JP2007117968A - ガス浄化装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ケーシング21の排気ガス流路22に、所定電圧が印加されることで排気ガスの流れを横切る方向へ二次流れを誘起形成するイオン風を発生可能な放電電極25を配設する一方、ケーシング21の内壁面にイオン風を通過可能な所定の開口率を有する集塵電極26を配設し、この集塵電極26に有害成分を吸収するアルカリ吸収液を供給してその表面に液膜を形成する複数の液供給ノズル32からなる吸収液供給装置31を設ける。
【選択図】 図1
Description
12 ガス処理装置
13 煙突
14 液処理装置
21,71 ケーシング
22,72 排気ガス流路
23,73 入口部
24,74 出口部
25 放電電極
26 集塵電極
30 高圧電源
31 吸収液供給装置(液膜形成手段、吸収液供給手段)
32 液供給ノズル
33 吸収液貯留タンク
34 吸収液循環通路
35 循環ポンプ
36 排出通路
37 補充通路
51 第1噴霧装置(第1噴霧手段)
52 噴射ノズル
61 第2噴霧装置(第2噴霧手段)
62 噴射ノズル
Claims (8)
- 入口部及び出口部が設けられたケーシングと、該ケーシング内にガス流れ方向に沿って配設されて所定電圧が印加されることで前記ケーシング中にガス流れを横切る方向へ二次流れを誘起形成するイオン風を発生可能な放電電極と、前記ケーシング内にガス流れ方向に沿って前記放電電極に対向して配設されて前記イオン風が通過可能な所定の開口率を有する集塵電極と、該集塵電極の表面にガス中の有害成分を吸収する有害ガス吸収液の液膜を形成する液膜形成手段とを具えたことを特徴とするガス浄化装置。
- 請求項1に記載のガス浄化装置において、前記集塵電極は、有害ガス吸収液が途絶えることなく連続的に落下する液膜を形成可能なほほ鉛直方向に沿った液路を有することを特徴とするガス浄化装置。
- 請求項1に記載のガス浄化装置において、前記集塵電極に対して、所定の空隙率を有してガス中の有害成分を吸着可能な吸着部材が付設されたことを特徴とするガス浄化装置。
- 請求項1に記載のガス浄化装置において、前記液膜形成手段は、前記集塵電極に対して有害ガス吸収液を供給する吸収液供給手段であり、前記集塵電極の表面に有害ガス吸収液膜を形成可能であると共に、該集塵電極に捕集された粒子状物質を洗浄して剥離可能であることを特徴とするガス浄化装置。
- 請求項4に記載のガス浄化装置において、前記ケーシングの下方に前記集塵電極を洗浄した吸収液を貯留する吸収液貯留タンクが設けられ、前記吸収液供給手段に循環可能である一方、廃液処理工程に排出可能であると共に新たな有害ガス吸収液を補充可能であることを特徴とするガス浄化装置。
- 請求項1から5のいずれか一つに記載のガス浄化装置において、ガス流れ方向における前記放電電極よりも上流側に、有害ガス吸収液を噴霧する第1噴霧手段が設けられたことを特徴とするガス浄化装置。
- 請求項1から5のいずれか一つに記載のガス浄化装置において、処理するガスが亜硫酸ガスと硫酸ガスの両方を含むものであり、ガス流れ方向における前記放電電極よりも上流側に、ガス処理温度が酸露点以上の条件で塩化物を含む水溶液、または、アルカリ水溶液を噴霧する第2噴霧手段が設けられたことを特徴とするガス浄化装置。
- 放電電極に所定電圧を印加することで、ガス流れを横切る方向へ二次流れを誘起形成するイオン風を発生させ、前記イオン風を表面に有害ガス吸収液膜が形成された集塵電極を通過させることで、ガスの除塵処理及び有害ガス処理を実行することを特徴とするガス浄化方法。
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