JP2007098269A - 排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法 - Google Patents
排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007098269A JP2007098269A JP2005291166A JP2005291166A JP2007098269A JP 2007098269 A JP2007098269 A JP 2007098269A JP 2005291166 A JP2005291166 A JP 2005291166A JP 2005291166 A JP2005291166 A JP 2005291166A JP 2007098269 A JP2007098269 A JP 2007098269A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- regenerated
- treatment apparatus
- wastewater treatment
- wastewater
- exchange resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 title claims abstract description 14
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 title abstract 4
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000005349 anion exchange Methods 0.000 claims abstract description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims description 29
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 claims description 28
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 28
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 claims description 20
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 claims description 13
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 13
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims description 12
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims description 12
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 2
- 239000010808 liquid waste Substances 0.000 abstract 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 4
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 238000009395 breeding Methods 0.000 description 1
- 230000001488 breeding effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Abstract
【解決手段】少なくとも陰イオン交換装置を有する排水処理装置に対し、該陰イオン交換装置の再生時に生じる再生廃液又は再生排水の少なくとも一部を、排水処理装置中の他の装置の入口に導入することを特徴とする、排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法。
【選択図】図1
Description
本発明に係る排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法においては、少なくとも陰イオン交換装置を有する排水処理装置に対し、該陰イオン交換装置の再生時に生じる再生廃液又は再生排水の少なくとも一部が、排水処理装置中の他の装置の入口に導入される。とくに、他の装置が陽イオン交換樹脂層を含むイオン交換装置である場合に本発明は好適であり、この場合、再生廃液又は再生排水が陽イオン交換樹脂層に接触しないように、押さえ水を逆向きに通水しながら該陽イオン交換樹脂層の手前でイオン交換装置外に排出することが好ましい。
(1)WA塔としては、特に限定されないが、例えばロームアンドハース社製IRA−96RFを使用できる。再生通薬・押出しは、例えばSV(空間速度):1〜5で使用される。特に、SV3〜4程度が好適である。
(2)SB塔としては、特に限定されないが、ロームアンドハース社製”AMBERJET”1500Hおよび”AMBERJET”4400OHを使用できる。汚染防止用の押さえ水はLV(線速度):1〜5m/H程度で使用される。LV=1m/H程度であっても汚染なく殺菌が実施できる。
実施例1
ロームアンドハース社製IRA−96RFを充填したWA塔を3%NaOHの薬品を用いSV=4で再生を行い、SV=3.6で薬品押出しを行なった。薬品押出し水をロームアンドハース社製”AMBERJET”1500Hおよび”AMBERJET”4400OHを充填したSB塔に導入することにより、その上部フリーボード部分(入口部)の殺菌を行なった。その際、押さえ水をSB塔の下部側からLV=1m/Hで通水した。
殺菌は行なわずにSB塔に通水した。
2 弱塩基性陰イオン交換樹脂塔(WA塔)
3 弱塩基性陰イオン交換樹脂層
4 強酸性陽イオン交換樹脂層
5 強塩基性陰イオン交換樹脂層
6 下降流型の複層塔(SB塔)
Claims (7)
- 少なくとも陰イオン交換装置を有する排水処理装置に対し、該陰イオン交換装置の再生時に生じる再生廃液又は再生排水の少なくとも一部を、排水処理装置中の他の装置の入口に導入することを特徴とする、排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法。
- 前記他の装置が、陽イオン交換樹脂層を含むイオン交換装置であることを特徴とする、請求項1に記載の排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法。
- 前記陽イオン交換樹脂層を含むイオン交換装置が、強酸性陽イオン交換樹脂と強塩基性陰イオン交換樹脂を一つの塔内に個別の層として形成した複層塔であることを特徴とする、請求項2に記載の排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法。
- 前記複層塔の採水時における上流側が強酸性陽イオン交換樹脂層であることを特徴とする、請求項3に記載の排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法。
- 前記陰イオン交換装置の再生時に生じる再生廃液又は再生排水の少なくとも一部を、前記排水処理装置中の他の装置の入口に導入する際、該再生廃液又は再生排水が陽イオン交換樹脂層に接触しないように、押さえ水を逆向きに通水しながら該陽イオン交換樹脂層の手前でイオン交換装置外に排出することを特徴とする、請求項2〜4のいずれかに記載の排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法。
- 前記再生廃液又は再生排水が下向流で、前記押さえ水が対向流であることを特徴とする、請求項5に記載の排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法。
- 前記陰イオン交換装置の再生時に生じる再生廃液又は再生排水の少なくとも一部を、配管を介して直接前記排水回収装置中の他の装置の入口に導入することを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005291166A JP4627028B2 (ja) | 2005-10-04 | 2005-10-04 | 排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005291166A JP4627028B2 (ja) | 2005-10-04 | 2005-10-04 | 排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007098269A true JP2007098269A (ja) | 2007-04-19 |
JP4627028B2 JP4627028B2 (ja) | 2011-02-09 |
Family
ID=38025732
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005291166A Expired - Fee Related JP4627028B2 (ja) | 2005-10-04 | 2005-10-04 | 排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4627028B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61283356A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-13 | Japan Organo Co Ltd | 混床式純水製造装置の殺菌方法 |
JPH0592183A (ja) * | 1991-06-28 | 1993-04-16 | Ebara Infilco Co Ltd | 活性炭の殺菌方法 |
JPH0679269A (ja) * | 1992-09-03 | 1994-03-22 | Japan Organo Co Ltd | 排水回収装置の通水休止時のバクテリア繁殖防止方法 |
JP2003190947A (ja) * | 2001-12-25 | 2003-07-08 | Kurita Water Ind Ltd | バナジウム含有水の処理方法および装置 |
-
2005
- 2005-10-04 JP JP2005291166A patent/JP4627028B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61283356A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-13 | Japan Organo Co Ltd | 混床式純水製造装置の殺菌方法 |
JPH0592183A (ja) * | 1991-06-28 | 1993-04-16 | Ebara Infilco Co Ltd | 活性炭の殺菌方法 |
JPH0679269A (ja) * | 1992-09-03 | 1994-03-22 | Japan Organo Co Ltd | 排水回収装置の通水休止時のバクテリア繁殖防止方法 |
JP2003190947A (ja) * | 2001-12-25 | 2003-07-08 | Kurita Water Ind Ltd | バナジウム含有水の処理方法および装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4627028B2 (ja) | 2011-02-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2017205703A (ja) | 水処理方法および装置ならびにイオン交換樹脂の再生方法 | |
JP2010023006A (ja) | 純水製造方法 | |
JP2007313445A (ja) | 排水処理方法、排水処理装置、および排水回収システム | |
JP2004122020A (ja) | 超純水製造装置及び該装置における超純水製造供給システムの洗浄方法 | |
JP5321450B2 (ja) | 水処理装置給水配管の洗浄方法 | |
JP2011189242A (ja) | 水処理システム | |
JP4627028B2 (ja) | 排水処理装置のバクテリア繁殖防止方法 | |
JP4034668B2 (ja) | 超純水製造システムおよびその運転方法 | |
JP5720138B2 (ja) | 酢酸含有排水の処理方法 | |
JP3200314B2 (ja) | 有機物含有酸性排水処理装置 | |
JP5135697B2 (ja) | 界面活性剤含有排水の処理方法 | |
JP2010253457A (ja) | マイクロバブルやナノバブルなどの微細気泡を用いた膜ろ過装置の洗浄方法 | |
JP6387637B2 (ja) | イオン交換装置及びイオン交換処理方法 | |
JP5436372B2 (ja) | 過酢酸含有廃水を処理する処理方法及び処理装置 | |
JP2007098268A (ja) | 排水の処理方法および装置 | |
JP3459718B2 (ja) | シリコンウエハ洗浄装置 | |
JP3095600B2 (ja) | 粒状活性炭充填塔による過酸化水素の除去方法 | |
JP4561967B2 (ja) | テトラアルキルアンモニウムイオン含有排水から水を回収する方法及び装置 | |
JP2003190949A (ja) | フォトレジスト現像廃液の再生処理方法 | |
TW202216295A (zh) | 純水製造方法及製造裝置 | |
JP2001276825A (ja) | 現像工程で生じる排水の回収再利用方法及び装置 | |
JP2019098243A (ja) | 排水処理設備及び排水処理方法 | |
TW546159B (en) | The scrubber waste air treatment system and related method | |
JP2012200669A (ja) | リン除去装置 | |
JP3101642B2 (ja) | 超純水の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080515 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100618 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100625 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100910 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101015 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101102 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101102 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131119 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4627028 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |