JP2007066796A - ガスクラスターイオンビーム装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ガスクラスターイオンビーム装置は、ノズル1からガスを導入させてガスクラスターを生成させるクラスター生成室2と、隔壁18によってクラスター生成室2から分離され、ガスクラスターが隔壁18に設けられたスキマー4を通して供給されるプロセス室15とを有している。プロセス室15には、プロセス室15内に導入されたガスクラスターをイオン化するイオン化器5と、イオン化器5でイオン化されたガスクラスターを加速させてガスクラスターを被処理物である基板8に照射させる電極群7とが備えられている。ノズル1とスキマー4を接地電位にし、スキマー4とイオン化器5との電位差をクラスターイオンの基板8への照射エネルギーより小さくしてある。
【選択図】 図1
Description
本実施例はスキマー4とイオン化器5の電位差を小さくすることで異常放電を防止するものである。
本実施例は、スキマー4とイオン化器5を同電位にして異常放電を防止する手法である。電位を除く構造は第1実施例と同様である。図3に示すように、ノズル1、クラスター生成室2、スキマー4、隔壁18およびイオン化器5は接地されていて電位は等しい。
本実施例は図4に示すように、各々接地され同電位となったスキマー4とイオン化器5を一体の構成部品として作成したものである。つまり、スキマー4とイオン化器5が同電位であるため、プロセス室15の隔壁18におけるスキマー4近傍にイオン化器5を直接取り付けた構造である。
本実施例はクラスターをイオン化し、加速した後でクラスターイオンビームの中性化を行い中性クラスターを基板に照射するものである。図5に示すように、基本的に第2実施例と同様であるが、第2実施例のようなステージ電極10及び碍子11を備えておらずステージ9が接地されている点、電極群7と基板8の間に、クラスターイオンの中性化を行うために加速後のクラスターイオンに熱電子を照射する熱フィラメント17が設けられている点で第2実施例とは異なっている。
2 クラスター生成室
4 スキマー
5 イオン化器
7 電極群
8 基板
15 プロセス室
18 隔壁
Claims (5)
- ノズルからガスを導入させてガスクラスターを生成させるクラスター生成室と、隔壁によって前記クラスター生成室から分離され、前記ガスクラスターが前記隔壁に設けられたスキマーを通して供給されるプロセス室と、を有し、前記プロセス室には、前記プロセス室内に前記スキマーから導入された前記ガスクラスターをイオン化するイオン化器と、該イオン化器でイオン化された前記ガスクラスターを加速させて被処理物に照射させる電極群と、が備えられており、前記ノズルと前記スキマーがともに第1の電位に設定され、前記電極群の電位が前記イオン化器の電位よりも低い第2の電位に設定されているガスクラスターイオンビーム装置において、
前記スキマーと前記イオン化器との電位差が、前記被処理物に照射されるガスクラスターイオンの照射エネルギーより小さいことを特徴とするガスクラスターイオンビーム装置。 - 前記ノズル、前記スキマー、前記イオン化器がともに同電位であることを特徴とする請求項1記載のガスクラスターイオンビーム装置。
- 前記被処理物の電位が、前記被処理物に照射されるガスクラスターイオンとは逆極性の電位に設定されていること特徴とする請求項1または2に記載のガスクラスターイオンビーム装置。
- 前記被処理物に照射されるガスクラスターイオンは正に帯電している請求項3に記載のガスクラスターイオンビーム装置。
- 前記電極群による加速後のガスクラスターイオンを中性化する手段をさらに有する請求項1または2に記載のガスクラスターイオンビーム装置。
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