JP2007118119A - 砥石 - Google Patents

砥石 Download PDF

Info

Publication number
JP2007118119A
JP2007118119A JP2005312334A JP2005312334A JP2007118119A JP 2007118119 A JP2007118119 A JP 2007118119A JP 2005312334 A JP2005312334 A JP 2005312334A JP 2005312334 A JP2005312334 A JP 2005312334A JP 2007118119 A JP2007118119 A JP 2007118119A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
grindstone
polishing
fluid
pores
workpiece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005312334A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4292179B2 (ja
Inventor
Atsushi Takada
篤 高田
Yoshie Kaneko
良衛 金子
Masakazu Takatsu
雅一 高津
Natsuko Ikeda
奈津子 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nano TEM Co Ltd
Original Assignee
Nano TEM Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nano TEM Co Ltd filed Critical Nano TEM Co Ltd
Priority to JP2005312334A priority Critical patent/JP4292179B2/ja
Publication of JP2007118119A publication Critical patent/JP2007118119A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4292179B2 publication Critical patent/JP4292179B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

【課題】高精度の研磨加工を行うことができる砥石を提供する。
【解決手段】この砥石10は砥粒、結合材および気孔を有する多孔質体により形成されており、内部には流体流路17,18が形成されている。砥石10は加工面11から所定の厚みの部分は研磨層15となっており、それよりも基端面12側の部分は砥石基部16となっており、砥石基部16には流体流路17,18が形成されている。砥石基部16に形成された給排口19を介して流体流路17,18内に加圧ポンプ29からの研磨液等の流体を供給したり、真空ポンプ25を作動させて流体流路17,18内を負圧状態とすると、加工面11と被加工物Wの被加工面との間には、流体の流れが生成される。
【選択図】図2

Description

本発明は、被加工物の表面を研磨加工するための砥石に関する。
砥石は硬質の粒子つまり砥粒を結合材で固めて形成される工具である。砥石を用いた加工には、研削加工と研磨加工とがあり、習慣的には荒加工は研削加工と言われ、仕上げ加工は研磨加工と言われている。これらの加工は、砥石を被加工物つまりワークに押し付けた状態のもとで砥石と被加工物とを相対的に移動させることによって被加工物表面つまり被加工面を砥粒により多数の切りくずとして削り取る加工であって、両者は機能的には同義でありこの明細書では両者を含めて研磨加工と言う。
砥石を用いた研磨加工には、被加工物の円筒形状の外周面を加工する円筒研磨加工、被加工物の円筒形状の内周面を加工する内面研磨加工、被加工物の平坦面を加工する平面研磨加工がある。外周面や内周面を加工するための砥石としては、円筒形状の加工面が設けられた砥石が使用される。また、平面を加工するための砥石としては、外周面に加工面が設けられた円筒形の砥石または平坦な端面に加工面が設けられたカップ形、リング形およびディスク形の砥石が使用される。
シリコンウエハの表面を研磨加工するために、特許文献1に記載されるように、砥石を用いる試みがなされている。このような平面加工には平坦な加工面を有する砥石が用いられ、研磨剤を懸濁させたスラリーを研磨液として被加工面に塗布することによりCMP加工となり、被加工面に研磨液を塗布するために、砥石の気孔を介して研磨液を供給するようにしている。
特開2002−187062号公報
砥石は研磨ホルダーや研磨ヘッドに取り付けられて回転駆動されるようになっており、遊離砥粒を有する研磨液や化学研磨剤を有するスラリーを砥石の気孔を介して被加工面に塗布するには、砥石の基端面つまり研磨ヘッドに突き当てられる面と加工面との間の寸法が大きくなると、気孔相互が連なった領域が少なくなり、研磨液の通気抵抗が大きくなって研磨液を砥石の加工面まで気孔を介して透過させることができなくなるので、砥石の基端面と加工面との間の厚み寸法を薄くする必要がある。薄くすると研磨液やスラリーの通気抵抗が小さくなって気孔を透過させて研磨液等を加工面から吐出させることは可能であるが、研磨液の圧力により砥石が変形し、高精度の研磨加工を行うことができなくなる。
本発明の目的は、高精度の研磨加工を行うことができる砥石を提供することにある。
本発明の砥石は、被加工物の被加工面を研磨加工する砥石であって、砥粒、結合材および気孔を有する多孔質体により形成され前記被加工面を研磨加工する加工面が設けられた研磨層と、前記研磨層の気孔を介して前記加工面に連通する流体通路が形成され、砥粒、結合材および気孔を有する多孔質体により前記研磨層と一体に形成される砥石基部とを有し、前記砥石基部に形成され前記流体通路に連通する給排口からの加圧流体の供給ないし負圧流体の排出により前記被加工面と前記加工面との間に流体の流れを生成するようにしたことを特徴とする。
本発明の砥石は、前記研磨層を前記加工面が平坦となったディスク形状とし、前記研磨層と一体に形成される前記砥石基部をディスク形状とすることを特徴とする。
本発明の砥石は、遊離砥粒を有する研磨液、化学研磨剤を有するスラリー、またはこれらの混合物を前記流体通路および気孔を介して前記被加工物と前記加工面との間に供給することを特徴とする。
本発明の砥石は、気孔が連通した開気孔構造の多孔質体により前記研磨層を形成し、気孔が閉じられた閉気孔構造の多孔質体により前記砥石基部を形成することを特徴とする。
本発明の砥石は、前記加工面以外の砥石外面に封孔処理層または気孔が閉じられた閉気孔構造の多孔質体からなる閉気孔体層を形成することを特徴とする。
本発明の砥石は、前記砥粒をダイヤモンドとCBNのいずれかの単体またはこれらの混合体とすることを特徴とする。
本発明によれば、砥石の内部に流体流路を形成し、砥石の加工面と流体流路とを砥石を構成する多孔質体の気孔を介して連通させるようにしたので、流体流路に加圧流体を供給しても、砥石にはこれを砥石ホルダーから離す方向には大きな背圧が加わることを防止できる。これにより、化学研磨剤を有するスラリー等の流体を流体流路に加圧供給しても、砥石が砥石ホルダーから浮き上がるように変形することがない。しかも、流体流路は一体構造の砥石の内部に形成されているので、流体を流体流路に加圧供給しても砥石自体の変形発生がない。これにより、砥石の加工面の変形が防止されて高精度の研磨加工を行うことができる。
加圧流体を供給しても砥石の変形が防止されるので、加工面から所定の厚み部分の研磨層の部分を薄くすることができ、加圧流体や負圧流体の圧力を大きくすることなく、確実に流体を研磨層に気孔を介して透過させることができる。
砥石の加工面から加圧流体を流出させ、加工面から負圧流体を流入させて、加工面以外の砥石の外面からの加圧流体の流出と負圧流体の流入とを防止するために、砥石基部を閉気孔構造の多孔質体としても良く、加工面以外の外面を封孔処理するようにしても良い。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明の一実施の形態である砥石を示す斜視図であり、図2は図1に示した砥石が砥石ホルダーに取り付けられた状態を示す断面図であり、図3は図2の一部拡大断面図であり、図4は図2における4−4線に沿う方向の砥石の断面図である。
図1に示す砥石10は、全体的に円板形状つまりディスク形状となっており、一方の端面が加工面11になり、他方の端面が基端面12になっている。図2に示すように、砥石10は砥石ホルダー20に基端面12が突き当てられるようにして取り付けられて砥石ホルダー20により回転駆動される。砥石10はこれの外周部に形成された取付孔13を貫通して砥石ホルダー20にねじ結合されるボルト14により砥石ホルダー20に取り付けられるようになっている。
砥石10は砥粒と砥粒相互を連結する結合材とにより形成され、内部には微細な気孔が形成された多孔質体となっている。
砥石10は、図3に示すように、加工面11から所定の厚みtの部分が研磨層15であり、これよりも図において下側の部分が砥石基部16であり、砥石基部16の厚み寸法はTとなっている。砥石基部16には図4に示すように同心円状に複数の流体流路17が形成され、それぞれの流体流路17を相互に連通させるためにそれぞれの流体流路17に対して厚み方向に基端面12側にずらして放射状に複数の流体流路18が形成されている。さらにそれぞれの流体流路18に連通する給排口19が砥石基部16の径方向中央部に外部に開口して形成されており、砥石10を砥石ホルダー20に取り付けると、砥石ホルダー20に形成された流体流路21に給排口19が対向して連通するようになっている。したがって、それぞれの流体流路17は流体流路18および給排口19を介して流体流路21に連通する。
研磨層15の厚みtの部分と砥石基部16のうち流体流路17が形成された厚みt1の部分は、気孔が連通した開気孔(open pore)構造の多孔質体となっており、他の部分は気孔が閉じられた閉気孔(close pore)構造の多孔質体となっている。開気孔構造の多孔質体における気孔率は20%以下であり、開気孔構造の多孔質体における気孔率は20〜60%となっている。このように、砥石基部16の基端面12側は閉気孔構造となっているので、流体流路21から研磨液等の加圧流体を供給すると、閉気孔構造の砥石基部16の外周面からは加圧流体は漏出することなく、開気孔構造の研磨層15を加圧流体が透過して加圧流体は加工面11に供給される。一方、流体流路21に負圧供給源を連通させると、砥石基部16の外周面からは外部の流体が浸入することなく、加工面11に供給された研磨液は開気孔構造の研磨層15を透過して給排口19から排出される。ただし、砥石10全体を開気孔構造の多孔質体により形成し、砥石10のうち加工面11以外の外面つまり基端面12と外周面とを封孔処理し、これらの面からの流体の漏出と流入とを防止するようにしても良い。
図2に示すように、砥石10は砥石ホルダー20を介して研磨装置の砥石回転シャフト22に取り付けられるようになっており、砥石回転シャフト22を駆動する図示しないモータにより砥石10は砥石ホルダー20を介して回転駆動される。砥石回転シャフト22に形成された流体案内流路23は、ロータリジョイント24を介して真空ポンプ25に接続され、真空ポンプ25とロータリジョイント24とを接続する流体案内流路26aには流路開閉弁27aと圧力調整弁28aとが取り付けられている。したがって、流路開閉弁27aを開いた状態のもとで真空ポンプ25を作動させると、研磨層15の気孔は、流体案内流路23を介して真空ポンプ25に連通して大気圧よりも低い真空状態つまり負圧状態となり、砥石10の加工面11には外部から気孔内に周囲空気や液体が流入することになる。
ロータリジョイント24には加圧ポンプ29が接続され、加圧ポンプ29とロータリジョイント24とを接続する流体案内流路26bには流路開閉弁27bと圧力調整弁28bとが取り付けられている。加圧ポンプ29は容器30内に収容された研磨液等の液体を加圧して吐出し、流路開閉弁27bを開いた状態のもとで加圧ポンプ29を作動させると、液体が流体案内流路23を介して研磨層15の気孔内に入り込んで加工面11から流出することになる。
砥石回転シャフト22の上方には、シリコンウエハ等の被加工物Wを支持してこれを回転させる真空チャック31が装着されたワーク回転シャフト32が設けられている。このワーク回転シャフト32は砥石10の加工面11に沿う方向に水平方向に移動自在となるとともに上下方向に移動自在となっており、真空チャック31に支持された被加工物Wを砥石10に向けて接近離反移動させることができる。さらに、被加工物Wを砥石10に接触させた状態でワーク回転シャフト32および真空チャック31の自重により被加工物Wに対して押し付け力を加えることができる。この自重による押し付け力に加えて、空気圧シリンダなどによりワーク回転シャフト32に推力を加えて被加工物Wに対して押し付け力を付加するようにしても良い。
真空チャック31は複数の吸気孔33が形成されたチャック板34を有し、それぞれの吸気孔33に連通する真空流路35がワーク回転シャフト32に形成されている。真空流路35はロータリジョイント36を介して真空ポンプ37に接続され、真空ポンプ37とロータリジョイント36とを接続する真空供給路38には流路開閉弁39が取り付けられている。したがって、真空ポンプ37を作動させて真空流路35を大気圧よりも低い圧力にすると、吸気孔33内に外部空気が流入して被加工物Wは真空チャック31に真空吸着されて保持される。
図4に示すように、それぞれの流体流路17は、径方向に等ピッチとなって形成され、加工面11に沿う平面に分散して形成されているので、給排口19から研磨液等の加圧流体を供給すると加工面11全体から加圧流体が流出し、被加工物Wの被加工面と砥石10の加工面11との間には研磨液等の流体の流れが生成される。一方、給排口19から負圧流体を供給すると加工面11全体から外部の流体が研磨層15内に浸入することになり、被加工物Wの被加工面と砥石10の加工面11との間には外部空気や研磨液等の流体の流れが生成される。図2に示す場合には、研磨層15の外径が約300mmであり、流体流路17の径方向のピッチは約15mmとなっている。
図5は本発明の他の実施の形態である砥石10を示す断面図であり、図5は図4と同様に砥石10内に形成された流体流路17の部分を示す。図5に示す砥石10に形成された流体流路17は渦巻き状に連なっており、流体流路17は加工面11に沿う平面に分散して径方向に所定のピッチとなって形成されている。この場合にも図4に示す場合と同様に砥石10には径方向に複数本の流体流路18が流体流路17に連通させて形成されている。ただし、図5に示す流体流路17は渦巻き状に連なった一続きの流路により形成されているので、流体流路17の中央部分に直接給排口19を連通させるようにしても、流体流路17の全体に加圧流体を案内することができる。
図6(A)は本発明の他の実施の形態である砥石10を示す断面図であり、図6(B)は図6(A)における6B−6B線に沿う断面図であり、図6(A)は図4と同様に砥石10内に形成された流体流路17の部分を示す。図6に示す砥石10に形成された流体流路17は格子状となっており、加工面11に沿う方向における流体流路17の全面積は、図4および図5に示す場合よりも大きくなるとともに加工面11に沿う方向の分散密度は高くなっている。格子状の流体流路17は全体的に連通しているので、図6(B)に示すように、流体流路17の中央部分に直接給排口19が連通されており、砥石10全体の厚み寸法は図4および図5に示される砥石10よりも薄くすることができる。ただし、上述した場合と同様に、放射方向の流体流路18を砥石10に形成しても良い。
図1〜図6に示すように、一体成形された砥石10の内部には流体流路17,18が設けられており、加圧ポンプ29により加圧された研磨液を給排口19から流体流路17,18内に供給すると、給排口19の面積と流体圧力との積に応じた背圧が砥石10に加わるのみであり、砥石10の基端面12のほぼ全体に流体圧力を加える場合に比して、砥石10を砥石ホルダー20から離す方向に作用する背圧は僅かである。したがって、砥石10は砥石ホルダー20から浮き上がる方向には変形しない。また、流体流路17,18内に加圧流体の圧力が加わっても、流体流路17,18は組織的に連なって一体となっている砥石10の内部に形成されているので、砥石10に亀裂が発生したり、変形したりすることが防止される。
砥石10を用いた研磨加工としては、遊離砥粒を有する研磨液を加圧ポンプ29により加圧して流体流路17を介して加工面11から流出させるようにした被加工物Wの研磨加工、および回路パターン形成前のウエハまたは回路パターンが形成されたウエハの表面を加工面11から化学研磨剤を有するスラリーを流出させるようにした研磨加工つまりCMP加工に適用することができる。このような研磨加工においては、加工面11から砥石10と被加工物Wとの間に研磨液等を供給することになるので、被加工物Wの被加工面全体に確実に研磨液を供給することができる。しかも、砥石10は、通常のCMP加工のようなウレタン等からなる研磨パッドに比して、加工面11の硬度が高いので、ウエハの表面にうねり等を発生させることなく、高い平坦度で研磨加工を行うことができ、さらに、加工面11と被加工物Wとの間の圧力を調整することによって、研磨加工時間や研磨量を容易に設定することができる。
内部に流体流路17,18が形成された砥石10を製造するには、砥粒と結合材と助剤との混合物を成形型内に注入する。一方、消失樹脂等のように熱を加えると消失する消失材料からなる中子を流体流路17,18の形状に予め製造しておき、混合物を成形型内に注入する際に混合物の内部に中子を投入する。このようにして砥石10に対応した形状に成形された砥石素材を焼成炉において加熱することにより、中子が消失とするとともに砥粒が結合材により連結され、内部に気孔を有し流体流路17,18が形成された多孔質体からなる砥石10が一体に製造される。砥石10の気孔率は、助剤の量を増やすと小さくなるが、助剤の量以外に焼成温度等によっても気孔率を調整することができる。
したがって、上述のように砥石10を研磨層15の部分と砥石基部16とにより形成する場合には、例えば助剤の量を研磨層15と砥石基部16とで相違させることにより、研磨層15と砥石基部16のうち流体流路17が形成された部分(厚みt+t1の部分)とを開気孔構造の多孔質体とし、この部分よりも基端面12側の部分を閉気孔構造の多孔質体とすることができる。
ただし、研磨層15を有する部分と他の部分とを別々に成型し、これらを突き合わせた状態で焼成するようにしても良く、それぞれの部分を別々に成型、焼成した後に、両方をガラス接着剤層を介して突き合わせた状態のもとでガラス接着剤層を溶融して接合するようにしても良い。いずれの場合にも、砥石10全体はそれを構成する組織が連なった状態となって一体に形成されているので、流体流路17,18内に加圧された研磨液を供給しても、砥石10は変形したり、亀裂を発生させたりすることなく、高精度の研磨加工を行うことができる。なお、上述したように、砥石10全体を開気孔構造の多孔質体により形成し、砥石10のうち加工面11以外の外面つまり基端面12と外周面とを封孔処理し、これらの面からの流体の漏出と流入とを防止するようにしても良い。
砥石10を構成する砥粒としては、ダイヤモンドつまりダイヤモンド砥粒が使用されており、その平均粒径は0.1〜300μmとなっている。ただし、ダイヤモンドに代えて、立方晶窒化ホウ素(CBN)砥粒つまりCBNを使用するようにしても良く、ダイヤモンドとCBNとの混合物を使用するようにしても良く、さらには、炭化ケイ素SiCつまりGC、ムライト(3Al2O3-2SiO2)、または溶融アルミナAl2O3つまりWAの単体或いはこれらの混合体を使用するようにしても良い。砥石10を構成する結合材としては、ビトリファイドボンドが使用されているが、それぞれの結合材としてはビトリファイドボンド以外に、レジノイドボンド、メタルボンド、電着ボンドなど種々のボンド材を使用することができる。
図7(A)は砥石10を用いた研磨装置の全体構成を示す側面図であり、図7(B)は図7(A)の正面図であり、図8は図7(B)における8−8線に沿う拡大断面図である。
この研磨装置は図2に示した砥石回転シャフト22が回転自在に組み込まれた基台41と、この基台41に設けられた研磨ヘッド42とを有しており、研磨ヘッド42には2本のワーク回転シャフト32がそれぞれ回転自在に設けられている。したがって、図示する研磨装置は、同時に2つの被加工物Wを研磨加工することができる。
砥石回転シャフト22には図8に示すようにプーリ43が固定され、図7(A)に示すように基台41に固定されたモータ44のプーリ45とプーリ43との間にはベルト46が掛け渡されており、砥石回転シャフト22はモータ44により回転駆動される。砥石回転シャフト22に取り付けられたロータリジョイント24には流体案内流路23を構成するホース47が接続されており、このホース47を介してロータリジョイント24には図2に示した真空ポンプ25と加圧ポンプ29のいずれか一方または両方が接続される。
研磨ヘッド42にはこれに水平方向に固定されたガイドレール48に沿って摺動する摺動台49が設けられており、摺動台49にはそれぞれのワーク回転シャフト32が上下方向に移動自在かつ回転自在に設けられている。それぞれのワーク回転シャフト32の上端部側にはスプライン51が設けられ、このスプライン51に噛み合うプーリ52が摺動台49に回転自在に組み込まれ、プーリ52と摺動台49に固定されたモータ53のプーリ54との間にはベルト55が掛け渡されており、モータ53によりワーク回転シャフト32は回転駆動される。ワーク回転シャフト32は摺動台49に上下動自在に装着されたスリーブ55内に組み込まれており、スリーブ55を介してワーク回転シャフト32を上下動してこれを砥石10に向けて接近離反移動させるために、摺動台49に取り付けられた空気圧シリンダ56のピストンロッド57がスリーブ55に連結されている。ワーク回転シャフト32の端部にはロータリジョイント36が取り付けられており、このロータリジョイント36は図2に示すように真空ポンプ37に接続されている。図8は図7に示すように研磨ヘッド42に設けられた2本のワーク回転シャフト32の一方を示すが、両方とも同一の構造となっている。
図7および図8に示す研磨装置によりシリコンウエハ等のような円板状の被加工物Wの表面を研磨加工するには、それぞれの真空チャック31に被加工物Wを保持させた状態のもとで空気圧シリンダ56によりワーク回転シャフト32を砥石10に向けて接近移動させる。モータ53によりワーク回転シャフト32を回転させるとともにモータ44により砥石回転シャフト22を回転させながら砥石10の加工面11に被加工物Wを接触させる。両方のモータ44,53により砥石10と被加工物Wは相対的に摺動した状態となり、この状態のもとで真空ポンプ25を駆動させると加工面11と被加工物Wの被加工面との間には砥石10の気孔を介して負圧空気の流れが発生するとともに、これらの間は負圧状態となって大気圧よりも低い圧力が発生した状態となる。一方、加圧ポンプ29から空気や液体を加工面11と被加工物Wとの間に供給すると、これらの間は大気圧よりも高い圧力が発生した状態となる。それぞれの圧力は、圧力調整弁28a,28bにより調整される。このように隙間内の圧力を調整しその厚みを変化させることにより被加工面に接触する砥粒の数を変化させることができ、研磨量や被加工面の仕上げ精度を調整することができる。
本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。例えば、図示する砥石10は端面に平坦な加工面11が設けられ、平面を研磨加工するためのディスク形の砥石であり、ディスク状に代えてカップ状ないしリング状に砥石を形成し、その端面を加工面として平面研磨加工を行うようにしても良い。また、被加工物の円筒形状の外周面を加工する円筒研磨加工や、被加工物の円筒形状の内周面を加工する内面研磨加工を行うための砥石にも本発明を適用して、内部に流体流路を形成するようにしても良い。
本発明の一実施の形態である砥石を示す斜視図である。 図1に示した砥石が砥石ホルダーに取り付けられた状態を示す断面図である。 図2の一部拡大断面図である。 図2における4−4線に沿う方向の砥石の断面図である。 本発明の他の実施の形態である砥石を示す断面図である。 (A)は本発明の他の実施の形態である砥石を示す断面図であり、(B)は(A)における6B−6B線に沿う断面図である。 (A)は砥石を用いた研磨装置の全体構成を示す側面図であり、(B)は(A)の正面図である。 図7(B)における8−8線に沿う拡大断面図である。
符号の説明
10 砥石
11 加工面
12 基端面
15 研磨層
16 砥石基部
17,18 流体流路
19 給排口
20 砥石ホルダー
22 砥石回転シャフト
25 真空ポンプ
29 加圧ポンプ
31 真空チャック
W 被加工物

Claims (6)

  1. 被加工物の被加工面を研磨加工する砥石であって、
    砥粒、結合材および気孔を有する多孔質体により形成され前記被加工面を研磨加工する加工面が設けられた研磨層と、
    前記研磨層の気孔を介して前記加工面に連通する流体通路が形成され、砥粒、結合材および気孔を有する多孔質体により前記研磨層と一体に形成される砥石基部とを有し、
    前記砥石基部に形成され前記流体通路に連通する給排口からの加圧流体の供給ないし負圧流体の排出により前記被加工面と前記加工面との間に流体の流れを生成するようにしたことを特徴とする砥石。
  2. 請求項1記載の砥石において、前記研磨層を前記加工面が平坦となったディスク形状とし、前記研磨層と一体に形成される前記砥石基部をディスク形状とすることを特徴とする砥石。
  3. 請求項1または2記載の砥石において、遊離砥粒を有する研磨液、化学研磨剤を有するスラリー、またはこれらの混合物を前記流体通路および気孔を介して前記被加工物と前記加工面との間に供給することを特徴とする砥石。
  4. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の砥石において、気孔が連通した開気孔構造の多孔質体により前記研磨層を形成し、気孔が閉じられた閉気孔構造の多孔質体により前記砥石基部を形成することを特徴とする砥石。
  5. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の砥石において、前記加工面以外の砥石外面に封孔処理層または気孔が閉じられた閉気孔構造の多孔質体からなる閉気孔体層を形成することを特徴とする砥石。
  6. 請求項1〜5のいずれ1項に記載の砥石において、前記砥粒をダイヤモンドとCBNのいずれかの単体またはこれらの混合体とすることを特徴とする砥石。
JP2005312334A 2005-10-27 2005-10-27 砥石 Active JP4292179B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005312334A JP4292179B2 (ja) 2005-10-27 2005-10-27 砥石

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005312334A JP4292179B2 (ja) 2005-10-27 2005-10-27 砥石

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007118119A true JP2007118119A (ja) 2007-05-17
JP4292179B2 JP4292179B2 (ja) 2009-07-08

Family

ID=38142509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005312334A Active JP4292179B2 (ja) 2005-10-27 2005-10-27 砥石

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4292179B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015056409A (ja) * 2013-09-10 2015-03-23 株式会社ナノテム 薄板基板の研削加工方法およびそれに用いる研削加工装置
CN104736300A (zh) * 2012-10-20 2015-06-24 纳腾股份有限公司 磨具以及使用了该磨具的磨削抛光装置
TWI583499B (zh) * 2015-10-22 2017-05-21 China Grinding Wheel Corp A disc with internal supply of fluid structure
WO2019039419A1 (ja) * 2017-08-21 2019-02-28 株式会社荏原製作所 基板研磨装置および基板研磨装置における研磨液吐出方法
CN114302789A (zh) * 2019-08-29 2022-04-08 株式会社荏原制作所 研磨装置及研磨方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6285355U (ja) * 1985-11-15 1987-05-30
JPH01164546A (ja) * 1987-12-21 1989-06-28 Hitachi Zosen Corp 研削加工方法
JPH01193174A (ja) * 1988-01-27 1989-08-03 Toshiba Corp 研摩砥石
JPH0224053A (ja) * 1988-07-11 1990-01-26 Souzou Kagaku:Kk ラッピング用砥石及びその製法
JPH0683257U (ja) * 1993-05-10 1994-11-29 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 通液型研削砥石
JP2002187062A (ja) * 2000-12-22 2002-07-02 Toshiba Mach Co Ltd 平面研磨装置、平面研磨方法及びそれに使用される砥石

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6285355U (ja) * 1985-11-15 1987-05-30
JPH01164546A (ja) * 1987-12-21 1989-06-28 Hitachi Zosen Corp 研削加工方法
JPH01193174A (ja) * 1988-01-27 1989-08-03 Toshiba Corp 研摩砥石
JPH0224053A (ja) * 1988-07-11 1990-01-26 Souzou Kagaku:Kk ラッピング用砥石及びその製法
JPH0683257U (ja) * 1993-05-10 1994-11-29 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 通液型研削砥石
JP2002187062A (ja) * 2000-12-22 2002-07-02 Toshiba Mach Co Ltd 平面研磨装置、平面研磨方法及びそれに使用される砥石

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104736300A (zh) * 2012-10-20 2015-06-24 纳腾股份有限公司 磨具以及使用了该磨具的磨削抛光装置
JP2015056409A (ja) * 2013-09-10 2015-03-23 株式会社ナノテム 薄板基板の研削加工方法およびそれに用いる研削加工装置
TWI583499B (zh) * 2015-10-22 2017-05-21 China Grinding Wheel Corp A disc with internal supply of fluid structure
WO2019039419A1 (ja) * 2017-08-21 2019-02-28 株式会社荏原製作所 基板研磨装置および基板研磨装置における研磨液吐出方法
JP2019034387A (ja) * 2017-08-21 2019-03-07 株式会社荏原製作所 基板研磨装置および基板研磨装置における研磨液吐出方法
TWI757536B (zh) * 2017-08-21 2022-03-11 日商荏原製作所股份有限公司 基板研磨裝置及基板研磨裝置之研磨液吐出方法
US11648638B2 (en) 2017-08-21 2023-05-16 Ebara Corporation Substrate polishing apparatus and polishing liquid discharge method in substrate polishing apparatus
CN114302789A (zh) * 2019-08-29 2022-04-08 株式会社荏原制作所 研磨装置及研磨方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4292179B2 (ja) 2009-07-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5373171B1 (ja) 砥石およびそれを用いた研削・研磨装置
JP3823086B2 (ja) 研磨パッド及び研磨方法
JP4336340B2 (ja) 研磨方法および研磨装置
JP4292179B2 (ja) 砥石
WO2018073905A1 (ja) 砥石
JP4262226B2 (ja) 研磨装置および研磨方法
JP4746007B2 (ja) 研削工具、研削方法及び研削システム
JP2017170554A (ja) ラップ盤用低圧加工ビトリファイド砥石とそれを用いた研磨加工方法
JP5511343B2 (ja) 研磨装置
JP6302889B2 (ja) 砥石
JP2002355753A (ja) 高性能長寿命リテーナリング及びそれを含む研磨装置
JPS63288655A (ja) セラミックスの研削方法及び装置
JP4746788B2 (ja) 平面ホーニング加工用超砥粒ホイール及びそのドレス方法ならびに同ホイールを使用する研削装置
JP2828377B2 (ja) 研削加工方法および装置
TWI705874B (zh) 磨石
JP2000210862A (ja) 球体研磨方法および球体研磨装置
JP6231334B2 (ja) 薄板基板の研削加工方法およびそれに用いる研削加工装置
JP6286196B2 (ja) 砥石およびそれを用いる研削装置
JP2017196725A (ja) ラッピング研磨用定盤およびそれを用いる装置
JP2003251560A (ja) ドレッシング用成形体およびその製造方法
JP2602073B2 (ja) 極薄超砥粒層を有する研削砥石及びその製法
JPS63134156A (ja) 研削又は研磨方法
JP2003340715A (ja) 研磨具用ドレッサ及びこれを用いた研磨具のドレッシング方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070510

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20080922

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20080922

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20081016

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081021

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081219

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090324

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090406

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4292179

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120410

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120410

Year of fee payment: 3

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120410

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120410

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120410

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130410

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130410

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130410

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140410

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250