JP2007058992A - 光記録方法、光記録装置、光記録媒体及び光記録再生方法 - Google Patents
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- Holo Graphy (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
【課題】 レーザ光を用いて、記録又は再生、フォーカスやトラッキング制御を行う際に、記録再生の効率が高く、光記録及び光再生装置の誤差などから生ずる該複数のレーザ光の光軸のずれによる影響を受けず、光記録媒体自体の層構成が簡易となる優れた光記録方法、光記録装置及び光記録媒体を提供すること。
【解決手段】 ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備え、かつ少なくともトラック情報及びアドレス情報を有するパターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光により前記パターンの位置を検出するパターン位置検出ステップと、検出されたパターン位置情報に基づいて、該情報光及び該参照光の光軸の位置を前記パターン以外の位置に移動し、前記情報光及び前記参照光を前記記録層に照射し、干渉像を形成し、該干渉像を前記記録層に記録する干渉像記録ステップとを含む光記録方法。
【選択図】 図１
【解決手段】 ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備え、かつ少なくともトラック情報及びアドレス情報を有するパターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光により前記パターンの位置を検出するパターン位置検出ステップと、検出されたパターン位置情報に基づいて、該情報光及び該参照光の光軸の位置を前記パターン以外の位置に移動し、前記情報光及び前記参照光を前記記録層に照射し、干渉像を形成し、該干渉像を前記記録層に記録する干渉像記録ステップとを含む光記録方法。
【選択図】 図１
Description
本発明は、ホログラフィを利用して情報が記録される光記録方法、光記録装置及び光記録媒体に関し、特にフォーカス制御やトラッキング制御のためのサーボピットパターンを有する光記録媒体に対して、記録に用いる情報光及び参照光を照射し、反射光を検出し、フォーカス制御やトラッキング制御を行うことができる光記録方法、光記録装置及び光記録媒体に関する。
ホログラフィを利用して光記録媒体に情報を記録する光記録方法は、一般に、イメージ情報を持った情報光（物体光）と参照光とを前記光記録媒体の内部で干渉させ、その際に生成される干渉縞を前記光記録媒体に書き込むことによって行われる。前記光記録方法として、例えば、前記情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸になるようにして前記情報光及び参照光が照射されるコリニア方式などが挙げられる。該コリニア方式においては、前記情報光及び参照光により前記干渉縞が生成され、イメージ情報などが前記記録層に記録される。記録されたイメージ情報などの再生は、前記光記録媒体に前記参照光と同じ光を、記録時と同じ方向から照射することにより行われ、該光照射により前記干渉縞から回折光が生成され、該回折光を受光することにより前記情報が再生される。
このようなイメージ情報などの記録又は再生時には、光記録媒体内の記録層などの層間距離のばらつきや光記録及び光再生装置の誤差などを調整し、該光記録媒体の正常な位置に前記情報などを記録するためのフォーカス制御やトラッキング制御など、光線照射についての焦点位置の制御が行われる。
これらの焦点位置の制御方法として、例えば、前記フォーカス制御やトラッキング制御などを行うためのサーボ用光を前記光記録媒体に照射し、その反射光によりフォーカス情報やトラック情報などの光照射のための位置情報を検出するサンプルドサーボ方式などがある。この焦点位置の制御により前記情報光及び参照光が光記録媒体の正常な位置に照射され、記録及び再生が行われる（特許文献１〜３参照）。
これらの焦点位置の制御方法として、例えば、前記フォーカス制御やトラッキング制御などを行うためのサーボ用光を前記光記録媒体に照射し、その反射光によりフォーカス情報やトラック情報などの光照射のための位置情報を検出するサンプルドサーボ方式などがある。この焦点位置の制御により前記情報光及び参照光が光記録媒体の正常な位置に照射され、記録及び再生が行われる（特許文献１〜３参照）。
前記サンプルドサーボ方式の具体例として、例えば、図９に示す光記録装置などがある。前記光記録装置では、サーボ用光に赤色光を用い、記録に用いる情報光及び参照光には緑色などのサーボ用光とは異なる波長のレーザ光が用いられる。
前記サーボ用光はダイクロイックミラー１３で反射させ、対物レンズ１２を通過させ、反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２１に対して照射する。このダイクロイックミラー１３は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光を反射させるようになっている。光記録媒体２１の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、反射膜２で反射され、再度、入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３で反射し、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。なお、記録層４は、赤色の光では感光しないようになっている。
前記サーボ用光はダイクロイックミラー１３で反射させ、対物レンズ１２を通過させ、反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２１に対して照射する。このダイクロイックミラー１３は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光を反射させるようになっている。光記録媒体２１の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、反射膜２で反射され、再度、入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３で反射し、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。なお、記録層４は、赤色の光では感光しないようになっている。
前記情報光及び参照光は、前記サーボにより適正な位置に制御された前記情報光及び参照光を、偏光素子１６、ハーフミラー１７、ダイクロイックミラー１３に透過させ、対物レンズ１２によって記録層４内で干渉像を生成するように光記録媒体２１に照射する。前記情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射すると、記録層４で干渉し合って干渉像をそこに生成した後、記録層４を通過し、フィルタ層６に入射するが、該フィルタ層６の底面までの間に反射されて戻り光となり、反射膜２までは到達しない。フィルタ層６はコレステリック液晶層が４層積層され、赤色光のみを透過するように設計されている。
しかし、前記サンプルドサーボ方式を用いた光記録装置の場合、前記サーボ用光に対するフォーカス情報やトラック情報などの光照射の位置情報のみが検出され、その結果に基づいて、前記情報光及び参照光の記録層への照射位置が制御されている。そのため、前記サーボ用光の光軸と、前記情報光及び参照光の光軸に誤差があると、記録に用いた光記録装置と、再生に用いる光記録媒装置が異なるものを使用した場合には、的確な再生が得られないという問題がある。的確な再生を得るため、前記サンプルドサーボ方式をサーボ用光だけでなく、前記情報光及び参照光についても実施することにより、改善することも考えられる。しかし、前記サーボ用光と、前記情報光及び参照光の双方にサンプルドサーボ方式を採用することは、記録再生の効率が低下し、記録再生の高速化に向かないという問題がある。また、複数の異なるレーザ光を、異なったルートで照射するため、各レーザ光に対応した層、例えば、波長選択反射層などを光記録媒体に積層する必要もあり、層構成が複雑化するという問題もある。
しかし、前記サンプルドサーボ方式を用いた光記録装置の場合、前記サーボ用光に対するフォーカス情報やトラック情報などの光照射の位置情報のみが検出され、その結果に基づいて、前記情報光及び参照光の記録層への照射位置が制御されている。そのため、前記サーボ用光の光軸と、前記情報光及び参照光の光軸に誤差があると、記録に用いた光記録装置と、再生に用いる光記録媒装置が異なるものを使用した場合には、的確な再生が得られないという問題がある。的確な再生を得るため、前記サンプルドサーボ方式をサーボ用光だけでなく、前記情報光及び参照光についても実施することにより、改善することも考えられる。しかし、前記サーボ用光と、前記情報光及び参照光の双方にサンプルドサーボ方式を採用することは、記録再生の効率が低下し、記録再生の高速化に向かないという問題がある。また、複数の異なるレーザ光を、異なったルートで照射するため、各レーザ光に対応した層、例えば、波長選択反射層などを光記録媒体に積層する必要もあり、層構成が複雑化するという問題もある。
したがって、ホログラフィを利用して記録する光記録媒体に対して、レーザ光を用いて、記録又は再生、フォーカスやトラッキング制御を行う際に、記録再生の効率が高く、光記録及び光再生装置の誤差などから生ずる該複数のレーザ光の光軸のずれによる影響を受けず、光記録媒体自体の層構成が簡易となる優れた光記録方法、光記録装置及び光記録媒体は未だ実現されておらず、その提供が望まれているのが現状である。
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、レーザ光を用いて、記録又は再生、フォーカスやトラッキング制御を行う際に、記録再生の効率が高く、光記録及び光再生装置の誤差などから生ずる該複数のレーザ光の光軸のずれによる影響を受けず、光記録媒体自体の層構成が簡易となる優れた光記録方法、光記録装置及び光記録媒体を提供することを目的とする。
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞ ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備え、かつ少なくともトラック情報及びアドレス情報を有するパターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光少なくとものいずれかを照射し、反射光により前記パターンの位置を検出するパターン位置検出ステップと、検出されたパターン位置情報に基づいて、該情報光及び該参照光の光軸の位置を前記パターン以外の位置に移動し、前記情報光及び前記参照光を前記記録層に照射し、干渉像を形成し、該干渉像を前記記録層に記録する干渉像記録ステップとを含むことを特徴とする光記録方法である。
＜２＞ 光記録媒体に対し、情報光及び参照光の少なくともいずれかを照射し、反射光により該情報光及び該参照光の感光層の厚み方向の焦点位置を検出する焦点位置検出ステップを含む前記＜１＞に記載の光記録方法である。
＜３＞ パターンが、光記録媒体における少なくとも３箇所に形成された前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜４＞ パターンが、凹凸パターン及び屈折率の異なる材料からなるパターンの少なくともいずれかを含む前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜５＞ パターンが、記録層に記録された前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜６＞ パターン位置検出ステップにおける水平位置の検出方法が、３ビーム法、プッシュプル法及び位相差検出法の少なくともいずれかである前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜７＞ パターン位置検出ステップにおける水平位置の検出方法が、位置情報パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号強度が最大となる位置を検出する前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜８＞ パターン位置検出ステップにおける水平位置の検出方法が、位置情報パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号エラーが最小となる位置を検出する前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜９＞ 情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われる前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１０＞ 光記録媒体が、第一の基板と、記録層と、パターンと、第二の基板とをこの順に有する前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１１＞ パターン表面に反射膜を有する前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１２＞ 反射膜が、金属反射膜である前記＜１１＞に記載の光記録方法である。
＜１３＞ 光記録媒体が反射型ホログラムである前記＜１＞から＜１２＞のいずれか記載の光記録方法である。
＜１＞ ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備え、かつ少なくともトラック情報及びアドレス情報を有するパターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光少なくとものいずれかを照射し、反射光により前記パターンの位置を検出するパターン位置検出ステップと、検出されたパターン位置情報に基づいて、該情報光及び該参照光の光軸の位置を前記パターン以外の位置に移動し、前記情報光及び前記参照光を前記記録層に照射し、干渉像を形成し、該干渉像を前記記録層に記録する干渉像記録ステップとを含むことを特徴とする光記録方法である。
＜２＞ 光記録媒体に対し、情報光及び参照光の少なくともいずれかを照射し、反射光により該情報光及び該参照光の感光層の厚み方向の焦点位置を検出する焦点位置検出ステップを含む前記＜１＞に記載の光記録方法である。
＜３＞ パターンが、光記録媒体における少なくとも３箇所に形成された前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜４＞ パターンが、凹凸パターン及び屈折率の異なる材料からなるパターンの少なくともいずれかを含む前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜５＞ パターンが、記録層に記録された前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜６＞ パターン位置検出ステップにおける水平位置の検出方法が、３ビーム法、プッシュプル法及び位相差検出法の少なくともいずれかである前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜７＞ パターン位置検出ステップにおける水平位置の検出方法が、位置情報パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号強度が最大となる位置を検出する前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜８＞ パターン位置検出ステップにおける水平位置の検出方法が、位置情報パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号エラーが最小となる位置を検出する前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜９＞ 情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われる前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１０＞ 光記録媒体が、第一の基板と、記録層と、パターンと、第二の基板とをこの順に有する前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１１＞ パターン表面に反射膜を有する前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１２＞ 反射膜が、金属反射膜である前記＜１１＞に記載の光記録方法である。
＜１３＞ 光記録媒体が反射型ホログラムである前記＜１＞から＜１２＞のいずれか記載の光記録方法である。
＜１４＞ ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備え、かつ少なくともトラック情報及びアドレス情報を有するパターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光の少なくともいずれかを照射し、反射光により前記パターンの位置を検出するパターン位置検出手段と、検出されたパターン位置情報に基づいて、該情報光及び該参照光の光軸の位置を前記パターン以外の位置に移動し、前記情報光及び前記参照光を前記記録層に照射し、干渉像を形成し、該干渉像を前記記録層に記録する干渉像記録手段とを有することを特徴とする光記録装置である。
＜１５＞ 光記録媒体に対し、情報光及び参照光の少なくともいずれかを照射し、反射光により該情報光及び該参照光の感光層の厚み方向の焦点位置を検出する焦点位置検出手段を含む前記＜１４＞に記載の光記録装置である。
＜１５＞ 光記録媒体に対し、情報光及び参照光の少なくともいずれかを照射し、反射光により該情報光及び該参照光の感光層の厚み方向の焦点位置を検出する焦点位置検出手段を含む前記＜１４＞に記載の光記録装置である。
＜１６＞ 前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の光記録方法により記録された光記録媒体である。
＜１７＞ 前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の光記録方法により記録層に形成された干渉像に参照光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することを特徴とする光記録再生方法である。
＜１８＞ 参照光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、参照光を干渉像に照射して記録情報を再生する前記＜１７＞に記載の光記録再生方法である。
＜１８＞ 参照光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、参照光を干渉像に照射して記録情報を再生する前記＜１７＞に記載の光記録再生方法である。
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、本発明は、レーザ光を用いて、記録又は再生、フォーカスやトラッキング制御を行う際に、記録再生の効率が高く、光記録及び光再生装置の誤差などから生ずる該複数のレーザ光の光軸のずれによる影響を受けず、光記録媒体自体の層構成が簡易となる優れた光記録方法、光記録装置及び光記録媒体を提供することができる。
（光記録方法）
本発明の光記録方法は、パターン位置検出ステップ、干渉像記録ステップ及び必要に応じて適宜選択したその他のステップを含む光記録方法である。
本発明の光記録方法は、本発明の光記録装置により実施することができ、該光記録装置の説明を通じてその詳細をも明らかにすることとする。
本発明の光記録方法における前記パターン位置検出ステップは、本発明の光記録装置におけるパターン位置検出手段により好適に行うことができ、
本発明の光記録方法における前記干渉像記録ステップは、本発明の光記録装置における干渉像記録手段により好適に行うことができ、
本発明の光記録方法における前記その他のステップは、本発明の光記録装置における前記その他の手段により好適に行うことができる。
本発明の光記録方法は、パターン位置検出ステップ、干渉像記録ステップ及び必要に応じて適宜選択したその他のステップを含む光記録方法である。
本発明の光記録方法は、本発明の光記録装置により実施することができ、該光記録装置の説明を通じてその詳細をも明らかにすることとする。
本発明の光記録方法における前記パターン位置検出ステップは、本発明の光記録装置におけるパターン位置検出手段により好適に行うことができ、
本発明の光記録方法における前記干渉像記録ステップは、本発明の光記録装置における干渉像記録手段により好適に行うことができ、
本発明の光記録方法における前記その他のステップは、本発明の光記録装置における前記その他の手段により好適に行うことができる。
＜パターン位置検出手段＞
前記パターン位置検出手段は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備え、かつ該記録層の層面に対し水平方向の位置情報を記録したパターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光により前記パターンの位置を検出する手段である。
前記パターン位置検出手段は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備え、かつ該記録層の層面に対し水平方向の位置情報を記録したパターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光により前記パターンの位置を検出する手段である。
−水平方向の位置情報−
前記水平方向の位置情報としては、前記光記録媒体に積層された前記記録層の層面に対して前記情報光及び参照光の光軸の水平方向の位置に関する情報であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アドレス情報などが挙げられる。
前記アドレス情報としては、例えば、００００、０００１、０００２などのように位置情報が符号化されたもの、光記録媒体における任意の一アドレスを原点とし、前記記録層と水平方向の層面にＸ軸及びＹ軸をとったとき、該Ｘ軸からａ、Ｙ軸からｂの位置（ａ，ｂ）という位置情報や、トラッキングサーボに用いられる位置情報、ウォブルなどに形成された位置情報、更に、プリピットや記録層などに記録されているアドレス情報、単に光の強弱が戻ってくるだけの記録パターンのみによる位置情報などが挙げられる。
前記水平方向の位置情報としては、前記光記録媒体に積層された前記記録層の層面に対して前記情報光及び参照光の光軸の水平方向の位置に関する情報であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アドレス情報などが挙げられる。
前記アドレス情報としては、例えば、００００、０００１、０００２などのように位置情報が符号化されたもの、光記録媒体における任意の一アドレスを原点とし、前記記録層と水平方向の層面にＸ軸及びＹ軸をとったとき、該Ｘ軸からａ、Ｙ軸からｂの位置（ａ，ｂ）という位置情報や、トラッキングサーボに用いられる位置情報、ウォブルなどに形成された位置情報、更に、プリピットや記録層などに記録されているアドレス情報、単に光の強弱が戻ってくるだけの記録パターンのみによる位置情報などが挙げられる。
前記水平方向の位置情報は、前記情報光及び参照光の照射位置を制御するための基準となる情報であるため、位置精度は極めて高いことが要請され、前記各ａ、ｂの位置誤差は、１００μｍ以内であることが好ましく、１０μｍ以内であることがより好ましく、３μｍ以内であることが特に好ましく、１μｍが最も好ましい。１００μｍ以内としたのは、１００μｍ以内にあれば、前記情報光及び参照光の照射位置制御は可能であり、１００μｍを超える高精度を求めると生産性が低下することがあるからである。また、位置がずれていても、そのずれ量が既知であり、それに基づいて制御を行うのであれば、制御に支障はない。既知のずれ量は、光記録媒体に記録されていることが好ましい。
−パターン−
前記パターンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、参照光を照射したときに、情報光として戻ってくるものが好ましい。
このパターンを再生するとき、該パターンに対する参照光軸がずれていると、そのずれ量に応じて光量が減衰するように記録されていることが好ましい。その光量から、ずれ量を検出することが可能となる。また、ＸとＹそれぞれ独立に光量を検出できれば，１度の再生で偏位量を測定することも可能である。
前記パターンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、参照光を照射したときに、情報光として戻ってくるものが好ましい。
このパターンを再生するとき、該パターンに対する参照光軸がずれていると、そのずれ量に応じて光量が減衰するように記録されていることが好ましい。その光量から、ずれ量を検出することが可能となる。また、ＸとＹそれぞれ独立に光量を検出できれば，１度の再生で偏位量を測定することも可能である。
−パターンの記録場所−
前記位置情報パターンの記録場所としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光記録媒体の基板面、前記情報光及び参照光の反射層、前記水平位置情報のために形成し、他の層と屈折率が異なるパターン層、プリピット層、ギャップ層、カバー層などが挙げられる。
前記位置情報パターンの記録場所としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光記録媒体の基板面、前記情報光及び参照光の反射層、前記水平位置情報のために形成し、他の層と屈折率が異なるパターン層、プリピット層、ギャップ層、カバー層などが挙げられる。
−パターンの記録個数−
前記パターンの個数としては、少なくとも光記録媒体に３個あれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３〜１０個でよく、３〜１００個が好ましく、３〜１，０００がより好ましい。また、前記個数は、トラッキングサーボに用いられるトラック毎に設けてもよく、この場合も、３〜１０個でよく、３〜１００個が好ましく、３〜１，０００がより好ましい。前記個数がいずれの場合も、１，０００個を超えると、前記位置情報パターンを形成する際の生産効率の低下を招くことがあり、前記パターンから位置情報を検出するための個数としては、１，０００個あれば充分だからである。
前記パターンの個数としては、少なくとも光記録媒体に３個あれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３〜１０個でよく、３〜１００個が好ましく、３〜１，０００がより好ましい。また、前記個数は、トラッキングサーボに用いられるトラック毎に設けてもよく、この場合も、３〜１０個でよく、３〜１００個が好ましく、３〜１，０００がより好ましい。前記個数がいずれの場合も、１，０００個を超えると、前記位置情報パターンを形成する際の生産効率の低下を招くことがあり、前記パターンから位置情報を検出するための個数としては、１，０００個あれば充分だからである。
−パターンの形成方法−
前記パターンの記録方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スタンパなどにより基板に形成する方法、パターン層を形成する方法、パターン毎に光記録する方法などが挙げられる。
いずれの方法においても、前記情報光及び参照光を反射させることにより、戻り光とし、該戻り光の光路長の違いによりパターンの有無などを検出することができる。そのため、前記パターンの表面や該パターン以外の領域に光を反射させる反射膜の形成が必要となる。
前記パターンの記録方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スタンパなどにより基板に形成する方法、パターン層を形成する方法、パターン毎に光記録する方法などが挙げられる。
いずれの方法においても、前記情報光及び参照光を反射させることにより、戻り光とし、該戻り光の光路長の違いによりパターンの有無などを検出することができる。そのため、前記パターンの表面や該パターン以外の領域に光を反射させる反射膜の形成が必要となる。
−スタンパにより基板に形成する方法−
前記スタンパにより基板に形成する方法しては、例えば、ガラス基板にレジスト材料を塗布し、リソグラフィの手法で露光・現像してレジスト材料を部分的に除去することにより表面に凹凸パターンを有するガラスマスタ（凹凸パターン転写用原盤）を得、ガラスマスタを利用して形成する方法などが挙げられる。このガラスマスタは、その表面に無電解メッキ法で導電膜を形成してから電解メッキ法でＮｉ等の薄膜を形成し、この薄膜及び導電膜をガラスマスタから剥離することによりスタンパを得る。このスタンパを型内に配設し、ポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形することでピット、グルーブ等の情報伝達のための凹凸パターンを形成した基板が得られる。なお、生産性の向上等の目的でガラスマスタから無電解メッキ法及び電解メッキ法でメタルマスタを作製し、メタルマスタに電解メッキ法で薄膜を形成してメタルマスタから剥離することによりスタンパを作製することもできる。又、電解メッキ法を更に繰返してスタンパを作製することも可能である。
更に、特開２００５−１６６１０５号公報、特開２００５−１００５４６号公報、特開２００４−２５９３５６号公報、特開２００４−１２５８７４号公報、特開２００３−８５８３１号公報などに記載のスタンパの製造方法により作製することができる。
前記スタンパにより基板に形成する方法しては、例えば、ガラス基板にレジスト材料を塗布し、リソグラフィの手法で露光・現像してレジスト材料を部分的に除去することにより表面に凹凸パターンを有するガラスマスタ（凹凸パターン転写用原盤）を得、ガラスマスタを利用して形成する方法などが挙げられる。このガラスマスタは、その表面に無電解メッキ法で導電膜を形成してから電解メッキ法でＮｉ等の薄膜を形成し、この薄膜及び導電膜をガラスマスタから剥離することによりスタンパを得る。このスタンパを型内に配設し、ポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形することでピット、グルーブ等の情報伝達のための凹凸パターンを形成した基板が得られる。なお、生産性の向上等の目的でガラスマスタから無電解メッキ法及び電解メッキ法でメタルマスタを作製し、メタルマスタに電解メッキ法で薄膜を形成してメタルマスタから剥離することによりスタンパを作製することもできる。又、電解メッキ法を更に繰返してスタンパを作製することも可能である。
更に、特開２００５−１６６１０５号公報、特開２００５−１００５４６号公報、特開２００４−２５９３５６号公報、特開２００４−１２５８７４号公報、特開２００３−８５８３１号公報などに記載のスタンパの製造方法により作製することができる。
−パターン層を形成する方法−
前記パターン層として形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記パターン形成のために新たなパターン層を積層する方法などが挙げられる。前記パターン層は、アドレス情報やトラック情報などが含まれているパターン部分と、それ以外の領域とで屈折率が異なる層を基板上などに周期的に形成し、サーボピットパターンと同様に前記屈折率の変化を位置情報として利用することができる。 前記屈折率の異なる材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フォトポリマーにパターンを露光する方法や、屈折率の異なる材料をパターンニングする方法などが挙げられる。具体的な材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、屈折率の高いものとしては、ＴｉＯ２、ＺｎＳ、屈折率の低いものとしては、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２などが挙げられる。
前記屈折率としては、１．３〜２．０、１．５〜３．０などが挙げられる。
前記屈折率の差として、０．１以上であれば、目的の光路長の違いによる、パターンの有無を判定することができる。前記屈折率の差は、０．２以上が好ましく、０．３以上がより好ましい。
前記パターン層として形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記パターン形成のために新たなパターン層を積層する方法などが挙げられる。前記パターン層は、アドレス情報やトラック情報などが含まれているパターン部分と、それ以外の領域とで屈折率が異なる層を基板上などに周期的に形成し、サーボピットパターンと同様に前記屈折率の変化を位置情報として利用することができる。 前記屈折率の異なる材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フォトポリマーにパターンを露光する方法や、屈折率の異なる材料をパターンニングする方法などが挙げられる。具体的な材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、屈折率の高いものとしては、ＴｉＯ２、ＺｎＳ、屈折率の低いものとしては、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２などが挙げられる。
前記屈折率としては、１．３〜２．０、１．５〜３．０などが挙げられる。
前記屈折率の差として、０．１以上であれば、目的の光路長の違いによる、パターンの有無を判定することができる。前記屈折率の差は、０．２以上が好ましく、０．３以上がより好ましい。
−反射膜−
前記反射膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が４００〜７８０ｎｍである場合には、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が６５０ｎｍ以上である場合には、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、ＤＶＤ（ディジタル ビデオ ディスク）などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
前記反射膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が４００〜７８０ｎｍである場合には、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が６５０ｎｍ以上である場合には、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、ＤＶＤ（ディジタル ビデオ ディスク）などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
前記反射膜の形成は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みは、十分な反射率を実現し得るように、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。
前記反射膜の厚みは、十分な反射率を実現し得るように、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。
−水平方向の位置情報の検出方法−
前記水平位置情報の検出方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、サーボ用光の照射により、トラッキングサーボなどを行った状態、即ち、サーボ用光の焦点位置をトラック位置及びアドレス位置に合致させるため、厚み方向の位置調整のフォーカス制御及び面方法の位置調整のトラッキング制御を行い前記サーボ用光の光軸が適正な位置に制御した状態で、前記情報光及び参照光（再生光）を前記位置情報パターンに照射し、反射光を受光して、該情報光及び参照光の光軸が、前記サーボ用光の光軸とどの程度偏差しているかを検出する方法、トラッキング制御したときに、そのトラッキング位置にオフセットをのせ、位置情報パターンの再生光からその偏位量を検出する方法などが挙げられる。
前者の検出方法の場合、前記検出により、前記情報光及び参照光（再生光）が該水平位置情報とジャストピントの状態であることが確認できれば、前記サーボ用光の光軸と前記情報光及び参照光（再生光）の光軸が設計値と一致し、誤差がないことが検出される。
前記検出により、ジャストピントの状態ではない場合、前記情報光及び参照光（再生光）水平位置のトラッキング制御を行いジャストピント位置になるように前記情報光及び参照光（再生光）を移動し、該移動量を検出する。
前記水平位置情報の検出方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、サーボ用光の照射により、トラッキングサーボなどを行った状態、即ち、サーボ用光の焦点位置をトラック位置及びアドレス位置に合致させるため、厚み方向の位置調整のフォーカス制御及び面方法の位置調整のトラッキング制御を行い前記サーボ用光の光軸が適正な位置に制御した状態で、前記情報光及び参照光（再生光）を前記位置情報パターンに照射し、反射光を受光して、該情報光及び参照光の光軸が、前記サーボ用光の光軸とどの程度偏差しているかを検出する方法、トラッキング制御したときに、そのトラッキング位置にオフセットをのせ、位置情報パターンの再生光からその偏位量を検出する方法などが挙げられる。
前者の検出方法の場合、前記検出により、前記情報光及び参照光（再生光）が該水平位置情報とジャストピントの状態であることが確認できれば、前記サーボ用光の光軸と前記情報光及び参照光（再生光）の光軸が設計値と一致し、誤差がないことが検出される。
前記検出により、ジャストピントの状態ではない場合、前記情報光及び参照光（再生光）水平位置のトラッキング制御を行いジャストピント位置になるように前記情報光及び参照光（再生光）を移動し、該移動量を検出する。
前記ジャストピンと位置に移動する手段として、前記位置情報パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号強度が最大となる位置を、図３に示す矢印方向に、移動手段を用いて移動させることにより検出し、前記情報光及び参照光の光軸を前記位置情報パターンの位置に一致させることができる。
前記信号強度の最大値を認識する手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピークホールド法などが挙げられる。
前記信号強度の最大値を認識する手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピークホールド法などが挙げられる。
前記ジャストピンと位置に移動する手段としては、更に、位置情報パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号エラーが最小となる位置を、図３に示す矢印方向に、移動手段を用いて移動させることにより検出し、前記情報光及び参照光の光軸を前記位置情報パターンに一致させることができる。
前記信号エラーの最小値を認識する手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピークホールド法などが挙げられる。
前記信号エラーの最小値を認識する手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピークホールド法などが挙げられる。
前記移動手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記サーボ機構などが挙げられる。
前記サーボ機構としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記偏差量を、例えば、フォーカス誤差信号として生成し、前記信号を増幅する位相補償ドライブアンプなどを経由して、駆動装置へ指令し前記対物レンズの位置を移動することにより。により焦点距離を制御する機構などが挙げられる。
前記駆動装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクチュエータ、ステッピングモータなどが挙げられる。
前記サーボ機構としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記偏差量を、例えば、フォーカス誤差信号として生成し、前記信号を増幅する位相補償ドライブアンプなどを経由して、駆動装置へ指令し前記対物レンズの位置を移動することにより。により焦点距離を制御する機構などが挙げられる。
前記駆動装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクチュエータ、ステッピングモータなどが挙げられる。
−移動量の検出−
前記移動量の検出方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記水平位置情報として、アドレス情報を原点とし、前記記録層と水平方向の層面にＸ軸及びＹ軸をとり、前記記録層の厚み方向にＺ軸をとったとき、該Ｘ軸からａ、Ｙ軸からｂの位置（ａ，ｂ）、（ただし、前記ａはａ≧０、ｂはｂ≧０）が前記感光層に記録されており、前記アドレス情報が、同様のＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸において位置（ａ，ｂ）として、光記録媒体に記録されている場合、まず、情報光及び参照光で前記アドレス情報を検出し、前記検出結果に基づいて、前記情報光及び参照光の光軸の記録すべき位置への移動量を求める。
前記情報光及び参照光によるアドレス情報の検出は、該情報光及び参照光を照射し、反射光を受光して被照射部分のアドレスを認識するとともに、該アドレスの位置（ａ，ｂ）から、照射した該情報光及び参照光をどれだけ移動すべきかのＸ軸及びＹ軸方向の移動量Δａ及びΔｂを求める。
前記移動量は、距離及び角度で表してもよい。この場合は、下記の式で表される距離をΔＬとし、角度をＸ軸又はＹ軸を基準とした鋭角θで表してもよい。
前記移動量の検出方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記水平位置情報として、アドレス情報を原点とし、前記記録層と水平方向の層面にＸ軸及びＹ軸をとり、前記記録層の厚み方向にＺ軸をとったとき、該Ｘ軸からａ、Ｙ軸からｂの位置（ａ，ｂ）、（ただし、前記ａはａ≧０、ｂはｂ≧０）が前記感光層に記録されており、前記アドレス情報が、同様のＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸において位置（ａ，ｂ）として、光記録媒体に記録されている場合、まず、情報光及び参照光で前記アドレス情報を検出し、前記検出結果に基づいて、前記情報光及び参照光の光軸の記録すべき位置への移動量を求める。
前記情報光及び参照光によるアドレス情報の検出は、該情報光及び参照光を照射し、反射光を受光して被照射部分のアドレスを認識するとともに、該アドレスの位置（ａ，ｂ）から、照射した該情報光及び参照光をどれだけ移動すべきかのＸ軸及びＹ軸方向の移動量Δａ及びΔｂを求める。
前記移動量は、距離及び角度で表してもよい。この場合は、下記の式で表される距離をΔＬとし、角度をＸ軸又はＹ軸を基準とした鋭角θで表してもよい。
前記偏差量ΔＬは、前記表示方法以外に、目的に応じて（Δａ’−Δａ）、（Δｂ’−Δｂ）、Δａ、Δｂ、Δａ’、Δｂ’をそれぞれ独立に扱って制御し、利用してもよい。
前記情報光及び参照光によるアドレス情報の検出は、まず、前記光記録媒体の厚み方向の焦点位置の検出を行い、フォーカス制御し、該情報光及び参照光の焦点をアドレス情報の位置に合わせ、次に、水平方向の位置を検出を行うこともできる。前記フォーカス制御は、最初の数箇所行い、該フォーカス制御を行わなくてもアドレス情報が認識できると判断された場合には、逐次フォーカス制御を行わなくてもよい。
前記フォーカス制御のための焦点位置の検出としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、非点収差法、フーコー法及び臨界角法（「図解コンパクトディスク読本」オーム社、中島平太郎、小川博司共著、第一版、昭和６１年１１月１０日発行に記載）などが挙げられる。
−非点収差法−
前記非点収差法は、被検出ディスクに形成されている記録層の記録しようとする位置と、前記情報光及び参照光の焦点の位置との偏差量を検出する。即ち、焦点距離（対物レンズの中心と前記情報光及び参照光の焦点との距離）と、前記対物レンズの中心から前記記録層の記録しようとする部分まで距離との偏差量を検出する。光源から出射される光線が対物レンズを通過し光記録媒体に照射される光路における、前記光源から前記対物レンズの中間にビームスプリッターなどを配置し反射光を取り出し、該反射光をシリンドリカルレンズに透過させ、結像させる。該結像面が円形の場合は、前記焦点距離は一致し、縦長の楕円形の場合は、前記光記録媒体が前記対物レンズに近すぎる位置にあり、横長の楕円の場合は、前記光記録媒体が前記対物レンズに遠すぎる位置にあることが検出できる。
前記検出は、前記反射光を４分割し、前記結像の対角領域の明るさを比較することにより検出する。
前記非点収差法は、被検出ディスクに形成されている記録層の記録しようとする位置と、前記情報光及び参照光の焦点の位置との偏差量を検出する。即ち、焦点距離（対物レンズの中心と前記情報光及び参照光の焦点との距離）と、前記対物レンズの中心から前記記録層の記録しようとする部分まで距離との偏差量を検出する。光源から出射される光線が対物レンズを通過し光記録媒体に照射される光路における、前記光源から前記対物レンズの中間にビームスプリッターなどを配置し反射光を取り出し、該反射光をシリンドリカルレンズに透過させ、結像させる。該結像面が円形の場合は、前記焦点距離は一致し、縦長の楕円形の場合は、前記光記録媒体が前記対物レンズに近すぎる位置にあり、横長の楕円の場合は、前記光記録媒体が前記対物レンズに遠すぎる位置にあることが検出できる。
前記検出は、前記反射光を４分割し、前記結像の対角領域の明るさを比較することにより検出する。
−フーコー法−
前記フーコー法は、前記非点収差を用いる方法と、前記ビームスプリッターなどを配置し反射光を取り出し、該反射光をシリンドリカルレンズを透過するところまでは同じ構成を用いる。該シリンドリカルレンズにより透過した反射光が結像する部分にプリズムを用い、該プリズムの頂角に結像した場合は、前記焦点距離は一致し、該頂角を通過して結像した場合は、前記光記録媒体が前記対物レンズに近すぎる位置にあり、該頂角の手前で結像した場合は、前記光記録媒体が前記対物レンズに遠すぎる位置にあることが検出できる。前記検出は、２分割された前記反射光に対して１個づつセンサを配置し、前記２分割された反射光の明るさを感知し、前記結像位置を検出することができる。
前記フーコー法は、前記非点収差を用いる方法と、前記ビームスプリッターなどを配置し反射光を取り出し、該反射光をシリンドリカルレンズを透過するところまでは同じ構成を用いる。該シリンドリカルレンズにより透過した反射光が結像する部分にプリズムを用い、該プリズムの頂角に結像した場合は、前記焦点距離は一致し、該頂角を通過して結像した場合は、前記光記録媒体が前記対物レンズに近すぎる位置にあり、該頂角の手前で結像した場合は、前記光記録媒体が前記対物レンズに遠すぎる位置にあることが検出できる。前記検出は、２分割された前記反射光に対して１個づつセンサを配置し、前記２分割された反射光の明るさを感知し、前記結像位置を検出することができる。
−臨界角法−
前記臨界法は、被検出ディスクに形成されている記録層へ記録しようとする位置と、前記情報光及び参照光の焦点の位置とのずれを検出する。即ち、焦点距離（対物レンズの中心と前記情報光及び参照光の焦点との距離）と、前記対物レンズの中心から前記記録層の記録しようとする部分まで距離とのずれを検出する。光源から出射される光線が対物レンズを通過し光記録媒体に照射される光路における、前記光源から前記対物レンズの中間に、入射する光束の中心の光線に対して、入射角がちょうど臨界角（入射する光線がプリズムの境界面で全部反射される角度）となるプリズムを配置し、該プリズムから前記反射光を取り出し、該反射光の明暗感知することにより焦点位置を検出する。前記光記録媒体が前記対物レンズに近すぎたり、遠すぎたりする場合、該プリズムで反射する反射光は光量が減ることを利用し、遠近を＋−の極性で判別することにより、前記焦点位置を検出することができる。
前記臨界法は、被検出ディスクに形成されている記録層へ記録しようとする位置と、前記情報光及び参照光の焦点の位置とのずれを検出する。即ち、焦点距離（対物レンズの中心と前記情報光及び参照光の焦点との距離）と、前記対物レンズの中心から前記記録層の記録しようとする部分まで距離とのずれを検出する。光源から出射される光線が対物レンズを通過し光記録媒体に照射される光路における、前記光源から前記対物レンズの中間に、入射する光束の中心の光線に対して、入射角がちょうど臨界角（入射する光線がプリズムの境界面で全部反射される角度）となるプリズムを配置し、該プリズムから前記反射光を取り出し、該反射光の明暗感知することにより焦点位置を検出する。前記光記録媒体が前記対物レンズに近すぎたり、遠すぎたりする場合、該プリズムで反射する反射光は光量が減ることを利用し、遠近を＋−の極性で判別することにより、前記焦点位置を検出することができる。
前記水平位置の検出方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３ビーム法、プッシュプル法及び位相差検出法（「図解コンパクトディスク読本」オーム社、中島平太郎、小川博司共著、第一版、昭和６１年１１月１０日発行に記載）などが挙げられる。
−３ビーム法−
前記３ビーム法は、被検出ディスクに形成されているトラックに対する、サーボ用光の照射位置ずれを検出する方法で、略円形の主ビーム、副ビームＡ及び副ビームＢの３本のビームが用いられる。副ビームＡ、主ビーム及び副ビームＢの順に略直線上に等間隔に配置され、主ビームの円の中心が、前記トラックの幅の中央に対して照射される位置に、副ビームＡの円の下部が、前記トラックの幅の端に接する位置に、副ビームＢの円の上部が、前記トラックの幅の端に接する位置になるように配置される。
このような配置で、各ビームが前記トラックに照射されると、トラック面では、弱い反射光、トラック面以外では強い反射光となり、各反射光の強度を検出することにより、照射された３本のビームの位置と前記トラックとの位置ずれを検出することができる。
前記３ビーム法は、被検出ディスクに形成されているトラックに対する、サーボ用光の照射位置ずれを検出する方法で、略円形の主ビーム、副ビームＡ及び副ビームＢの３本のビームが用いられる。副ビームＡ、主ビーム及び副ビームＢの順に略直線上に等間隔に配置され、主ビームの円の中心が、前記トラックの幅の中央に対して照射される位置に、副ビームＡの円の下部が、前記トラックの幅の端に接する位置に、副ビームＢの円の上部が、前記トラックの幅の端に接する位置になるように配置される。
このような配置で、各ビームが前記トラックに照射されると、トラック面では、弱い反射光、トラック面以外では強い反射光となり、各反射光の強度を検出することにより、照射された３本のビームの位置と前記トラックとの位置ずれを検出することができる。
−プッシュプル法−
前記プッシュプル法は、被検出ディスクに形成されているトラックに対する、サーボ用光の照射位置ずれを検出する方法で、１つのビームを前記トラックに照射し、該反射光を２分割して検出する２分割光検出器を用いる。該ビームが該トラック幅の中心部分に照射されると、２分割された反射光の左右の光強度が等しくなり、該トラックの幅方向に左右にずれた場合には、該トラック部分からの反射光の強度は弱く、該トラック以外からの反射光の強度は強いので、２分割された反射光の左右の光強度分布は左右非対象になり、ずれていることが検出できる。
前記プッシュプル法は、被検出ディスクに形成されているトラックに対する、サーボ用光の照射位置ずれを検出する方法で、１つのビームを前記トラックに照射し、該反射光を２分割して検出する２分割光検出器を用いる。該ビームが該トラック幅の中心部分に照射されると、２分割された反射光の左右の光強度が等しくなり、該トラックの幅方向に左右にずれた場合には、該トラック部分からの反射光の強度は弱く、該トラック以外からの反射光の強度は強いので、２分割された反射光の左右の光強度分布は左右非対象になり、ずれていることが検出できる。
−位相差検出法−
前記位相差検出（ＤＰＤ法：Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｐｈａｓｅ Ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ）は、被検出ディスクに形成されているトラックに対する、サーボ用光の照射位置ずれを検出する方法で、前記プッシュプル法の２分割を更に分割して４分割した光検出器を用いる。１つのビームが該トラック幅の中心部分に照射されると、４分割された反射光の４つの領域の左右の光強度が等しくなり、該トラックの幅方向に左右にずれた場合には、該トラック部分からの反射光の強度は弱く、該トラック以外からの反射光の強度は強いので、４分割された反射光の４つの領域の光強度分布について、対角領域にある光強度分布を検出することにより左右非対象となり、ずれていることが検出できる。
前記位相差検出（ＤＰＤ法：Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｐｈａｓｅ Ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ）は、被検出ディスクに形成されているトラックに対する、サーボ用光の照射位置ずれを検出する方法で、前記プッシュプル法の２分割を更に分割して４分割した光検出器を用いる。１つのビームが該トラック幅の中心部分に照射されると、４分割された反射光の４つの領域の左右の光強度が等しくなり、該トラックの幅方向に左右にずれた場合には、該トラック部分からの反射光の強度は弱く、該トラック以外からの反射光の強度は強いので、４分割された反射光の４つの領域の光強度分布について、対角領域にある光強度分布を検出することにより左右非対象となり、ずれていることが検出できる。
−情報光及び参照光（再生光）の焦点位置の検出−
前記情報光及び参照光（再生光）の焦点位置の検出方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、該情報光及び参照光を照射することにより、前記サーボ用光の水平位置の検出と同様に、前記３ビーム法、前記プッシュプル法及び前記位相差検出法などを用いることができる。
前記情報光及び参照光（再生光）の焦点位置の検出方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、該情報光及び参照光を照射することにより、前記サーボ用光の水平位置の検出と同様に、前記３ビーム法、前記プッシュプル法及び前記位相差検出法などを用いることができる。
−情報光又は参照光の照射−
前記情報光又は前記参照光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、記録時と同様の光線を用いてもよく、記録時よりも弱い光線を用いてもよい。記録時よりも弱い光線を用いる場合、照射エネルギーは、例えば、０．１〜１０，０００μＪ／ｃｍ２が好ましく、１〜１，０００μＪ／ｃｍ２がより好ましく、１０〜１００μＪ／ｃｍ２が特に好ましい。前記照射エネルギーが、０．１μＪ／ｃｍ２未満であると、焦点位置の検出が充分になされないことがあり、１０，０００μＪ／ｃｍ２を超えると記録されてしまうことがある。前記情報光又は前記参照光のいずれかである場合は、光の干渉は起きないので、焦点距離の検出に用いることができる。また、前記情報光及び前記参照光の双方を照射する場合には、照射エネルギーを、光記録媒体に記録がなされない程度に弱めれば、検出用に用いることができる。
前記情報光又は前記参照光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、記録時と同様の光線を用いてもよく、記録時よりも弱い光線を用いてもよい。記録時よりも弱い光線を用いる場合、照射エネルギーは、例えば、０．１〜１０，０００μＪ／ｃｍ２が好ましく、１〜１，０００μＪ／ｃｍ２がより好ましく、１０〜１００μＪ／ｃｍ２が特に好ましい。前記照射エネルギーが、０．１μＪ／ｃｍ２未満であると、焦点位置の検出が充分になされないことがあり、１０，０００μＪ／ｃｍ２を超えると記録されてしまうことがある。前記情報光又は前記参照光のいずれかである場合は、光の干渉は起きないので、焦点距離の検出に用いることができる。また、前記情報光及び前記参照光の双方を照射する場合には、照射エネルギーを、光記録媒体に記録がなされない程度に弱めれば、検出用に用いることができる。
＜干渉像記録手段＞
前記干渉像記録手段は、前記情報光及び参照光の光軸を、前記水平位置検出ステップにより検出した、前記パターンを基準とする位置を把握し、前記パターン以外の位置に前記情報光及び参照光の照射位置を移動する水平位置の制御を行い、所定の位置において、前記情報光及び参照光を該領域に照射し、干渉像を形成し、該干渉像を前記感光層に記録する手段である。
前記干渉像記録手段は、前記情報光及び参照光の光軸を、前記水平位置検出ステップにより検出した、前記パターンを基準とする位置を把握し、前記パターン以外の位置に前記情報光及び参照光の照射位置を移動する水平位置の制御を行い、所定の位置において、前記情報光及び参照光を該領域に照射し、干渉像を形成し、該干渉像を前記感光層に記録する手段である。
−水平位置の制御−
前記水平位置の制御は、該水平位置検出ステップにより検出された前記位置情報に基づいて、該情報光及び該参照光の光軸の水平位置について、正常な位置に記録するため、該情報光及び参照光の光軸の前記Ｘ軸及びＹ軸の位置を制御する。
具体的には、前記水平位置検出ステップにより検出された前記情報光及び参照光の水平位置を基準として制御することができる。例えば、基準位置（ａ，ｂ）からの記録すべき位置までのＸ軸及びＹ軸について、前記情報光及び参照光の光軸をΔａ及びΔｂだけ移動する。
図３に示すように、前記移動量が、距離及び角度であらわされる場合は、距離は下記式で表されるΔＬ、角度はＸ軸又はＹ軸を基準とした鋭角θで表わされる量を移動量とすることができる。このΔＬだけ移動することにより、凹凸又は屈折率の異なる材料で形成されたピボットパターンのない記録領域に記録することができる。このようにΔＬだけ移動させるのは、図５に示すように、前記情報光及び参照光の焦点が前記ピボットパターン上で一致すると、光の散乱が生じ適切な記録が得られないからである。
前記水平位置の制御は、該水平位置検出ステップにより検出された前記位置情報に基づいて、該情報光及び該参照光の光軸の水平位置について、正常な位置に記録するため、該情報光及び参照光の光軸の前記Ｘ軸及びＹ軸の位置を制御する。
具体的には、前記水平位置検出ステップにより検出された前記情報光及び参照光の水平位置を基準として制御することができる。例えば、基準位置（ａ，ｂ）からの記録すべき位置までのＸ軸及びＹ軸について、前記情報光及び参照光の光軸をΔａ及びΔｂだけ移動する。
図３に示すように、前記移動量が、距離及び角度であらわされる場合は、距離は下記式で表されるΔＬ、角度はＸ軸又はＹ軸を基準とした鋭角θで表わされる量を移動量とすることができる。このΔＬだけ移動することにより、凹凸又は屈折率の異なる材料で形成されたピボットパターンのない記録領域に記録することができる。このようにΔＬだけ移動させるのは、図５に示すように、前記情報光及び参照光の焦点が前記ピボットパターン上で一致すると、光の散乱が生じ適切な記録が得られないからである。
前記水平位置の制御方法として、前記パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号強度が最大となる位置を、水平方向に、移動させることにより検出し、前記情報光及び参照光の照射位置を制御することもできる。
前記信号強度の最大値を認識する手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピークホールド法などが挙げられる。
前記水平位置の制御方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記サーボ機構などが挙げられる。
前記信号強度の最大値を認識する手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピークホールド法などが挙げられる。
前記水平位置の制御方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記サーボ機構などが挙げられる。
前記水平位置の制御方法としては、更に、水平位置パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号エラーが最小となる位置を、水平方向に、移動させることにより検出し、前記情報光及び参照光の照射位置を制御することもできる。
前記信号エラーの最小値を認識する手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピークホールド法などが挙げられる。
前記水平位置の制御方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記サーボ機構などが挙げられる。
前記信号エラーの最小値を認識する手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピークホールド法などが挙げられる。
前記水平位置の制御方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記サーボ機構などが挙げられる。
−干渉像の記録−
前記干渉像の記録は、ホログラフィを利用して情報を記録する前記記録層に対して、可干渉性を有する情報光及び参照光を照射し、前記情報光と前記参照光とにより光の干渉像（干渉縞）を形成し、該前記干渉像を前記記録層に記録する手段である。前記干渉像の記録手段としては、例えば、明暗からなる干渉縞を屈折率の差として記録層内に記録する手段などが挙げられる。前記手段においては、前記記録層は、フォトポリマーなどの感光材料からなり、前記干渉縞の明るい部分は、光照射により感光材料が重合反応し屈折率が高くなり、暗い部分は、反応せず屈折率は変化しないので、屈折率の差が生ずることになる。
前記干渉像の記録は、ホログラフィを利用して情報を記録する前記記録層に対して、可干渉性を有する情報光及び参照光を照射し、前記情報光と前記参照光とにより光の干渉像（干渉縞）を形成し、該前記干渉像を前記記録層に記録する手段である。前記干渉像の記録手段としては、例えば、明暗からなる干渉縞を屈折率の差として記録層内に記録する手段などが挙げられる。前記手段においては、前記記録層は、フォトポリマーなどの感光材料からなり、前記干渉縞の明るい部分は、光照射により感光材料が重合反応し屈折率が高くなり、暗い部分は、反応せず屈折率は変化しないので、屈折率の差が生ずることになる。
前記情報光及び前記参照光の照射方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記情報光の照射方向に対して一定の角度で、前記参照光を照射してもよく、前記情報光の光軸と前記参照光の光軸とが同軸となるように、該情報光及び該参照光を前記記録層に照射してもよい。
これらの中でも、高多重記録が可能であり、情報の転送速度も速い前記情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸になる、いわゆるコリニア方式による記録が好ましい。
これらの中でも、高多重記録が可能であり、情報の転送速度も速い前記情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸になる、いわゆるコリニア方式による記録が好ましい。
前記情報光及び前記参照光は、可干渉性を有するレーザ光を発振する光源を用いる。前記光源としては、例えば、固体レーザ光発振器、半導体レーザ光発振器、液体レーザ光発振器、気体レーザ光発振器などが挙げられる。これらの中でも、気体レーザ光発振器、半導体レーザ光発振器などが好ましい。
前記レーザ光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、波長が、３６０〜８５０ｎｍから選択される１種以上の波長からなるレーザ光が用いられる。該波長は、３８０〜８００ｎｍが好ましく、４００〜７５０がより好ましく、可視領域の中心が最も見え易い５００〜６００ｎｍが最も好ましい。
前記波長が、３６０ｎｍ未満であると、鮮明な干渉像が得られないことがあり、８５０ｎｍを超えると、前記干渉縞が微細となり、それに対応する感光材料が得られないことがある。
前記レーザ光の照射エネルギーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．１〜１０，０００μＪ／ｃｍ２が好ましく、１〜１，０００μＪ／ｃｍ２がより好ましく、１０〜１００μＪ／ｃｍ２が特に好ましい。前記照射エネルギーが、０．１μＪ／ｃｍ２未満であると、記録がなされないことがあり、１０，０００μＪ／ｃｍ２を超えると記録されてしまうことがある。
前記波長が、３６０ｎｍ未満であると、鮮明な干渉像が得られないことがあり、８５０ｎｍを超えると、前記干渉縞が微細となり、それに対応する感光材料が得られないことがある。
前記レーザ光の照射エネルギーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．１〜１０，０００μＪ／ｃｍ２が好ましく、１〜１，０００μＪ／ｃｍ２がより好ましく、１０〜１００μＪ／ｃｍ２が特に好ましい。前記照射エネルギーが、０．１μＪ／ｃｍ２未満であると、記録がなされないことがあり、１０，０００μＪ／ｃｍ２を超えると記録されてしまうことがある。
＜その他の手段＞
前記その他の手段としては、干渉像定着手段などが挙げられる。
前記その他の手段としては、干渉像定着手段などが挙げられる。
―干渉像定着手段―
前記干渉像定着手段は、前記干渉像記録手段により前記記録層に記録された前記干渉像に対して、定着光を、照射し定着する手段である。前記定着光の照射は、記録された干渉像の領域に対して過不足なく行うことにより、前記干渉像を効率よく定着することができ、前記定着により保存安定性が改善され、再生の際にノイズの発生などの支障が起きない光記録媒体を得ることができる。
前記干渉像定着手段は、前記干渉像記録手段により前記記録層に記録された前記干渉像に対して、定着光を、照射し定着する手段である。前記定着光の照射は、記録された干渉像の領域に対して過不足なく行うことにより、前記干渉像を効率よく定着することができ、前記定着により保存安定性が改善され、再生の際にノイズの発生などの支障が起きない光記録媒体を得ることができる。
−−定着光−−
前記定着光の照射領域としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光による記録対象部分と同じ領域か、該記録対象部分の外延よりも広くかつ該外延から少なくとも１μｍ外側まで延設された領域であることが好ましい。前記記録対象部分の外延から１μｍを超えた領域まで定着光を照射すると、隣接する記録領域にも照射され、過剰な照射エネルギーとなり非効率的である。
前記定着光の照射領域としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光による記録対象部分と同じ領域か、該記録対象部分の外延よりも広くかつ該外延から少なくとも１μｍ外側まで延設された領域であることが好ましい。前記記録対象部分の外延から１μｍを超えた領域まで定着光を照射すると、隣接する記録領域にも照射され、過剰な照射エネルギーとなり非効率的である。
前記定着光の照射時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、１ｎｓ〜１００ｍｓが好ましく、１ｎｓ〜８０ｍｓがより好ましい。前記照射時間が、１ｎｓ未満であると、定着が不十分なことがあり、１００ｍｓを超えると過剰なエネルギーの照射となる。このような定着光の照射は、前記干渉像の記録の後、２８時間以内に行われることが好ましい。前記定着光の照射が前記記録の後、２８時間を超えると、既に記録した情報の信号品質が低下することがある。
前記定着光の照射方向としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光と同じ方向でもよく、異なった方向でもよい。また、照射角度としては、記録層の層面に対して０〜６０°が好ましく、０〜４０°がより好ましい。前記照射角度が、上記以外の角度であると、定着が非効率となることがある。
前記定着光の波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、３５０〜８５０ｎｍであることが好ましく、４００〜６００ｎｍであることがより好ましい。
前記波長が、３５０ｎｍ未満であると、材料が分解してしまうことがあり、８５０ｎｍを超えると、温度が上がり材料が劣化することがある。
前記定着光の照射方向としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光と同じ方向でもよく、異なった方向でもよい。また、照射角度としては、記録層の層面に対して０〜６０°が好ましく、０〜４０°がより好ましい。前記照射角度が、上記以外の角度であると、定着が非効率となることがある。
前記定着光の波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、３５０〜８５０ｎｍであることが好ましく、４００〜６００ｎｍであることがより好ましい。
前記波長が、３５０ｎｍ未満であると、材料が分解してしまうことがあり、８５０ｎｍを超えると、温度が上がり材料が劣化することがある。
前記定着光の光源としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記情報光及び参照光と同様の光源を用いることが、別の光源を新たに設ける必要がない点で好ましい。前記光源から出射された光を光記録媒体に照射することにより、前記情報光及び参照光と同様の光源を用いることができる。同一の光源を用いることにより、前記干渉像の記録領域と定着光の照射領域を容易に一致させることができ、効率的に定着光を照射することができる。
前記定着光の照射量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、０．００１〜１００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、０．０１〜１０ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。
前記定着光の照射量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、０．００１〜１００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、０．０１〜１０ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。
前記定着光の照射方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光と同一の光源から出射される光を照射することがこのましい。場合によっては、異なる光源から出射される光などを照射してもよい。
＜光記録媒体＞
本発明の光記録媒体は、支持体上に、少なくともホログラフィを利用して情報を記録する記録層を有し、前記定着光により記録層に記録した干渉像が定着された光記録媒体である。
本発明の光記録媒体は、２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラムであってもよく、透過型及び反射型のいずれであってもよい。また、ホログラムの記録方式もいずれであってもよく、例えば、振幅ホログラム、位相ホログラム、ブレーズドホログラム、複素振幅ホログラムなどでもよい。
具体的には、前記コリニア方式の記録方法に用いられる反射型の光記録媒体が好ましい。
前記光記録媒体は、前記記録層と、第一の基板と、第二の基板とを有し、必要に応じて適宜選択したその他の層を有する光記録媒体である。
本発明の光記録媒体は、支持体上に、少なくともホログラフィを利用して情報を記録する記録層を有し、前記定着光により記録層に記録した干渉像が定着された光記録媒体である。
本発明の光記録媒体は、２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラムであってもよく、透過型及び反射型のいずれであってもよい。また、ホログラムの記録方式もいずれであってもよく、例えば、振幅ホログラム、位相ホログラム、ブレーズドホログラム、複素振幅ホログラムなどでもよい。
具体的には、前記コリニア方式の記録方法に用いられる反射型の光記録媒体が好ましい。
前記光記録媒体は、前記記録層と、第一の基板と、第二の基板とを有し、必要に応じて適宜選択したその他の層を有する光記録媒体である。
＜記録層＞
前記記録層の感光材料としては、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長の電磁波を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化する材料が用いられる。
前記記録層の感光材料としては、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長の電磁波を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化する材料が用いられる。
前記記録層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（１）光照射で重合反応が起こり高分子化するフォトポリマー、（２）フォトリフラクティブ効果（光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する）を示すフォトリフラクティブ材料、（３）光照射で分子の異性化が起こり屈折率が変調するフォトクロミック材料、（４）ニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム等の無機材料、（５）カルコゲン材料、などが挙げられる。
前記（１）のフォトポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、更に必要に応じて増感剤、オリゴマー等のその他の成分を含有してなる。
前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」（工業調査会、１９８９年）、「フォトポリマーテクノロジー」（日刊工業新聞社、１９８９年）、ＳＰＩＥ予稿集 Ｖｏｌ．３０１０ ｐ３５４−３７２（１９９７）、及びＳＰＩＥ予稿集 Ｖｏｌ．３２９１ ｐ８９−１０３（１９９８）に記載されているものを用いることができる。また、米国特許第５，７５９，７２１号明細書、同第４，９４２，１１２号明細書、同第４，９５９，２８４号明細書、同第６，２２１，５３６号明細書、国際公開第９７／４４７１４号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、同第９９／２６１１２号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、特許第二８８０３４２号公報、同第二８７３１２６号公報、同第二８４９０２１号公報、同第３０５７０８２号公報、同第３１６１２３０号公報、特開２００１−３１６４１６号公報、特開２０００−２７５８５９号公報、などに記載されているフォトポリマーを用いることができる。
前記フォトポリマーに記録光を照射して光学特性を変化させる方法としては、低分子成分の拡散を利用した方法などが挙げられる。また、重合時の体積変化を緩和するため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、或いは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。なお、前記低分子成分を含むフォトポリマーを用いて記録層を形成する場合には、記録層中に液体を保持可能な構造を必要とすることがある。また、前記酸開裂構造を有する化合物を添加する場合には、その開裂によって生じる膨張と、モノマーの重合によって生じる収縮とを補償させることにより体積変化を抑制してもよい。
前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル基やメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマー、エポキシ環やオキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノマーなどが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であってもよい。また、光架橋反応を利用したものであってもよい。
前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、２−ナフト−１−オキシエチルアクリレート、２−カルバゾイル−９−イルエチルアクリレート、（トリメチルシリルオキシ）ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−１−ナフトエート、Ｎ−ビニルカルバゾール、などが挙げられる。
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、４−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式（Ａ）〜（Ｅ）で表される化合物、などが挙げられる。
これらモノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、４−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式（Ａ）〜（Ｅ）で表される化合物、などが挙げられる。
これらモノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記光開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなく、光照射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げられる。
前記光開始剤としては、例えば、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ジ−ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、下記構造式で表されるチタノセン化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用してもよい。
前記光開始剤としては、例えば、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ジ−ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、下記構造式で表されるチタノセン化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用してもよい。
前記フォトポリマーは、前記モノマー、前記光開始剤、更に必要に応じてその他の成分を攪拌混合し、反応させることによって得られる。得られたフォトポリマーが十分低い粘度ならばキャスティングすることによって記録層を形成することができる。一方、キャスティングできない高粘度フォトポリマーである場合には、ディスペンサーを用いて第二の基板にフォトポリマーを盛りつけ、このフォトポリマー上に第二の基板Ａで蓋をするように押し付けて、全面に広げて記録層を形成することができる。
前記（２）のフォトリフラクティブ材料としては、フォトリフラクティブ効果を示すものであるならば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発生材、及び電荷輸送材を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記電荷発生材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、又はそれらの誘導体等のフタロシアニン色素／顔料；ナフタロシアニン色素／顔料；モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾ等のアゾ系色素／顔料；ペリレン系染料／顔料；インジゴ系染料／顔料；キナクリドン系染料／顔料；アントラキノン、アントアントロン等の多環キノン系染料／顔料；シアニン系染料／顔料；ＴＴＦ−ＴＣＮＱで代表されるような電子受容性物質と電子供与性物質とからなる電荷移動錯体；アズレニウム塩；Ｃ６０及びＣ７０で代表されるフラーレン並びにその誘導体であるメタノフラーレン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記電荷輸送材は、ホール又はエレクトロンを輸送する材料であり、低分子化合物であってもよく、又は高分子化合物であってもよい。
前記電荷輸送材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物、又はその誘導体；ヒドラゾン化合物；トリフェニルアミン類；トリフェニルメタン類；ブタジエン類；スチルベン類；アントラキノンジフェノキノン等のキノン化合物、又はその誘導体；Ｃ６０及びＣ７０等のフラーレン並びにその誘導体；ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等のπ共役系高分子又はオリゴマー；ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系高分子又はオリゴマー；アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネン等の多環芳香族化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記電荷輸送材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物、又はその誘導体；ヒドラゾン化合物；トリフェニルアミン類；トリフェニルメタン類；ブタジエン類；スチルベン類；アントラキノンジフェノキノン等のキノン化合物、又はその誘導体；Ｃ６０及びＣ７０等のフラーレン並びにその誘導体；ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等のπ共役系高分子又はオリゴマー；ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系高分子又はオリゴマー；アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネン等の多環芳香族化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記フォトリフラクティブ材料を用いて記録層を形成する方法としては、例えば、前記フォトリフラクティブ材料を溶媒中に溶解乃至は分散させてなる塗布液を用いて塗膜を形成し、この塗膜から溶媒を除去することにより前記記録層を形成することができる。また、加熱して流動化させた前記フォトリフラクティブ材料を用いて塗膜を形成し、この塗膜を急冷することにより記録層を形成することもできる。
前記（３）のフォトクロミック材料は、フォトクロミック反応を起こす材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、フルキド化合物、アントラセン化合物、ヒドラゾン化合物、桂皮酸化合物、などが挙げられる。これらの中でも、光照射によりシス−トランス異性化により構造変化を起こすアゾベンゼン誘導体、スチルベン誘導体、光照射により開環−閉環の構造変化を起こすスピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体が特に好ましい。
前記（５）のカルコゲン材料としては、例えば、カルコゲン元素を含むカルコゲナイドガラスと、このカルコゲナイドガラス中に分散されており光の照射によりカルコゲナイドガラス中に拡散可能な金属からなる金属粒子とを含む材料、などが挙げられる。
前記カルコゲナイドガラスは、Ｓ、Ｔｅ又はＳｅのカルコゲン元素を含む非酸化物系の非晶質材料から構成されるものであり、金属粒子の光ドープが可能なものであれば特に限定されない。
前記カルコゲン元素を含む非晶質材料としては、例えば、Ｇｅ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ−Ｃｅ系ガラスなどが挙げられ、これらの中ではＧｅ−Ｓ系ガラスが好ましい。前記カルコゲナイドガラスとしてＧｅ−Ｓ系ガラスを用いる場合には、ガラスを構成するＧｅ及びＳの組成比は照射する光の波長に応じて任意に変化させることができるが、主としてＧｅＳ２で表される化学組成を有するカルコゲナイドガラスが好ましい。
前記金属粒子は、光の照射によりカルコゲナイドガラス中に光ドープされる特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｎ、Ａｇなどが挙げられる。これらの中では、Ａｇ、Ａｕ又はＣｕが光ドープをより生じやすい特性を有しており、Ａｇは光ドープを顕著に生じるため特に好ましい。
前記カルコゲナイドガラスに分散されている金属粒子の含有量としては、前記記録層の全体積基準で０．１〜２体積％が好ましく、０．１〜１．０体積％がより好ましい。前記金属粒子の含有量が０．１体積％未満であると、光ドープによる透過率変化が不充分となって記録の精度が低下することがあり、２体積％を超えると、記録材料の光透過率が低下して光ドープを充分に生じさせることが困難となることがある。
前記カルコゲナイドガラスは、Ｓ、Ｔｅ又はＳｅのカルコゲン元素を含む非酸化物系の非晶質材料から構成されるものであり、金属粒子の光ドープが可能なものであれば特に限定されない。
前記カルコゲン元素を含む非晶質材料としては、例えば、Ｇｅ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ−Ｃｅ系ガラスなどが挙げられ、これらの中ではＧｅ−Ｓ系ガラスが好ましい。前記カルコゲナイドガラスとしてＧｅ−Ｓ系ガラスを用いる場合には、ガラスを構成するＧｅ及びＳの組成比は照射する光の波長に応じて任意に変化させることができるが、主としてＧｅＳ２で表される化学組成を有するカルコゲナイドガラスが好ましい。
前記金属粒子は、光の照射によりカルコゲナイドガラス中に光ドープされる特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｎ、Ａｇなどが挙げられる。これらの中では、Ａｇ、Ａｕ又はＣｕが光ドープをより生じやすい特性を有しており、Ａｇは光ドープを顕著に生じるため特に好ましい。
前記カルコゲナイドガラスに分散されている金属粒子の含有量としては、前記記録層の全体積基準で０．１〜２体積％が好ましく、０．１〜１．０体積％がより好ましい。前記金属粒子の含有量が０．１体積％未満であると、光ドープによる透過率変化が不充分となって記録の精度が低下することがあり、２体積％を超えると、記録材料の光透過率が低下して光ドープを充分に生じさせることが困難となることがある。
前記記録層は、材料に応じて公知の方法に従って形成することができるが、例えば、蒸着法、湿式成膜法、ＭＢＥ（分子線エピタキシー）法、クラスターイオンビーム法、分子積層法、ＬＢ法、印刷法、転写法、などにより好適に形成することができる。これらの中でも、蒸着法、湿式成膜法が好ましい。
前記蒸着法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、真空蒸着法、抵抗加熱蒸着、化学蒸着法、物理蒸着法、などが挙げられる。該化学蒸着法としては、例えば、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、などが挙げられる。
前記湿式成膜法による前記記録層の形成は、例えば、前記記録層の材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液（塗布液）を用いる（塗布し乾燥する）ことにより、好適に行うことができる。該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。
前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜１，０００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
−第一の基板−
前記第一の基板は、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる材料のものを選定する必要がある。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記第一の基板の材料としては、通常、ガラス、セラミックス、樹脂、などが用いられるが、成形性、コストの点から、樹脂が特に好適である。
前記樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。
前記第一の基板は、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記第一の基板は、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる材料のものを選定する必要がある。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記第一の基板の材料としては、通常、ガラス、セラミックス、樹脂、などが用いられるが、成形性、コストの点から、樹脂が特に好適である。
前記樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。
前記第一の基板は、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記第一の基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５ｍｍが好ましく、０．３〜２ｍｍがより好ましい。前記基板の厚みが、０．１ｍｍ未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、５ｍｍを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターに過剰な負荷をかけることがある。
−第二の基板−
前記第二の基板は、前記第一の基板と、その形状、構造、大きさ、材料及び厚みは同じてもよく異なっていてもよい。これらの中でも、形状及び大きさは第一の基板と同じであることが好ましい。
前記第二の基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間がデータエリアになっている。アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、前述のようにスタンパを用いて射出成型などにより形成したエンボスピット（サーボピット）等によって記録されている（プリフォーマット）。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えば、光記録媒体の円周方向に形成したトラックに一定の周期性を付与したウォブルピットなどを用いることもできる。
前記第二の基板は、前記第一の基板と、その形状、構造、大きさ、材料及び厚みは同じてもよく異なっていてもよい。これらの中でも、形状及び大きさは第一の基板と同じであることが好ましい。
前記第二の基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間がデータエリアになっている。アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、前述のようにスタンパを用いて射出成型などにより形成したエンボスピット（サーボピット）等によって記録されている（プリフォーマット）。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えば、光記録媒体の円周方向に形成したトラックに一定の周期性を付与したウォブルピットなどを用いることもできる。
−反射膜−
前記反射膜は、前記第二の基板のサーボピットパターン表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、前記ハパターンの形成で用いた反射膜と同様の材料を用いることができる。
前記反射膜は、前記第二の基板のサーボピットパターン表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、前記ハパターンの形成で用いた反射膜と同様の材料を用いることができる。
−その他の層−
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ギャップ層、選択反射層などが挙げられる。
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ギャップ層、選択反射層などが挙げられる。
−ギャップ層−
前記ギャップ層は、必要に応じて前記記録層と前記反射膜との間に設けられ、第二の基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。前記ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
前記ギャップ層は、必要に応じて前記記録層と前記反射膜との間に設けられ、第二の基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。前記ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
ここで、本発明の光記録媒体の実施形態の具体例について、図面を参照して更に詳しく説明する。
＜第一の実施形態＞
図１は、本発明の第一の実施の形態における光記録媒体２３の構成を示す概略断面図である。この光記録媒体２３では、ポリカーボネート樹脂製基板又はガラス基板１にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。なお、図１では第二の基板１の半径方向に一定の間隔で凸形状のサーボピットパターン３が形成されているが、該サーボピットパターン３がある部分とない部分が周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットの高さは最大１７５０Å（１７５ｎｍ）であり、基板を始め他の層の厚みに比べて充分に小さいものである。
＜第一の実施形態＞
図１は、本発明の第一の実施の形態における光記録媒体２３の構成を示す概略断面図である。この光記録媒体２３では、ポリカーボネート樹脂製基板又はガラス基板１にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。なお、図１では第二の基板１の半径方向に一定の間隔で凸形状のサーボピットパターン３が形成されているが、該サーボピットパターン３がある部分とない部分が周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットの高さは最大１７５０Å（１７５ｎｍ）であり、基板を始め他の層の厚みに比べて充分に小さいものである。
前記第一の実施の形態において、前記ギャップ層を形成する場合には、該ギャップ層は、紫外線硬化樹脂等の材料を第二の基板１の反射膜２上にスピンコート等により塗布して形成することができる。該ギャップ層は、反射膜２を保護すると共に、記録層４内に生成されるホログラムの大きさを調整するためにも有効である。つまり、記録層４において記録用の参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるため、記録層４とサーボピットパターン３との間にギャップを設けると有効である。
ギャップ層上には記録層が積層され、第一の基板５（ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板）と第二の基板１によって記録層４を挟むことによって光記録媒体２３が構成される。
ギャップ層上には記録層が積層され、第一の基板５（ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板）と第二の基板１によって記録層４を挟むことによって光記録媒体２３が構成される。
本第一の実施形態における光記録媒体２３では、第二の基板１の厚みは０．６ｍｍ、記録層４は０．６ｍｍ、第一の基板５は０．６ｍｍであって、合計厚みは約１．８ｍｍとなっている。前記ギャップ層を反射膜２上に形成する場合には、該ギャップ層の厚みは、１００μｍが好ましい。
次に、図７を参照して、第一の実施の形態における光記録媒体２３周辺での光学的動作を説明する。前記情報光及び参照光は対物レンズ１２によって反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２３に対して照射される。まず、記録用／再生用レーザーから出射され空間光変調素子により生成された情報光及び記録用参照光は、偏光素子１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。該情報光及び記録用参照光は、対物レンズ１２を透過し、光記録媒体２３の光の入出射面Ａから入射し、第一の基板５、記録層４を通過し、反射膜２で反射され、再度、記録層４、第一の基板５を透過して入出射面Ａから出射する。
出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料に対して、前記情報光及び参照光は、充分に弱い強度のレーザ光が用いられるので、該情報光及び参照光の照射によって感光しないようになっている。そのため、該情報光及び参照光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えないように設定されている。
前記サーボ情報により検出された該情報光及び参照光の位置を基準として、該情報光及び参照光の光軸が前記サーボピットパターンの上方の記録層に記録されないよう、該サーボピットパターンの位置から、一定の移動量ΔＬ移動した後、記録しうる強度の情報光及び参照光が、感光層に干渉像を生成するように光記録媒体２３に照射される。
該情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射し、記録層４で干渉し合って干渉像をそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層４を通過し、反射膜２で反射されて戻り光となる。該反射膜はサーボピットパターンのような突起はなく平坦部分であり、乱反射はおきることなく、反射されて戻り光となり、正常な記録が得られる。
出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料に対して、前記情報光及び参照光は、充分に弱い強度のレーザ光が用いられるので、該情報光及び参照光の照射によって感光しないようになっている。そのため、該情報光及び参照光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えないように設定されている。
前記サーボ情報により検出された該情報光及び参照光の位置を基準として、該情報光及び参照光の光軸が前記サーボピットパターンの上方の記録層に記録されないよう、該サーボピットパターンの位置から、一定の移動量ΔＬ移動した後、記録しうる強度の情報光及び参照光が、感光層に干渉像を生成するように光記録媒体２３に照射される。
該情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射し、記録層４で干渉し合って干渉像をそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層４を通過し、反射膜２で反射されて戻り光となる。該反射膜はサーボピットパターンのような突起はなく平坦部分であり、乱反射はおきることなく、反射されて戻り光となり、正常な記録が得られる。
−記録の定着−
前記記録層４に干渉像の記録がなされた後、少なくとも２８時間以内に、定着光が前記記録領域に対して照射され、前記干渉像の記録が定着される。
前記記録層４に干渉像の記録がなされた後、少なくとも２８時間以内に、定着光が前記記録領域に対して照射され、前記干渉像の記録が定着される。
＜第二の実施形態＞
図２は、本発明の第二の実施形態における光記録媒体２４の構成を示す概略断面図である。図２は、前記光記録媒体２４の一部を切断した斜視図である。前記光記録媒体２４は、図２に示す光記録媒体２３と同様の外観形状を有しているが、光記録媒体２３が基板上にサーボピットパターンが形成されていたのに対し、本光記録媒体２４は、第二の基板１及び記録層４の間に、パターン層９を形成したものである。該パターン層９は、屈折率が異なる部分を周期的に形成した層である。光記録媒体２４の半径方向に２μｍ間隔で屈折率の高い部分と低い部分を交互に形成したもので、前記パターン層９の厚みは、１μｍであり、高屈折率の部分の屈折率は、１．６であり、低屈折率の部分の屈折率は、１．５である。前記第二の基板面には反射膜２が形成されている。
図２は、本発明の第二の実施形態における光記録媒体２４の構成を示す概略断面図である。図２は、前記光記録媒体２４の一部を切断した斜視図である。前記光記録媒体２４は、図２に示す光記録媒体２３と同様の外観形状を有しているが、光記録媒体２３が基板上にサーボピットパターンが形成されていたのに対し、本光記録媒体２４は、第二の基板１及び記録層４の間に、パターン層９を形成したものである。該パターン層９は、屈折率が異なる部分を周期的に形成した層である。光記録媒体２４の半径方向に２μｍ間隔で屈折率の高い部分と低い部分を交互に形成したもので、前記パターン層９の厚みは、１μｍであり、高屈折率の部分の屈折率は、１．６であり、低屈折率の部分の屈折率は、１．５である。前記第二の基板面には反射膜２が形成されている。
また、光記録媒体２４では、第二の基板１の厚みは１．０ｍｍ、記録層４は０．６ｍｍ、パターン層９は１μｍ、第一の基板５は０．４ｍｍであって、合計厚みは約２．０ｍｍとなっている。
情報の記録又は再生を行う場合、このような構造を有する光記録媒体２４に対して、前記第一の実施形態と同様に前記情報光及び参照光が照射され、トラッキングサーボがなされ、記録層４の適切な位置に干渉像が形成され、記録される。
−記録の定着−
前記記録の定着は、前記第一の実施形態と同様に行われる。
前記記録の定着は、前記第一の実施形態と同様に行われる。
（光再生方法）
本発明の光再生方法は、本発明の前記光記録方法により記録層４に記録された干渉像に参照光を照射して情報を再生する。前記記録層４に記録された干渉像に対して前記参照光を照射するには、図７に示すように、対物レンズ１２を微調整し、前記参照光が前記記録層４の干渉像が記録されている部分に焦点を設定し、照射する。該照射により、前記干渉像から回折光が生成され、該回折光を、対物レンズ１２を透過させ、更に、ダイクロイックミラー１３、１／４波長板１５を透過させ、ハーフミラー１７で反射させて検出器１４で回折光から情報を再生する。
本発明の光再生方法は、本発明の前記光記録方法により記録層４に記録された干渉像に参照光を照射して情報を再生する。前記記録層４に記録された干渉像に対して前記参照光を照射するには、図７に示すように、対物レンズ１２を微調整し、前記参照光が前記記録層４の干渉像が記録されている部分に焦点を設定し、照射する。該照射により、前記干渉像から回折光が生成され、該回折光を、対物レンズ１２を透過させ、更に、ダイクロイックミラー１３、１／４波長板１５を透過させ、ハーフミラー１７で反射させて検出器１４で回折光から情報を再生する。
本発明の光記録方法及び光再生方法では、上述したように、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉像を利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
ここで、本発明の光記録方法及び光再生方法は、以下に説明する本発明の光記録再生装置を用いて行われる。
ここで、本発明の光記録方法及び光再生方法は、以下に説明する本発明の光記録再生装置を用いて行われる。
本発明の光記録方法及び光再生方法に使用される光記録再生装置について図８を参照して説明する。
図８は、本発明の一実施形態に係る光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と光再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置１００は、光記録媒体が取り付けられるスピンドル８１と、このスピンドル８１を回転させるスピンドルモータ８２と、光記録媒体の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ８２を制御するスピンドルサーボ回路８３とを備えている。
また、光記録再生装置１００は、光記録媒体に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体に記録されている情報を再生するためのピックアップ３１と、このピックアップ３１を光記録媒体の半径方向に移動可能とする駆動装置８４とを備えている。
図８は、本発明の一実施形態に係る光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と光再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置１００は、光記録媒体が取り付けられるスピンドル８１と、このスピンドル８１を回転させるスピンドルモータ８２と、光記録媒体の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ８２を制御するスピンドルサーボ回路８３とを備えている。
また、光記録再生装置１００は、光記録媒体に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体に記録されている情報を再生するためのピックアップ３１と、このピックアップ３１を光記録媒体の半径方向に移動可能とする駆動装置８４とを備えている。
光記録再生装置１００は、ピックアップ３１の出力信号よりフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥ、及び再生信号ＲＦを検出するための検出回路８５と、この検出回路８５によって検出されるフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、ピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズ（不図示）を光記録媒体の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路８６と、検出回路８５によって検出されるトラッキングエラー信号ＴＥに基づいてピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路８７と、トラッキングエラー信号ＴＥ及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置８４を制御してピックアップ３１を光記録媒体の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路８８とを備えている。
光記録再生装置１００は、更に、ピックアップ３１内の後述するＣＭＯＳ又はＣＣＤアレイの出力データをデコードして、光記録媒体のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路８５からの再生信号ＲＦより基本クロックを再生したりアドレスを判別したりする信号処理回路８９と、光記録再生装置１００の全体を制御するコントローラ９０と、このコントローラ９０に対して種々の指示を与える操作部９１とを備えている。
コントローラ９０は、信号処理回路８９より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ３１、スピンドルサーボ回路８３、及びスライドサーボ回路８８等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路８３は、信号処理回路８９より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ９０は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード オンリ メモリ）、及びＲＡＭ（ランダム アクセス メモリ）を有し、ＣＰＵが、ＲＡＭを作業領域として、ＲＯＭに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ９０の機能を実現するようになっている。
コントローラ９０は、信号処理回路８９より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ３１、スピンドルサーボ回路８３、及びスライドサーボ回路８８等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路８３は、信号処理回路８９より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ９０は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード オンリ メモリ）、及びＲＡＭ（ランダム アクセス メモリ）を有し、ＣＰＵが、ＲＡＭを作業領域として、ＲＯＭに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ９０の機能を実現するようになっている。
本発明の光記録方法及び光再生方法に使用される光記録再生装置は、情報光及び参照光を用いて、記録又は再生、フォーカスやトラッキング制御を行うことができ、記録再生の効率が高く、光記録及び光再生装置の誤差などから生ずる該複数のレーザ光の光軸のずれによる影響を受けず高密度記録を実現することができる。また、光記録媒体自体の層構成自体が簡易となる優れた光記録媒体を得ることができる。
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
（実施例１）
本発明の光記録方法を実施するために、光記録媒体を作製することができる。
本発明の光記録方法を実施するために、光記録媒体を作製することができる。
−光記録媒体の作製−
前記光記録媒体は、第一の基板、サーボピットパターンを形成した第二の基板と、記録層とからなる光記録媒体を作製することができる。
前記第二の基板としては、直径１２０ｍｍ、板厚０．６ｍｍのＤＶＤ＋ＲＷ用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用することができる。この基板表面には、図４に示すように、スタンパにより、凹状のアドレスが、深さ１００ｎｍ、直径１，０００ｎｍで、円周方向に２μｍピッチ、半径方向に１．６μｍピッチでサーボピットパターンが形成されている。
まず、第二の基板のサーボピットパターン表面に反射膜を成膜する。反射膜材料にはアルミニウム（Ａｌ）を用いた。成膜はＤＣマグネトロンスパッタリング法により厚み１００ｎｍのＡｌ反射膜を成膜する。前記反射膜の上にギャップ層として、厚み１００μｍのポリカーボネートフィルムを用い、紫外線硬化樹脂にて接着することができる。
前記光記録媒体は、第一の基板、サーボピットパターンを形成した第二の基板と、記録層とからなる光記録媒体を作製することができる。
前記第二の基板としては、直径１２０ｍｍ、板厚０．６ｍｍのＤＶＤ＋ＲＷ用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用することができる。この基板表面には、図４に示すように、スタンパにより、凹状のアドレスが、深さ１００ｎｍ、直径１，０００ｎｍで、円周方向に２μｍピッチ、半径方向に１．６μｍピッチでサーボピットパターンが形成されている。
まず、第二の基板のサーボピットパターン表面に反射膜を成膜する。反射膜材料にはアルミニウム（Ａｌ）を用いた。成膜はＤＣマグネトロンスパッタリング法により厚み１００ｎｍのＡｌ反射膜を成膜する。前記反射膜の上にギャップ層として、厚み１００μｍのポリカーボネートフィルムを用い、紫外線硬化樹脂にて接着することができる。
次に、記録層の材料としては、下記組成のフォトポリマー塗布液を調製することができる。
−フォトポリマー塗布液の組成−
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・ジ（ウレタンアクリレート）オリゴマー
（Ｅｃｈｏ Ｒｅｓｉｎｓ社製、ＡＬＵ−３５１）・・・・・・５９質量部
・イソボルニルアクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・３０質量部
・ビニルベンゾエート・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・重合開始剤
（チバスペシャルティケミカルズ社製、イルガキュア７８４）・・１質量部
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−フォトポリマー塗布液の組成−
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・ジ（ウレタンアクリレート）オリゴマー
（Ｅｃｈｏ Ｒｅｓｉｎｓ社製、ＡＬＵ−３５１）・・・・・・５９質量部
・イソボルニルアクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・３０質量部
・ビニルベンゾエート・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・重合開始剤
（チバスペシャルティケミカルズ社製、イルガキュア７８４）・・１質量部
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得られたフォトポリマー塗布液を前記第二の基板上にディスペンサーを用いて盛りつけ、このフォトポリマー上に、直径１２ｃｍ、厚み０．６ｍｍのポリカーボネート樹脂製第一の基板を押し付けながらディスク端部と該第一の基板を接着剤で貼り合せることができる。
なお、ディスク端部には、該フォトポリマー層が厚み５００μｍとなるようにフランジ部が設けてあり、ここに、前記第一の基板を接着することによってフォトポリマー層の厚みは決定され、余分なフォトポリマーはあふれ出て、除去される。以上により、実施例１の光記録媒体を作製する。なお、図１は、本実施例に類似の形態を示す概略断面図である。
なお、ディスク端部には、該フォトポリマー層が厚み５００μｍとなるようにフランジ部が設けてあり、ここに、前記第一の基板を接着することによってフォトポリマー層の厚みは決定され、余分なフォトポリマーはあふれ出て、除去される。以上により、実施例１の光記録媒体を作製する。なお、図１は、本実施例に類似の形態を示す概略断面図である。
＜情報光及び参照光の光軸の移動量＞
波長５３２ｎｍの情報光を、記録がされない範囲の照射エネルギー２５μＪ/ｃｍ２以内で得られた光記録媒体のパターン部分に照射し、反射光を受光し、ジャストピントとなる位置になるまで該情報光のトラッキングサーボを行い、該情報光の光軸のアドレスを検出し、該アドレスを基準として、記録すべき位置になるよう前記情報光の光軸を、所定のΔＬだけ移動量する。前記アドレスの検出には、必要に応じてフォーカスサーボを行い、前記情報光の焦点位置を合わせた後、トラッキングサーボを行うことができる。
図３に示す移動量ΔＬは、前記アドレスを原点とし、前記記録層と水平方向の層面にＸ軸及びＹ軸をとったとき、例えば、該Ｘ軸から、Ｙ軸からの位置（２μｍ，３μｍ）のように、数値として把握することができる。前記アドレス上の感光層には記録することができないため、所定の記録すべき領域まで、移動する、前記移動量ΔＬは、予め形成されているアドレス部以外の記録領域に記録されるよう移動する量である。前記アドレス部以外の記録領域としたのは、図５に示すように、前記アドレス部が形成されている凹凸のピボットパターン上に前記情報光及び参照光の焦点が合致してしまうと、凹凸部分で光の散乱が生じ適切な干渉像が生成されず記録の品質が低下してしまうからである。
波長５３２ｎｍの情報光を、記録がされない範囲の照射エネルギー２５μＪ/ｃｍ２以内で得られた光記録媒体のパターン部分に照射し、反射光を受光し、ジャストピントとなる位置になるまで該情報光のトラッキングサーボを行い、該情報光の光軸のアドレスを検出し、該アドレスを基準として、記録すべき位置になるよう前記情報光の光軸を、所定のΔＬだけ移動量する。前記アドレスの検出には、必要に応じてフォーカスサーボを行い、前記情報光の焦点位置を合わせた後、トラッキングサーボを行うことができる。
図３に示す移動量ΔＬは、前記アドレスを原点とし、前記記録層と水平方向の層面にＸ軸及びＹ軸をとったとき、例えば、該Ｘ軸から、Ｙ軸からの位置（２μｍ，３μｍ）のように、数値として把握することができる。前記アドレス上の感光層には記録することができないため、所定の記録すべき領域まで、移動する、前記移動量ΔＬは、予め形成されているアドレス部以外の記録領域に記録されるよう移動する量である。前記アドレス部以外の記録領域としたのは、図５に示すように、前記アドレス部が形成されている凹凸のピボットパターン上に前記情報光及び参照光の焦点が合致してしまうと、凹凸部分で光の散乱が生じ適切な干渉像が生成されず記録の品質が低下してしまうからである。
＜記録層への記録＞
前記情報光及び参照光の照射の際に所定の移動量ΔＬ（例えば、Ｘ軸から２μｍ、Ｙ軸から３μｍ）移動したことを確認し、記録層に対して照射する。
前記記録層への記録は、図７に示すように、前記記録層４に対して、前記情報光及び記録用参照光を用い、照射エネルギー、約５０μＪ／ｃｍ２を１００ｎｓｅｃ照射し、干渉像を形成し、該干渉像を記録層に記録することができる。
前記情報光及び参照光の照射の際に所定の移動量ΔＬ（例えば、Ｘ軸から２μｍ、Ｙ軸から３μｍ）移動したことを確認し、記録層に対して照射する。
前記記録層への記録は、図７に示すように、前記記録層４に対して、前記情報光及び記録用参照光を用い、照射エネルギー、約５０μＪ／ｃｍ２を１００ｎｓｅｃ照射し、干渉像を形成し、該干渉像を記録層に記録することができる。
＜記録の再生品質の評価＞
前記記録の再生品質の評価は、図８に示す、前記光記録再生装置１００により行い、前記参照光を光記録媒体に照射し、前記干渉像から回折光を生じさせ、図９に示す検出器１４で読み取り、元の情報を再生し、エラー（個／フレーム）が少ないことを確認することができる。
前記記録の再生品質の評価は、図８に示す、前記光記録再生装置１００により行い、前記参照光を光記録媒体に照射し、前記干渉像から回折光を生じさせ、図９に示す検出器１４で読み取り、元の情報を再生し、エラー（個／フレーム）が少ないことを確認することができる。
本発明の光記録方法は、レーザ光を用いて、記録又は再生、フォーカスやトラッキング制御を行う際に、記録再生の効率が高く、光記録及び光再生装置の誤差などから生ずる該複数のレーザ光の光軸のずれによる影響を受けず、光記録媒体自体の層構成が簡易となる優れた記録方法であり、高密度画像記録が可能なホログラム型の光記録方法に好適に用いられる。
本発明の光記録媒体は、レーザ光を用いて、記録又は再生、フォーカスやトラッキング制御を行う際に、記録再生の効率が高く、光記録及び光再生装置の誤差などから生ずる該複数のレーザ光の光軸のずれによる影響を受けず、光記録媒体自体の層構成が簡易な優れた光記録媒体として幅広く用いられる。
本発明の光記録媒体は、レーザ光を用いて、記録又は再生、フォーカスやトラッキング制御を行う際に、記録再生の効率が高く、光記録及び光再生装置の誤差などから生ずる該複数のレーザ光の光軸のずれによる影響を受けず、光記録媒体自体の層構成が簡易な優れた光記録媒体として幅広く用いられる。
１ 第二の基板
２ 反射膜
３ ピットパターン
４ 第二の記録層
５ 第一の基板
６ コレステリック液晶層
７ 第二ギャップ層
８ ギャップ層
９ パターン層
１２ 対物レンズ
１３ ダイクロイックミラー
１４ 検出器
１５ １／４波長板
１６ 偏光素子
１７ ハーフミラー
３１ ピックアップ
２３ 光記録媒体
２４ 光記録媒体
３１ ピックアップ
３４ 記録光及び再生光
３６ 干渉像
８１ スピンドル
８２ スピンドルモータ
８３ スピンドルサーボ回路
８４ 駆動装置
８５ 検出回路
８６ フォーカルサーボ回路
８７ トラッキングサーボ回路
８８ スライドサーボ回路
８９ 信号処理回路
９０ コントローラ
９１ 走査部
１００ 光記録再生装置
Ａ 入出射面
ＦＥ フォーカスエラー信号
ＴＥ トラッキングエラー信号
ＲＦ 再生信号
２ 反射膜
３ ピットパターン
４ 第二の記録層
５ 第一の基板
６ コレステリック液晶層
７ 第二ギャップ層
８ ギャップ層
９ パターン層
１２ 対物レンズ
１３ ダイクロイックミラー
１４ 検出器
１５ １／４波長板
１６ 偏光素子
１７ ハーフミラー
３１ ピックアップ
２３ 光記録媒体
２４ 光記録媒体
３１ ピックアップ
３４ 記録光及び再生光
３６ 干渉像
８１ スピンドル
８２ スピンドルモータ
８３ スピンドルサーボ回路
８４ 駆動装置
８５ 検出回路
８６ フォーカルサーボ回路
８７ トラッキングサーボ回路
８８ スライドサーボ回路
８９ 信号処理回路
９０ コントローラ
９１ 走査部
１００ 光記録再生装置
Ａ 入出射面
ＦＥ フォーカスエラー信号
ＴＥ トラッキングエラー信号
ＲＦ 再生信号
Claims (16)
- ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備え、かつ少なくともトラック情報及びアドレス情報を有するパターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光の少なくともいずれかを照射し、反射光により前記パターンの位置を検出するパターン位置検出ステップと、
検出されたパターン位置情報に基づいて、該情報光及び該参照光の光軸を前記パターン以外の位置に移動し、前記情報光及び前記参照光を前記記録層に照射し、干渉像を形成し、該干渉像を前記記録層に記録する干渉像記録ステップと
を含むことを特徴とする光記録方法。 - 光記録媒体に対し、情報光及び参照光の少なくともいずれかを照射し、反射光により該情報光及び該参照光の感光層の厚み方向の焦点位置を検出する焦点位置検出ステップを含む請求項１に記載の光記録方法。
- パターンが、光記録媒体における少なくとも３箇所に形成された請求項１から２のいずれかに記載の光記録方法。
- パターンが、凹凸パターン及び屈折率の異なる材料からなるパターンの少なくともいずれかを含む請求項１から３のいずれかに記載の光記録方法。
- パターンが、基板上に形成された請求項１から４のいずれかに記載の光記録方法。
- パターン位置検出ステップにおける水平位置の検出方法が、３ビーム法、プッシュプル法及び位相差検出法の少なくともいずれかである請求項１から５のいずれかに記載の光記録方法。
- パターン位置検出ステップにおける水平位置の検出方法が、位置情報パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号強度が最大となる位置を検出する請求項１から６のいずれかに記載の光記録方法。
- パターン位置検出ステップにおける水平位置の検出方法が、位置情報パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号エラーが最小となる位置を検出する請求項１から７のいずれかに記載の光記録方法。
- 光記録媒体が、第一の基板と、記録層と、パターンと、第二の基板とをこの順に有する請求項１から８のいずれかに記載の光記録方法。
- 光記録媒体が、反射型ホログラムである請求項１から９のいずれかに記載の光記録方法。
- 情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われる請求項１から１０のいずれかに記載の光記録方法。
- ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備え、かつ少なくともトラック情報及びアドレス情報を有するパターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光の少なくともいずれかを照射し、反射光により前記パターン位置を検出するパターン位置検出手段と、
検出されたパターン位置情報に基づいて、該情報光及び該参照光の光軸の位置を前記パターン以外の位置に移動し、前記情報光及び前記参照光を前記記録層に照射し、干渉像を形成し、該干渉像を前記記録層に記録する干渉像記録手段と
を有することを特徴とする光記録装置。 - 光記録媒体に対し、情報光及び参照光の少なくともいずれかを照射し、反射光により該情報光及び該参照光の感光層の厚み方向の焦点位置を検出する焦点位置検出手段を含む請求項１２に記載の光記録装置。
- 請求項１から１１のいずれかに記載の光記録方法により記録された光記録媒体。
- 請求項１から１１のいずれかに記載の光記録方法により記録層に形成された干渉像に参照光を照射して、該干渉像に対応した記録情報を再生することを特徴とする光記録再生方法。
- 参照光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、参照光を干渉像に照射して記録情報を再生する請求項１５に記載の光記録再生方法。
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