JP2007057270A - 流体モニタ装置 - Google Patents

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勝弘 大西
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Abstract

【課題】 本発明の課題は、流体の流量、圧力、温度、濃度または流速などを容易に且つ確実にモニタを行うことができ、流体のモニタを行いながら流量の微細な調節ができ、配管及び配線接続が容易であり、脈動した流体が流れても問題なく流体のモニタを行うことができる流体モニタ装置を提供することにある。
【解決手段】 本発明に係る流体モニタ装置は、流体の特性を表すパラメータを計測する計測器3と、開口面積が調節可能な絞り弁4とを具備することを特徴としている。そして、前記パラメータは、流量と、圧力と、温度と、濃度と、流速と、の少なくとも一つを含んでいる。
【選択図】 図1

Description

本発明は流体のモニタが必要とされる流体輸送配管に使用される流体モニタ装置に関するものである。さらに詳しくは、主として流体の流量、圧力、温度、濃度または流速などを容易に且つ確実にモニタを行うことができ、流体のモニタを行いながら流量の微細な調節ができ、配管及び配線接続が容易であり、脈動した流体が流れても問題なく流体のモニタを行うことができる流体モニタ装置に関するものである。
従来、半導体製造工程の一工程として、フッ酸等の薬液を純水で希釈した洗浄水を用いてウェハ表面をエッチングする湿式エッチングが用いられている。これら湿式エッチングの洗浄水の濃度は高い精度をもって管理する必要があるとされている。流体の管理において、流路の特定の箇所における流体の状態、例えば流量、圧力、温度、濃度または流速などの定期的なモニタを行う必要があり、純水や薬液などを流すラインにおいて流体を計測する装置が設けられている。
流体を計測する装置として種々提案されているが、図15に示されるような超音波流量計301があった(例えば、特許文献1参照)。その構成は、流路302の上流と下流に離れて対向して設けられた一対の超音波センサ303、304を有し、一方の超音波センサ303から他方の超音波センサ304への信号の伝播時間と他方の超音波センサ304から一方の超音波センサ303への信号の伝播時間とから流路302を流れる流体の流量を測定する超音波流量測定方法において、一方の超音波センサ303から他方の超音波センサ304への信号の伝播時間の測定と、他方の超音波センサ304から一方の超音波センサ303への信号の伝播時間とを一定の時間間隔で交互に繰り返し、1回の測定におけるいずれか一方の超音波センサ303から他方の超音波センサ304への信号の伝播時間と、その前後における逆方向への信号の伝播時間の平均とを比較して流量を計算することを特徴とするものであった。その効果は、流体の流速変化、温度変化や超音波センサの温度変化による流量測定の誤差を低減することができるものであった。このような超音波流量計に別途流量を表示する表示器を設けることで流体のモニタが行なわれていた。
特開平2003−130697号公報
しかしながら、前記従来の超音波流量計301の場合、流体のモニタを行うときには装置内に超音波流量計301と表示器を設ける必要があり、配線や設置作業は煩雑であるという問題があった。また、従来の流量計側を行なう装置には、通常流量計側を行なう機能しか設けられておらず、流体のモニタを行ないながら流量の微調節を行いたい場合、別途流量を調節する装置を設ける必要があり、この場合、構成要素が多く分かれているため、半導体製造装置内などに設置する際に、各構成要素の配管接続作業、電気配線やエア配管作業、各構成要素の調整をそれぞれ行なわなくてはならず、作業が複雑で時間を要するとともに、配管や配線が煩わしくミスが起こる恐れがあるという問題があった。さらに、装置に流入する流体が圧力変動周期の短い脈動した流れであった場合、超音波流量計は流体の変動の影響を受けることになり、安定した流量の計測を行なうことができなくなり、流体のモニタを安定してできなくなるという問題があった。
本発明は、以上のような従来技術の問題点に鑑みなされたものであり、流体の流量、圧力、温度、濃度または流速などを容易に且つ確実にモニタを行うことができ、流体のモニタを行いながら流量の微細な調節ができ、配管及び配線接続が容易であり、脈動した流体が流れても問題なく流体のモニタを行うことができる流体モニタ装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するための本発明の流体モニタ装置の構成を図に基づいて説明すると、流体の特性を表すパラメータを計測する計測器3と、開口面積が調節可能な絞り弁4とを具備することを第一の特徴とする。流体の特性を表すパラメータとは、例えば、流量、圧力、温度、流速、粘度、比重量、濃度、湿り度その他の流体の特性を表す指標値を言う。
また、前記流体の圧力変動を減衰させる圧力調整弁83をさらに具備することを第二の特徴とする。
前記流体の流れを開放又は遮断するための開閉弁61をさらに具備することを第三の特徴とする。
前記弁4、61、83および前記計測器3が、独立した接続手段を用いずに直接接続されていることを第四の特徴とする。独立した接続手段とは、別体のチューブや接続管等のことを言う。
前記弁4、61、83および前記計測器3が、一つのベースブロック146に配設されていることを第五の特徴とする。
前記弁4、61、83および前記計測器3が、1つのケーシング169内へ収納配設されていることを第六の特徴とする。
前記パラメータが、流量と、圧力と、温度と、濃度と、流速と、の少なくとも一つを含むことを第七の特徴とする。
前記絞り弁4が、上部に設けられた弁室16の底面に弁座面15が形成され、弁座面15の中心に設けられた連通口17に連通する入口流路18と弁室16に連通する出口流路19を有する本体14と、ステムの軸方向の進退移動により連通口17に挿入可能で接液面の中心から垂下突設された第一弁体24と弁座面15に接離可能にされ第一弁体24から径方向へ隔離した位置に形成された円環状凸条の第二弁体25と第二弁体25から径方向へ連続して形成された薄膜部26とが一体的に設けられた隔膜23と、上部にハンドル45が固着され下部内周面に雌ネジ部41と外周面に雌ネジ部41のピッチより大きいピッチを有する雄ネジ部42を有する第一ステム40と、内周面に第一ステム40の雄ネジ部42と螺合する雌ネジ部48を有する第一ステム支持体47と、上部外周面に第一ステム40の雌ネジ部41に螺合される雄ネジ部33を有し下端部に隔膜23が接続される第二ステム32と、第一ステム支持体47の下方に位置し第二ステム32を上下移動自在かつ回動不能に支承する隔膜押さえ34と、第一ステム40と隔膜押さえ34を固定するボンネット51とを具備することを第八の特徴とする。
なお、本制御弁の基本的構成は、特開2005−155878に開示されているものである。
前記圧力調整弁83が、下部中央に底部まで開放して設けられた第二の空隙96と第二の空隙96に連通する入口流路98と上部に上面が開放して設けられ第二の空隙96の径よりも大きい径を持つ第一の空隙97と第一の空隙97に連通する出口流路99と第一の空隙97と第二の空隙96とを連通し第一の空隙97の径よりも小さい径を有する連通孔100とを有し、第二の空隙96の上面が弁座101とされた本体88と、側面あるいは上面に設けられた給気孔104と排出孔105とに連通した円筒状の空隙102を内部に有し、下端内周面に段差部103が設けられたボンネット89と、ボンネット89の段差部103に嵌挿され中央部に貫通孔106を有するバネ受け90と、下端部にバネ受け90の貫通孔106より小径の第一接合部111を有し上部に鍔部109が設けられボンネット89の空隙102内部に上下動可能に嵌挿されたピストン91と、ピストン91の鍔部109下端面とバネ受け90の上端面で挟持支承されているバネ92と、周縁部が本体88とバネ受け90との間で挟持固定され、本体88の第一の空隙97に蓋する形で第一の弁室118を形成する中央部が肉厚とされた第一ダイヤフラム114と、上面中央にピストン91の第一接合部111にバネ受け90の貫通孔106を貫通して接合固定される第二接合部116と、下面中央に本体88の連通孔100と貫通して設けられた第三接合部117とを有する第一弁機構体93と、本体の第二の空隙96内部に位置し本体の連通孔100より大径に設けられた弁体119と、弁体119上端面に突出して設けられ第一弁機構体93の第三接合部117と接合固定される第四接合部121と、弁体119下端面より突出して設けられたロッド122と、ロッド122下端面より径方向に延出して設けられた第二ダイヤフラム124とを有する第二弁機構体94と、本体88の下方に位置し第二弁機構体94の第二ダイヤフラム124周縁部を本体88との間で挟持固定する突出部126を上部中央に有し、突出部126の上端部に切欠凹部127が設けられると共に切欠凹部127に連通する呼吸孔128が設けられているベースプレート95とを具備し、ピストン91の上下動に伴って第二弁機構体94の弁体119と本体88の弁座101とによって形成される流体制御部129の開口面積が変化するように構成されていることを第九の特徴とする。
なお、本制御弁の基本的構成は、特開2004−38571に開示されているものである。
本発明の絞り弁4は、開口面積を調節可能にすると共に流路を絞って流量を安定させる構成であれば特に限定されるものではないが、図2に示すような本発明の絞り弁4の構成を有しているものが好ましい。これは幅広い流量範囲で流量調節を行なうことができ、絞り弁4の微小な開度を容易に且つ精密に調節できるので開度の微調節を短時間で行なうことができると共に、高さ方向の場所を取らずにコンパクトな構造であり流体モニタ装置1を小さく設けることができるため好適である。
また、図2において絞り弁4の第一ステム40の外周面に設けられた雄ネジ部42と下部内周面に設けられた雌ネジ部41のピッチ差は、雄ネジ部42のピッチの6分の1になるように形成されているが、ピッチ差は、雄ネジピッチの20分の1から5分の1の範囲に設けるのが望ましい。弁体は全閉から全開までに一定範囲のリフト量を得るので、ハンドル45のストロークが大きくなり過ぎて弁高が大きくならないようするためにピッチ差を雄ネジピッチの20分の1より大きくすると良く、弁を細かいオーダーで精度の良い調節を行うためにピッチ差を雄ネジピッチの5分の1より小さくすると良い。
また、図3において第一弁体24の直線部30の外径Dは、連通口17の内径Dに対して0.97Dで設定されているが、直線部30の外径Dは連通口17の内径Dに対して0.95D≦D≦0.995Dの範囲内であることが望ましい。第一弁体24と連通口17とを摺接させないためにD≦0.995Dが良く、流量調節をスムースに行うために0.95D≦Dが良い。
また、第一弁体24のテーパ部31のテーパ角度は軸線に対して15°で設定されているが、12°〜28°の範囲内であることが望ましい。弁を大きくさせずに広い流量範囲を調節ずるために12°以上が良く、開度に対して流量を急激に変化させないために28°以下が良い。また、第二弁体25の円環状凸条の径Dは、連通口17の内径Dに対して1.5Dで設定されているが、第二弁体25の円環状凸条の径Dは、連通口17の内径Dに対して1.1D≦D≦2Dの範囲内であることが望ましい。第一弁体24と第二弁体25の間には環状溝部28を確実に設け環状溝部28に流体の流れを抑制させる空間部分を得るためには1.1D≦Dが良く、開度に対して第二弁体25と弁座面15とで形成される開口面積の増加率を抑えるためにD≦2Dが良い。
また、本発明の計測器3は、流体の特性を表すパラメータが計測されて計測値が表示されるものなら特に限定されないが、流量計、圧力計、温度計、濃度計、流速計であることが好ましく、計測器3は超音波を用いて計測が行われるものが好ましい。このうち流体のモニタには流量計が良く用いられ、流量計は超音波流量計、超音波式渦流量計であることが好ましい。特に図1や図12に示すような超音波流量計の場合、微小流量に対して精度良く流量計測ができるため、微小流量のモニタを行うのに好適である。また図13に示すような超音波式渦流量計の場合、大流量に対して精度良く流量計測ができるため、大流量のモニタを行うのに好適である。このように、流体の流量に応じて超音波流量計と超音波式渦流量計を使い分けることで精度の良い流体のモニタを行うことができる。
また、計測器3は計測した流体の計測値を電気信号に変換して出力されるものであることが好ましく、出力された計測値は、デジタル表示されるものが好ましい。また、自動的に一定時間ごとに計測を行い、モニタ部6で計測値を記憶させる構成であることが好ましい。計測値を記憶させる場合、例えばパソコンに計測値を取り込ませて、経時的に計測値をグラフ表示したり、特定期間の計測値の平均値を取っても良い。これは流体の状態の定期的な把握と分析が容易に行なえるので好適である。
本発明は図8に示すように、流体モニタ装置81に圧力調整弁83を設けても良い。圧力調整弁83は流入する流体の圧力を一定圧に調整して流出させるものであれば特に限定されるものではないが、図9に示すような本発明の圧力調整弁83の構成を有しているものが好ましい。これはコンパクトな構造であり、且つ流入した流体が圧力変動周期の早い脈動した流れであっても、圧力調整弁83によって圧力を一定圧に安定させることができ、これにより脈動の影響で流体の計測値が読み取りにくくなることを防止することができるため好適である。
また、本発明は図6に示すように、流体モニタ装置59に開閉弁61を設けても良い。これは、開閉弁61を設けることにより、開閉弁61を遮断することで流体モニタ装置59のメンテナンス、修理、部品交換(以下、メンテナンス等と記す)を容易に行なうことができるため好適である。また、流体モニタ装置59に開閉弁61を備えておけば、流路を遮断してメンテナンス等のために流体モニタ装置59を分解したときに、流路内に残った流体が分解した部分から漏れ出ることを最小限に抑えることができる、さらに流路内で何らかのトラブルが発生した際に、開閉弁61で流体の緊急遮断を行なうことができるので好適である。
また、開閉弁61は流体の流れを開放又は遮断する機能を有していれば、その構成は特に限定されるものでなく、手動によるものでも良く、エア駆動、電気駆動、磁気駆動などの自動によるものであっても良い。自動の場合、制御回路を設けて計測器62とリンクさせ計測値に応じて開閉弁61を駆動させるようにしても良く、流体モニタ装置59から独立して駆動させても良い。流体モニタ装置59とリンクさせて駆動させる場合、流体モニタ装置59内で一括制御を行なうことができるので好適である。流体モニタ装置59から独立して駆動させる場合、流体モニタ装置59にトラブルが発生した際に、開閉弁61で流路を緊急遮断させる場合に流体モニタ装置59のトラブルに影響せずに駆動を行うことができるため好適である。
また、開閉弁61の設置位置は、メンテナンス等を行うためには他の弁63および計測器62より上流側に設置することが望ましい。さらに開閉弁61を他の弁63および計測器62より上流側と下流側の両方に設けた構成にしても良い。このとき、両方の開閉弁61を閉止することで、流体モニタ装置59の上流側と下流側の流れを止めることで流体の逆流などが防止され、メンテナンス等を行うときに流体の漏れが確実に防止されるために好適である。
本発明の流体モニタ装置は、図1、6、8、10に示すように、隣り合う弁4、61、83および計測器3が、チューブや接続管等の独立した接続手段を用いずに直接接続されていることが好ましい。これは、各構成要素がチューブや接続管を用いずに直接接続されることにより、流体モニタ装置1をコンパクトにして設置場所のスペースを少なくすることができ、設置作業が容易になり作業時間が短縮でき、流体モニタ装置1内の流路を必要最小限に短くさせることができるので流体抵抗を抑えることができるため好適である。このとき、弁4、61、83および計測器3の本体は、同一のベースブロックを用いた構成でも良く、別個の部材を流路のシールおよび流路の方向転換を行なうための接続部材12、13を介在させて直接接続しても良い。この構成の場合、特に計測器3のメンテナンスが容易になるので好適である。
本発明の流体モニタ装置は、図11に示すように、弁140、141、143および計測器142が、流路の形成された一つのベースブロック146に配設されていることが好ましい。これは、各構成要素が一つのベースブロック146に配設されることにより、流体モニタ装置138をコンパクトにして設置場所のスペースを少なくすることができ、設置作業が容易になり作業時間が短縮でき、流体モニタ装置138内の流路を必要最小限に短くさせることができるので流体抵抗を抑えることができ、さらに部品点数を少なくすることができるので流体モニタ装置138の組み立てを容易にすることができるため好適である。
本発明の流体モニタ装置は、図12に示すように、1つのケーシング169内に設置してなる構成であることが好ましい。これは、1つのケーシング169内に設置してなることにより、流体モニタ装置168が一つのモジュールとなるため、設置が容易になり、設置作業の作業時間が短縮できるため好適である。また、ケーシング169によって弁171、172、174および計測器173が保護されると共に、流体モニタ装置168をブラックボックス化することで、本発明のような流体モニタ装置168を半導体製造装置などに設置したときに、半導体製造装置の利用者が流体モニタ装置168を安易に分解することにより不具合が生じることを防止することができるため好適である。
本発明の計測器3、絞り弁4、圧力調整弁83、開閉弁61の設置の順番は、どのような順番に設けても良く特に限定されない。
また、本発明の流体モニタ装置は、流体のモニタを行なう必要のある用途であれば、いずれに使用しても良いが、半導体製造装置内へ配置されることが好適である。半導体製造工程の前工程では、フォトレジスト工程、パターン露光工程、エッチング工程や平坦化工程などが挙げられ、これらの洗浄水の濃度を、純水と薬液の流量比で管理する際に本発明の流体モニタ装置を用いてモニタを行うことが好適である。
また、本発明の計測器3、絞り弁4、開閉弁61、圧力調整弁83の各部品の材質は、樹脂製であれば塩化ビニル、ポリプロピレン(以下、PPと記す)、ポリエチレンなどいずれでも良いが、特に流体に腐食性流体を用いる場合はポリテトラフルオロエチレン(以下、PTFEと記す)、ポリビニリデンフルオロライド(以下、PVDFと記す)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂(以下、PFAと記す)などのフッ素樹脂であることが好ましく、フッ素樹脂製であれば腐食性流体に用いることができ、また腐食性ガスが透過しても弁4、61、83および流量計測器3の腐食の心配がなくなるため好適である。
本発明は以上のような構造をしており、以下の優れた効果が得られる。
(1)流体の流量、圧力、温度、濃度または流速などを容易に且つ確実にモニタを行なうことができ、流体のモニタを行いながら流量を調節することができる。
(2)流体モニタ装置の構成要素がチューブや接続管等の独立した接続手段を用いずに直接接続されているため、流体モニタ装置をコンパクトにして設置場所のスペースを少なくすることができ、設置作業が容易になり作業時間が短縮でき、流体モニタ装置内の流路を必要最小限に短くさせることができるので流体抵抗を抑えることができる。
(3)流体モニタ装置が流路の形成された一つのベースブロックに配設されていることにより、流体モニタ装置をコンパクトにして設置場所のスペースを少なくすることができ、設置作業が容易になり作業時間が短縮でき、流体モニタ装置内の流路を必要最小限に短くさせることができるので流体抵抗を抑えることができ、さらに部品点数を少なくすることができるので流体モニタ装置の組み立てを容易にすることができる。
(4)流体モニタ装置が1つのケーシング内に設置してなることにより、設置が容易になり、設置作業の作業時間が短縮でき、各弁および計測器がケーシングにより保護されると共に、流体モニタ装置をブラックボックス化することで、安易に流体モニタ装置を分解させることを防ぎ、不慣れな利用者が流体モニタ装置を分解することにより不具合が生じることを防止することができる。
(5)本発明の構成の絞り弁を用いることにより、広い流量範囲で流量調節を行なうことができ、さらに絞り弁の微小な開度を容易に且つ精密に調節できるので開度の微調節を短時間で行なうことができると共に、コンパクトな構造であるため流体モニタ装置を小さく設けることができる。
(6)流体モニタ装置に開閉弁を設けることにより、開閉弁を閉状態にすることで流体モニタ装置のメンテナンス、修理、部品交換を、流体が漏れ出ることなく容易に行なうことができると共に、流路内で何らかのトラブルが発生した際に、開閉弁で流体の緊急遮断を行なうことができる。
(7)流体モニタ装置に本発明の構成の圧力調整弁を用いることにより、脈動した流体が流れたとしても圧力を一定圧に安定させることができ、コンパクトな構成であるため流体モニタ装置を小さく設けることができる。
以下、本発明の実施の形態について図面に示す実施例を参照して説明するが、本発明が本実施例に限定されないことは言うまでもない。図1は本発明の第一の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。図2は図1の絞り弁の拡大図である。図3は図2の絞り弁が開状態を示す要部拡大図である。図4は図2の絞り弁が閉状態を示す要部拡大図である。図5は図2の絞り弁が半開状態を示す要部拡大図である。図6は本発明の第二の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。図7は図6の開閉弁の拡大図である。図8は本発明の第三の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。図9は図8の圧力調整弁の拡大図である。図10は本発明の第四の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。図11は本発明の第五の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。図12は本発明の第六の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。図13は本発明の第七の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。図14は図13のA−A線に沿う断面図である。
以下、図1乃至図5に基づいて本発明の第一の実施例である流体モニタ装置について説明する。
1は半導体製造のエッチング工程を行う半導体製造装置内に設置された流体モニタ装置である。流体モニタ装置1は、流体流入口2、計測器3、絞り弁4、流体流出口5、モニタ部6から形成され、その各々の構成は以下の通りである。
2はPFA製の流体流入口である。流体流入口2は後記計測器3の入口流路7に連通している。
3は流体の流量を計測する超音波流量計である計測器である。計測器3は、入口流路7と、入口流路7から垂設された直線流路8と、直線流路8から垂設され入口流路7と同一方向に平行して設けられた出口流路9とを有し、入口、出口流路7、9の側壁の直線流路8の軸線と交わる位置に、超音波振動子10、11が互いに対向して配置されている。出口流路9は後記絞り弁4の入口流路18に連通している。超音波振動子10、11はフッ素樹脂で覆われており、該振動子10、11から伸びた配線は後記モニタ部6の演算部57に繋がっている。なお、計測器3の超音波振動子10、11以外はPFA製である。また、入口流路7と流体流入口2とは接続部材12を介して流路の方向転換が行なわれて直接接続され、出口流路9と後記絞り弁4の入口流路18とは接続部材13を介して流路の方向転換が行なわれて直接接続されて連通している。
図2に示すように、4は開口面積が調節可能な絞り弁である。絞り弁は本体14、隔膜23、第二ステム32、隔膜押さえ34、第一ステム40、第一ステム支持体47、ボンネット51で形成される。
14はPTFE製の本体である。本体14の上部に後記隔膜23とで形成される略すり鉢形状の弁室16を有しており、弁室16の底面には後記第二弁体25の圧接によって流路の全閉シールを行う弁座面15が形成され、弁座面15の中心に設けられた連通口17に連通する入口流路18と弁室16に連通する出口流路19を有している。弁室16の上方には後記隔膜押さえ34の嵌合部36を受容する凹部21が設けられていて、その底面には後記隔膜23の環状係止部27が嵌合する環状凹部20が設けられている。また本体14の上部外周面には、後記ボンネット51が螺着される雄ネジ部22が設けられている。
23はPTFE製の隔膜であり、隔膜23の下部に接液面の中心から垂下突設された第一弁体24と、第一弁体24から径方向へ隔離した位置に形成された先端が断面円弧状の円環状凸条の第二弁体25と、第二弁体25から径方向へ連続して形成された薄膜部26と、薄膜部26の外周に断面矩形状の環状係止部27と、隔膜23の上部に後記第二ステム32の下端部に接続される接続部29が一体的に設けられている。第一弁体24は、下方に向かって直線部30とテーパ部31とが連続して設けられており、第一弁体24と第二弁体25の間には環状溝部28が形成されている。環状溝部28は、その空間部で流体の流れを抑制させるために、全閉時に環状溝部28と弁座面15とで形成される空間部分の体積が、全閉時に第一弁体24の直線部30と連通口17とで形成される空間部分の体積の2倍以上に設定される。また、図3に示すように、第一弁体24の直線部30の外径Dは、連通口17の内径Dに対して0.97Dで設定され、第一弁体24のテーパ部31のテーパ角度は軸線に対して15°で設定され、第二弁体25の円環状凸条の径Dは、連通口17の内径Dに対して1.5Dで設定されている。隔膜23は、環状係止部27を本体14の環状凹部20に嵌合された状態で本体14と後記隔膜押さえ34とで挟持固定される。
32はPP製の第二ステムである。第二ステム32の上部外周面には後記第一ステム40の雌ネジ部41に螺合される雄ネジ部33が設けられ、下部外周は六角形状に形成され、下端部には隔膜23の接続部29が螺着により接続されている。
34はPP製の隔膜押さえである。隔膜押さえ34の上部には外周が六角形状の挿入部35が、下部には外周が六角形状の嵌合部36がそれぞれ設けられており、中央部外周には鍔部37が設けられている。隔膜押さえ34の内周には六角形状の貫通孔38が設けられ、下端面から貫通孔38に向かって縮径するテーパ部39が設けられている。挿入部35は後記第一ステム支持体47の中空部49に回動不能に嵌合され、嵌合部36は本体14の凹部21に回動不能に嵌合される。貫通孔38には第二ステム32を挿通させ、第二ステム32を上下移動自在かつ回動不能に支承している。
40はPP製の第一ステムである。第一ステム40の下部内周面には第二ステム32の雄ネジ部33が螺合するピッチが1.25mmの雌ネジ部41と、外周面にはピッチが1.5mmの雄ネジ部42が設けられており、雄ネジ部42と雌ネジ部41のピッチ差は0.25mmであり、雄ネジ部42のピッチの6分の1になるように形成されている。第一ステム40の下部外周には径方向に突出して設けられたストッパー部43が設けられ、上部には後記把持部46を有するハンドル45が固着されている。
47はPP製の第一ステム支持体である。第一ステム支持体47の上部内周面には第一ステム40の雄ネジ部42に螺合される雌ネジ部48が設けられており、下部内周には後記隔膜押さえ34の挿入部35を回動不能に嵌合する六角形状の中空部49が設けられており、下部外周には後記ボンネット51によって固定される鍔部50が設けられている。
51はPP製のボンネットである。ボンネット51の上部には第一ステム支持体47の鍔部50の外径より小さい内径を有する係止部52が設けられ、下部内周面には本体14の雄ネジ部22に螺着される雌ネジ部53が設けられている。ボンネット51は、第一ステム支持体47の鍔部50と隔膜押さえ34の鍔部37を、係止部52と本体14の間で挟持した状態で本体14に螺着していることで各部品を固定することができる。
5はPFA製の流体流出口である。
6はモニタ部である。モニタ部6は前記計測器3から出力された信号から流量を演算する演算部57と、測定値を表示する表示部58を有している。演算部57には、送信側の超音波振動子10に一定周期の超音波振動を出力する発信回路と、受信側の超音波振動子11からの超音波振動を受信する受信回路と、各超音波振動の伝播時間を比較する比較回路と、比較回路から出力された伝播時間差から流量を演算する演算回路とを備えている。表示部58には、デジタル表示にて演算部57から出力された計測値が表示される。なお、本実施例ではモニタ部6は流体モニタ装置1と別体で設けられた構成であるが、流体モニタ装置1と一体的に設けても良く、流体のモニタを行ないながら流体の微調節を行い易い配置にすることが好ましい。
次に、本発明の第一の実施例である流体モニタ装置の作動について説明する。
流体モニタ装置1の流体流入口2に流入した流体は、まず計測器3に流入し、直線流路8で流量が計測される。流体の流れに対して上流側に位置する超音波振動子10から下流側に位置する超音波振動子11に向かって超音波振動を伝播させる。超音波振動子11で受信された超音波振動は電気信号に変換され、モニタ部6の演算部57へ出力される。超音波振動が上流側の超音波振動子10から下流側の超音波振動子11へ伝播して受信されると、瞬時に演算部57内で送受信が切換えられて、下流側に位置する超音波振動子11から上流側に位置する超音波振動子10に向かって超音波振動を伝播させる。超音波振動子10で受信された超音波振動は、電気信号に変換され、モニタ部6内の演算部57へ出力される。このとき、超音波振動は直線流路8内の流体の流れに逆らって伝播していくので、上流側から下流側へ超音波振動を伝播させるときに比べて流体中での超音波振動の伝播速度が遅れ、伝播時間が長くなる。出力された相互の電気信号は演算部57内で伝播時間が各々計測され、伝播時間差から流量が演算される。演算部57で演算された流量は電気信号に変換されて表示部58に出力され、表示部58で流量の計測値が表示される。
計測器84を通過した流体は絞り弁4に流入する。絞り弁4に流入した流体は、絞り弁4で精密に開口面積が調製されることによって、一定流量に調節されて流出される。
ここで絞り弁4が微小な開度の調節を行なう作動について説明する。まず、本実施例の絞り弁4が全閉状態(図4の状態)において、入口流路18から流入してきた流体は、弁座面15に圧接された第二弁体25によって閉止される。
ハンドル45を弁が開放する方向に回動させると、ハンドル45の回動に伴なって第一ステム40が外周面の雄ネジ部42のピッチ分だけ上昇し、逆に第一ステム40の内周面の雌ネジ部41に螺合された第二ステム32は第一ステム40の雌ネジ部41のピッチ分だけ下降する。ただし、第二ステム32は回動不能の状態で隔膜押さえ34の貫通孔38に収容されており上下方向のみに移動可能であるため、第二ステム32は本体14に対して第一ステム40外周面の雄ネジ部42と内周面の雌ネジ部41のピッチ差分、本実施例では第一ステム40の雄ネジ部42のピッチが1.5mm、第一ステム40の雌ネジ部41のピッチが1.25mmにしているので、第一ステム40に連動したハンドル45を1回転させることによって第二ステム32は0.25mm(雄ネジ部42のピッチの6分の1)上昇する。これに伴って、第二ステム32と接続された隔膜23が上昇することで最初に本体14の弁座面15に圧接されていた第二弁体25が弁座面15から離間し、第一弁体24は隔膜の上昇に伴なって上昇し、絞り弁4が半開状態となる(図5の状態)。流体は入口流路18から弁室16へと流れ込み、出口流路19を通過して排出される。
次に上記絞り弁4が半開状態(図5の状態)から、さらにハンドル45を開方向に回動させると第一ステム40の下部外周のストッパー部43が第一ステム支持体47の天井面56に圧接して回動は停止される。ハンドル45、第一ステム40および第二ステム32の回動と連動して隔膜23が上昇し、第一弁体24と第二弁体25は隔膜23の上昇に伴なって上昇し、弁は全開状態となる(図2、図3の状態)。なお、第一弁体24は、全開状態でも連通口17から抜けることはないので、絞り弁4は全閉から全開まで流量調節が行われる。
上記作用において、絞り弁4が全閉から全開に至るまで、開度によって第一弁体24と連通口17とで形成される第一流量調節部54の開口面積S1と、第二弁体25と弁座面15とで形成される第二流量調節部55の開口面積S2は変化するが、S1とS2の大小関係によって流量を調節する作用がそれぞれ異なる。以下に絞り弁4の開度の全閉から全開に至るまでのS1とS2の関係と流量の調節の仕組みを図3乃至図5に基づいて説明する。
S1>S2の場合、絞り弁4の開度は全閉から微開の時であり、流量は第二流量調節部55によって、つまりS2の大小によって調節される。S1>S2の範囲内では、第一流量調節部54は、第一弁体24の直線部30と連通口17で流量を一定に調節することができ、流体は第一流量調節部54によって流量を一定にされた後、第二流量調節部55に至る前にまず環状溝部28により形成される空間部分に流れ込む。流体は環状溝部28の底面に当たり、径方向へ広がって第二弁体25の内周面に当たり、さらに流れの向きを変えて第二流量調節部55に至るため、空間部分で流体の流れが一旦停滞される。そのため流体は、空間部分で流れが抑制されて急激な流量の増加を抑えることができ、第二流量調節部55で十分制御可能な流れで第二流量調節部55に至り、第二流量調節部55で精度良く流量が調節されるため、絞り弁4が微開時の微小流量の調節が可能となる。このとき、第二弁体25の円環状凸条の径Dは、連通口17の内径Dに対して1.1D≦D≦2Dの範囲内で設けられているため、流量の増加を抑制するのに効果的な環状溝部28を第一弁体24と第二弁体25の間に形成することができ、環状溝部28により形成される空間部分で第一流量調節部54からの流体の流れを抑制することができる。
S1=S2の場合、第一流量調節部54の開口面積S1と第二流量調節部55の開口面積S2が同一となり、この時点を境に流量を調節する部分が第二流量調節部55から第一流量調節部54へと切り替わる。つまりS1の大小によって流量は調節される。
S1<S2の場合、絞り弁4の開度は微開から大きくして全開に至るまでであり、第二流量調節部55では細かい流量調節が困難となり、第一流量調節部54によって、つまりS1の大小によって調節される。S1<S2の範囲内では、第一流量調節部54は第一弁体24のテーパ部31と連通口17で流量を調節しており、第一弁体24のテーパ部31は、絞り弁4の開度に対して開口面積S1が比例して増加するように設定されているため、絞り弁4の開度を大きくするにつれて流量は線形に比例して増加するように調節することができる。
このことから、本発明の絞り弁4は、開度が微小なときには第二流量調節部55によって流量調節を行い、開度を大きくすると第二流量調節部55から第一流量調節部54に切り替わって流量調節を行うので、全閉から全開に至るまで開度に対して流量が良好な比例関係を得ることができ、微小な流量から大きな流量まで確実な流量の調節が可能となり、幅広い流量範囲で流量調節を行うことができる。
次に、絞り弁4が全開状態からハンドル45を逆に閉方向に回動させた場合は、開方向に回動させた場合とは逆の作動で弁体が降下し、絞り弁4の開度に応じて流量調節が行われる。ハンドル45を閉方向に回動させて全閉状態にした時には第二弁体25と弁座面15とが線接触によって確実な全閉シールを行うことができる。絞り弁4が全閉状態のとき、第一弁体24は常に連通口17とは非接触であるため、絞り弁4の長期的な使用により、弁体や弁座面15が摩耗などによって変形することがなく、長期間の使用によって流量調節特性が安定できなくなることを防止できる。
以上の作動により、流体モニタ装置1の流体流入口2に流入する流体は、計測器3で測定され、絞り弁4で一定流量に調節されて流体流出口5から流出される。これにより流量を安定させて計測器3で計測することができるため、安定した流体のモニタを行なうことができ、モニタを行なうと同時に流量の微調節を行なうことができる。計測器3である超音波流量計は、流体の流れ方向に対する伝播時間差から流量を計測するため微小流量でも正確に流量を計測でき、微小流量の流体のモニタに優れた効果を発揮する。また、絞り弁4は微小な開度の調節を容易に行なうことができる構成であるため、開度の微調節を精密且つ短時間で行なうことができる。
次に、図6、図7基づいて本発明の第二の実施例である流体モニタ装置について説明する。
59は流体モニタ装置である。流体モニタ装置59は、流体流入口60、開閉弁61、計測器62、絞り弁63、流体流出口64、モニタ部65から形成され、その各々の構成は以下の通りである。
61は開閉弁である。開閉弁61は本体66、駆動部67、ピストン68、ダイヤフラム押さえ69、弁体70で形成される。
66はPTFE製の本体であり、軸線方向上端の中央に弁室71と、弁室71と連通した入口流路72と出口流路73とを有しており、入口流路72は流体流入口60に連通し、出口流路73は計測器62に連通している。また、本体66の上面における弁室71の外側には環状溝74が設けられている。
67はPVDF製の駆動部であり、内部に円筒状のシリンダ部75が設けられ、前記本体66の上部にボルト・ナット(図示せず)で固定されている。駆動部67の側面にはシリンダ部75の上側及び下側にそれぞれ連通された一対の作動流体供給口76、77が設けられている。
68はPVDF製のピストンであり、駆動部67のシリンダ部75内に密封状態且つ軸線方向に上下動自在に嵌挿されており、底面中央にロッド部78が垂下して設けられている。
69はPVDF製のダイヤフラム押さえであり、中央部にピストン68のロッド部78が貫通する貫通孔79を有しており、本体66と駆動部67の間に挟持されている。
70は弁室71に収容されているPTFE製の弁体であり、ダイヤフラム押さえ69の貫通孔79を貫通し且つダイヤフラム押さえ69の下面から突出した前記ピストン68のロッド部78の先端に螺着されており、ピストン68の上下動に合わせて軸線方向に上下するようになっている。弁体70は外周にダイヤフラム80を有しており、ダイヤフラム80の外周縁は本体66の環状溝74内に嵌挿されており、ダイヤフラム押さえ69と本体66との間に挟持さている。第二の実施例のその他の構成は第一の実施例と同様なので説明を省略する。
次に、本発明の第二の実施例である流体モニタ装置の作動について説明する。
流体モニタ装置59の流体流入口60に流入した流体は、まず開閉弁61に流入する。開閉弁61が閉状態の場合、流体は開閉弁61で遮断され、開閉弁61から下流には流体が流れなくなる。これにより、流体モニタ装置59内の計測器62、絞り弁63、モニタ部65のメンテナンス等を容易に行なうことができる。また、流路内で何らかのトラブルが発生した際に、開閉弁61を閉状態にすることで流体の緊急遮断することができ、例えば腐食性流体が漏れ出ることで半導体製造装置内の部品を腐食させるなどの二次災害を防止することができる。また開閉弁61が開状態の場合、流体は開閉弁61を通過して計測器62に流入し、計測器62で測定され、絞り弁63で一定流量に調節されて流体流出口64から流出される。
ここで、開閉弁61の作動を説明する。作動流体供給口77から外部より作動流体として圧縮空気が注入されると、圧縮空気の圧力でピストン68が押し上げられるためこれと接合されているロッド部78は上方へ引き上げられ、ロッド部78の下端部に接合された弁体70も上方へ引き上げられ弁は開状態となる。
一方、作動流体供給口76から圧縮空気が注入されると、ピストン68が押し下げられるのにともなって、ロッド部78とその下端部に接合された弁体70も下方へ押し下げられ、弁は閉状態となる。
以上の作動により、流体モニタ装置59の流体流入口60に流入する流体は、開閉弁61を閉状態にすることにより、流体モニタ装置59のメンテナンス等を容易に行なうことができ、また流体の緊急遮断を行なうことが可能である。第二の実施例のその他の作動は第一の実施例と同様なので説明を省略する。
次に、図8、図9に基づいて本発明の第三の実施例である流体モニタ装置について説明する。
81は流体モニタ装置である。流体モニタ装置81は、流体流入口82、圧力調整弁83、計測器84、絞り弁85、流体流出口86、モニタ部87から形成され、その各々の構成は以下の通りである。
83は操作圧に応じて流体圧力を制御する圧力調整弁である。圧力調整弁83は本体88、ボンネット89、バネ受け90、ピストン91、バネ92、第一弁機構体93、第二弁機構体94、ベースプレート95で形成される。
88はPTFE製の本体であり、下部中央に底部まで開放して設けられた第二の空隙96と、上部に上面開放して設けられた第二の空隙96の径よりも大きい径を持つ第一の空隙97を有し、側面には第二の空隙96と連通している入口流路98と、入口流路98と対向する面に第一の空隙97と連通している出口流路99と、さらに、第一の空隙97と第二の空隙96とを連通し第一の空隙97の径よりも小さい径を有する連通孔100とが設けられている。第二の空隙96の上面部は弁座101とされている。また、出口流路99は後記流体流出口5に連通している。
89はPVDF製のボンネットであり、内部に円筒状の空隙102と下端内周面に空隙102より拡径された段差部103が設けられ、側面には空隙102内部に圧縮空気を供給するために空隙102と外部とを連通する給気孔104および給気孔104より導入された圧縮空気を微量に排出するための微孔の排出孔105が設けられている。なお、排出孔105は圧縮空気の供給において必要ない場合は設けなくてもかまわない。
90はPVDF製で平面円形状のバネ受けであり、中央部に貫通孔106を有し、略上半分がボンネット89の段差部103に嵌挿されている。バネ受け90の側面部には環状溝107が設けられ、O−リング108を装着することによりボンネット89から外部への圧縮空気の流出を防いでいる。
91はPVDF製のピストンであり、上部に円盤状の鍔部109と、鍔部109の中央下部より円柱状に突出して設けられたピストン軸110と、ピストン軸110の下端に設けられた雌ネジ部からなる第一接合部111を有する。ピストン軸110はバネ受け90の貫通孔106より小径に設けられており、第一接合部111は後記第一弁機構体93の第二接合部116と螺合により接合されている。
92はSUS製のバネであり、ピストン91の鍔部109下端面とバネ受け90の上端面とで挟持されている。ピストン91の上下動にともなってバネ92も伸縮するが、そのときの荷重の変化が少ないよう、自由長の長いものが好適に使用される。
93はPTFE製の第一弁機構体であり、外周縁部より上方に突出して設けられた筒状部112を有した膜部113と肉厚部を中央部に有する第一ダイヤフラム114と、第一ダイヤフラム114の中央上面より突出して設けられた軸部115の上端部に設けられた小径の雄ネジからなる第二接合部116、および同中央下面より突出して設けられ下端部に形成された雌ネジ部からなる後記第二弁機構体94の第四接合部121と螺合される第三接合部117を有する。第一ダイヤフラム114の筒状部112は、本体88とバネ受け90との間で挟持固定されることで、第一ダイヤフラム114下面より形成される第一の弁室118が密封して形成されている。また、第一ダイヤフラム114上面、ボンネット89の空隙102はO−リング108を介して密封されており、ボンネット89の給気孔104より供給される圧縮空気が充満している気室を形成している。
94はPTFE製の第二弁機構体であり、本体88の第二の空隙96内部に配設され連通孔100より大径に設けられた弁体119と、弁体119上端面から突出して設けられた軸部120と、その上端に設けられた第三接合部117と螺合により接合固定される雄ネジ部からなる第四接合部121と、弁体119下端面より突出して設けられたロッド122と、ロッド122下端面より径方向に延出して設けられ周縁部より下方に突出して設けられた筒状突部123を有する第二ダイヤフラム124とから構成されている。第二ダイヤフラム124の筒状突部123は後記ベースプレート95の突出部126と本体88との間で挟持されることにより、本体88の第二の空隙96と第二ダイヤフラム124とで形成される第二の弁室125を密閉している。
95はPVDF製のベースプレートであり、上部中央に第二弁機構体94の第二ダイヤフラム124の筒状突部123を本体88との間で挟持固定する突出部126を有し、突出部126の上端部に切欠凹部127が設けられると共に、側面に切欠凹部127に連通する呼吸孔128が設けられており、ボンネット89との間で本体88を通しボルト、ナット(図示せず)にて挟持固定している。なお、本実施例ではバネ90がボンネット89の空隙102内に設けてピストン91、第一弁機構体93、第二弁機構体94を上方へ付勢するような構成であるが、バネ90をベースプレート95の切欠凹部127に設けてピストン91、第一弁機構体93、第二弁機構体94を上方へ付勢するような構成にしても良い。第三の実施例のその他の構成は第一の実施例と同様なので説明を省略する。
次に、本発明の第三の実施例である流体モニタ装置の作動について説明する。
流体モニタ装置81の流体流入口82から流入した流体は圧力調整弁83に流入する。圧力調整弁83は電空変換器(図示せず)から一定の操作圧が供給され、流入した流体の圧力変動を圧力調整弁83の作動により一定にして流出される。
ここで、電空変換器から供給される操作圧に対する圧力調整弁83の作動について説明する(図9参照)。第二弁機構体94の弁体119は、ピストン91の鍔部109とバネ受け90とに挟持されているバネ92の反発力と、第一弁機構体93の第一ダイヤフラム114下面の流体圧力により上方に付勢する力が働き、第一ダイヤフラム114上面の操作圧の圧力により下方に付勢する力が働いている。さらに厳密には、弁体119下面と第二弁機構体94の第二ダイヤフラム124上面が流体圧力を受けているが、それらの受圧面積はほぼ同等とされているため力はほぼ相殺されている。したがって、第二弁機構体94の弁体119は、前述の3つの力が釣り合う位置にて静止していることとなる。
電空変換機から供給される操作圧力を増加させると第一ダイヤフラム114を押し下げる力が増加することにより、第二弁機構体94の弁体119と弁座101との間で形成される流体制御部129の開口面積が増加するため、第一の弁室118の圧力を増加させることができる。逆に、操作圧力を減少させると流体制御部129の開口面積は減少し圧力も減少する。そのため、操作圧力を調整することで任意の圧力に設定することができる。
この状態で、上流側の流体圧力が増加した場合、瞬間的に第一の弁室118内の圧力も増加する。すると、第一ダイヤフラム114の上面が操作圧による圧縮空気から受ける力より、第一ダイヤフラム114の下面が流体から受ける力のほうが大きくなり、第一ダイヤフラム114は上方へと移動する。それにともなって、弁体119の位置も上方へ移動するため、弁座101との間で形成される流体制御部129の開口面積が減少し、第一の弁室118内の圧力を減少させる。最終的に、弁体119の位置が前記3つの力が釣り合う位置まで移動し静止する。このときバネ92の荷重が大きく変わらなければ、空隙102内部の圧力、つまり、第一ダイヤフラム114上面が受ける力は一定であるため、第一ダイヤフラム114下面が受ける圧力はほぼ一定となる。したがって、第一ダイヤフラム114下面の流体圧力、すなわち、第一の弁室118内の圧力は、上流側の圧力が増加する前とほぼもとの圧力と同じになっている。
上流側の流体圧力が減少した場合、瞬間的に第一の弁室118内の圧力も減少する。すると、第一ダイヤフラム114の上面が操作圧による圧縮空気から受ける力より、第一ダイヤフラム114の下面が流体から受ける力のほうが小さくなり、第一ダイヤフラム114は下方へと移動する。それにともなって、弁体119の位置も下方へ移動するため、弁座101との間で形成される流体制御部129の開口面積が増加し、第一の弁室118の流体圧力を増加させる。最終的に、弁体119の位置が前記3つの力が釣り合う位置まで移動し静止する。したがって、上流側圧力が増加した場合と同様に、第一の弁室118内の流体圧力はほぼもとの圧力と同じになっている。
以上の作動により、流体モニタ装置81に流入する流体は、圧力調整弁83で一定圧力にされた後に、計測器84で流量を計測し、絞り弁85で流量を調節されて流体流出口86から流出される。このことから、圧力調整弁83によって一定の流体圧力されるため、流体モニタ装置81に流入する流体の上流側圧力が変動しても圧力調整弁83の作動により流量は自立的に一定に保たれるためポンプの脈動など瞬間的な圧力変動が発生しても、脈動の影響で計測値が読み取りにくくなるのを防止し、安定した流体のモニタリングを行なうことができる。
次に、図10に基づいて本発明の第四の実施例である流体モニタ装置について説明する。
130は流体モニタ装置である。流体モニタ装置130は、流体流入口131、開閉弁132、圧力調整弁133、計測器134、絞り弁135、流体流出口136、モニタ部137から形成されている。なお、本実施例では開閉弁132と圧力調整弁133の本体は同一のベースブロックに設けられている。第四の実施例のその他の構成および作動は実施例1乃至実施例3と同様なので説明を省略する。第四の実施例では、計測器134により流量の計測が行なわれるので、モニタを行なうと同時に絞り弁135により幅広い流量範囲での微細な流量調節ができ、開閉弁132により流体モニタ装置130のメンテナンス等を容易に行なうことができ、流体の緊急遮断を行なうことができる。
ここで、実施例1乃至実施例4において、隣り合う弁および計測器がチューブや接続管を用いずに直接接続されて設けられているため、流体モニタ装置をコンパクトにして設置場所のスペースを少なくすることができる。また、設置作業が容易になり作業時間が短縮することができ、流体モニタ装置内の流路を必要最小限に短くさせることができるので流体抵抗を抑えることができる。
次に、図11に基づいて本発明の第五の実施例の流体モニタ装置について説明する。
138は流体モニタ装置である。流体モニタ装置138は、流体流入口139、開閉弁140、圧力調整弁141、流量計測器142、絞り弁143、流体流出口144、モニタ部145から形成され、その各々の構成は以下の通りである。
146は流体モニタ装置138のベースブロックである。ベースブロック146は、開閉弁140、圧力調整弁141、計測器142、絞り弁143のそれぞれの本体が単一に形成されている。開閉弁140の本体としては、ベースブロック146の上部に弁室147と、弁室147と連通した入口流路148と出口流路149とが形成されており、入口流路148は流体流入口139に連通している。圧力調整弁141の本体としては、ベースブロック146の下部に底部まで開放して設けられた第二の空隙150と、上部に上面開放して設けられた第二の空隙150の径よりも大きい径を持つ第一の空隙151を有し、第二の空隙150と連通している入口流路152と、入口流路152と対向する方向に第一の空隙151と連通している出口流路153、さらに、第一の空隙151と第二の空隙150とを連通し第一の空隙151の径よりも小さい径を有する連通孔154とが設けられており、入口流路152は開閉弁140の出口流路149に連通している。計測器142としては、入口流路155と、入口流路155から垂設された直線流路156と、直線流路156から垂設され入口流路155と同一方向に平行して設けられた出口流路157とを有し、入口、出口流路155、157の側壁の直線流路156の軸線と交わる位置に、超音波振動子158、159が互いに対向して配置されており、入口流路155は圧力調整弁141の出口流路153に連通している。絞り弁143の本体としては、ベースブロック146の上部に略すり鉢形状の弁室160を有しており、弁室160の底面には弁座面161が形成され、弁座面161の中心に設けられた連通口162に連通する入口流路163と弁室160に連通する出口流路164を有している。弁室160の上方には隔膜押さえ165を受容する凹部166が設けられていて、その底面には環状凹部167が設けられており、入口流路163は計測器142の出口流路157に連通し、出口流路164は流体流出口144と連通している。第五の実施例のその他の構成は、本体が単一で形成されている以外は第四の実施例と同様なので説明を省略する。第五の実施例では、計測器142により流量の計測が行なわれるので、モニタを行なうと同時に絞り弁143により幅広い流量範囲での微細な流量調節ができ、開閉弁140により流体モニタ装置138のメンテナンス等を容易に行なうことができ、流体の緊急遮断を行なうことができる。
ここで第五の実施例は、第四の実施例の流体モニタ装置の弁および計測器が流路の形成された一つのベースブロックに配設されている構成であるが、第一の実施例乃至第三の実施例の流体モニタ装置の弁および計測器が流路の形成された一つのベースブロックに配設されている構成であっても良く、各実施例と同様の作動が行なわれる。このとき、流体モニタ装置が流路の形成された一つのベースブロックに配設されているため、流体モニタ装置をコンパクトにして設置場所のスペースを少なくすることができる。また、設置作業が容易になり作業時間が短縮でき、流体モニタ装置内の流路を必要最小限に短くさせることができるので流体抵抗を抑えることができ、さらに部品点数を少なくすることができるので流体モニタ装置の組み立てを容易にすることができる。
次に、図12に基づいて本発明の第六の実施例の流体モニタ装置について説明する。
168は流体モニタ装置である。流体モニタ装置168は、ケーシング169、流体流入口170、開閉弁171、圧力調整弁172、計測器173、絞り弁174、流体流出口175、モニタ部176から形成され、その各々の構成は以下の通りである。
169はPVDF製のケーシングである。ケーシング169内には、ケーシング169の底面に開閉弁171、圧力調整弁172、計測器173、絞り弁174がボルト、ナット(図示せず)にて固定されており、流体流入口170、開閉弁171、圧力調整弁172、計測器173、絞り弁174、流体流出口175の順で連続して接続された状態で設置されている。また、モニタ部176は計測器173の上方にケーシング169の上部に固定設置されており、表示部185はケーシング169を貫通して設置され、表示された計測値がケーシング169の外側から確認できるように設けられている。
173は流体の流量を計測する計測器である。計測器173は、入口流路177と、入口流路177から垂設された第一立上り流路178と、第一立上り流路178に連通し入口流路177軸線に略平行に設けられた直線流路179と、直線流路179から垂設された第二立上り流路180と、第二立上り流路180に連通し入口流路177軸線に略平行に設けられた出口流路181とを有し、第一、第二立上り流路178、180の側壁の直線流路179の軸線と交わる位置に、超音波振動子182、183が互いに対向して配置されている。超音波振動子182、183はフッ素樹脂で覆われており、該振動子182、183から伸びた配線はモニタ部176の演算部184に繋がっている。なお、計測器173の超音波振動子182、183以外はPFA製である。入口流路177は圧力調整弁172に連通し、出口流路181は絞り弁174に連通する。第六の実施例の弁および計測器の構成は、第四の実施例と同様なので説明を省略する。
流体モニタ装置に流入した流体は、開閉弁171と圧力調整弁172を通過して計測器173に流入する。計測器173に流入した流体は、直線流路179で流量が計測される。流体の流れに対して上流側に位置する超音波振動子182から下流側に位置する超音波振動子183に向かって超音波振動を伝播させる。超音波振動子183で受信された超音波振動は電気信号に変換され、モニタ部176の演算部184へ出力される。超音波振動が上流側の超音波振動子182から下流側の超音波振動子183へ伝播して受信されると、瞬時に演算部184内で送受信が切換えられて、下流側に位置する超音波振動子183から上流側に位置する超音波振動子182に向かって超音波振動を伝播させる。超音波振動子182で受信された超音波振動は、電気信号に変換され、モニタ部176内の演算部184へ出力される。このとき、超音波振動は直線流路179内の流体の流れに逆らって伝播していくので、上流側から下流側へ超音波振動を伝播させるときに比べて流体中での超音波振動の伝播速度が遅れ、伝播時間が長くなる。出力された相互の電気信号は演算部184内で伝播時間が各々計測され、伝播時間差から流量が演算される。演算部184で演算された流量は電気信号に変換されて表示部185に出力され、表示部185で計測値が表示される。第六の実施例のその他の部分の作動は、第四の実施例と同様であるので説明を省略する。計測器173である超音波流量計は、流体の流れ方向に対する伝播時間差から流量を計測するため微小流量でも正確に流量を計測でき、微小流量の流体のモニタに優れた効果を発揮する。
ここで第六の実施例は、第四の実施例の流体モニタ装置の弁および計測器が1つのケーシング169内に設置してなる構成であるが、第一の実施例乃至第三の実施例の流体モニタ装置の弁および計測器が1つのケーシング169内に設置してなる構成であっても良く、各実施例と同様の作動が行なわれる。このとき、1つのケーシング169内に設置されて流体モニタ装置168が一つのモジュールとなるため、設置が容易になり、設置作業の作業時間が短縮でき、各部品がケーシング169によって保護されると共に、流体モニタ装置168をブラックボックス化することで安易に流体モニタ装置168を分解させることを防ぎ、不慣れな利用者が流体モニタ装置を分解することにより不具合が生じることを防止することができる。
次に、図13に基づいて本発明の第七の実施例である流量計測器が超音波式渦流量計である場合の流体モニタ装置について説明する。
186は計測器である。計測器186は、入口流路187と、入口流路187内に垂設されたカルマン渦を発生させる渦発生体188と、出口流路189とを備える直線流路190を有し、直線流路190の渦発生体188の下流側の側壁に、超音波振動子191、192が流路軸線方向に直交する位置に互いに対向して配置されている。超音波振動子191、192はフッ素樹脂で覆われており、該振動子191、192から伸びた配線はモニタ部193の演算部に繋がっている。計測器186の超音波振動子191、192以外はPTFE製である。入口流路187は圧力調整弁196に連通し、出口流路189は絞り弁197に連通する。第七の実施例のその他の構成は第四の実施例と同様であるので説明を省略する。
次に、本発明の第七の実施例である流体モニタ装置の作動について説明する。
流体モニタ装置に流入した流体は、開閉弁198および圧力調整弁196を通過して計測器186に流入する。計測器186に流入した流体は、直線流路190で流量が計測される。直線流路190内を流れる流体に対して超音波振動子191から超音波振動子192に向かって超音波振動を伝播させる。渦発生体188の下流に発生するカルマン渦は、流体の流速に比例した周期で発生し、渦巻き方向が異なるカルマン渦が交互に発生するため、超音波振動はカルマン渦の渦巻き方向によってカルマン渦を通過する際に進行方向に加速、または減速される。そのため、超音波振動子192で受信される超音波振動は、カルマン渦によって周波数(周期)が変動する。超音波振動子191、192で送受信された超音波振動は、電気信号に変換され、モニタ部193の演算部194へ出力される。演算部194では、送信側の超音波振動子191から出力された超音波振動と受信側の超音波振動子192から出力された超音波振動との位相差から得られたカルマン渦の周波数に基づいて直線流路190を流れる流体の流量が演算される。演算部194で演算された流量は電気信号に変換されて表示部195に出力され、表示部195で計測値が表示される。第七の実施例のその他の部分の作動は、第四の実施例と同様であるので説明を省略する。
以上の作動により、超音波式渦流量計は、流量が大きいほどカルマン渦は多く発生するため大流量でも正確に流量を計測でき、大流量の流体のモニタに優れた効果を発揮する。
本発明の第一の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。 図1の絞り弁の拡大図である。 図2の絞り弁が開状態を示す要部拡大図である。 図2の絞り弁が閉状態を示す要部拡大図である。 図2の絞り弁が半開状態を示す要部拡大図である。 本発明の第二の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。 図6の開閉弁の拡大図である。 本発明の第三の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。 図8の圧力調整弁の拡大図である。 本発明の第四の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。 本発明の第五の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。 本発明の第六の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。 本発明の第七の実施例を示す流体モニタ装置の縦断面図である。 図13のA−A線に沿う断面図である。 従来の超音波流量計を示すブロック図である。
符号の説明
1 流体モニタ装置
2 流体流入口
3 計測器
4 絞り弁
5 流体流出口
6 モニタ部
59 流体モニタ装置
60 流体流入口
61 開閉弁
62 計測器
63 絞り弁
64 流体流出口
65 モニタ部
81 流体モニタ装置
82 流体流入口
83 圧力調整弁
84 計測器
85 絞り弁
86 流体流出口
87 モニタ部
130 流体モニタ装置
131 流体流入口
132 開閉弁
133 圧力調整弁
134 計測器
135 絞り弁
136 流体流出口
137 モニタ部
138 流体モニタ装置
139 流体流入口
140 開閉弁
141 圧力調整弁
142 計測器
143 絞り弁
144 流体流出口
145 モニタ部
146 ベースブロック
168 流体モニタ装置
169 ケーシング
170 流体流入口
171 開閉弁
172 圧力調整弁
173 計測器
174 絞り弁
175 流体流出口
176 モニタ部
186 計測器
193 モニタ部

Claims (9)

  1. 流体の特性を表すパラメータを計測する計測器(3)と、
    開口面積が調節可能な絞り弁(4)とを具備することを特徴とする流体モニタ装置。
  2. 前記流体の圧力変動を減衰させる圧力調整弁(83)をさらに具備することを特徴とする請求項1記載の流体モニタ装置。
  3. 前記流体の流れを開放又は遮断するための開閉弁(61)をさらに具備することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の流体モニタ装置。
  4. 前記弁(4、61、83)および前記計測器(3)が、独立した接続手段を用いずに直接接続されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の流体モニタ装置。
  5. 前記弁(4、61、83)および前記計測器(3)が、一つのベースブロック(146)に配設されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の流体モニタ装置。
  6. 前記弁(4、61、83)および前記計測器(3)が、1つのケーシング(169)内へ収納配設されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の流体モニタ装置。
  7. 前記パラメータが、流量と、圧力と、温度と、濃度と、流速と、の少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の流体モニタ装置。
  8. 前記絞り弁(4)が、
    上部に設けられた弁室(16)の底面に弁座面(15)が形成され、弁座面(15)の中心に設けられた連通口(17)に連通する入口流路(18)と弁室(16)に連通する出口流路(19)を有する本体(14)と、
    ステムの軸方向の進退移動により連通口(17)に挿入可能で接液面の中心から垂下突設された第一弁体(24)と弁座面(15)に接離可能にされ第一弁体(24)から径方向へ隔離した位置に形成された円環状凸条の第二弁体(25)と第二弁体(25)から径方向へ連続して形成された薄膜部(26)とが一体的に設けられた隔膜(23)と、
    上部にハンドル(45)が固着され下部内周面に雌ネジ部(41)と外周面に雌ネジ部(41)のピッチより大きいピッチを有する雄ネジ部(42)を有する第一ステム(40)と、
    内周面に第一ステム(40)の雄ネジ部(42)と螺合する雌ネジ部(48)を有する第一ステム支持体(47)と、
    上部外周面に第一ステム(40)の雌ネジ部(41)に螺合される雄ネジ部(33)を有し下端部に隔膜(23)が接続される第二ステム(32)と、
    第一ステム支持体(47)の下方に位置し第二ステム(32)を上下移動自在かつ回動不能に支承する隔膜押さえ(34)と、第一ステム(40)と隔膜押さえ(34)を固定するボンネット(51)とを具備することを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の流体モニタ装置。
  9. 前記圧力調整弁(83)が、
    下部中央に底部まで開放して設けられた第二の空隙(96)と第二の空隙(96)に連通する入口流路(98)と上部に上面が開放して設けられ第二の空隙(96)の径よりも大きい径を持つ第一の空隙(97)と第一の空隙(97)に連通する出口流路(99)と第一の空隙(97)と第二の空隙(96)とを連通し第一の空隙(97)の径よりも小さい径を有する連通孔(100)とを有し、第二の空隙(96)の上面が弁座(101)とされた本体(88)と、
    側面あるいは上面に設けられた給気孔(104)と排出孔(105)とに連通した円筒状の空隙(102)を内部に有し、下端内周面に段差部(103)が設けられたボンネット(89)と、
    ボンネット(89)の段差部(103)に嵌挿され中央部に貫通孔(106)を有するバネ受け(90)と、下端部にバネ受け(90)の貫通孔(106)より小径の第一接合部(111)を有し上部に鍔部(109)が設けられボンネット(89)の空隙(102)内部に上下動可能に嵌挿されたピストン(91)と、
    ピストン(91)の鍔部(109)下端面とバネ受け(90)の上端面で挟持支承されているバネ(92)と、
    周縁部が本体(88)とバネ受け(90)との間で挟持固定され、本体(88)の第一の空隙(97)に蓋する形で第一の弁室(118)を形成する中央部が肉厚とされた第一ダイヤフラム(114)と、上面中央にピストン(91)の第一接合部(111)にバネ受け(90)の貫通孔(106)を貫通して接合固定される第二接合部(116)と、下面中央に本体(88)の連通孔(100)と貫通して設けられた第三接合部(117)とを有する第一弁機構体(93)と、
    本体の第二の空隙(96)内部に位置し本体の連通孔(100)より大径に設けられた弁体(119)と、弁体(119)上端面に突出して設けられ第一弁機構体(93)の第三接合部(117)と接合固定される第四接合部(121)と、弁体(119)下端面より突出して設けられたロッド(122)と、ロッド(122)下端面より径方向に延出して設けられた第二ダイヤフラム(124)とを有する第二弁機構体(94)と、
    本体(88)の下方に位置し第二弁機構体(94)の第二ダイヤフラム(124)周縁部を本体(88)との間で挟持固定する突出部(126)を上部中央に有し、突出部(126)の上端部に切欠凹部(127)が設けられると共に切欠凹部(127)に連通する呼吸孔(128)が設けられているベースプレート(95)とを具備し、
    ピストン(91)の上下動に伴って第二弁機構体(94)の弁体(119)と本体(88)の弁座(101)とによって形成される流体制御部(129)の開口面積が変化するように構成されていることを特徴とする請求項2乃至請求項8のいずれか1項に記載の流体モニタ装置。
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