびカリウムである。最も好ましい例はナトリウムである。
式(3−2)におけるR1は式(1)におけるR1と同一の意味を有する。このような化合物は、酸と化合物(3−1)を反応させることにより、容易に得られる。この時の酸との反応においては、必要に応じて有機溶剤を使用することができる。化合物(3−1)と有機溶剤を混合し、この混合物に酸を滴下することにより反応を進行させる方法を用いることができる。
この式におけるZ2は式(2−1−1)中のZ2と同一の意味を有する。
式(7)におけるR1およびR2は式(1)におけるそれぞれの記号と同一の意味を有し、Z2は式(6)におけるZ2と同一の意味を有する。
これらの式において、Z2は式(6)におけるZ2と同一の意味を有し、R1およびR2は式(7)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、そしてTMSはトリメチルシリル基を示す。
式(8)におけるR3、R4およびX1は式(2−1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Xはハロゲンである。このハロゲンの例は塩素、臭素およびヨウ素であり、塩素および臭素が好ましい。X1とXは同一であっても異なっていてもよい。
式(2−1−2)におけるZ2は、式(6)におけるZ2と同一の意味を有し、X1、R3およびR4は、式(8)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。
式(2‐1‐3)におけるZ2は、式(6)におけるZ2と同一の意味を有し、R2は、式(1−1)と同一の意味を有し、X1、R3およびR4は、式(8)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。
これらの式において、Z4は単結合または1〜8個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−、または−COO−で置き換えられてもよく;R5、X2およびaは、式(2−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、ベンゼン環への−SO2X2−の結合位置は、Z4の結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり、R5の結合位置は、Z4および−SO2X2−のそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり;そして、R2は式(1−2)におけるR2と同一の意味を有する。
式(2−3−2)における記号は、式(2−3−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。
式(1−4)中のA4は式(2−4−1)で示される基である。そして、R1、R2および式(2−4−1)における記号の意味は前記の通りである。
式(9)におけるR7およびR8は、式(2−4−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、M1は周期律表第1族または第2族の金属元素であり、そしてpはM1の原子価と同じ値である。M1の例は、Li、Na、K、Cu、Mg、CaおよびZnである。M1の好ましい例はNaおよびKである。
式(2−4−2)における記号は式(2−4−1)におけるこれらの記号と記号と同一の意味を有し、ベンゼン環へのZ7およびR6の結合位置も式(2−4−1)におけるこれらの記号の結合位置と同一である。
式(2−3−3)において、R2は式(4)におけるR2と同一の意味を有し;他の記号は式(2−3−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;そして、ベンゼン環へのZ7およびR6の結合位置は式(2−3−2)におけるこれらの記号の結合位置と同一である。
式(1−1−2)において、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、A1は前記の式(2−1−1)で示される基である。
式(P−1)において、R11およびR2は式(1−1−2)におけるこれらの記号と同じ意味を有し、B1は式(2−1−P)で示される基である:
式(2−1−P)において、Z2、R3、R4およびX1は、式(2−1−1)におけるこれらの記号と同じ意味を有し、そしてP1は付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。
式(1‐2‐2)において、R11およびR2は式(1−1−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、そしてA2は前記の式(2−2−1)で示される基である。
式(P−2)において、R11およびR2は、式(1−2−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、そしてB2は式(2−2−P)で示される基である。
式(2−2−P)において、Z4、R5、a、R4およびX2は、式(2−2−1)におけるこれらの記号と同じ意味を有し、P2は付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖であり、そしてベンゼン環への−SO2−およびR5の結合位置は、式(2−2−1)におけるそれぞれの結合位置と同一である。
式(1−3−2)において、R11およびR2は式(1−1−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、そしてA3は前記の式(2−3−1)で示される基である。
式(P−3)において、R11およびR2は、式(1−3−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、そしてB3は式(2−3−P)で示される基である。
式(2−3−P)において、Z6、R6、a、Z7およびX3は、式(2−3−1)におけるこれらの記号と同じ意味を有し、P3は付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖であり、そしてベンゼン環へのZ7およびR6の結合位置は、式(2‐3−1)におけるそれぞれの結合位置と同一である。
Mn=(単量体の消費率(モル%)/100)×MWM×(α−ハロエステル基に対する付加重合性単量体のモル倍率)+MWI
この計算式において、Mnは理論数平均分子量、MWMは付加重合性単量体の分子量、MWIはα−ハロエステル基の分子量である。前記の数平均分子量範囲を有する重合体を得ようとする場合には、付加重合性単量体/α−ハロエステル基のモル比を、およそ2/1〜およそ40000/1、好ましくはおよそ10/1〜およそ5000/1の範囲から選択できる。またこの数平均分子量は、重合時間を変化させることによって調整することもできる。
Mn=(単量体の消費率(モル%)/100)×MWM×(化合物(1−1−2)に対する付加重合性単量体のモル倍率)+MWI
この計算式において、Mnは理論数平均分子量、MWMは付加重合性単量体の分子量、MWIは化合物(1−1−2)の分子量である。
式(1−4−2)において、R11およびR2は、式(1−1−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、A4は前記の式(2−4−1)で示される基である。
式(P−4)において、R11およびR2は、式(1−4−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、B4は式(2−4−P)で示される基である。
式(2−4−P)において、P4は付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖であり、その他の記号は式(2−4−1)におけるそれぞれの記号と同一の意味を有し、そしてベンゼン環へのR6およびZ7の結合位置は式(2−4−1)におけるそれぞれの結合位置と同一である。
Ph:フェニル
TMS:トリメチルシリル
Mn:数平均分子量
Mw:重量平均分子量
EDTA・2Na:エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム・二水和物
装置:日本分光株式会社製、JASCO GULLIVER 1500 (インテリジェント示差屈折率計 RI-1530)
溶剤:テトラヒドロフラン(THF)
流速:1ml/min
カラム温度:40℃
使用カラム: 東ソー株式会社製の下記のカラム(直列につないで使用)
TSKguardcolumn HXL-L(GUARDCOLUMN)
TSKgel G1000HxL(排除限界分子量(ポリスチレン):1,000)
TSkgel G2000HxL(排除限界分子量(ポリスチレン):10,000)
較正曲線用標準試料:Polymer Laboratories社製、Polymer Standards (PL), Polystyrene
<化合物(3−1−1):式(3−1)においてR1がフェニルであり、そしてMがNaである化合物の合成>
還流冷却器、温度計、撹拌装置を備えた内容積50リットルの反応容器に、フェニルトリメトキシシラン(6.54kg)、2−プロパノール(26.3リットル)、純水(0.66kg)、および水酸化ナトリウム(0.88kg)を仕込み、乾燥窒素でシールした。撹拌しながら加熱し、還流状態で5時間反応させた。反応終了後、反応容器から加熱器を取り外し、この容器を室温下に15時間放置して、反応混合物を冷却した。このようにして得られた反応混合物から、デカンテーションによって上澄み液を除去した。そして、反応容器に残った白色固体を、2−プロパノール(9.87kg)で1回洗浄した。これをポリテトラフルオロエチレンシートで内張したステンレス製バットに移し、減圧乾燥機を用いて、庫内温度80℃、圧力6.7×10−4MPaで24時間乾燥して、2.22kgの白色粉末状の化合物(A−1)を得た。
<化合物(A−1)へのトリメチルシリル基の導入>
還流冷却器を取り付けた50mlの4つ口フラスコに、化合物(A−1)(1.2g)、テトラヒドロフラン(10g)、およびトリエチルアミン(1.6g)を投入し、乾燥窒素にてシールした。マグネチックスターラーによる攪拌下で、溶液温度を15℃〜20℃に保ちながらトリメチルクロロシラン(2.2g)を約1分間で滴下した。滴下終了後、15℃で3.5時間撹拌を続けた。反応終了後、純水で洗浄し、真空乾燥して白色固形物(1.2g)を得た。これを化合物(A−T)とする。
<化合物(5−1):式(5)においてR1がフェニルであり、R2がメチルである有機ケイ素化合物の合成>
滴下漏斗、温度計、および還流冷却器を取り付けた内容積300ミリリットルの3つ口フラスコに、撹拌子、実施例1の方法を利用して得られた化合物(3−1−1)(11.6g)、テトラヒドロフラン(100g)仕込み、乾燥窒素にてシールした。マグネチックスターラーで撹拌しながら、メチルジクロロシラン(3.4g)を滴下した。滴下終了後室温で1時間攪拌した。反応終了後、純水50gを投入して、生成した塩化ナトリウムを溶解するとともに、未反応のメチルジクロロシランを加水分解した。このようにして得られた反応混合物を分液漏斗に移し有機層と水層とに分離した。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄した後、中性になるまで水洗を繰り返した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ロータリーエバポレータで減圧濃縮した。そして得られた残渣をメタノールで洗浄し、乾燥して6.9gの白色粉末状固体を得た。この化合物は下記解析データから、式(5−1)で表される構造を有していることが示唆された。
1H NMR (400MHz, CDCl3, TMS 標準:δ=0.0 ppm): 0.37 (s, 6H), 4.99 (s, 2H), 7.15〜7.56 (m, 40H).
29Si NMR (79MHz, CDCl3, TMS 標準:δ=0.0 ppm): -32.78 (s, 2Si), -77.91 (s, 4Si), -79.39 (t, 4Si).
<ヒドロキシエトキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
還流冷却器、滴下漏斗、温度計および攪拌子を備えた300mlの3つ口フラスコに、実施例3の方法を利用して得られた化合物(5−1)(15g)、テトラヒドロフラン(150g)、および白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体/キシレン溶液(白金含有量:3.0重量%、50μl)を仕込み、乾燥窒素でシールした。さらに、還流状態まで加熱し、マグネチックスターラーで攪拌した。その後、エチレングリコールモノアリルエーテル(4g)、およびトルエン(4g)の混合溶液を滴下し、1時間反応を継続した。そして、反応液をサンプリングしIR分析を行った結果、Si−H基を示唆する2138cm−1の吸収が消失していることを確認した。ついで反応液に粉末活性炭(0.8g)を加え1.5時間攪拌した。そして活性炭を濾過により除去したのち減圧濃縮を行い白色粉末状固体15.4gを得た。この化合物は下記の解析データから、式(7−1)で表される構造を有していることが示唆された。
1H NMR (400MHz, CDCl3, TMS 標準:δ=0.0 ppm): 0.31 (d, 6H), 0.73 (s, 4H), 1.69 (s, 4H), 1.92 (s, 2H), 3.29 (s, 8H), 3.52 (s, 4H), 7.21〜7.53 (m, 40H).
13C NMR (100MHz, CDCl3, TMS 標準:δ=0.0 ppm): 0.90, 13.68, 23.73, 62.68, 72.40, 74.40, 128.72〜135.07.
29Si NMR (79MHz, CDCl3, TMS 標準:δ=0.0 ppm): -17.43, -78.69, -79.54, -79.63, -79.71.
<2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシエトキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
アルゴン雰囲気下、内容積300mlのなす型フラスコに、実施例4で得られた化合物(7−1)(10g)、モレキュラーシーブス(4A)により乾燥したトリエチルアミン(2.98g)および乾燥メチレンクロライド(90ml)を仕込んだ。マグネチックスターラーを用い、室温で撹拌しながら化合物(7−1)を溶解させた後、溶液をドライアイス−メタノール浴を用いて冷却し、液温を−78℃に保持した。ついで、この溶液に2−ブロモ−2−メチルプロパノイルブロマイド(6.78g)を速やかに加え、−78℃にて1時間撹拌した後、室温下で更に2時間撹拌した。反応終了後、トリエチルアミン−臭酸塩を濾過により除去した。得られた反応液にメチレンクロライド(50ml)を加え、炭酸水素ナトリウム水溶液(1%、100ml)による2回の洗浄、および水(100ml)による2回の洗浄を順次行ってから、無水硫酸マグネシウム(5g)にて乾燥した。その後、ロータリーエバポレータを用い、室温下でこの溶液を濃縮して液量を約15mlとした。この濃縮液(15ml)にメタノール(100ml)を加えて、白色固体成分を相分離させた。その後、−35℃の冷凍庫に静置して、白色固体成分の相分離を十分に行わせた後、デカンテーションによってこの成分を取得した。この白色固体成分を40℃で3時間減圧乾燥して白色粉末状固体を得た(11.8g)。
1H NMR (400MHz, CDCl3, TMS 標準:δ=0.0 ppm): 0.31 (s, 6H), 0.74 (s, 4H), 1.667 (t, 4H), 1.85 (s, 12H), 3.33 (t, 4H), 3.43 (t, 4H), 4.02 (t, 4H), 7.19〜7.53 (m, 40H).
13C NMR (100MHz, CDCl3, TMS 標準:δ=0.0 ppm): 0.99, 13.74, 23.80, 31.72, 56.73,66.15, 68.92, 74.45, 128.81〜135.20.
29Si NMR (79MHz, CDCl3, TMS 標準:δ=0.0 ppm): -17.36, -78.69, -79.54, -79.63, -79-71.
<重合用溶液の調製>
紫外線がカットされたドラフト内において、耐熱ガラス製アンプルに臭化第一銅を導入し、さらに実施例5で得られた化合物(1−1−3)、メタクリル酸メチルおよびL−(−)−スパルテインのアニソール溶液を加え、液体窒素を用いて速やかに冷却した。その後、油回転ポンプが装着された真空装置にて凍結真空脱気(圧力:1.0Pa)を3回行い、真空の状態を保持したまま、ハンドバーナーを用いて速やかにアンプルを封じた。このとき、この重合用溶液における化合物(1−1−3)、メタクリル酸メチル、臭化第一銅およびL−(−)−スパルテインの割合を、この順のモル比で1:600:2:4とし、アニソールの使用量をメタクリル酸メチルの濃度が50重量%となる量とした。
上記の耐熱ガラス製アンプルを恒温振とう浴中にセットして重合させ、重合体(a)の褐色で粘ちょうな溶液を得た。このとき、重合温度は70℃であり、重合時間は0.5時間であった。この重合反応系におけるモノマー転化率は、濃度が既知のポリ(メチル メタアクリレート)のGPC測定から得られたピーク面積を基準として解析した。得られた重合体(a)をヘキサンによる再沈殿精製により回収し、この重合体(a)の酢酸エチル溶液(5重量%)を調製し、EDTA・2Na水溶液(2重量%、100ml)と共に300ml−分液ロートにてフラッシングを行うことによって銅錯体の吸着除去を行った。さらにこの溶液をヘキサンに滴下して重合体を再沈殿させ、これを減圧乾燥(80℃、6時間)した。この重合反応系におけるモノマー転化率およびモノマー転化率より誘導される重合体(a)の理論数平均分子量、GPC測定により実測された数平均分子量および分子量分布の解析結果は、表(6−1)に示す通りであった。
なおグラフト鎖の理論分子量は、重合の開始末端であるエステル結合がフッ化水素酸処理による加水分解によって切断され、重合の停止末端がすべてBrとなっていると仮定し、下記式により計算した結果は、表6−2に示す通りであった。
<計算式>
グラフト鎖の理論Mn=(単量体消費率(モル%)/100)×MWM×(α−ブロモエステル基に対する付加重合性単量体のモル比)+MWI
<計算に用いたパラメータ>
MWM=100(メタクリル酸メチル)
α−ブロモエステル基に対する付加重合性単量体のモル比=300
MWI=167.01 (BrC(CH3)2CO2H)
フッ化水素酸(0.17ml)とアセトニトリル(0.83ml)の混合溶液を調製した。撹拌子を導入したポリプロピレン製マイクロチューブ(1.5ml)内において、この混合溶液に重合体(a)(10mg)を溶解させ、マグネチックスターラーを備えたインキュベータ内において40℃、24時間撹拌した。その後、減圧乾燥器にて80℃、3時間乾燥して、重合体を回収した。この重合体のGPC測定を行った結果は、表(6−2)に示す通りであった。
重合時間を表(6−1)に示すように変更した以外は、実施例6と同様にして重合を行い、重合体(b)〜重合体(f)のそれぞれの褐色で粘ちょうな溶液を得た。そして、それぞれの重合体について、実施例6の場合と同様にして精製を行い、モノマー転化率、理論数平均分子量、数平均分子量および分子量分布を求め、結果を表(6−1)に示した。グラフト鎖の理論数平均分子量計算、重合体のフッ化水素酸処理、GPC測定によるグラフト鎖の数平均分子量および分子量分布解析についても実施例6の場合と同様にして行い、その結果を表(6−2)に示した。
<重合用溶液の調製>
紫外線がカットされたドラフト内において、耐熱ガラス製アンプルに臭化第一銅を導入し、さらに化合物(1−1−3)、メタクリル酸メチルおよびL−(−)−スパルテインのアニソール溶液を加え、液体窒素を用いて速やかに冷却した。その後、油回転ポンプが装着された真空装置にて凍結真空脱気(圧力:1.0Pa)を3回行い、真空の状態を保持したまま、ハンドバーナーを用いて速やかにアンプルを封じた。このとき、この重合用溶液における化合物(1−1−3)、メタクリル酸メチル、臭化第一銅およびL−(−)−スパルテインの割合を、この順のモル比で1:300:2:4とし、アニソールの使用量をメタクリル酸メチルの濃度が50重量%となる量とした。
上記の耐熱ガラス製アンプルを恒温振とう浴中にセットして重合させ、重合体(2a)の褐色で粘ちょうな溶液を得た。このとき、重合温度は70℃であり、重合時間は0.25時間であった。この重合反応系におけるモノマー転化率は、濃度が既知のポリ(メチル メタアクリレート)のGPC測定から得られたピーク面積を基準として解析した。得られた重合体をヘキサンによる再沈殿精製により回収し、この重合体(2a)の酢酸エチル溶液(5重量%)を調製し、EDTA・2Na水溶液(2重量%、100ml)と共に300ml−分液ロートにてフラッシングを行うことによって銅錯体の吸着除去を行った。さらにこの溶液をヘキサンに滴下して重合体(2a)を再沈殿させ、これを減圧乾燥(80℃、6時間)した。この重合反応系におけるモノマー転化率およびモノマー転化率より誘導される重合体(2a)の理論数平均分子量、GPC測定により実測された数平均分子量および分子量分布の解析結果は、表(7−1)に示す通りであった。
なおグラフト鎖の理論分子量は、重合の開始末端であるエステル結合がフッ化水素酸処理による加水分解によって切断され、重合の停止末端がすべてBrとなっていると仮定し、下記式により計算した結果は、表7−2に示す通りであった。
<計算式>
グラフト鎖の理論Mn=(単量体消費率(モル%)/100)×MWM×(α−ブロモエステル基に対する付加重合性単量体のモル比)+MWI
<計算に用いたパラメータ>
MWM=100(メタクリル酸メチル)
α−ブロモエステル基に対する付加重合性単量体のモル比=150
MWI=167.01 (BrC(CH3)2CO2H)
フッ化水素酸(0.17ml)とアセトニトリル(0.83ml)の混合溶液を調製した。撹拌子を導入したポリプロピレン製マイクロチューブ(1.5ml)内において、この混合溶液に重合体(2a)(10mg)を溶解させ、マグネチックスターラーを備えたインキュベータ内において40℃、24時間撹拌した。その後、減圧乾燥器にて80℃、3時間乾燥して、重合体を回収した。回収した重合体のGPC測定を行った結果は、表(7−2)に示す通りであった。
重合時間を表(7−1)に示すように変更した以外は、実施例12と同様にして重合を行い、重合体(2b)〜重合体(2g)のそれぞれの褐色で粘ちょうな溶液を得た。そして、それぞれの重合体について、実施例12の場合と同様にして精製を行い、モノマー転化率、理論数平均分子量、数平均分子量および分子量分布を求め、結果を表7−1に示した。グラフト鎖の理論数平均分子量計算、重合体のフッ化水素酸処理、GPC測定によるグラフト鎖の数平均分子量および分子量分布解析についても実施例12の場合と同様にして行い、その結果を表(7−2)に示した。
<化合物(3−2−1):化合物(3−1−1)を原料とする、シラノールを有するフェニルシルセスキオキサンの合成>
滴下漏斗、温度計を備えた内容積100mlの反応容器に、実施例1で得られた化合物(3−1−1)(6g)、およびテトラヒドロフラン(50ml)を仕込み、乾燥窒素にてシールした。そして撹拌しながら氷酢酸(2.4g)を溶液温度が22〜27℃に保ちながら約10秒間で滴下した。滴下終了後、室温で1時間撹拌を継続したのちイオン交換水(20g)を滴下した。滴下終了後10分間撹拌を継続したのち、分液漏斗に移し有機層と水層を分離した。このようにして得られた有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水で1回洗浄したのち、イオン交換水で水洗を繰り返し中性とした。次いで有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、減圧濃縮して白色粉末状固体を5.3g得た。
<化合物(5−1):ヒドロシリル基を有する有機ケイ素化合物の合成>
実施例1で得られた化合物(3−1−1)の代わりに、実施例19で得られた化合物(3−2−1)を用いる以外は、実施例3と同様の操作を行うことにより、化合物(5−1)を合成することができる。
<ヒドロキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
エチレングリコールモノアリルエーテルの代わりに、アリルアルコール(化合物(5−1)に対して4.0当量以上)を用いる以外は実施例4と同様の操作を行うことにより、式(7−2)で示される化合物を合成することができる。
<2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
実施例4で得られた化合物(7−1)の代わりに、実施例21で得られた化合物(7−2)を用いる以外は、実施例5と同様の操作を行うことにより、式(1−1−4)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
<クロロメチルフェニルエチル基を有するケイ素化合物の合成>
エチレングリコールモノアリルエーテルの代わりに、クロロメチルスチレン(化合物(5−1)に対して4.0当量以上)を用いる以外は、実施例4と同様の操作を行うことにより、式(1−3−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
この式におけるCMSは、下記の式のいずれかで示される基である。
<ジチオカルバモイル基を有するケイ素化合物の合成>
実施例23で得られた化合物(1−3−3)を原料として、テトラヒドロフラン中で、N,N−ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム・3水和物(クロロメチルフェニルエチル基に対して1.0当量以上)を反応させることにより、式(1−4−3)で示されるジチオカルバモイル基を有するケイ素化合物を合成することができる。
この式におけるBDCは、下記の式のいずれかで示される基である。
<2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピルメチルジクロロシランの合成>
アリルアルコールを原料として、トリエチルアミン(水酸基に対して1.0当量以上)の存在下、メチレンクロライド中で、2−ブロモ−2−メチルプロパノイルブロマイド(水酸基に対して1.0当量以上)を反応させることにより、式(10)で示される化合物を合成する。さらに、化合物(10)とメチルジクロロシラン(アリル基に対して1.0当量以上)とを、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体/キシレン溶液(Si−H基1モルに対して遷移金属触媒原子として1×10−6〜1×10−2モル)を触媒としてヒドロシリル化反応を行うことにより、式(11−1)で示される2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピルメチルジクロロシランを合成することができる。
<2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
メチルジクロロシランの代わりに、実施例25で得られる2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピルメチルジクロロシラン(化合物(3−1−1)に対して4.0当量以上)を用いる以外は、実施例3と同様の操作を行うことにより、式(1−1−4)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
<2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
化合物(3−1−1)の代わりに、化合物(3−2−1)を用いる以外は、実施例26と同様の操作を行うことにより、式(1−1−4)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
<2‐ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシエトキシプロピルメチルジクロロシランの合成>
アリルアルコールの代わりにエチレングリコールモノアリルエーテルを用いる以外は、実施例25と同様の操作を行うことにより、式(11−2)で示される2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシエトキシプロピルメチルジクロロシランを合成することができる。
<2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシエトキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
実施例25で得られる2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピルメチルジクロロシランの代わりに、実施例28で得られる2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシエトキシプロピルメチルジクロロシラン(化合物(3−1−1)に対して4.0当量以上)を用いる以外は、実施例26と同様の操作を行うことにより、式(1−1−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
<2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシエトキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
化合物(3−1−1)の代わりに、化合物(3−2−1)を用いる以外は、実施例29と同様の操作を行うことにより、式(1−1−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
<クロロメチルフェニルエチルメチルジクロロシランの合成>
アリルアルコールの代わりにクロロメチルスチレンを用いる以外は、実施例25と同様の操作を行うことにより、式(11−3)で示されるクロロメチルフェニルエチルジメチルクロロシランを合成することができる。
この式におけるCMSは、下記のいずれかで示される基である。
<クロロメチルフェニルエチル基を有するケイ素化合物の合成>
実施例25で得られる2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピルメチルジクロロシランの代わりに、実施例31で得られるクロロメチルフェニルエチルメチルジクロロシラン(化合物(3−1−1)に対して4.0当量以上)を用いる以外は、実施例26と同様の操作を行うことにより、式(1−3−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
この式におけるCMSは、式(11−3)におけるCMSと同一である。
<クロロメチルフェニルエチル基を有するケイ素化合物の合成>
化合物(3−1−1)の代わりに、化合物(3−2−1)を用いる以外は、実施例32と同様の操作を行うことにより、式(1−3−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
<クロロスルフォニルフェニルエチルメチルジクロロシランの合成>
アリルアルコールの代わりにクロロスルフォニルスチレンを用いる以外は、実施例25と同様の操作を行うことにより、式(11−4)で示されるクロロスルフォニルフェニルエチルメチルジクロロシランを合成することができる。
この式におけるTsClは、下記のいずれかで示される基である。
<クロロスルフォニルエチル基を有するケイ素化合物の合成>
実施例25で得られる2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピルメチルジクロロシランの代わりに、実施例34で得られるクロロスルフォニルフェニルエチルメチルジクロロシラン(化合物(3−1−1)に対して4.0当量)を用いる以外は、実施例26と同様の操作を行うことにより、式(1−2−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
この式におけるTsClは、式(11−4)におけるTsClと同一である。
<クロロスルフォニルエチル基を有するケイ素化合物の合成>
化合物(3−1−1)の代わりに、化合物(3−2−1)を用いる以外は、実施例35と同様の操作を行うことにより、式(1−2−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
<秩序構造体薄膜の調製>
実施例7で得られた重合体(a)の0.25gをテトラヒドロフラン0.75gに溶解させて重合体濃度25重量%の溶液を得た。同様にして、実施例12および13で得られた重合体(2a)および(2b)のそれぞれの溶液を得た。得られたそれぞれの溶液をガラス基板に塗布し、室温下で24時間乾燥して薄膜を得た。得られた薄膜の走査型電子顕微鏡(SEM)観察を行ったところ、図1〜図3に示すような秩序構造体であることが分かった。SEM画像から見積もられた孔径は表8に示す通りであった。
Claims (53)
- 式(1)で示されるケイ素化合物:
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは付加重合性単量体に対する重合開始能を有する基である。 - Aが付加重合性単量体に対するリビングラジカル重合開始能を有する基である、請求項1に記載のケイ素化合物。
- それぞれのR1が水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−、またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2が1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aが式(2−1)、式(2−2)、式(2−3)および式(2−4)のいずれかで示される基である、請求項1に記載のケイ素化合物:
ここに、Z1は3〜20個の炭素原子を有するアルキレンであり、そしてこのアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;R3は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、R4は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、X1はハロゲンである:
ここに、Z3は炭素原子の数が2〜10であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R5は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;X2はハロゲンであり;ベンゼン環への−SO2X2の結合位置は、Z3の結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり;R5の結合位置は、Z3および−SO2X2のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である:
ここに、Z5は炭素原子の数が2〜10であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;X3はハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ5の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ5およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
ここに、Z5は炭素原子の数が2〜10であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R7およびR8は独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであって、R7およびR8は互いに結合してNと共に環を形成してもよく;そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ5の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ5およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。 - それぞれのR1が水素、および1〜30個の炭素原子を有するアルキルから独立して選択される基であり;このアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよい、請求項3に記載のケイ素化合物。
- それぞれのR1が任意の水素がハロゲンまたは1〜10個の炭素原子を有するアルキルで置き換えられてもよいフェニルおよび非置換のナフチルから独立して選択される基であり;フェニルの置換基であるアルキルにおいて、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−、シクロアルキレン、またはフェニレンで置き換えられてもよく;そして、フェニルが複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよい、請求項3に記載のケイ素化合物。
- それぞれのR1が任意の水素がハロゲンまたは1〜12個の炭素原子を有するアルキルで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜12であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから独立して選択される基であり;フェニル基の置換基であるアルキルにおいて、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−シクロアルキレン、またはフェニレンで置き換えられてもよく;そして、フェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよい、請求項3に記載のケイ素化合物。
- それぞれのR1が1〜8個の炭素原子を有するアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから独立して選択される基であり;1〜8個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−、またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;そして、フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよい、請求項3に記載のケイ素化合物。
- すべてのR1が1〜8個の炭素原子を有するアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;1〜8個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−、またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;そして、R2が1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項3に記載のケイ素化合物。
- すべてのR1がフェニルである、請求項3に記載のケイ素化合物。
- すべてのR1がフェニルであり、そしてR2がメチルである、請求項3に記載のケイ素化合物。
- すべてのR1が1〜8個の炭素原子を有するアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;1〜8個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−、またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2が1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aが式(2−1)で示される基である、請求項3に記載のケイ素化合物:
ここに、Z1は3〜20個の炭素原子を有するアルキレンであり、そしてこのアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;R3は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、R4は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そしてX1はハロゲンである。 - すべてのR1がフェニルであり;そして、Z1が炭素原子の数が3〜10であって任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンである、請求項11に記載のケイ素化合物。
- すべてのR1がフェニルであり;R2がメチルであり;そして、Z1が−C3H6−または−C3H6−O−C2H4−であり;R3およびR4がメチルであり;そしてX1が臭素である、請求項11に記載のケイ素化合物。
- すべてのR1が1〜8個の炭素原子を有するアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;1〜8個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2が1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aが式(2−2)で示される基である、請求項3に記載のケイ素化合物:
ここに、Z3は炭素原子の数が2〜10であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R5は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;X2はハロゲンであり;ベンゼン環への−SO2X2の結合位置は、Z3の結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり;R5の結合位置は、Z3および−SO2X2のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。 - すべてのR1がフェニルであり;Z3が−C2H4−Z4であり;そして、Z4が単結合、または炭素原子の数が1〜8であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンである、請求項14に記載のケイ素化合物。
- すべてのR1がフェニルであり;R2がメチルであり;Z3が−C2H4−であり;X2が塩素または臭素であり;そしてaが0である、請求項14に記載のケイ素化合物。
- すべてのR1が1〜8個の炭素原子を有するアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;1〜8個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aが式(2−3)で示される基である、請求項3に記載のケイ素化合物:
ここに、Z5は炭素原子の数が2〜10であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;X3はハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ5の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ5およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。 - すべてのR1がフェニルであり;Z5が−C2H4−Z6であり、そしてZ6が単結合または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンである、請求項17に記載のケイ素化合物。
- すべてのR1がフェニルであり;R2がメチルであり;Z5が−C2H4−であり;Z7が−CH2−であり;X3が塩素または臭素であり;そしてaが0である、請求項17に記載のケイ素化合物。
- すべてのR1が1〜8個の炭素原子を有するアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;1〜8個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−、またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2が1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aが式(2−4)で示される基である、請求項3に記載のケイ素化合物:
ここに、Z5は炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R7およびR8は独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであって、R7およびR8は互いに結合してNと共に環を形成してもよく;そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ5の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ5およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。 - すべてのR1がフェニルであり;Z5が−C2H4−Z6であり、そしてZ6が単結合または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンである、請求項20に記載のケイ素化合物。
- すべてのR1がフェニルであり;R2がメチルであり;Z5が−C2H4−であり;R7およびR8がエチルであり;Z7が−CH2−であり;そしてaが0である、請求項20に記載のケイ素化合物。
- 工程(a)、工程(b)および工程(c)を順次実施することを特徴とする、式(1−1)で示されるケイ素化合物の製造方法:
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−、またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、A1は式(2−1−1)で示される基である:
ここに、Z2は1〜18個の炭素原子を有するアルキレンであって、このアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;R3は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、R4は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、X1はハロゲンである;
<工程(a)>
式(3−1)で示される化合物に式(4)で示される化合物を反応させることにより、式(5)で示される化合物を得る工程:
ここに、これらの式において、R1およびR2は式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である;
<工程(b)>
遷移金属触媒の存在下で、式(5)で示される化合物に式(6)で示される化合物を反応させることにより、式(7)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、これらの式において、Z2は式(2−1−1)におけるZ2と同一の意味を有し、R1およびR2は式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する;
<工程(c)>
式(7)で示される化合物に、式(8)で示される化合物を反応させることにより、式(1−1)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、R3、R4およびX1は式(2−1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Xはハロゲンである。 - すべてのR1が1〜8個の炭素原子を有するアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;1〜8個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;そして、R2が1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項23に記載の製造方法。
- すべてのR1がフェニルであり;R2がメチルである、請求項23に記載の製造方法。
- 工程(d)、工程(b)および工程(c)を順次実施することを特徴とする、式(1−1)で示されるケイ素化合物の製造方法:
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、A1は式(2−1−1)で示される基である:
ここに、Z2は単結合または1〜18個の炭素原子を有するアルキレンであり、そしてこのアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;R3は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、R4は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、X1はハロゲンである。
<工程(d)>
式(3−2)で示される化合物に式(4)で示される化合物を反応させることにより、式(5)で示される化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR1およびR2は、式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。
<工程(b)>
遷移金属触媒の存在下で、式(5)で示される化合物に式(6)で示される化合物を反応させることにより、式(7)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、これらの式において、Z2は式(2−1−1)におけるZ2と同一の意味を有し、R1およびR2は式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。
<工程(c)>
式(7)で示される化合物に、式(8)で示される化合物を反応させることにより、式(1−1)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、R3、R4およびX1は式(2−1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Xはハロゲンである。 - すべてのR1が1〜8個の炭素原子を有するアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;1〜8個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;そして、R2が1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項26に記載の製造方法。
- すべてのR1がフェニルであり;R2がメチルである、請求項26に記載の製造方法。
- 工程(e)についで工程(f)を実施することを特徴とする、式(1−3)で示されるケイ素化合物の製造方法:
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、A3は式(2−3−1)で示される基である:
ここに、Z6は単結合または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;X3はハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ6の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ6およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
<工程(e)>
式(4)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させることにより、式(5)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、これらの式において、R1およびR2は式(1−3)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である;
<工程(f)>
式(5)で示される化合物と式(2−3−2)で示される化合物とを反応させることにより、式(1−3)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、Z6、R6、a、Z7およびX3は式(2−3−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;ベンゼン環へのZ7およびR6の結合位置は式(2−3−1)におけるこれらの結合位置と同一である。 - すべてのR1が炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2が1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項29に記載の製造方法。
- すべてのR1がフェニルであり;R2がメチルである、請求項29に記載の製造方法。
- 式(1−3)で示されるケイ素化合物と式(9)で示される化合物とを反応させることを特徴とする、式(1−4)で示されるケイ素化合物の製造方法:
ここに、それぞれのR1は水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;A4は式(2−4−1)で示される基である:
ここに、Z6は単結合または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R7およびR8は独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであって、R7およびR8は互いに結合してNと共に環を形成してもよく;そして、ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ6の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ6およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
ここに、R1およびR2は式(1−4)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;A3は式(2−3−1)で示される基である;
ここに、Z6、R6、aおよびZ7は式(2−4−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;X3はハロゲンであり;ベンゼン環へのZ7およびR6の結合位置は式(2−4−1)におけるこれらの結合位置と同一である;
ここに、R7およびR8は式(2−4−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;M1は周期律表第1族または第2族の金属元素であり;そして、pはM1の原子価と同じ値である。 - すべてのR1が炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2が1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項32に記載の製造方法。
- すべてのR1がフェニルであり;R2がメチルである、請求項32に記載の製造方法。
- 工程(g)についで工程(h)を実施することを特徴とする、式(1−1)で示されるケイ素化合物の製造方法:
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、A1は式(2−1−1)で示される基である:
ここに、Z2は1〜18個の炭素原子を有するアルキレンであって、このアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;R3は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、R4は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、X1はハロゲンである;
<工程(g)>
遷移金属触媒の存在下で、式(4)で示される化合物と式(2−1−2)で示される化合物とを反応させることによって、式(2−1−3)で示される化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR2は、式(1−1)におけるR2と同一の意味を有し;Z2、R3、R4およびX1は式(2−1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。
<工程(h)>
式(2−1−3)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させることにより、式(1−1)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR1は、式(1−1)におけるR1と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である。 - すべてのR1が炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2が1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項35に記載の製造方法。
- すべてのR1がフェニルであり;R2がメチルである、請求項35に記載の製造方法。
- 工程(i)についで工程(j)を実施することを特徴とする、式(1−2)で示されるケイ素化合物の製造方法:
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、A2は式(2−2−1)で示される基である:
ここに、Z4は単結合または1〜8個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよく;R5は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;X2はハロゲンであり;ベンゼン環への−SO2X2の結合位置は、Z4の結合位置に対してオルト位、メタ位またはパラ位であり、R5の結合位置はZ4および−SO2X2のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。
<工程(i)>
遷移金属触媒の存在下で、式(4)で示される化合物と式(2−2−2)で示される化合物とを反応させることにより、式(2−2−3)で示される化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR2は、式(1−2)におけるR2と同一の意味を有し;Z4、R5、aおよびX2は、式(2−2−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;ベンゼン環への−SO2X2およびR5の結合位置は式(2−2−1)におけるこれらの結合位置と同一である。
<工程(j)>
式(2−2−3)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させることにより、式(1−2)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR1は、式(1−2)におけるR1と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である。 - すべてのR1が炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2が1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項38に記載の製造方法。
- すべてのR1がフェニルであり;R2がメチルである、請求項38に記載の製造方法。
- 工程(k)についで工程(l)を実施することを特徴とする、式(1−3)で示されるケイ素化合物の製造方法:
ここに、それぞれのR1は水素、1〜45個の炭素原子を有するアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基とアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;1〜45個の炭素原子を有するアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−は−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよく;R2は1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、A3は式(2−3−1)で示される基である:
ここに、Z6は単結合または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;X3はハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZ5の結合位置はZ6の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、R6の結合位置はZ6およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
<工程(k)>
遷移金属触媒の存在下で、式(4)で示される化合物と式(2−3−2)で示される化合物とを反応させるとこにより、式(2−3−3)で示される化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR2は、式(1−3)におけるR2と同一の意味を有し;Z6、R6、a、Z7およびX3は、式(2−3−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;ベンゼン環へのZ7およびR6の結合位置は式(2−3−1)におけるこれらの結合位置と同一である;
<工程(l)>
式(2−3−3)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させることで、式(1−3)で示されるケイ素化合物を得る工程:
ここに、これらの式におけるR1は、式(1−3)におけるR1と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である。 - すべてのR1が炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2が1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項41に記載の製造方法。
- すべてのR1がフェニルであり;R2がメチルである、請求項41に記載の製造方法。
- 請求項1に記載のケイ素化合物を開始剤とし、遷移金属錯体を触媒として付加重合性単量体を重合することによって得られる重合体。
- 請求項3に記載のケイ素化合物を開始剤とし、遷移金属錯体を触媒として付加重合性単量体を重合することによって得られる重合体。
- 式(P−1)で示される重合体:
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、B1は式(2−1−P)で示される基である:
ここに、Z2は1〜18個の炭素原子を有するアルキレンであって、このアルキレンにおける任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;R3は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、R4は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;X1はハロゲンであり;そして、P1は付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。 - 式(P−2)で示される重合体:
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基炭素原子の数が1〜8であってと任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、B2は式(2−2−P)で示される基である:
ここに、Z4は単結合または炭素原子の数が1〜8であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R5は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;X2はハロゲンであり;ベンゼン環への−SO2−P2−X2の結合位置は、Z4の結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり;R5の結合位置は、Z4および−SO2−P2−X2のそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり;そして、P2は付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。 - 式(P−3)で示される重合体:
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、B3は式(2−3−P)で示される基である:
ここに、Z6は単結合または炭素原子の数が1〜8であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;X3はハロゲンであり;ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ6の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり;R6の結合位置はZ6およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり;そして、P3は付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。 - 式(P−4)で示される重合体:
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH2−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;R2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、B4は式(2−4−P)で示される基である:
ここに、Z6は単結合または炭素原子の数が1〜8であって、任意の−CH2−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R6は1〜3個の炭素原子を有するアルキルであって、aは0〜2の整数であり;Z7は炭素原子の数が1〜3であって、任意の−CH2−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;R7およびR8は独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであって、R7およびR8は互いに結合してNと共に環を形成してもよく;ベンゼン環へのZ7の結合位置はZ6の結合位置に対してメタ位またはパラ位であり;R6の結合位置はZ6およびZ7のそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり;そして、P4は付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。 - 付加重合性単量体が(メタ)アクリル酸誘導体の群およびスチレン誘導体の群から選択される少なくとも1つである、請求項46に記載の重合体。
- 付加重合性単量体が(メタ)アクリル酸誘導体の群およびスチレン誘導体の群から選択される少なくとも1つである、請求項47に記載の重合体。
- 付加重合性単量体が(メタ)アクリル酸誘導体の群およびスチレン誘導体の群から選択される少なくとも1つである、請求項48に記載の重合体。
- 付加重合性単量体が(メタ)アクリル酸誘導体の群およびスチレン誘導体の群から選択される少なくとも1つである、請求項49に記載の重合体。
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Citations (5)
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WO2003024870A1 (fr) * | 2001-09-18 | 2003-03-27 | Chisso Corporation | Derives silsesquioxane et procede de fabrication |
JP2004004612A (ja) * | 2002-03-28 | 2004-01-08 | Chisso Corp | 液晶表示パネル用シール材料 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010119903A1 (ja) * | 2009-04-14 | 2010-10-21 | チッソ株式会社 | ガラス繊維複合化シルセスキオキサン成形体とその製造方法 |
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