JP2007072451A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007072451A5 JP2007072451A5 JP2006216423A JP2006216423A JP2007072451A5 JP 2007072451 A5 JP2007072451 A5 JP 2007072451A5 JP 2006216423 A JP2006216423 A JP 2006216423A JP 2006216423 A JP2006216423 A JP 2006216423A JP 2007072451 A5 JP2007072451 A5 JP 2007072451A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- film
- translucent
- exposure
- conductive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 12
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006216423A JP4850616B2 (ja) | 2005-08-12 | 2006-08-09 | 半導体装置の作製方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005234906 | 2005-08-12 | ||
| JP2005234906 | 2005-08-12 | ||
| JP2006216423A JP4850616B2 (ja) | 2005-08-12 | 2006-08-09 | 半導体装置の作製方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007072451A JP2007072451A (ja) | 2007-03-22 |
| JP2007072451A5 true JP2007072451A5 (enExample) | 2009-09-10 |
| JP4850616B2 JP4850616B2 (ja) | 2012-01-11 |
Family
ID=37933896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006216423A Expired - Fee Related JP4850616B2 (ja) | 2005-08-12 | 2006-08-09 | 半導体装置の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4850616B2 (enExample) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2003498A4 (en) | 2006-03-06 | 2011-12-14 | Panasonic Corp | PHOTOMASK, METHOD FOR PRODUCING SUCH A PHOTOMASK, METHOD FOR FORMING A PATTERN WITH THE PHOTOMASK AND METHOD FOR CREATING MASK DATA |
| TWI422961B (zh) * | 2007-07-19 | 2014-01-11 | Hoya Corp | 光罩及其製造方法、圖案轉印方法、以及顯示裝置之製造方法 |
| JP5239591B2 (ja) * | 2007-07-30 | 2013-07-17 | 大日本印刷株式会社 | 階調マスクおよびその製造方法 |
| JP5292591B2 (ja) | 2007-10-19 | 2013-09-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Tft基板の製造方法 |
| JP2010087333A (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Seiko Epson Corp | フォトマスク、半導体装置の製造方法、及び半導体装置 |
| CN102375329B (zh) * | 2010-08-20 | 2013-04-10 | 上海微电子装备有限公司 | 一种测试掩模和利用该掩模进行曝光系统参数测量的方法 |
| JP6139826B2 (ja) * | 2012-05-02 | 2017-05-31 | Hoya株式会社 | フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
| JP6557638B2 (ja) * | 2016-07-06 | 2019-08-07 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | ハーフトーンマスクおよびハーフトーンマスクブランクス |
| JP2017072842A (ja) * | 2016-11-09 | 2017-04-13 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0815851A (ja) * | 1994-06-24 | 1996-01-19 | Sony Corp | ハーフトーン方式位相シフトマスク及びレジスト露光方法 |
| JP3449857B2 (ja) * | 1996-06-03 | 2003-09-22 | 株式会社リコー | ハーフトーン位相シフトマスクとその製造方法 |
| JP2000181048A (ja) * | 1998-12-16 | 2000-06-30 | Sharp Corp | フォトマスクおよびその製造方法、並びにそれを用いた露光方法 |
| JP4954401B2 (ja) * | 2000-08-11 | 2012-06-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の製造方法 |
-
2006
- 2006-08-09 JP JP2006216423A patent/JP4850616B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101738846B (zh) | 掩模板及其制备方法 | |
| TWI515910B (zh) | 薄膜電晶體基板與其製作方法、顯示器 | |
| TW201543140A (zh) | 用於製造主模之方法及藉由該方法所製造之主模、用於製造透明光罩之方法及藉由該方法所製造之透明光罩、以及使用透明光罩製造導電網格圖案之方法 | |
| TWI480679B (zh) | 多灰階光罩、多灰階光罩之製造方法、圖案轉印方法及薄膜電晶體之製造方法 | |
| CN104377247B (zh) | 薄膜晶体管、显示装置及薄膜晶体管的制造方法 | |
| JP2008282046A5 (enExample) | ||
| JP2011090344A5 (enExample) | ||
| JP2010276724A5 (enExample) | ||
| JP2007072451A5 (enExample) | ||
| JP2015212720A5 (enExample) | ||
| CN108388077A (zh) | 一种掩膜版及其制备方法、阵列基板的制备方法 | |
| JP5541997B2 (ja) | フラットパネルディスプレイ製造用多階調フォトマスクの製造方法、フラットパネルディスプレイ製造用フォトマスクブランク、及びパターン転写方法 | |
| JP2007072452A5 (enExample) | ||
| TWI578546B (zh) | 薄膜電晶體的製造方法 | |
| CN101969026B (zh) | 基于喷墨印刷与激光干涉曝光的电极制备方法 | |
| TWI592739B (zh) | 相移光罩及其製造方法 | |
| CN104040428B (zh) | 相移掩模及使用该相移掩模的抗蚀图案形成方法 | |
| TW201624714A (zh) | 薄膜電晶體及其製作方法 | |
| CN101310221A (zh) | 光掩膜、其制造方法及使用该光掩膜的图形形成方法 | |
| CN104122695B (zh) | 用于液晶显示面板的阵列基板及阵列基板的制造方法 | |
| CN103969940A (zh) | 相移掩模板和源漏掩模板 | |
| CN113725231B (zh) | 一种显示面板及其制备方法、掩模板及显示装置 | |
| KR101182082B1 (ko) | 다계조 포토마스크의 제조 방법, 및 다계조 포토마스크 | |
| JP2010199457A (ja) | トランジスタ素子の製造方法 | |
| JP5400698B2 (ja) | 多階調フォトマスク、多階調フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び多階調フォトマスクの使用方法 |