JP2007103435A - 赤色半導体レーザ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】n−GaAs基板2上に、クラッド層3、MQW活性層4、第1クラッド層5、エッチングストップ層6、ブロック層7、第2クラッド層8、バッファ層9、p電極11が積層され、n−GaAs基板2の裏側にはn電極1が形成されている。Znを拡散することにより、端面窓構造である不純物拡散領域12が形成される。第1クラッド層5、エッチングストップ層6、第2クラッド層8には、Znよりも化合物半導体の固体中で拡散しにくいMgが不純物としてドーピングされており、端面窓形成の熱プロセス中にMQW活性層4の発光領域への不純物拡散が防止される。
【選択図】 図1
Description
次に、図3に示すように、積層されたウエハのp−GaInPバッファ層9上面にSiO2膜20を堆積させ、ウエットエッチングによりSiO2膜20のパターニングを行い、例えば100μm以下の幅のストライプ開口部をレーザの共振器方向と垂直方向に形成する。次に、スパッタ法によりZnO膜21を、SiO2膜20およびストライプ開口部の全面に堆積させ、ストライプ開口部上に体積されたZnO膜以外のZnO膜21をウエットエッチングにより除去する。
2 n−GaAs基板
3 n−AlGaInPクラッド層
4 MQW活性層
5 p−AlGaInP第1クラッド層
6 p−AlGaInPエッチングストップ層
7 n−AlGaInPブロック層
8 p−AlGaAs第2クラッド層
9 p−GaInPバッファ層
10 p−GaAsキャップ層
11 p電極
Claims (4)
- n型半導体基板上に、少なくとも、n型クラッド層、活性層、p型クラッド層を順に備え、活性層よりも上部に前記p型クラッド層を含むストライプ状のリッジ部と、共振器端面に位置する活性層の一部がMgよりも結晶内拡散の大きい不純物の拡散により無秩序化された端面窓構造とを有するAlGaInP系の赤色半導体レーザにおいて、前記p型クラッド層は、p型不純物としてMgを含む(AlXGa1−X)0.5In0.5P(0<X≦1)で構成したことを特徴とする赤色半導体レーザ。
- 前記p型クラッド層は、中間に形成されたエッチングストップ層により、リッジ部を有する第2p型クラッド層とリッジ部を含まない第1p型クラッド層に分離されており、前記エッチングストップ層は、p型不純物としてMgを含むことを特徴とする請求項1記載の赤色半導体レーザ。
- 前記p型クラッド層上には、前記リッジ部を構成する1つの半導体層としてp型バッファ層が形成されており、前記p型バッファ層はp型不純物としてMgを含むことを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか1項に記載の赤色半導体レーザ。
- 前記p型クラッド層上に形成され、かつ前記リッジ部を構成している半導体層のすべてが、p型不純物としてMgを含むことを特徴とする請求項1記載の赤色半導体レーザ。
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JP2005101440A (ja) * | 2003-09-26 | 2005-04-14 | Sharp Corp | 半導体レーザおよびその製造方法 |
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