JP2007066871A - レーザ熱転写方法及びドナーフィルムを利用した有機電界発光素子の製造方法 - Google Patents
レーザ熱転写方法及びドナーフィルムを利用した有機電界発光素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007066871A JP2007066871A JP2006083723A JP2006083723A JP2007066871A JP 2007066871 A JP2007066871 A JP 2007066871A JP 2006083723 A JP2006083723 A JP 2006083723A JP 2006083723 A JP2006083723 A JP 2006083723A JP 2007066871 A JP2007066871 A JP 2007066871A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- donor film
- thermal transfer
- laser thermal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】チャンバ内の基板ステージ上にアクセプタ基板を位置させる段階と、前記アクセプタ基板の少なくとも一面に電磁石層を形成する段階と、前記アクセプタ基板の他面に少なくとも光-熱変換層、転写層及び磁性層が具備されたドナーフィルムを位置させる段階と、前記ドナーフィルムを前記アクセプタ基板上にラミネーションする段階と、前記ドナーフィルム上にレーザビームを照射して前記転写層の少なくとも一部をアクセプタ基板上に転写させる段階と、を含む。
【選択図】図2f
Description
この時、アクセプタ基板14とドナーフィルム15の間に異物や空間なしにラミネーティングされるために、レーザ熱転写が行われるチャンバ11内部を真空で維持せず、基板ステージ12下部にホース16を連結して真空ポンプPで吸いこみ、アクセプタ基板14とドナーフィルム15を合着させる。
図2aを参照すれば、本発明の第1実施例によるレーザ熱転写方法を説明するために、まず、移送チャンバ200b内にロボット腕240とエンドエフェクタ(end-effector)250をローディングする。前記移送チャンバ200bは、真空雰囲気を維持することが好ましい。
前記レーザオシレータ290は、前記ドナーフィルム280上部に位置される。前記レーザオシレータ290は、チャンバの外部または内部に設置されうるし、前記レーザが上部から照らされうるように設置されることが好ましい。また、レーザオシレータの概略的な構成図290によれば、本実施例でレーザオシレータは、CWND:YAGレーザ(1604nm)を使って、2個のガルバノメータスキャナ(Galvanometer)291、292を具備し、スキャンレンズ293及びシリンダレンズ294を具備するがこれに制限されるものではない(S4参照)。
本発明の第2実施例によるレーザ熱転写方法を説明するために、まず、移送チャンバ200b内にロボット腕240とエンドエフェクタ250をローディングする。前記エンドエフェクタ250上に永久磁石層260と前記アクセプタ基板270を安着させる。前記永久磁石層260は、一つの大きい平面磁石や複数個が配列された形態が可能である。前記永久磁石層260が配置される類型には制限がないが、ラミネーティングをより有利に遂行するためには大きい平面磁石で形成することが好ましい。
本発明の第3実施例によるレーザ熱転写方法を説明するために、まず、移送チャンバ200b内にロボット腕240とエンドエフェクタ250をローディングする。前記エンドエフェクタ250上に磁石層260と前記アクセプタ基板270を安着させる。前記磁石層260はFe、Ni、Cr、Fe2O3、Fe3O4、CoFe2O4及びその混合物で構成されるグループより選択される一つからなる。
この時、前記永久磁石層は、前記アクセプタ基板の一面に形成された磁性層と互いに磁気力を形成させるために挿入される層であり、アルニコ磁石(Alnico Magnet)、フェライト磁石(Ferrite Magnet)、稀土類磁石、ゴム磁石、プラスチック磁石等が使用されうる。
図4を参照すれば、前記ドナーフィルム280は、基材基板281、前記基材基板281の一面に位置する磁性を帯びる物質を含む光-熱変換層282、前記光-熱変換層282上に位置する中間層283と、前記中間層283上に位置する転写層284からなる。
説明の重複を避けるために、前記第1実施例と同じ構成要素である基材基板281、中間層283及び転写層284に対する具体的な説明は略する。
図5を参照すれば、ドナーフィルム380は、基材基板381、前記基材基板381の一面に形成される前記磁性層382と、前記磁性層382上に形成される光-熱変換層383と、前記光-熱変換層383上に形成される中間層384と、前記中間層384上に形成される転写層385からなる。
図6を参照すれば、前記ドナーフィルム480は、基材基板481、前記基材基板481の一面に位置する光-熱変換層482、前記光-熱変換層482上に位置する磁性層483と、前記磁性層483上に位置する中間層484と、前記中間層484上に位置する転写層485からなる。
説明の重複を避けるため、前記第1実施例と同じ構成要素である基材基板481、光-熱変換層482、転写層485に対する具体的な説明は略する。
前記磁性層483は、前記光-熱変換層482上にパッド形態で所定間隔をおいて形成されうる。前記磁性層483は、磁石にくっつく一般的な物質からなり、例えば、鉄、ニッケル、クロム及びこれらの合金(Fe3O4、CoFeO4、MnFeO4)または磁石にくっつくすべての無機・有機物質の中で少なくとも一つの物質からなる。
前記ドナーフィルム550の選択された画素領域上にレーザが照射されれば、前記光-熱変換層553が膨脹するにつれて前記転写層555が膨脹されつつ前記ドナーフィルム550の基材基板551から分離して有機電界発光素子の基板500に転写される。この時、前記電磁石層510に形成された電気配線(図示せず)に電力を印加させる。これによって、前記磁性層552と前記電磁石層510の間に磁気力が作用されることで、前記転写層555の転写特性をさらに高めることができる。
220 基板支持台
230 基板ステージ
260 電磁石層
270 アクセプタ基板
280 ドナーフィルム
290 レーザオシレータ
Claims (22)
- チャンバ内の基板ステージ上にアクセプタ基板を位置させる段階と、
前記アクセプタ基板の少なくとも一面に電磁石層を形成する段階と、
前記アクセプタ基板の他面に少なくとも光-熱変換層、転写層及び磁性層が具備されたドナーフィルムを位置させる段階と、
前記ドナーフィルムを前記アクセプタ基板上にラミネーションする段階と、
前記ドナーフィルム上にレーザビームを照射して前記転写層の少なくとも一部をアクセプタ基板上に転写させる段階と、
を含むことを特徴とするレーザ熱転写方法。 - 前記磁性層は、
Fe、Ni、Cr、Fe2O3、Fe3O4、CoFe2O4及びその混合物で構成されるグループより選択されるいずれかひとつであることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写方法。 - 前記チャンバは、
真空チャンバであることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写方法。 - 前記ドナーフィルムは、
基材基板と、
前記基材基板上に形成される磁性層と、
前記磁性層上に形成される光-熱変換層と、
前記光-熱変換層上に形成される転写層と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写方法。 - 前記光-熱変換層は、
磁性物質をさらに含むことを特徴とする請求項4に記載のレーザ熱転写方法。 - アクセプタ基板の少なくとも一面に電磁石層を形成する段階と、
前記アクセプタ基板上に第1電極層を形成する段階と、
前記第1電極層上に形成され、
前記第1電極層の一領域が部分的に露出するように開口部を持つ画素規定膜を形成する段階と、
前記第1電極層と前記画素規定膜上にレーザ熱転写方法によって磁性層を含むドナーフィルムの転写層が転写される段階と、
前記転写層と前記画素規定膜上に第2電極層を形成する段階と、
を含むドナーフィルムを利用した有機電界発光素子の製造方法。 - チャンバ内の基板ステージ上に基板を位置させる段階と、
前記基板の少なくとも一面に永久磁石層を形成する段階と、
前記基板の他面に少なくとも光-熱変換層、転写層及び磁性層が具備されたドナーフィルムを位置させる段階と、
前記ドナーフィルムを前記基板上にラミネーションする段階と、
前記ドナーフィルム上にレーザビームを照射して前記転写層の少なくとも一部を基板上に転写させる段階と、
を含むことを特徴とするレーザ熱転写方法。 - 前記磁性層と前記永久磁石層の間に磁気力が作用することを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写方法。
- 前記永久磁石層は、
少なくとも一つの棒または円筒形状で形成されることを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写方法。 - 前記永久磁石層は、
磁性ナノパーティクルからなることを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写方法。 - 前記磁性層は、
Fe、Ni、Cr、Fe2O3、Fe3O4、CoFe2O4及びその混合物で構成されるグループより選択されるいずれかひとつであることを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写方法。 - 前記チャンバは、
真空チャンバであることを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写方法。 - 前記ドナーフィルムは、
基材基板と、
前記基材基板上に形成される磁性層と、
前記磁性層上に形成される光-熱変換層と、
前記光-熱変換層上に形成される転写層と、
を含むことを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写方法。 - 前記光-熱変換層は、
磁性物質をさらに含むことを特徴とする請求項13に記載のレーザ熱転写方法。 - 基板の少なくとも一面に永久磁石層を形成する段階と、
前記基板上に第1電極層を形成する段階と、
前記第1電極層上に形成され、
前記第1電極層の一領域が部分的に露出するように開口部を持つ画素規定膜を形成する段階と、
前記第1電極層と前記画素規定膜上にレーザ熱転写方法によって磁性層を含むドナーフィルムの転写層が転写される段階と、
前記転写層と前記画素規定膜上に第2電極層を形成する段階と、
を含むことを特徴とするドナーフィルムを利用した有機電界発光素子の製造方法。 - チャンバ内の基板ステージ上にアクセプタ基板を位置させる段階と、
前記アクセプタ基板の少なくとも一面に磁性層を形成する段階と、
前記アクセプタ基板の他面に少なくとも光-熱変換層、転写層及び永久磁石層が具備されたドナーフィルムを位置させる段階と、
前記ドナーフィルムを前記アクセプタ基板上にラミネーションする段階と、
前記ドナーフィルム上にレーザビームを照射して前記転写層の少なくとも一部をアクセプタ基板上に転写させる段階と、
を含むことを特徴とするレーザ熱転写方法。 - 前記磁性層は、
Fe、Ni、Cr、Fe2O3、Fe3O4、CoFe2O4及びその混合物で構成されるグループより選択されるいずれかひとつであることを特徴とする請求項16に記載のレーザ熱転写方法。 - 前記チャンバは、
真空チャンバであることを特徴とする請求項16に記載のレーザ熱転写方法。 - 前記ドナーフィルムは、
基材基板と、
前記基材基板上に形成される永久磁石層と、
前記磁性層上に形成される光-熱変換層と、
前記光-熱変換層上に形成される転写層を含むことを特徴とする請求項16に記載のレーザ熱転写方法。 - 前記永久磁石層を基材基板または光-熱変換層内部に永久磁石層ナノ粒子の形態で形成することを特徴とする請求項19に記載のレーザ熱転写方法。
- 前記チャンバは、
真空チャンバであることを特徴とする請求項16に記載のレーザ熱転写方法。 - アクセプタ基板の少なくとも一面に磁性層を形成する段階と、
前記アクセプタ基板上に第1電極層を形成する段階と、
前記第1電極層上に形成され、
前記第1電極層の一領域が部分的に露出するように開口部を持つ画素規定膜を形成する段階と、
前記第1電極層と前記画素規定膜上にレーザ熱転写方法によって永久磁石層を含むドナーフィルムの転写層が転写される段階と、
前記転写層と前記画素規定膜上に第2電極層を形成する段階と、
を含むことを特徴とするドナーフィルムを利用した有機電界発光素子の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050080349A KR100700828B1 (ko) | 2005-08-30 | 2005-08-30 | 레이저 열전사법 및 이를 이용한 유기 발광소자의 제조방법 |
KR1020050080347A KR100700822B1 (ko) | 2005-08-30 | 2005-08-30 | 레이저 열 전사법 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의제조방법 |
KR1020050109819A KR100700835B1 (ko) | 2005-11-16 | 2005-11-16 | 레이저 열 전사법 및 도너필름을 이용한 유기 전계 발광소자의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007066871A true JP2007066871A (ja) | 2007-03-15 |
JP4637776B2 JP4637776B2 (ja) | 2011-02-23 |
Family
ID=37928795
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006083723A Expired - Fee Related JP4637776B2 (ja) | 2005-08-30 | 2006-03-24 | レーザ熱転写方法及びドナーフィルムを利用した有機電界発光素子の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4637776B2 (ja) |
TW (1) | TWI368455B (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05138959A (ja) * | 1991-11-15 | 1993-06-08 | Konica Corp | 熱転写記録装置 |
JPH08123000A (ja) * | 1994-10-24 | 1996-05-17 | Konica Corp | 熱転写装置 |
JPH1154275A (ja) * | 1997-06-06 | 1999-02-26 | Eastman Kodak Co | 薄膜トランジスタ配列基板上のフルカラー有機エレクトロルミネセンス表示配列にパターン化された有機層 |
JP2003076297A (ja) * | 2001-09-06 | 2003-03-14 | Pioneer Electronic Corp | 表示パネル及び基板保持装置 |
JP2004079540A (ja) * | 2002-08-20 | 2004-03-11 | Eastman Kodak Co | 有機発光ダイオードデバイスの層を形成するためにドナーウェブから有機材料を転写する装置 |
JP2005048250A (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-24 | Dowa Mining Co Ltd | 金属磁性粒子の集合体およびその製造法 |
-
2006
- 2006-03-24 JP JP2006083723A patent/JP4637776B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-08-25 TW TW095131273A patent/TWI368455B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05138959A (ja) * | 1991-11-15 | 1993-06-08 | Konica Corp | 熱転写記録装置 |
JPH08123000A (ja) * | 1994-10-24 | 1996-05-17 | Konica Corp | 熱転写装置 |
JPH1154275A (ja) * | 1997-06-06 | 1999-02-26 | Eastman Kodak Co | 薄膜トランジスタ配列基板上のフルカラー有機エレクトロルミネセンス表示配列にパターン化された有機層 |
JP2003076297A (ja) * | 2001-09-06 | 2003-03-14 | Pioneer Electronic Corp | 表示パネル及び基板保持装置 |
JP2004079540A (ja) * | 2002-08-20 | 2004-03-11 | Eastman Kodak Co | 有機発光ダイオードデバイスの層を形成するためにドナーウェブから有機材料を転写する装置 |
JP2005048250A (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-24 | Dowa Mining Co Ltd | 金属磁性粒子の集合体およびその製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200711520A (en) | 2007-03-16 |
TWI368455B (en) | 2012-07-11 |
JP4637776B2 (ja) | 2011-02-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN112030102B (zh) | 蒸镀掩模的制造方法 | |
US8268657B2 (en) | Laser induced thermal imaging apparatus | |
KR100700831B1 (ko) | 레이저 열 전사법 및 이를 이용한 유기 발광소자의제조방법 | |
US8623583B2 (en) | Laser induced thermal imaging apparatus and fabricating method of organic light emitting diode using the same | |
JP2007141807A (ja) | レーザ熱転写装置及びこれを利用したレーザ熱転写法 | |
JP2007128844A (ja) | レーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法そしてこれを利用した有機発光表示素子 | |
KR100700822B1 (ko) | 레이저 열 전사법 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의제조방법 | |
US9123915B2 (en) | Tray for donor film | |
JP2006066861A (ja) | レーザ熱転写装置 | |
JP4637776B2 (ja) | レーザ熱転写方法及びドナーフィルムを利用した有機電界発光素子の製造方法 | |
KR20070024824A (ko) | 레이저 열전사법 및 이를 이용한 유기 발광소자의 제조방법 | |
JP2007128845A (ja) | レーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法 | |
KR100636501B1 (ko) | 레이저 열 전사 장치 및 그 장치를 이용한 레이저 열전사법 | |
JP2007062354A (ja) | レーザ熱転写ドナーフィルム、レーザ熱転写装置、レーザ熱転写法及び有機発光素子の製造方法 | |
KR100745336B1 (ko) | 레이저 열 전사 장치 및 그 장치를 이용한 레이저 열전사법 | |
KR100700829B1 (ko) | 레이저 열 전사 장치 및 그 장치를 이용한 레이저 열전사법 | |
JP4642684B2 (ja) | レーザ熱転写装置及びその装置を利用したレーザ熱転写法 | |
JP4615473B2 (ja) | レーザ熱転写装置及びこれを利用したレーザ熱転写法 | |
KR100700835B1 (ko) | 레이저 열 전사법 및 도너필름을 이용한 유기 전계 발광소자의 제조방법 | |
KR20070024820A (ko) | 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의제조방법 | |
KR100745337B1 (ko) | 레이저 열 전사 장치 및 그 장치를 이용한 레이저 열전사법 | |
KR100700837B1 (ko) | 레이저 열 전사 장치 및 그 장치를 이용한 레이저 열 전사법 | |
KR100700842B1 (ko) | 레이저 열 전사 장치 및 도너필름을 이용한 레이저 열전사법 | |
JP2013077541A5 (ja) | 薄膜パターン形成方法、それに使用するマスク、マスクの製造方法及び有機el表示装置の製造方法 | |
KR100700827B1 (ko) | 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20081208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091215 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100406 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100805 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100813 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100914 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100924 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101026 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101124 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131203 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131203 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131203 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |