JP2007070176A5 - 接合基板、マイクロリアクタ及び接合基板の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、第一のガラス基板と第二のガラス基板との間に設けられた流路に原料系の流体を流し加熱等することによって流路内で反応を引き起こす接合基板、接合基板の製造方法及びマイクロリアクタにおいて、第一のガラス基板と第二のガラス基板との接合精度を向上させることを目的としている。

上記課題を解決するため、請求項１に係る発明の接合基板は、第一のガラス基板と、
前記第一のガラス基板の一方の面に形成された膜と、
前記膜に陽極接合された第二のガラス基板と、を備え、
前記第一のガラス基板のうち前記第二のガラス基板に対向する面及び前記膜に第一の溝が形成され、
前記第一のガラス基板と前記第二のガラス基板とを互いに接合することによって、前記第一の溝が前記第二のガラス基板に覆われて流路が形成され、
前記膜は、前記第二のガラス基板から露出していることを特徴とする。
請求項２に係る発明は、請求項１に記載の発明において、
前記第一の溝は、前記膜の縁部から離間して形成され、
前記膜は、全体が連続して形成されていることを特徴とする。
請求項３に係る発明は、請求項１に記載の発明において、前記第一の溝は、少なくとも一箇所が前記膜の縁部に延在して形成され、
前記膜は、全体が連続して形成されていることを特徴とする。
請求項４に係る発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の発明において、前記第一のガラス基板は、前記第一のガラス基板の端部の一部が前記第二のガラス基板の縁部から突出した部分を有し、前記膜のうち前記突出した部分に対応する領域が露出していることを特徴とする。
請求項５に係る発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の発明において、前記第二のガラス基板は、前記第二のガラス基板の一部を切り欠く切欠部が形成されて、前記膜のうち前記切欠部に対応する領域が露出していることを特徴とする。
請求項６に係る発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の発明において、前記第二のガラス基板は、前記第二のガラス基板にその上下面を貫通する貫通孔が形成されて、前記膜のうち前記貫通孔に対応する領域が露出していることを特徴とする。
請求項７に係る発明は、請求項１〜６のいずれか一項に記載の発明において、前記第二のガラス基板は、前記第二のガラス基板のうち前記第一のガラス基板に対向する面に少なくとも一部が前記第一の溝に対応する領域に形成された第二の溝を有することを特徴とする。
請求項８に係る発明は、請求項７に記載の発明において、前記第二の溝は、前記第二のガラス基板のうち前記第一のガラス基板に対向する面を複数の領域に分断するように形成されていることを特徴とする。
請求項９に係る発明のマイクロリアクタは、請求項１〜８の何れか一項に記載の接合基板を含むことを特徴とする。
また、請求項１０に係る発明の接合基板の製造方法は、第一のガラス基板及び第二のガラス基板を準備する基板準備工程と、
前記第一のガラス基板の一の面上に膜を形成する膜形成工程と、
前記第一の基板及び前記膜に第一の溝を形成する第一溝形成工程と、
前記膜が露出するように前記膜と前記第二のガラス基板とを互いに当接させる当接工程と、
露出した前記膜に陽極を接触させ、前記第二のガラス基板に陰極を接触させる接触工程と、
前記陽極及び前記陰極に電圧を印加して、前記第一のガラス基板と前記第二のガラス基板とを陽極接合して流路を形成する接合工程と、を含むことを特徴とする。
請求項１１に係る発明は、請求項１０に記載の発明において、前記膜は、全体が連続して形成されていることを特徴とする。
請求項１２に係る発明は、請求項１０又は１１に記載の発明において、前記膜形成工程の後であって、前記当接工程の前に、
前記第二の基板に第二の溝を形成する第二溝形成工程を更に含むことを特徴とする。
請求項１３に係る発明は、請求項１２に記載の発明において、前記第二溝形成工程は、前記第二の溝を前記第二のガラス基板のうち前記第一のガラス基板に対向する面を複数の領域に分断するように形成することを特徴とする。

本発明によれば、第一のガラス基板と第二のガラス基板との間に設けられた流路に原料系の流体を流し加熱等することによって流路内で反応を引き起こす接合基板、接合基板の製造方法及びマイクロリアクタにおいて、露出した膜に電極を直接接触させることにより、第二のガラス基板中の可動イオンに加わる電界強度が大きくなり、第一のガラス基板に余計な電界が加わることがないため、第一のガラス基板内の可動イオンが膜にダメージを与える現象も防ぐことができる。その結果、第一のガラス基板と第二のガラス基板との接合精度を向上させることができる。

Claims (13)

1. 第一のガラス基板と、
   前記第一のガラス基板の一方の面に形成された膜と、
   前記膜に陽極接合された第二のガラス基板と、を備え、
   前記第一のガラス基板のうち前記第二のガラス基板に対向する面及び前記膜に第一の溝が形成され、
   前記第一のガラス基板と前記第二のガラス基板とを互いに接合することによって、前記第一の溝が前記第二のガラス基板に覆われて流路が形成され、
   前記膜は、前記第二のガラス基板から露出していることを特徴とする接合基板。
2. 前記第一の溝は、前記膜の縁部から離間して形成され、
   前記膜は、全体が連続して形成されていることを特徴とする請求項１に記載の接合基板。
3. 前記第一の溝は、少なくとも一箇所が前記膜の縁部に延在して形成され、
   前記膜は、全体が連続して形成されていることを特徴とする請求項１に記載の接合基板。
4. 前記第一のガラス基板は、前記第一のガラス基板の端部の一部が前記第二のガラス基板の縁部から突出した部分を有し、前記膜のうち前記突出した部分に対応する領域が露出していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の接合基板。
5. 前記第二のガラス基板は、前記第二のガラス基板の一部を切り欠く切欠部が形成されて、前記膜のうち前記切欠部に対応する領域が露出していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の接合基板。
6. 前記第二のガラス基板は、前記第二のガラス基板にその上下面を貫通する貫通孔が形成されて、前記膜のうち前記貫通孔に対応する領域が露出していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の接合基板。
7. 前記第二のガラス基板は、前記第二のガラス基板のうち前記第一のガラス基板に対向する面に少なくとも一部が前記第一の溝に対応する領域に形成された第二の溝を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の接合基板。
8. 前記第二の溝は、前記第二のガラス基板のうち前記第一のガラス基板に対向する面を複数の領域に分断するように形成されていることを特徴とする請求項７に記載の接合基板。
9. 請求項１〜８の何れか一項に記載の接合基板を含むマイクロリアクタ。
10. 第一のガラス基板及び第二のガラス基板を準備する基板準備工程と、
    前記第一のガラス基板の一の面上に膜を形成する膜形成工程と、
    前記第一の基板及び前記膜に第一の溝を形成する第一溝形成工程と、
    前記膜が露出するように前記膜と前記第二のガラス基板とを互いに当接させる当接工程と、
    露出した前記膜に陽極を接触させ、前記第二のガラス基板に陰極を接触させる接触工程と、
    前記陽極及び前記陰極に電圧を印加して、前記第一のガラス基板と前記第二のガラス基板とを陽極接合して流路を形成する接合工程と、を含むことを特徴とする接合基板の製造方法。
11. 前記膜は、全体が連続して形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の接合基板の製造方法。
12. 前記膜形成工程の後であって、前記当接工程の前に、
    前記第二の基板に第二の溝を形成する第二溝形成工程を更に含むことを特徴とする請求項１０又は１１に記載の接合基板の製造方法。
13. 前記第二溝形成工程は、前記第二の溝を前記第二のガラス基板のうち前記第一のガラス基板に対向する面を複数の領域に分断するように形成することを特徴とする請求項１２に記載の接合基板の製造方法。