JP2007112667A - 水蒸気改質器 - Google Patents

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Abstract

【課題】水蒸気改質器の改質触媒部における改質触媒の劣化の問題を解決し、長期間にわたり安定して運転できる炭化水素系原料の水蒸気改質器を得る。
【解決手段】外管及び内管により構成した二重筒の隙間に改質触媒部を配置し、改質触媒部の上流から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが導入され、下流から水素リッチな改質ガスが排出される水蒸気改質器において、改質触媒部の上流端に続き改質触媒を充填した改質ガード触媒部を配置してなり、改質ガード触媒部に充填した改質触媒の量が改質触媒部及び改質ガード触媒部の改質触媒の全量のうち7%以上であり、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが改質ガード触媒部と改質触媒部に流れ、下流から水素リッチな改質ガスが排出される構造である炭化水素系原料の水蒸気改質器。
【選択図】図5

Description

本発明は、炭化水素系原料の水蒸気改質器に関し、より詳しくは外管及び内管により構成した二重筒の隙間または一重筒の内部に改質触媒部を配置した炭化水素系原料の水蒸気改質器に関する。
例えば固体高分子形燃料電池(以下適宜“PEFC”と略称する)に水素を供給する水蒸気改質器においては、改質触媒、CO変成触媒、CO除去触媒などの複数の触媒が用いられる。改質触媒は600℃以上、例えば700℃という高温で使用されることから、それらの触媒をそれぞれ配置した反応器を別体として配置した場合、各反応器間を接続する配管や断熱材などが必要となり、機器構成が煩雑になる。そのため、それらの簡素化や小型化を目指し、それぞれの反応器を一体化した水蒸気改質器が考えられている。本発明者らは、そのように一体化した水蒸気改質器(以下、適宜“一体型水蒸気改質器”と言う)を開発し、実用化に向けて改善、改良を続けている(特許文献1〜5)。
WO 00/63114A1 WO 02/098790A1 特開2002−187705号公報 特願2005−1515(平成17年1月6日出願) 特願2005−49328(平成17年2月24日出願)
図1はその一例を縦断面図として示している(WO 02/098790A1)。図1のとおり、直径を順次大きくした、第1円筒体1、第2円筒体2及び第3円筒体3が中心軸を同一にして間隔を置いて配置され、第3円筒体3の上部には第3円筒体3より直径を大きくした第4円筒体4が配置されている。図1中、一点鎖線はその中心軸を示し、矢印はその中心軸の方向、すなわち軸方向を示している。第1円筒体1の内側には中心軸を同じくして、第1円筒体1より直径の小さい円筒状の伝熱隔壁すなわち輻射筒5が配置され、輻射筒5内にはバーナー6が配置されている。バーナー6は、中心軸部に配置され、輻射筒5の内側に上蓋兼バーナー取付台7を介して取り付けられている。
輻射筒5は、その下端と第1円筒体1の底板8の間に間隔を設けて配置してあり、この間隙と、これに連なる輻射筒5と第1円筒体1の間の空隙とがバーナー6からの燃焼排ガスの排気通路9を形成している。底板8は第1円筒体1の直径に対応した直径で円盤状に構成されている。排気通路9は、その上部で排気通路9の上蓋(上蓋兼バーナー取付台7の下面)と隔壁10(後述予熱層14の上蓋)の間の間隙を経て燃焼排ガスの排出口11に連なり、燃焼排ガスはここから排出される。
12は炭化水素系原料すなわち原料ガスの供給管であり、第1円筒体1と第2円筒体2の間の空間内には、その上部に予熱層14、予熱層14に続く下部に改質触媒層16が設けられている。予熱層14の内部に一本の丸棒15が螺旋状に配置され、これにより予熱層14の内部に一つの連続した螺旋状のガス通路が形成されている。改質触媒層16の改質触媒は、その下端部で多孔板、網目体等の支持体17で支持されている。
供給管12から供給された原料ガスは、混合部13で水(水蒸気)が混合された後、予熱層14を経て、改質触媒層16に導入され、混合ガス中の炭化水素系原料が下降しながら水蒸気により改質される。改質触媒層16における改質反応は吸熱反応であり、バーナー6で発生する燃焼熱を吸収して改質反応が進行する。すなわち、バーナー6での燃焼ガスが輻射筒5と第1円筒体1の間の排気通路9を流通して通過するときに、燃焼ガスの熱が改質触媒層16に吸収され、改質反応が進行する。
第2円筒体2の下端は第3円筒体3の底板18の間に間隔を置いて配置してあり、第2円筒体2と第3円筒体3の間は、改質ガスの流路19を構成している。底板18は第3円筒体3の直径に対応した直径で円盤状に構成されている。改質ガスは、第2円筒体2の下端と第3円筒体3の底板18の間で折り返して第2円筒体2と第3円筒体3の間で形成された流路19を流通する。第3円筒体3の上部には第3円筒体3より直径を大きくした第4円筒体4が配置され、第2円筒体2と第4円筒体4の間にCO変成触媒層22が設けられている。
第3円筒体3の上端部と第4円筒体4の下端部には板体20(第3円筒体3の直径に相当する部分は第3円筒体3で占められるので、ドーナツ状の板体)が配置され、板体19の上に、間隔を置いてガス流通用の複数の孔を有する支持板21(第2円筒体2の直径に相当する部分は第2円筒体2で占められるので、ドーナツ状の支持板)が配置されている。CO変成触媒層22は、支持板21とガス流通用の複数の孔を有する支持板23(第2円筒体2の直径に相当する部分は第2円筒体2で占められるのでドーナツ状の支持板、CO変成触媒層22の上蓋)の間に設けられている。支持板21、23は金属製等の網目体で構成してもよく、この場合には網目体の網目がガス流通孔となる。流路19を流通した改質ガスは、支持板21の孔を経てCO変成触媒層22に供給される。
上記のとおり、CO変成触媒層22は、第2円筒体2と第4円筒体4の間に設けられているが、第4円筒体4の外周には間隔を置いて円筒体25が配置され、その間に断熱材24が配置されている。円筒体25の外周には水供給管26から連なる伝熱管27が直接螺旋状に巻き付けてある。伝熱管27はCO変成触媒層22を間接的に冷却する冷却機構として作用する。CO変成触媒層22では、CO変成反応により、改質ガス中のCOが二酸化炭素に変成され、併せて水素が生成する。
断熱材24は、伝熱管27の冷却作用により、CO変成触媒層22の温度を低下させ過ぎず、適度な温度に均一に保持できる厚さに巻き付けてある。伝熱管27は、水供給管26から供給される水(=プロセス水)のボイラーとしての機能を備え、また水供給管26から続く連続した一つの通路となっているので、複数の通路では生じる部分的な滞留等が生じない。
支持板23の上方には所定の間隔を置いて一つの連通孔29を有する仕切板28が設けてあり、両板間の空間に空気の供給管30を通してCO除去用空気が供給される。仕切板28の上方には円環状の通路31が設けてある。連通孔29を、所定の孔径で、且つ、一つとすることにより、改質ガスとCO除去用空気が連通孔29を通過する際に所定の通過速度が得られ、通過時の乱流により改質ガスとCO除去用空気を良好に混合することができる。CO除去触媒層36は、第2円筒体2と、これより直径を大きくした円筒体37と、第2円筒体2と円筒体37の間の下部及び上部にそれぞれ間隔を置いて配置された、複数個の孔35を有する支持板34(第2円筒体2の直径に相当する部分は第2円筒体2で占められるので、ドーナツ状の板体)と、ガス流通用の複数個の孔39を有する支持板38(第2円筒体2の直径に相当する部分は第2円筒体2で占められるので、ドーナツ状の支持板)と、の間の空間に設けられている。
円筒体37の下部にはその円周方向に均等に設けられた複数個の孔33が設けられている。円環状の通路31は、円筒体25と仕切板28と仕切板32と円筒体37で形成された通路であり、それら複数個の孔33と、支持板34の複数個の孔35を介してCO除去触媒層36と連通しており、CO除去用空気が混合された改質ガスがそれら複数個の孔33、35を介してCO除去触媒層36に導入される。CO除去触媒層36は、その上蓋である複数個の孔39を有する仕切板38と隔壁10の間の間隙を介して改質ガスの取出管40に連通している。また、CO除去触媒層36は円筒体37で囲まれているが、円筒体37の外周には円筒体25の外周の伝熱管27から連なる伝熱管27が直接螺旋状に巻き付けてある。
CO除去触媒層36には、CO除去触媒(=PROX触媒)が充填してあり、PROX触媒によりCO除去反応が行われ、改質ガス中のCO含有量をppm単位にまで低減する。COを除去した改質ガスは、その上蓋である仕切板38に設けられた複数個の孔39から排出され、仕切板38と隔壁10の間の間隙を経て改質ガスの取出管40から取り出される。第3円筒体3、円筒体25及び円筒体37を含む外周部には断熱材41を配置し、外部への熱の放散を防止している。
ところで、例えば以上のように構成された水蒸気改質器において、改質触媒層16は第1円筒体1すなわち内管1と第2円筒体2すなわち外管2との間に改質触媒を層状に配置することで構成されている。そして、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスは改質触媒層16の上端もしくは下端から改質触媒層16に導入され、それぞれ、下端もしくは上端より水素混合ガスとして排出される構造となっている。
本明細書において、内管1、外管2及び改質触媒層16(改質触媒層16は内管1と外管2との隙間に改質触媒を充填することで構成されている)を含む部分を改質部または改質触媒部と言う。また、改質触媒層16または改質部のうち、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスの導入側を「上流」または「上流側」と言い、その端部を上流端と言う。また、改質触媒層16または改質部のうち、水素リッチな改質ガスの導出側を「下流」または「下流側」と言う。
〈実機一体型水蒸気改質器の運転、観察、問題点の発見〉
水蒸気改質器を例えば家庭用PEFCを用いた熱電併給システムで使用する場合には、起動、停止を頻繁に行う必要がある。本発明者らは、水蒸気改質器の実機を長期間にわたり起動、停止を繰り返して運転し、さらなる改良の有無について観察している。その結果、改質部の改質触媒が改質部上流側から僅かずつではあるが徐々に劣化することが分かった。また、起動−停止に伴う温度上昇−温度降下の繰り返しにより、改質触媒が沈降して改質部上流が空洞になっていることが分かった。
〈実機一体型水蒸気改質器における問題点の原因究明〉
そして、それら問題点の原因として以下の事実があることが分かった。炭化水素系原料には硫黄成分が含まれており、例えば都市ガスや石油ガスには付臭剤としてメルカプタン類、サルファイド類、あるいはチオフェン類などの硫黄化合物が数ppmレベルで含まれている。炭化水素系原料中の硫黄化合物(硫黄分)は、改質触媒を劣化させるので、脱硫器により可及的に除去されている。しかし、硫黄化合物の除去は完全ではなく、若干リーク(ppbレベルないしそれ以下)してくる。これにより改質部の改質触媒が被毒し、改質部上流側の改質触媒は活性低下がより進行しやすくなることが分かった。
また、起動−停止に伴う温度変化により改質部上流が空洞になるのは、改質触媒の充填密度が高くなり、その分沈降することによることが分かった。
このような改質部上流側の改質触媒の硫黄被毒による活性低下、また改質触媒の充填密度の増加に伴う改質部上流側の空洞化により、改質部上流側での改質反応が進まず、改質部上流側の吸熱量が低下する。これにより、温度が上昇し、改質触媒のシンタリング(sintering)、炭化水素系原料の熱分解が起こり、水蒸気改質器の熱バランスの変化による運転制御性などに問題が生じた。これを元に戻すためには、改質触媒を交換することになるが、交換のためには改質器の分解が必要であり、多大の手間がかかることになる。
ここで、運転制御性の問題については、上記改質部上流側での問題のほかに、改質部上流側近傍にCO変成触媒部がある場合、その入口での温度上昇、さらには、改質器全体の温度バランスに影響を与えることになる。上昇した温度を下げるためには、導入する水の量を増やす(S/C比を大きくする)対策が必要となる。このように、改質部上流側温度の上昇は、(a)改質器全体の寿命を低下させ、(b)S/C比の変更に応じた運転シーケンス設定の手間を増やし、(c)S/C比上昇による改質器効率の低下をも引き起こしてしまう。
そこで、本発明は、従来の水蒸気改質器の改質触媒部における前述問題点の発見、その原因解明に基づき、その問題点を解決し、長期間にわたり安定して運転できる炭化水素系原料の水蒸気改質器を提供することを目的とするものである。
本発明(1)は、外管及び内管により構成した二重筒の隙間に改質触媒部を配置し、改質触媒部の上流から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが導入され、下流から水素リッチな改質ガスが排出される水蒸気改質器である。そして、改質触媒部の上流端に続き改質触媒を充填した改質ガード触媒部を配置してなり、改質ガード触媒部に充填した改質触媒の量が改質触媒部及び改質ガード触媒部の改質触媒の全量のうち7%以上であり、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが改質ガード触媒部と改質触媒部に流れ、下流から水素リッチな改質ガスが排出される構造であることを特徴とする。
本発明(2)は、外管により構成した一重筒の内部に改質触媒部を配置し、改質触媒部の上流から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが導入され、下流から水素リッチな改質ガスが排出される水蒸気改質器である。そして、改質触媒部の上流端に続き改質触媒を充填した改質ガード触媒部を配置してなり、改質ガード触媒部に充填した改質触媒の量が改質触媒部及び改質ガード触媒部の改質触媒の全量のうち7%以上であり、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが改質ガード触媒部と改質触媒部に流れ、下流から水素リッチな改質ガスが排出される構造であることを特徴とする。
本発明(3)は、外管及び内管により構成した二重筒の隙間に改質触媒部を配置し、改質触媒部の上流から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが導入され、下流から水素リッチな改質ガスが排出される水蒸気改質器である。そして、改質触媒部の上流端に続き改質触媒を充填した改質ガード触媒部を配置してなり、改質ガード触媒部に充填した改質触媒の量が改質触媒部及び改質ガード触媒部の改質触媒の全量のうち7%以上であり、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが、改質ガード触媒部と改質触媒部の境界から導入され、改質ガード触媒部には流れず、改質触媒部に上流側から下流側へ流通し、下流から水素リッチな改質ガスが排出される構造であることを特徴とする。
本発明(4)は、外管により構成した一重筒の内部に改質触媒部を配置し、改質触媒部の上流から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが導入され、下流から水素リッチな改質ガスが排出される水蒸気改質器である。そして、改質触媒部の上流端に続き改質触媒を充填した改質ガード触媒部を配置してなり、改質ガード触媒部に充填した改質触媒の量が改質触媒部及び改質ガード触媒部の改質触媒の全量のうち7%以上であり、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが、改質ガード触媒部と改質触媒部の境界から導入され、改質ガード触媒部には流れず、改質触媒部に上流側から下流側へ流通し、下流から水素リッチな改質ガスが排出される構造であることを特徴とする。
本発明の水蒸気改質器は、改質触媒部の上流側に改質触媒を充填した改質ガード触媒部を配置したことにより、メタン、エタン、プロパン、ブタン、都市ガス、石油ガス、あるいは天然ガス、その他の炭化水素系原料から水素を製造し、改質触媒のシンタリング、炭化水素系原料の熱分解、水蒸気改質器の熱バランスの変化を無くして長期間にわたり安定して運転行うことができる。本発明の水蒸気改質器は、例えばPEFC用燃料として水素を供給するのに適用される。
改質触媒としては、金属触媒、その他各種の改質触媒があるが、それらから適宜選定して用いられる。そのうち、好ましくはNiまたはRuの金属触媒が用いられ、金属触媒は通常アルミナ等の担体に担持して用いられる。その形状は、粒状、ペレット状、錠剤状等(以下、適宜代表して“粒状改質触媒”と言う)のほか、モノリス型でもよい。モノリス型改質触媒は多数の平行貫通孔すなわちセルを持ったセラミック製またはメタル製の担体のセル内表面にNi、Ruなどの金属触媒を担持した改質触媒である。
改質ガード触媒部は改質触媒部の改質触媒をリーク硫黄分からガードする役割をする。これは改質ガード触媒部の第一の役割であり、改質触媒部の改質触媒として粒状改質触媒を用いる場合もモノリス型改質触媒を用いる場合も同じである。
本発明を適用しない場合には、リーク硫黄分により改質触媒部の上流側の改質触媒から被毒して触媒活性が低下するが、本発明においては、改質ガード触媒部により、改質触媒部の改質触媒を硫黄被毒から保護することができる。
また、改質触媒部の改質触媒が粒状改質触媒の場合には、改質ガード触媒部は、上記役割に加えて、改質触媒部の改質触媒を補う役割をする。これは改質ガード触媒部の第二の役割である。なお、粒状改質触媒は、極く僅かずつではあるが圧壊、粉化することがあるが、改質ガード触媒部はそれをも補うことができる。
本発明を適用しない場合には、改質触媒部の粒状改質触媒は起動−停止の繰り返しに伴い充填密度が高くなり、その分改質触媒部のうちの上部に空洞が生じ、改質触媒部上流での吸熱量が低下して温度上昇を来すが、本発明においては、改質ガード触媒部により、改質触媒を補い、改質触媒部への入口部分の水蒸気改質反応の吸熱量低下を防いで改質部入口の温度上昇を防ぐものである。
本発明の水蒸気改質器において、改質ガード触媒部に充填する改質触媒の量は、改質ガード触媒部の役割、すなわちその配置目的からして、改質触媒部の改質触媒量及び改質ガード触媒部の改質触媒量の全量のうち7%以上である。その上限は、特に限定はないが、60%であるのが好ましい。
また、改質触媒層に充填する改質触媒と改質ガード触媒部に充填する改質触媒とは、同一の改質触媒でもよく、異なる改質触媒でもよい。異なる改質触媒とは、担持金属、担体または粒子径が異なる改質触媒を意味する。
以下、図面を基に本発明の態様を順次説明する。以下では粒状改質触媒の場合について記載しているが、モノリス型改質触媒の場合も同様である。
〈本発明の態様1〉
本発明の態様1は、炭化水素系原料の水蒸気改質器において、改質触媒部の上流端に続く外管を周方向に延ばし、すなわちその外管を中心軸〔図3(a)中一点鎖線参照〕に対して直角方向に延ばし、且つ縦方向に高さを持つ構造の改質ガード触媒部を改質触媒部の上流端に続き配置した態様である。
図2〜3は本態様1を説明する図である。図3(a)は、図2中改質触媒層16、改質ガード触媒部51を含む部分の拡大図、図3(b)は改質ガード触媒部51の拡大図である。図2〜3は縦断面図として示している。この点、以下の図面についても同様である。また、図2〜3中、図1と共通する部分、部材には図1と同じ符号を付している。この点、以下の図面についても同様である。
改質触媒層16は、改質触媒を内管1と外管2の間の環状隙間に充填して構成されている。そして、態様1では、改質触媒層16の上流端に続き改質ガード触媒部51を設ける。改質ガード触媒部51は、外管2のうち、改質触媒層16の上方部分をその中心軸に対して直角方向に延ばし(つまり拡大し)、且つ縦方向に高さを持つ構造であり、当該延ばした外管2と内管1との間の空間に改質触媒を充填して構成される。
より詳しくは、区画壁52と区画壁53と内管1で形成された“断面略三角形状に形成された空間”に改質触媒を充填して改質ガード触媒部51とする。当該“断面略三角形状に形成された空間”は、区画壁52と区画壁53と点線Rで形成された断面三角形状の空間と、点線Rと点線Sと内管1で形成された断面矩形状の空間とを合わせた空間からなっており、図3(b)中“h”として示すように“縦方向に高さを持つ”空間である。そして、当該“断面略三角形状に形成された空間”に改質触媒を充填することで改質ガード触媒部51が構成される。
運転時において、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスは、改質ガード触媒部51から改質触媒部に流れ、改質ガード触媒部51を通って改質触媒層16へ流れる。
なお、図3(a)〜(b)中、点線R、Sは、説明の便宜上付したもので、隔壁を示すものではない。この点、以下の図面における点線R、Sについても同じである。
改質ガード触媒部51は、改質触媒層16の改質触媒をリーク硫黄分からガードする役割をする。また、改質ガード触媒部51は、改質触媒層16の改質触媒が粒状改質触媒のときはそれを補う役割をする。これらの目的を達成し得る範囲で、点線Sに対する区画壁52、区画壁53の角度、また、区画壁52、区画壁53の長さは適宜選定できる。本態様1の実機として、改質触媒層16と改質ガード触媒部51に充填した全改質触媒量のうち、改質ガード触媒部51に13%充填したものを作製した。
図3(c)は改質触媒層16の触媒支持体17を含む部分を拡大して示した図である。改質触媒層16の改質触媒は、内管1の下部外周と外管2の下部内周間に固定配置された多孔板、網目体等の支持体17で支持されている。この点、図1、図4〜9、図12〜13についても同様であり、図示は省略しているが図14〜15についても同様である。
〈本発明の態様2〉
本発明の態様2は、炭化水素系原料の水蒸気改質器において、改質触媒部の上流端に続く外管を周方向及び軸方向に延ばし、すなわちその外管を中心軸〔図5(a)中一点鎖線参照〕に対して直角方向及び軸方向に延ばし、且つ縦方向に高さを持つ構造の改質ガード触媒部を改質触媒部の上流端に続き配置した態様である。態様1に対しては、改質触媒部の上流端に続く外管を軸方向にも延ばしている点が異なる。
図4〜5は本発明の態様2を説明する図である。図5(a)は、図4中改質触媒層16、改質ガード触媒部61を含む部分の拡大図、図5(b)は改質ガード触媒部61の拡大図である。
改質触媒層16は改質触媒を内管1と外管2との間の環状隙間に充填して構成されている。そして、態様2では、改質触媒層16の上流端に続き改質ガード触媒部61を設ける。改質ガード触媒部61は、外管2のうち、改質触媒層16の上方部分をその中心軸に対して直角方向及び軸方向に延ばし(つまり拡大し)、且つ縦方向に高さを持つ構造であり、当該延ばした外管2と内管1との間の空間に改質触媒を充填して構成される。
より詳しくは、区画壁62と区画壁63と区画壁64と内管1で形成された空間に改質触媒を充填して改質ガード触媒部61とする。その空間は、区画壁62と区画壁63と区画壁63と点線Rで形成された断面台形状の空間と、点線Rと点線Sと内管1で形成された断面矩形状の空間からなっており、図5(b)中“h”として示すように“縦方向に高さを持つ”空間である。そして、当該空間に改質触媒を充填することで改質ガード触媒部61が構成される。
ここで、区画壁63は、外管2を中心軸〔図5(a)中一点鎖線参照〕と同方向すなわと軸方向に延ばした形になっていることから、区画壁62と区画壁63と区画壁64と点線Rで形成された空間は断面台形状に構成されるので、前述態様1における断面略三角形状空間に比べて、より多くの改質触媒が充填できる。本態様2の実機として、改質触媒層16と改質ガード触媒部61に充填した全改質触媒量のうち、改質ガード触媒部61に46%充填したものを作製した。
改質ガード触媒部61は、改質触媒層16の改質触媒をリーク硫黄分からガードする役割をする。また、改質ガード触媒部61は、改質触媒層16の改質触媒が粒状改質触媒のときはそれを補う役割をする。これらの目的を達成し得る範囲で、点線Sまたは区画壁63に対する区画壁62、区画壁64の角度、また、区画壁62、区画壁64、区画壁63の長さは適宜選定できる。運転時において、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスは、改質ガード触媒部61を通って改質触媒層16へ流れる。
〈本発明の態様3〉
本発明の態様3は、炭化水素系原料の水蒸気改質器において、改質触媒部の上流端に続く外管及び内管を周方向及び軸方向に縮め、すなわちその外管及び内管を中心軸〔図5(a)中一点鎖線参照〕に対して直角方向及び軸方向に縮め、且つ縦方向に高さを持つ構造の改質ガード触媒部を改質触媒部の上流側に配置した態様である。図6〜7は本発明の態様3を説明する図である。図7(a)は、図6中改質触媒層16、改質ガード触媒部71を含む部分の拡大図、図7(b)は改質ガード触媒部71の拡大図である。
改質触媒層16は改質触媒を内管1と外管2との間の環状隙間に充填して構成されている。これに、態様3では、改質触媒層16の上流端に続き改質ガード触媒部71を設ける。改質ガード触媒部71は、改質触媒部の上流端に続き内管1及び外管2を狭まり状に傾斜して周方向及び軸方向に縮め(つまり縮小し)、且つ縦方向に高さを持つ構造であり、その傾斜空間に改質触媒を充填することで構成される。
より詳しくは、その傾斜空間は、傾斜部72は図7(b)中1´として示すように改質触媒層16側の内管1の上端に連なり、傾斜部73は図7(b)中2´として示すように改質触媒層16側の内管2の上端側に連なっており、1´と傾斜部72と点線Sと2´と傾斜部73との間に形成され、且つ、図7(b)中“h”として示すように縦方向に高さを持つ空間である。そして、当該“傾斜空間”に改質触媒を充填することで改質ガード触媒部71が構成される。
また、改質触媒層16との位置関係では、傾斜を持つ改質ガード触媒部71の幅広部に改質触媒層16が繋がることになることから、改質触媒層16を形成する内管1、外管2の直径はその分大きく構成される。なお、改質触媒を充填する“傾斜空間”について、予熱層14側から言えば、予熱層14を形成する内管1及び外管2を周方向に(つまり、その中心軸に対して直角方向に)且つ下方に広がり状に傾斜して延ばし(つまり拡大し)、且つ縦方向に高さを持つ構造と説明することができる。
改質ガード触媒部71は、改質触媒層16の改質触媒をリーク硫黄分からガードする役割をする。また、改質ガード触媒部71は、改質触媒層16の改質触媒が粒状改質触媒のときはそれを補う役割をする。これらの目的を達成し得る範囲で、内管1の傾斜部72の傾斜の程度、外管2の傾斜部73の傾斜の程度、傾斜部72と傾斜部73との間の幅、また改質ガード触媒部71の縦方向高さは適宜選定できる。これにより、改質触媒をより多く充填できる構造となる。
〈本発明の態様4〉
本発明の態様4は、炭化水素系原料の水蒸気改質器において、改質触媒部の内管を周方向に縮めた構造を持つ改質ガード触媒部を改質触媒部の上流端に続き配置した態様である。図8は本態様4を説明する図である。図8(b)は図8(a)におけるガード触媒部81を含む部分を取り出し拡大して示した図である。
改質触媒部16は、改質触媒を内管1と外管2の間の環状隙間に充填して構成されている。そして、態様4では、改質触媒層16の上流端に続き改質ガード触媒部81を設ける。改質ガード触媒部81は、予熱層14から続く、内管1を周方向に縮めた構造である。
改質触媒層16の上流端に続き改質ガード触媒部81を設ける。改質ガード触媒部81は、内管1のうちの上方部分をその中心軸に対して直角方向に縮め(つまり縮小し)、且つ縦方向に高さを持つ構造である。そして、当該縮めた内管1と、外管2との間の空間に改質触媒を充填して構成される。
区画壁82と区画壁83と外管2で形成された“断面略三角形状に形成された空間”に改質触媒を充填して改質ガード触媒部81とする。より詳しくは、“断面略三角形状に形成された空間”は、区画壁82と区画壁83と点線Rで形成された空間と、点線Rと点線Sと外管2で形成された断面矩形状の空間とを合わせた空間からなっており、この空間は、図8(b)中“h”として示すように“縦方向に高さを持つ”空間である。そして、当該“断面略三角形状に形成された空間”に改質触媒を充填することで改質ガード触媒部81が構成される。
改質ガード触媒部81は、改質触媒層16の改質触媒をリーク硫黄分からガードする役割をする。また、改質ガード触媒部81は、改質触媒層16の改質触媒が粒状改質触媒のときはそれを補う役割をする。これらの目的を達成し得る範囲で、点線Rに対する区画壁82、区画壁83の角度、また、区画壁82、区画壁83の長さは適宜選定できる。
〈本発明の態様5〉
本発明の態様5は、態様4と同じく、炭化水素系原料の水蒸気改質器において、改質触媒部の内管を周方向に縮めた構造を持つ改質ガード触媒部を改質触媒部の上流端に続き配置した態様である。図9は本態様5を説明する図で、図9(b)は、図9(a)におけるガード触媒部91を含む部分を取り出し拡大して示した図である。
改質触媒部16は、改質触媒を内管1と外管2の間の環状隙間に充填して構成されている。そして、態様5では、改質触媒層16の上流端に続き改質ガード触媒部91を設ける。改質ガード触媒部91は、内管1のうちの上方部分を周方向、すなわちその中心軸に対して直角方向に縮め(つまり縮小し)、且つ縦方向に高さを持つ構造である。そして、当該縮めた内管1と、外管2との間の空間に改質触媒を充填して構成される。
区画壁92と区画壁93と外管2で形成された“空間”に改質触媒を充填して改質ガード触媒部91とする。より詳しくは、その“空間”は、区画壁92と区画壁93と点線Rで形成された空間と、点線Rと点線Sと外管2で形成された断面矩形状の空間とを合わせた空間からなっており、この空間は、図9(b)中“h”として示すように“縦方向に高さを持つ”空間である。そして、当該“空間”に改質触媒を充填することで改質ガード触媒部91が構成される。
改質ガード触媒部91は、改質触媒層16の改質触媒をリーク硫黄分からガードする役割をする。また、改質ガード触媒部91は、改質触媒層16の改質触媒が粒状改質触媒のときはそれを補う役割をする。これらの目的を達成し得る範囲で、点線Rに対する区画壁92、区画壁93の角度、また、区画壁92、区画壁93、区画壁94の長さは適宜選定できる。
以上で述べた態様は、水蒸気改質器を改質触媒層16または改質部の上流側を上に、その下流側を下に設置した態様であるが、本発明は、上下逆置き設置、斜め置き設置、横置き設置などの水蒸気改質器に対しても適用される。例えば、上下逆置き設置の水蒸気改質器の場合、改質ガード触媒部は、改質触媒部の上流端に続き、改質触媒部の下に配置される。
〈本発明の態様6〉
本態様6は、前記態様1の水蒸気改質器を上下逆置きに設置した水蒸気改質器に適用した態様である。図10〜11は本態様6を説明する図である。図11(a)は、図10中改質触媒層16、改質ガード触媒部101を含む部分を取り出し拡大して示した図、図11(b)は改質ガード触媒部101の拡大図である。なお、図11中、符号100として示す部材は多孔板、網目体等で構成された触媒支持体であり、内管1の下部外周と外管2の下部内周間に固定配置されている。
改質触媒層16は改質触媒を内管1と外管2との間の環状隙間に充填して構成されている。これに、態様6では、改質触媒層16の上流端に続き改質ガード触媒部101を設ける。改質ガード触媒部101は、外管2の下方部分をその軸方向〔図11(a)中一点鎖線参照〕に対して直角方向に延ばし(つまり拡大し)、且つ縦方向に高さを持つ構造であり、当該延ばした外管2と内管1との間の空間に改質触媒を充填して構成される。
より詳しくは、区画壁102と区画壁103と内管1で形成された“断面略三角形状に形成された空間”に改質触媒を充填して改質ガード触媒部101とする。当該“断面略三角形状に形成された空間”は、区画壁102と区画壁103と点線Rで形成された断面三角形状の空間と、点線Rと触媒支持体100と内管1と点線Sで形成された断面矩形状の空間とを合わせた空間からなっており、この空間は、図11(b)中“h”として示すように“縦方向に高さを持つ”空間である。そして、当該“断面略三角形状に形成された空間”に改質触媒を充填することで改質ガード触媒部101が構成される。
改質ガード触媒部101は、改質触媒層16の改質触媒をリーク硫黄分からガードする役割をする。この目的を達成し得る範囲で、点線Rに対する区画壁102、区画壁103の角度、また、区画壁102、区画壁103の長さは適宜選定できる。
〈本発明の態様7〉
本態様7は、外管及び内管により構成した二重筒状容器の隙間に改質触媒部を配置し、改質触媒部の上流から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが導入され、下流から水素リッチな改質ガスが排出される水蒸気改質器に対して改質ガード触媒部を適用した態様である。改質触媒部の上流端に続き改質ガード触媒部を配置する。そして、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが、改質ガード触媒部と改質触媒部の境界から導入され、改質触媒部の上流側から下流側へ流通し、下流から水素リッチな改質ガスが排出される構造である。
図12〜13は本態様7を説明する図である。図13(a)は、図12中改質触媒部を含む部分を取り出し拡大して示した図、図13(b)〜(c)は、図13(a)中、改質ガード触媒部を含む部分を取り出し拡大して示した図である。
改質触媒層16は、改質触媒を内管1と外管2との間の環状隙間に充填して構成されている。これに、態様7では、例えば、内管1と外管2を軸方向〔図13(a)中一点鎖線参照〕上方に延長し、その延長内管1及び外管2間の環状隙間に改質触媒を充填して改質ガード触媒部111を設ける。外管2の上端側と内管1の外周間に、その環状隙間に対応した上蓋112が設けられる。上蓋112は、内管1の直径に相当する部分は内管1で占められるのでドーナツ状の上蓋である。
そして、外管2のうち、改質触媒層16と改質ガード触媒部111との境界部の位置に、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガス導入用の複数個の細孔113を設ける。その境界部は円環状であるので、複数個の細孔113はその円環状境界部に好ましくは等間隔に設けられる。
このように、改質ガード触媒部111は、軸方向上方に延長した内管1及び外管2と上蓋112の間の環状隙間に改質触媒を充填して構成される。本態様7の実機として、改質触媒層16と改質ガード触媒部111に充填した全改質触媒量のうち、改質ガード触媒部111に13%充填したものを作製した。炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスは、運転時に、図13(a)、(c)中矢印で示すように流通し、複数個の細孔113を通して改質触媒部16に導入され、改質触媒部16の上流側から下流側へ流通し、下流から水素リッチな改質ガスが排出される。本態様7においては、改質ガード触媒部111には炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスは流れない。
改質ガード触媒部111は改質触媒層16の改質触媒を補う役割をする。この目的を達成し得る範囲で、改質ガード触媒部111の長さは適宜選定できる。
〈本発明の態様1〜7における温度上昇抑制効果の要因〉
本発明によれば、改質ガード触媒部により改質部上流の温度上昇が抑制される。その理由は、以下(a)〜(c)の要因、効果によるものと解される。
(a)改質ガード触媒部により、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスの改質触媒部の上流端に続き改質触媒を充填し、改質触媒量を増やすことによって、硫黄による改質触媒の被毒を緩和できる。
(b)改質ガード触媒部に充填した改質触媒によって、改質部の改質触媒が沈降し、改質触媒が不足になっても補充することができ、改質触媒部上流側の空洞化を防ぐことができる。
(c)従来のもの(例えば図1に示すもの)に対して、改質触媒部の上流端に続く径を大きくすることで、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスの流速が遅くなり、熱移動を少なくすることができる。従って、硫黄被毒により改質触媒部の上流側の改質触媒が劣化し、吸熱が少なくなったとしても、熱が伝わり難いため、温度上昇を抑制できる。
表1は、態様1〜6のそれぞれについて、これら(a)〜(c)の要因の関与の程度を考察したものである。表1中、◎は非常に効果有り、○は効果有り、△は○より少ないが効果有り、−は従来のものと同じく効果なし、を意味する。
Figure 2007112667
〈本発明の態様8〜9〉
以上の態様は、外管及び内管により構成した二重筒状容器の隙間に改質触媒部を配置し、改質触媒部の上流から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスを導入し、下流から水素リッチな改質ガスを排出する水蒸気改質器に適用する態様である。本発明は、一重筒状容器に改質触媒部を配置し、改質触媒部の上流から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスを導入し、下流から水素リッチな改質ガスを排出する水蒸気改質器に対しても適用される。
〈態様8〉
図14は本態様8を説明する図である。図14(b)は、図14(a)中、改質ガード触媒部を含む部分を取り出し拡大して示した図である。図14のとおり、筒状管(外管)122により構成した一重筒状容器に改質触媒を充填した構造の改質触媒部の上流端に続き改質ガード触媒部121を設ける。すなわち、円柱状の改質触媒部の上流端に続く筒状管の直径を大きくし、そこに改質触媒を充填して改質ガード触媒部121を設ける。
より詳しくは、図14(b)中、符号124として示すように、筒状管122の直径より大きくする。符号123で示す部分は筒状管122と筒状管124との間の傾斜部である。筒状管124と傾斜筒状管123と点線Sで形成された空間からなっており、この空間は、図14(b)中“h”として示すように“縦方向に高さを持つ”空間である。そして、当該空間に改質触媒を充填することで改質ガード触媒部121が構成される。
炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスは、改質ガード触媒部121を経て、改質触媒部に流れる。なお、態様8における上記管は、前述外管及び内管により構成した二重筒状容器の隙間に改質触媒部を配置した形式の水蒸気改質器との関係では、その外管に相当しているので、本明細書及び特許請求の範囲中適宜“外管”と称している。
本態様でも、改質ガード触媒部は、改質触媒部の改質触媒をリーク硫黄分からガードする役割をする。これは改質ガード触媒部の重要な役割である。また、改質ガード触媒部は、改質触媒層の改質触媒が粒状改質触媒の場合には、上記役割に加えて、改質触媒部の改質触媒を補う役割をする。なお、粒状改質触媒は、極く僅かずつではあるが圧壊、粉化することがあるが、改質ガード触媒部はそれをも補うことができる。
〈態様9〉
図15は本態様9を説明する図である。図15のとおり、筒状管(外管)132により構成した一重筒状容器に改質触媒を充填した構造の改質触媒部の上流端に続き改質ガード触媒部131を設ける。すなわち、一重筒状容器を、円柱状の改質触媒部の上流端の部位から上方に延長し、その延長空間に改質触媒を充填して改質ガード触媒部131とする。そして、炭化水素系原料及び水蒸気の混合ガスが、改質ガード触媒部131と改質触媒部の境界(符号Sとして示す部位)から導入され、改質触媒部の上流側から下流側へ流通し、下流から水素リッチな改質ガスが排出される構造とする。
本態様9の改質ガード触媒部131には炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスは流れない。なお、態様9における上記管132は、前述外管及び内管により構成した二重筒状容器の隙間に改質触媒部を配置した形式の水蒸気改質器との関係では、その外管に相当しているので、本明細書及び特許請求の範囲中適宜“外管”と称している。
本態様9においては、改質ガード触媒部は、改質触媒層の改質触媒を補う役割をする。この目的を達成し得る範囲で、改質ガード触媒部の長さは適宜選定できる。
〈本発明で対象とする炭化水素系原料の水蒸気改質器の態様例〉
本発明の炭化水素系原料の水蒸気改質器は、円筒状容器内に、改質触媒部、CO変成触媒部及びCO除去触媒部をそれぞれ別層に区画して配置した形式の炭化水素系原料の水蒸気改質器に対しても適用できる。その一例として、以下(1)〜(5)の構成を含む水蒸気改質器とすることができる。
(1)同心状に間隔を置いて配置した順次直径の大きい内管(=第1円筒体)、外管(=第2円筒体)及び第3円筒体と、第3円筒体の上部に第3円筒体より直径を大きくした第4円筒体を備える。
(2)内管の内部に中心軸を同軸にして配置された輻射筒を備える。
(3)輻射筒内の軸方向にバーナーを備え、内管と外管により区画された間隙に改質触媒を充填した改質触媒層を配置する。
(4)外管と第4円筒体の間に軸方向に隔壁を介して間隔を置いて順次CO変成触媒層及びCO除去触媒層を配置する。
(5)CO除去触媒層における改質ガスの流れを軸方向、あるいは中心軸側から外周に向けて放射状に流れるように構成する。
CO変成触媒層のCO変成触媒としては、Cu/Zn系触媒、Fe/Cr系触媒、白金属触媒、白金を主成分としCeO2等の金属酸化物を副成分として含む触媒、Al、Cu、Fe、Cr、Moなどの卑金属触媒、その他のCO変成触媒から適宜選定して用いられる。白金を主成分とした触媒は、酸化などによる劣化にも強く、350℃以上の高温域、特に400℃以上の高温域でも連続して使用することが可能であり、より速い速度で反応を進行させることができる。CO変成触媒は、単一のCO変成触媒を用いる場合のほか、高温CO変成触媒と低温CO変成触媒を併用してもよい。CO変成触媒は、粒状CO変成触媒のほか、モノリス型CO変成触媒が用いられる。
CO除去触媒としては、改質ガス中のCOを選択的に酸化し得る触媒であれば特に限定はなく、例えばRu系などの金属担持触媒が用いられる。金属担持触媒は、例えばアルミナ等の担体にRuなどの金属を担持させて構成される。
本発明で対象とする水蒸気改質器において、触媒を除く構成部材としては耐熱合金、好ましくはステンレス鋼が用いられる。
断熱材23としては好ましくはセラミックファイバーなどの加工性のよいものを用いる。断熱材40としては、例えばマイクロサーム、ケイ酸カルシウム、アルミナファイバーなどの断熱効果の高い断熱材が使用される。
炭化水素系原料としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、その他の炭化水素のほか、都市ガス、石油ガス、天然ガス、その他2種以上の炭化水素を含む混合ガスが用いられる。
以下、実施例を基に本発明をさらに詳しく説明するが、本発明がこれら実施例に限定されないことはもちろんである。
〈比較例1〉
図1に示す水蒸気改質器を用いて硫黄被毒試験を実施した。本発明者らは、水蒸気改質器の実機を長期間にわたり起動、停止を繰り返して運転し、さらなる改良の有無について観察しているが、この硫黄被毒試験は、その一環として実施したものである。水蒸気改質器は、改質器全体(断熱材を含む)が高さ60cm、直径20cmの規模のもので、一時間当たり1Nm3の水素を製造できる装置である。改質触媒部、CO変成触媒層21及びCO除去触媒層54のそれぞれに各触媒を充填した。なお、改質触媒部の高さは100mmである。
改質触媒として、Ru系触媒〔アルミナにRuを担持した触媒、粒状、平均粒径(直径)≒3mm〕を用いた。CO変成触媒として、Cu/Zn系触媒〔アルミナにCu及びZnを担持して押出成形した触媒、円柱状、3mm(直径)×3mm(長さ)〕を用いた。CO除去触媒として、Ru/白金系触媒〔粒状アルミナにRuを担持した触媒、粒状、平均粒径(直径)≒3mm〕を用いた。
炭化水素系原料として都市ガス(13A)を、脱硫せず、そのまま使用した。都市ガスには付臭剤として数volppm程度の硫黄化合物が含まれている。原料ガスを流量4.1NL/minで供給し、水(純水)を流量10.0g/minで供給した。スチーム比(S/C比)=2.5である。また、CO除去用空気を流量:1.5NL/minで供給した。バーナー用燃料として都市ガスを使用した。図1中、T1、T2として示すように改質入口部と改質出口部に温度センサーをセットした。
図16に、実測された運転時間の経過に伴う改質入口部と改質出口部の温度変化をしている。図16のとおり、改質部入口が硫黄により被毒し、温度が急激に上昇している。
〈比較例2〉
炭化水素系原料として都市ガス(13A)を脱硫して使用し、起動−停止を繰り返した以外は、比較例1と同様にして、起動−停止に伴う改質入口部と改質出口部の温度変化を計測した。都市ガスには付臭剤として数volppm程度の硫黄化合物が含まれているが、脱硫済み都市ガスは、それをY型ゼオライトに銀を担持した高性能脱硫剤に通すことで脱硫し、数volppbレベルにまで脱硫されたものである。
図17〜18にその結果を示している。まず、図17のとおり、起動−停止を繰り返すのに伴い(昇降温を伴う)、脱硫器よりリークした僅かな硫黄分により改質部入口が徐々に被毒し、温度が少しずつ上昇している。また、図18のとおり、改質触媒は、昇降温回数650回程度まで漸次沈降し続け、720回で沈降長さ7mm(比率7%)となり、その後も僅かではあるがさらに沈降し続けている。
〈実施例〉
図4〜5に示す水蒸気改質器を使用し、起動−停止(昇降温を伴う)を繰り返した以外は、比較例2と同様にして、起動−停止に伴う改質入口部と改質出口部の温度変化を計測した。水蒸気改質器は、改質触媒層16及び改質ガード触媒部61に充填した全改質触媒量のうち、改質ガード触媒部61に46%を充填した以外は、図1の水蒸気改質器と同様である。図4〜5中、T1、T2として示すように改質入口部と改質出口部に温度センサーをセットした。
図19にその結果を示している。図19のとおり、脱硫器よりリークした僅かな硫黄が改質部に到達しているはずであるが、十分な改質触媒量を充填しているガード触媒により、硫黄の被毒は緩和され、温度上昇は殆ど見られない。また、ガード触媒により、改質触媒粒の沈降が抑制され、起動停止回数1000回でも沈降は殆ど認められなかった。このように、本発明によれば、硫黄に対するガード効果に加え、沈降防止の効果が達成されている。
一体型水蒸気改質器の一例を示す図(先行技術) 本発明の態様1を説明する図 本発明の態様1を説明する図 本発明の態様2を説明する図 本発明の態様2を説明する図 本発明の態様3を説明する図 本発明の態様3を説明する図 本発明の態様4を説明する図 本発明の態様5を説明する図 本発明の態様6を説明する図 本発明の態様6を説明する図 本発明の態様7を説明する図 本発明の態様7を説明する図 本発明の態様8を説明する図 本発明の態様9を説明する図 比較例1の結果を示す図 比較例2の結果を示す図 比較例2の結果を示す図 本発明の実施例の結果を示す図
符号の説明
1 第1円筒体(内管)
2 第2円筒体(外管)
3 第3円筒体
4 第4円筒体
5 輻射筒
6 バーナー
7 上蓋兼バーナー取付台
8 底板
9 燃焼排ガスの排気通路
10 隔壁
16 改質触媒層
17 改質触媒層16の改質触媒の支持体
36 CO除去触媒層
51、61、71、81、91、101、111 121 131 改質ガード触媒部
52〜53、62〜64、72〜73、82〜83、92〜94、102〜103 区画壁
h 縦方向高さ
R、S 説明の便宜上付した点線
1、T2 温度センサー

Claims (16)

  1. 外管及び内管により構成した二重筒の隙間に改質触媒部を配置し、改質触媒部の上流から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが導入され、下流から水素リッチな改質ガスが排出される水蒸気改質器において、改質触媒部の上流端に続き改質触媒を充填した改質ガード触媒部を配置してなり、改質ガード触媒部に充填した改質触媒の量が改質触媒部及び改質ガード触媒部の改質触媒の全量のうち7%以上であり、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが改質ガード触媒部と改質触媒部に流れ、下流から水素リッチな改質ガスが排出される構造であることを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  2. 外管により構成した一重筒の内部に改質触媒部を配置し、改質触媒部の上流から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが導入され、下流から水素リッチな改質ガスが排出される水蒸気改質器において、改質触媒部の上流端に続き改質触媒を充填した改質ガード触媒部を配置してなり、改質ガード触媒部に充填した改質触媒の量が改質触媒部及び改質ガード触媒部の改質触媒の全量のうち7%以上であり、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが改質ガード触媒部と改質触媒部に流れ、下流から水素リッチな改質ガスが排出される構造であることを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  3. 外管及び内管により構成した二重筒の隙間に改質触媒部を配置し、改質触媒部の上流から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが導入され、下流から水素リッチな改質ガスが排出される水蒸気改質器において、改質触媒部の上流端に続き改質触媒を充填した改質ガード触媒部を配置してなり、改質ガード触媒部に充填した改質触媒の量が改質触媒部及び改質ガード触媒部の改質触媒の全量のうち7%以上であり、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが、改質ガード触媒部と改質触媒部の境界から導入され、改質ガード触媒部には流れず、改質触媒部に上流側から下流側へ流通し、下流から水素リッチな改質ガスが排出される構造であることを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  4. 外管により構成した一重筒の内部に改質触媒部を配置し、改質触媒部の上流から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが導入され、下流から水素リッチな改質ガスが排出される水蒸気改質器において、改質触媒部の上流端に続き改質触媒を充填した改質ガード触媒部を配置してなり、改質ガード触媒部に充填した改質触媒の量が改質触媒部及び改質ガード触媒部の改質触媒の全量のうち7%以上であり、炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが、改質ガード触媒部と改質触媒部の境界から導入され、改質ガード触媒部には流れず、改質触媒部に上流側から下流側へ流通し、下流から水素リッチな改質ガスが排出される構造であることを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項の炭化水素系原料の水蒸気改質器において、前記改質触媒部の上流端に続き配置した改質ガード触媒部が、外管を周方向に延ばした構造であることを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  6. 請求項1〜4のいずれか1項の炭化水素系原料の水蒸気改質器において、前記改質触媒部の上流端に続き配置した改質ガード触媒部が、外管を周方向及び軸方向に延ばした構造であることを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  7. 請求項1または3の炭化水素系原料の水蒸気改質器において、前記改質触媒部の上流端に続き配置した改質ガード触媒部が、外管及び内管を周方向及び軸方向に縮めた構造であることを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  8. 請求項1または3の炭化水素系原料の水蒸気改質器において、前記改質触媒部の上流端に続き配置した改質ガード触媒部が、内管を周方向に縮めた構造であることを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  9. 請求項1〜8のいずれか1項の炭化水素系原料の水蒸気改質器において、前記改質触媒部と改質ガード触媒部に同一の触媒を充填したことを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  10. 請求項1〜8のいずれか1項の炭化水素系原料の水蒸気改質器において、前記改質触媒部と改質ガード触媒部に異なる触媒を充填したことを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  11. 請求項9または10の炭化水素系原料の水蒸気改質器において、前記改質ガード触媒部にNi系改質触媒を充填したことを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  12. 請求項1〜11のいずれか1項の炭化水素系原料の水蒸気改質器において、前記改質ガード触媒部に充填した改質触媒の量は改質触媒部及び改質ガード触媒部の改質触媒の全量のうち60%以下であることを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  13. 請求項1〜11のいずれか1項の炭化水素系原料の水蒸気改質器において、改質触媒部の上流に配置された改質ガード触媒部の上流側を上端とし、改質ガード触媒部の上端から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが導入される構造であることを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  14. 請求項1〜2、5〜12のいずれか1項の炭化水素系原料の水蒸気改質器において、改質触媒部の上流に配置された改質ガード触媒部の上流側を下端とし、改質ガード触媒部の下端から炭化水素系原料と水蒸気の混合ガスが導入される構造であることを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  15. 請求項1〜14のいずれか1項の炭化水素系原料の水蒸気改質器が、固体高分子形燃料電池に水素を供給する炭化水素系原料の水蒸気改質器であることを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
  16. 請求項1〜14のいずれか1項の炭化水素系原料の水蒸気改質器が、容器内に、改質触媒部、CO変成触媒部及びCO除去触媒部をそれぞれ別層に区画して配置して一体化した炭化水素系原料の水蒸気改質器であることを特徴とする炭化水素系原料の水蒸気改質器。
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