しかしながら、前記従来の純水流量の制御装置201は、流量調整弁202における純水の出力圧力とを均衡させることにより、流量調整弁202から出力される純水流量を一定に制御するようにしたものであるため、流量を微細にコントロールさせるには不向きであり、流量範囲も広くないため、幅広い流量範囲で流量をコントロールする用途には使いにくいという問題があった。また、構成要素が多く分かれているため、半導体製造装置内などに設置する際に、各構成要素の配管接続作業、電気配線やエア配管作業をそれぞれ行なわなくてはならず、作業が複雑で時間を要するとともに、配管や配線が煩わしくミスが起こる恐れがあるという問題があった。
また、前記従来の流量制御モジュール206は、流体制御装置に流入する流体が圧力変動周期の短い脈動した流れであった場合、制御弁208は脈動した流体に対して流量を制御しようと作動するが、ハンチングを起こし流量制御ができなくなる問題があり、このまま続けるとドライバ211や制御弁208が破損してしまうという問題があった。また、流量範囲も広くないため、幅広い流量範囲で流量をコントロールする用途には使いにくいという問題があった。
本発明は、以上のような従来技術の問題点に鑑みなされたものであり、流量を幅広い流量範囲で微細にコントロールすることができ、半導体製造装置内などへの設置、配管及び配線接続が容易であり、脈動した流体が流れても問題なく流量制御することができる流体制御装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するための本発明の流体制御装置の構成を図1に基づいて説明すると、制御用流体の圧力操作により流体の圧力を制御する流体制御弁5と、流体の流量を計測し該流量の計測値を電気信号に変換し出力する流量計測器4と、流量計測器4からの前記電気信号と設定流量との偏差に基づいて、前記流体制御弁5の開口面積を制御するための指令信号を、前記流体制御弁5または該流体制御弁を操作する機器103へ出力する制御部8と、開口面積が調節可能な絞り弁6と、を具備する流体制御装置であって、前記流体制御弁5と前記流量計測器4と前記制御部8と前記絞り弁6とが全て一つのケーシング2内へ収納配設されていることを第一の特徴とする。
なお、制御用流体とは、例えば空気、作動油等を言う。
また、前記流体の流れを開放又は遮断するための開閉弁107をさらに具備することを第二の特徴とする。
また、前記流体制御弁5が、下部中央に底部まで開放して設けられた第二の空隙24と第二の空隙24に連通する入口流路26と上部に上面が開放して設けられ第二の空隙24の径よりも大きい径を持つ第一の空隙25と第一の空隙25に連通する出口流路27と第一の空隙25と第二の空隙24とを連通し第一の空隙25の径よりも小さい径を有する連通孔28とを有し、第二の空隙24の上面が弁座29とされた本体16と、側面あるいは上面に設けられた給気孔32と排出孔33とに連通した円筒状の空隙30を内部に有し、下端内周面に段差部31が設けられたボンネット17と、ボンネット17の段差部31に嵌挿され中央部に貫通孔34を有するバネ受け18と、下端部にバネ受け18の貫通孔34より小径の第一接合部39を有し上部に鍔部37が設けられボンネット17の空隙30内部に上下動可能に嵌挿されたピストン19と、ピストン19の鍔部37下端面とバネ受け18の上端面で挟持支承されているバネ20と、周縁部が本体16とバネ受け18との間で挟持固定され、本体16の第一の空隙25に蓋する形で第一の弁室46を形成する中央部が肉厚とされた第一ダイヤフラム42と、上面中央にピストン19の第一接合部39にバネ受け18の貫通孔34を貫通して接合固定される第二接合部44と、下面中央に本体16の連通孔28と貫通して設けられた第三接合部45とを有する第一弁機構体21と、本体の第二の空隙24内部に位置し本体の連通孔28より大径に設けられた弁体47と、弁体47上端面に突出して設けられ第一弁機構体21の第三接合部45と接合固定される第四接合部49と、弁体47下端面より突出して設けられたロッド50と、ロッド50下端面より径方向に延出して設けられた第二ダイヤフラム52とを有する第二弁機構体22と、本体16の下方に位置し第二弁機構体22の第二ダイヤフラム52周縁部を本体16との間で挟持固定する突出部54を上部中央に有し、突出部54の上端部に切欠凹部55が設けられると共に切欠凹部55に連通する呼吸孔56が設けられているベースプレート23とを具備し、ピストン19の上下動に伴って第二弁機構体22の弁体47と本体16の弁座29とによって形成される流体制御部57の開口面積が変化するように構成されていることを第三の特徴とする。
なお、本制御弁の基本的構成は、特開2004−38571に開示されているものである。
また、前記絞り弁6が、上部に設けられた弁室60の底面に弁座面59が形成され、弁座面59の中心に設けられた連通口61に連通する第一流路62と弁室60に連通する第二流路63を有する本体58と、ステムの軸方向の進退移動により連通口61に挿入可能で接液面の中心から垂下突設された第一弁体68と弁座面59に接離可能にされ第一弁体68から径方向へ隔離した位置に形成された円環状凸条の第二弁体69と第二弁体69から径方向へ連続して形成された薄膜部70とが一体的に設けられた隔膜67と、上部にハンドル89が固着され下部内周面に雌ネジ部85と外周面に雌ネジ部85のピッチより大きいピッチを有する雄ネジ部86を有する第一ステム84と、内周面に第一ステム84の雄ネジ部86と螺合する雌ネジ部92を有する第一ステム支持体91と、上部外周面に第一ステム84の雌ネジ部85に螺合される雄ネジ部77を有し下端部に隔膜67が接続される第二ステム76と、第一ステム支持体91の下方に位置し第二ステム76を上下移動自在かつ回動不能に支承する隔膜押さえ78と、第一ステム84と隔膜押さえ78を固定するボンネット95とを具備することを第四の特徴とする。
なお、本制御弁の基本的構成は、特開2005−155878に開示されているものである。
また、前記流量計測器4が、超音波流量計または超音波渦流量計であることを第五の特徴とする。
本発明において流体制御弁5は、制御用流体の圧力操作により圧力制御ができるものであれば特に限定されるものではないが、図2に示すような本発明の流体制御弁5の構成を有しているものが好ましい。これは安定した流体制御を行なうことができ、脈動した流体が流れたとしても流体制御弁5によって圧力を一定圧に安定させることができ、流体制御弁5のみで流路の遮断を行うことができ、コンパクトな構成であり流体制御装置1を小さく設けることができるため好適である。
本発明において絞り弁6は、流路開度を可変調節すると共に流路を絞って流量を安定させる構成であれば特に限定されるものではないが、図3に示すような本発明の絞り弁6の構成を有しているものが好ましい。これは幅広い流量範囲で流量調節を行なうことができ、絞り弁6の微小な開度を容易に且つ精密に調整できるので開度の微調整を短時間で行なうことができると共に、コンパクトな構造であり流体制御装置1を小さく設けることができるため好適である。
また、図3において絞り弁6の第一ステム84の外周面に設けられた雄ネジ部86と下部内周面に設けられた雌ネジ部85のピッチ差は、雄ネジ部86のピッチの6分の1になるように形成されているが、ピッチ差は雄ねじピッチの20分の1から5分の1の範囲に設けるのが望ましい。弁体は全閉から全開までに一定範囲のリフト量を得るので、ハンドル89のストロークが大きくなり過ぎて弁高が大きくならないようするためにピッチ差を雄ねじピッチの20分の1より大きくすると良く、弁を細かいオーダーで精度の良い調節を行うためにピッチ差を雄ねじピッチの5分の1より小さくすると良い。
また、図4において第一弁体68の直線部74の外径D1は、連通口61の内径Dに対して0.97Dで設定されているが、直線部74の外径D1は連通口61の内径Dに対して0.95D≦D1≦0.995Dの範囲内であることが望ましい。第一弁体68と連通口61とを摺接させないためにD1≦0.995Dが良く、流量調節をスムースに行うために0.95D≦D1が良い。
また、第一弁体68のテーパ部75のテーパ角度は軸線に対して15°で設定されているが、12°〜28°の範囲内であることが望ましい。弁を大きくさせずに広い流量範囲を調節ずるために12°以上が良く、開度に対して流量を急激に変化させないために28°以下が良い。また、第二弁体69の円環状凸条の径D2は、連通口61の内径Dに対して1.5Dで設定されているが、第二弁体69の円環状凸条の径D2は、連通口61の内径Dに対して1.1D≦D2≦2Dの範囲内であることが望ましい。第一弁体68と第二弁体69の間には環状溝部72を確実に設け環状溝部72に流体の流れを抑制させる空間部分を得るためには1.1D≦D2が良く、開度に対して第二弁体69と弁座面59とで形成される開口面積の増加率を抑えるためにD2≦2Dが良い。
本発明において流量計測器4は、計測した流量を電気信号に変換して制御部8に出力されるものなら特に限定されないが、超音波流量計、超音波式渦流量計であることが好ましい。特に図1や図9に示すような超音波流量計の場合、微小流量に対して精度良く流量測定ができるため、微小流量の流体制御に好適である。また図10に示すような超音波式渦流量計の場合、大流量に対して精度良く流量測定ができるため、大流量の流体制御に好適である。このように、流体の流量に応じて超音波流量計と超音波式渦流量計を使い分けることで精度の良い流体制御を行うことができる。
本発明の流体制御装置104は、図7に示すような開閉弁107を設けても良い。これは、開閉弁107を設けることにより、開閉弁107を遮断することで流体制御装置104のメンテナンス、修理、部品交換(以下、メンテナンス等と記す)を容易に行なうことができるため好適である。また、流体制御装置104に開閉弁107を備えておけば、例えば流体制御装置104から離れた流路を遮断してメンテナンス等のために流体制御装置104を分解したときに、流路内に残った流体が分解した部分から漏れ出ることを最小限に抑えることができる、さらに流路内で何らかのトラブルが発生した際に、開閉弁107で流体の緊急遮断を行なうことができるので好適である。
また、開閉弁107は流体の流れを開放又は遮断する機能を有していれば、その構成は特に限定されるものでなく、手動によるものであっても良く、エア駆動、電気駆動、磁気駆動などの自動によるものであっても良い。自動の場合、制御回路を設けて流体制御装置104の流体制御弁109や流量計測器108とリンクさせ、流体制御弁109の状態や流量に応じて開閉弁107を駆動させるようにしても良く、流体制御装置104から独立して駆動させても良い。流体制御装置104とリンクさせて駆動させる場合、流体制御装置104内で一括制御を行なうことができるので好適である。流体制御装置104から独立して駆動させる場合、流体制御装置104にトラブルが発生した際に、開閉弁107で流路を緊急遮断させる場合に流体制御装置104のトラブルに影響せずに駆動を行うことができるため好適である。
また、開閉弁107の設置位置は、メンテナンス等を行うためには他の弁および流量計測器より上流側に設置することが望ましい。さらに開閉弁107を他の弁および流量計測器より下流側にも設けて他の弁および流量計測器を2つの開閉弁107で挟んだ構成にしても良い。このとき、2つの開閉弁107を閉止することで、メンテナンス等を行う特に流体の漏れが確実に防止されるために好適である。また、開閉弁107は流体流入口3や流体流出口7の外部すなわちケーシング2の壁の上流側や下流側に設けても良い。
本発明の流体制御装置1に、必要に応じて流入する流体の圧力変動を一定圧に調整して流出させる圧力調整弁を設けても良い。圧力制御弁は流体制御弁5と同じ構造のものを用いてもかまわない。
本発明の流体制御装置1は、1つのケーシング2内に設置してなる構成であることが好ましい。これは、1つのケーシング2内に設置してなることにより、流体制御装置1が一つのモジュールとなるため、設置が容易になり、設置作業の作業時間が短縮できるため好適である。また、ケーシング2によって各弁および流量計測器が保護されると共に、流体制御装置1をブラックボックス化することで、本発明のようなフィードバック制御を行なうために調整された流体制御装置1を半導体製造装置などに設置したときに、半導体製造装置の利用者が流体制御装置1を安易に分解することにより不具合が生じることを防止することができるため好適である。
さらに、本発明の流体制御装置1は、ケーシング2の外部に絞り弁6のハンドル部89が露出していても露出していなくてもかまわないが、露出していることが望ましい。操作者が手動等によりハンドル部89を操作することが、容易に可能となるからである。
本発明の流量計測器4、流体制御弁5、絞り弁6、開閉弁107の設置の順番は、どのような順番に設けても良く特に限定されないが、絞り弁6が流体制御弁5及び流量計測器4の下流側に位置することが望ましい。
また、本発明の流体制御装置は、流体の流量を任意の値で一定に制御させる必要のある用途であれば、いずれに使用しても良いが、半導体製造装置内へ配置されることが好適である。半導体製造工程の前工程では、フォトレジスト工程、パターン露光工程、エッチング工程や平坦化工程などが挙げられ、これらの洗浄水の濃度を、純水と薬液の流量比で管理する際に本発明の流体制御装置を用いることが好適である。
また、本発明の流量計測器4、流体制御弁5、絞り弁6、開閉弁107の各部品の材質は、樹脂製であれば塩化ビニル、ポリプロピレン(以下、PPと記す)、ポリエチレンなどいずれでも良いが、特に流体に腐食性流体を用いる場合はポリテトラフルオロエチレン(以下、PTFEと記す)、ポリビニリデンフルオロライド(以下、PVDFと記す)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂(以下、PFAと記す)などのフッ素樹脂であることが好ましく、フッ素樹脂製であれば腐食性流体に用いることができ、また腐食性ガスが透過しても各弁および流量計測器の腐食の心配がなくなるため好適である。
本発明は以上のような構造をしており、以下の優れた効果が得られる。
(1)流体制御装置に流入した流体は、流体制御弁で一定圧に制御された後に絞り弁で一定流量に調節されて流出され、さらに絞り弁の開度を変化させることにより流量を変化させて幅広い流量範囲で流量を制御することができる。
(2)開閉弁を設けることにより、開閉弁を閉状態にすることで流体制御装置のメンテナンス、修理、部品交換を、流体が漏れ出ることなく容易に行なうことができると共に、流路内で何らかのトラブルが発生した際に、開閉弁で流体の緊急遮断を行なうことができる。
(3)流体制御装置が1つのケーシング内に設置してなることにより、設置が容易になり、設置作業の作業時間が短縮でき、各弁および流量計測器がケーシングにより保護されると共に、フィードバック制御を行なうために調整された流体制御装置をブラックボックス化することで、安易に流体制御装置を分解させることを防ぎ、不慣れな利用者が流体制御装置を分解することにより不具合が生じることを防止することができる。
(4)本発明の構成の流体制御弁を用いることにより、安定した流体制御を行なうことができ、脈動した流体が流れたとしても流体制御弁によって圧力を一定圧に安定させることができ、流体制御弁のみで流路の遮断を行うことができ、コンパクトな構成であり流体制御装置を小さく設けることができる。
(5)本発明の構成の絞り弁を用いることにより、広い流量範囲で流量調節を行なうことができ、絞り弁の微小な開度を容易に且つ精密に調整できるので開度の微調整を短時間で行なうことができると共に、コンパクトな構造であるため流体制御装置を小さく設けることができる。
以下、図1乃至図6に基づいて本発明の第一の実施例である流体制御装置について説明する。
1は半導体製造のエッチング工程を行う半導体製造装置内に設置された流体制御装置である。流体制御装置1は、ケーシング2、流体流入口3、流量計測器4、流体制御弁5、絞り弁6、流体流出口7、制御部8から形成され、その各々の構成は以下の通りである。
2はPVDF製のケーシングである。ケーシング2内には、ケーシング2の底面に流量計測器4、流体制御弁5、絞り弁6がボルト、ナット(図示せず)にて固定されており、流体流入口3、流量計測器4、流体制御弁5、絞り弁6、流体流出口7の順で連続して接続された状態で設置されている。また、制御部8は流量計測器4の上方にケーシング2の上部に固定設置されている。
3はPFA製の流体流入口である。流体流入口3は後記流量計測器4の入口流路9に連通している。
4は流体の流量を計測する流量計測器である。流量計測器4は、流体流入口3に連通する入口流路9と、入口流路9から垂設された第一立上り流路10と、第一立上り流路10に連通し入口流路9軸線に略平行に設けられた直線流路11と、直線流路11から垂設された第二立上り流路12と、第二立上り流路12に連通し入口流路9軸線に略平行に設けられた出口流路13とを有し、第一、第二立上り流路10、12の側壁の直線流路11の軸線と交わる位置に、超音波振動子14、15が互いに対向して配置されている。超音波振動子14、15はフッ素樹脂で覆われており、該振動子14、15から伸びた配線は後記制御部8の演算部101に繋がっている。なお、流量計測器4の超音波振動子14、15以外はPFA製である。
5は制御用流体の圧力操作に応じて流体圧力を制御する流体制御弁である。流体制御弁5は本体16、ボンネット17、バネ受け18、ピストン19、バネ20、第一弁機構体21、第二弁機構体22、ベースプレート23で形成される。
16はPTFE製の本体であり、下部中央に底部まで開放して設けられた第二の空隙24と、上部に上面開放して設けられた第二の空隙24の径よりも大きい径を持つ第一の空隙25を有し、側面には第二の空隙24と連通している入口流路26と、入口流路26と対向する面に第一の空隙25と連通している出口流路27と、さらに、第一の空隙25と第二の空隙24とを連通し第一の空隙25の径よりも小さい径を有する連通孔28とが設けられている。第二の空隙24の上面部は弁座29とされている。また、入口流路26は前記流量計測器4の出口流路13に連通し、出口流路27は後記絞り弁6に連通している。
17はPVDF製のボンネットであり、内部に円筒状の空隙30と下端内周面に空隙30より拡径された段差部31が設けられ、側面には空隙30内部に圧縮された不活性ガスや空気を供給するために空隙30と外部とを連通する給気孔32および給気孔32より導入された不活性ガスや空気を微量に排出するための微孔の排出孔33が設けられている。なお、給気孔32と排出孔33は一つの孔で兼用してもかまわない。
18はPVDF製で平面円形状のバネ受けであり、中央部に貫通孔34を有し、略上半分がボンネット17の段差部31に嵌挿されている。バネ受け18の側面部には環状溝35が設けられ、O−リング36を装着することによりボンネット17から外部への不活性ガスや空気の流出を防いでいる。
19はPVDF製のピストンであり、上部に円盤状の鍔部37と、鍔部37の中央下部より円柱状に突出して設けられたピストン軸38と、ピストン軸38の下端に設けられた雌ネジ部からなる第一接合部39を有する。ピストン軸38はバネ受け18の貫通孔34より小径に設けられており、第一接合部39は後記第一弁機構体21の第二接合部44と螺合により接合されている。
20はSUS製のバネであり、ピストン19の鍔部37下端面とバネ受け18の上端面とで挟持されている。ピストン19の上下動にともなってバネ20も伸縮するが、そのときの荷重の変化が少ないよう、自由長の長いものが好適に使用される。
21はPTFE製の第一弁機構体であり、外周縁部より上方に突出して設けられた筒状部40を有した膜部41と肉厚部を中央部に有する第一ダイヤフラム42と、第一ダイヤフラム42の中央上面より突出して設けられた軸部43の上端部に設けられた小径の雄ネジからなる第二接合部44、および同中央下面より突出して設けられ下端部に形成された雌ネジ部からなる後記第二弁機構体22の第四接合部49と螺合される第三接合部45を有する。第一ダイヤフラム42の筒状部40は、本体16とバネ受け18との間で挟持固定されることで、第一ダイヤフラム42下面より形成される第一の弁室46が密封して形成されている。また、第一ダイヤフラム42上面、ボンネット17の空隙30はO−リング36を介して密封されており、ボンネット17の給気孔32より供給される圧縮された不活性ガスや空気が充満している気室を形成している。
22はPTFE製の第二弁機構体であり、本体16の第二の空隙24内部に配設され連通孔28より大径に設けられた弁体47と、弁体47上端面から突出して設けられた軸部48と、その上端に設けられた第三接合部45と螺合により接合固定される雄ネジ部からなる第四接合部49と、弁体47下端面より突出して設けられたロッド50と、ロッド50下端面より径方向に延出して設けられ周縁部より下方に突出して設けられた筒状突部51を有する第二ダイヤフラム52とから構成されている。第二ダイヤフラム52の筒状突部51は後記ベースプレート23の突出部54と本体16との間で挟持されることにより、本体16の第二の空隙24と第二ダイヤフラム52とで形成される第二の弁室53を密閉している。
23はPVDF製のベースプレートであり、上部中央に第二弁機構体22の第二ダイヤフラム52の筒状突部51を本体16との間で挟持固定する突出部54を有し、突出部54の上端部に切欠凹部55が設けられると共に、側面に切欠凹部55に連通する呼吸孔56が設けられており、ボンネット17との間で本体16を通しボルト、ナット(図示せず)にて挟持固定している。
6は開口面積が調節可能な絞り弁である。絞り弁は本体58、隔膜67、第二ステム76、隔膜押さえ78、第一ステム84、第一ステム支持体91、ボンネット95で形成される。
58はPTFE製の本体である。本体58の上部に後記隔膜67とで形成される略すり鉢形状の弁室60を有しており、弁室60の底面には後記第二弁体69の圧接によって流路の全閉シールを行う弁座面59が形成され、弁座面59の中心に設けられた連通口61に連通する第一流路62と弁室60に連通する第二流路63を有している。弁室60の上方には後記隔膜押さえ78の嵌合部80を受容する凹部65が設けられていて、その底面には後記隔膜67の環状係止部71が嵌合する環状凹部64が設けられている。また本体58の上部外周面には、後記ボンネット95が螺着される雄ネジ部66が設けられている。
67はPTFE製の隔膜であり、隔膜67の下部に接液面の中心から垂下突設された第一弁体68と、第一弁体68から径方向へ隔離した位置に形成された先端が断面円弧状の円環状凸条の第二弁体69と、第二弁体69から径方向へ連続して形成された薄膜部70と、薄膜部70の外周に断面矩形状の環状係止部71と、隔膜67の上部に後記第二ステム76の下端部に接続される接続部73が一体的に設けられている。第一弁体68は、下方に向かって直線部74とテーパ部75とが連続して設けられており、第一弁体68と第二弁体69の間には環状溝部72が形成されている。環状溝部72は、その空間部で流体の流れを抑制させるために、全閉時に環状溝部72と弁座面59とで形成される空間部分の体積が、全閉時に第一弁体68の直線部74と連通口61とで形成される空間部分の体積の2倍以上に設定される。また、第一弁体68の直線部74の外径D1は、連通口61の内径Dに対して0.97Dで設定され、第一弁体68のテーパ部75のテーパ角度は軸線に対して15°で設定され、第二弁体69の円環状凸条の径D2は、連通口61の内径Dに対して1.5Dで設定されている。隔膜67は、環状係止部71を本体58の環状凹部64に嵌合された状態で本体58と後記隔膜押さえ78とで挟持固定される。
76はPP製の第二ステムである。第二ステム76の上部外周面には後記第一ステム84の雌ネジ部85に螺合される雄ネジ部77が設けられ、下部外周は六角形状に形成され、下端部には隔膜67の接続部73が螺着により接続されている。
78はPP製の隔膜押さえである。隔膜押さえ78の上部には外周が六角形状の挿入部79が、下部には外周が六角形状の嵌合部80がそれぞれ設けられており、中央部外周には鍔部81が設けられている。隔膜押さえ78の内周には六角形状の貫通孔82が設けられ、下端面から貫通孔82に向かって縮径するテーパ部83が設けられている。挿入部79は後記第一ステム支持体91の中空部93に回動不能に嵌合され、嵌合部80は本体58の凹部65に回動不能に嵌合される。貫通孔82には第二ステム76を挿通させ、第二ステム76を上下移動自在かつ回動不能に支承している。
84はPP製の第一ステムである。第一ステム84の下部内周面には第二ステム76の雄ネジ部77が螺合するピッチが1.25mmの雌ネジ部85と、外周面にはピッチが1.5mmの雄ネジ部86が設けられており、雄ネジ部86と雌ネジ部85のピッチ差は0.25mmであり、雄ネジ部86のピッチの6分の1になるように形成されている。第一ステム84の下部外周には径方向に突出して設けられたストッパー部87が設けられ、上部には後記把持部90を有するハンドル89が固着されている。
91はPP製の第一ステム支持体である。第一ステム支持体91の上部内周面には第一ステム84の雄ネジ部86に螺合される雌ネジ部92が設けられており、下部内周には後記隔膜押さえ78の挿入部79を回動不能に嵌合する六角形状の中空部93が設けられており、下部外周には後記ボンネット95によって固定される鍔部94が設けられている。
95はPP製のボンネットである。ボンネット95の上部には第一ステム支持体91の鍔部94の外径より小さい内径を有する係止部96が設けられ、下部内周面には本体58の雄ネジ部66に螺着される雌ネジ部97が設けられている。ボンネット95は、第一ステム支持体91の鍔部94と隔膜押さえ78の鍔部81を、係止部96と本体58の間で挟持した状態で本体58に螺着していることで各部品を固定することができる。
7はPFA製の流体流出口である。
8は制御部である。制御部8は前記流量計測器4から出力された信号から流量を演算する演算部101と、フィードバック制御を行なうコントロール部102を有している。演算部101には、送信側の超音波振動子14に一定周期の超音波振動を出力する発信回路と、受信側の超音波振動子15からの超音波振動を受信する受信回路と、各超音波振動の伝播時間を比較する比較回路と、比較回路から出力された伝播時間差から流量を演算する演算回路とを備えている。コントロール部102には、演算部101から出力された流量に対して設定された流量になるように後記電空変換器103における制御用流体の圧力操作を制御する制御回路を有している。
103は不活性ガスや空気等の制御用流体の操作圧を調整する電空変換器である。電空変換器103は操作圧を比例的に調整するために電気的に駆動する電磁弁から構成され、前記制御部8からの制御信号に応じて流体制御弁5の操作圧を調整する。
次に、本発明の第一の実施例である流体制御装置の作動について説明する。
流体制御装置1の流体流入口3から流入した流体は、まず流量計測器4に流入する。流量計測器4に流入した流体は、直線流路11で流量が計測される。流体の流れに対して上流側に位置する超音波振動子14から下流側に位置する超音波振動子15に向かって超音波振動を伝播させる。超音波振動子15で受信された超音波振動は電気信号に変換され、制御部8の演算部101へ出力される。超音波振動が上流側の超音波振動子14から下流側の超音波振動子15へ伝播して受信されると、瞬時に演算部101内で送受信が切換えられて、下流側に位置する超音波振動子15から上流側に位置する超音波振動子14に向かって超音波振動を伝播させる。超音波振動子14で受信された超音波振動は、電気信号に変換され、制御部8内の演算部101へ出力される。このとき、超音波振動は直線流路11内の流体の流れに逆らって伝播していくので、上流側から下流側へ超音波振動を伝播させるときに比べて流体中での超音波振動の伝播速度が遅れ、伝播時間が長くなる。出力された相互の電気信号は演算部101内で伝播時間が各々計測され、伝播時間差から流量が演算される。演算部101で演算された流量は電気信号に変換されてコントロール部102に出力される。
次に流量計測器4を通過した流体は流体制御弁5に流入する。制御部8のコントロール部102では、任意の設定流量に対して、リアルタイムに計測された流量との偏差から、偏差をゼロにするように信号を電空変換器103に出力し、電空変換器103はそれに応じた操作圧を流体制御弁5に供給し駆動させる。流体制御弁5から流出する流体の流量は、流体制御弁5で調圧された圧力と、流体制御弁5以降の圧力損失との関係で決定されており、調圧された圧力が高いほど流量は大きくなり、逆に圧力が低いほど流量は小さくなる。このため流体は、流量を設定流量で一定値となるように、つまり設定流量と計測された流量の偏差がゼロに収束されるように流体制御弁5で制御される。
ここで、電空変換器103から供給される操作圧に対する流体制御弁5の作動について説明する(図2参照)。第二弁機構体22の弁体47は、ピストン19の鍔部37とバネ受け18とに挟持されているバネ20の反発力と、第一弁機構体21の第一ダイヤフラム42下面の流体圧力により上方に付勢する力が働き、第一ダイヤフラム42上面の操作圧の圧力により下方に付勢する力が働いている。さらに厳密には、弁体47下面と第二弁機構体22の第二ダイヤフラム52上面が流体圧力を受けているが、それらの受圧面積はほぼ同等とされているため力はほぼ相殺されている。したがって、第二弁機構体22の弁体47は、前述の3つの力が釣り合う位置にて静止していることとなる。
電空変換機103から供給される制御用流体の操作圧力を増加させると第一ダイヤフラム42を押し下げる力が増加することにより、第二弁機構体22の弁体47と弁座29との間で形成される流体制御部57の開口面積が増加するため、第一の弁室46の圧力を増加させることができる。逆に、操作圧力を減少させると流体制御部57の開口面積は減少し圧力も減少する。そのため、操作圧力を調整することで任意の圧力に設定することができる。
この状態で、上流側の流体圧力が増加した場合、瞬間的に第一の弁室46内の圧力も増加する。すると、第一ダイヤフラム42の上面が操作圧による圧縮空気から受ける力より、第一ダイヤフラム42の下面が流体から受ける力のほうが大きくなり、第一ダイヤフラム42は上方へと移動する。それにともなって、弁体47の位置も上方へ移動するため、弁座29との間で形成される流体制御部57の開口面積が減少し、第一の弁室46内の圧力を減少させる。最終的に、弁体47の位置が前記3つの力が釣り合う位置まで移動し静止する。このときバネ20の荷重が大きく変わらなければ、空隙30内部の圧力、つまり、第一ダイヤフラム42上面が受ける力は一定であるため、第一ダイヤフラム42下面が受ける圧力はほぼ一定となる。したがって、第一ダイヤフラム42下面の流体圧力、すなわち、第一の弁室46内の圧力は、上流側の圧力が増加する前とほぼもとの圧力と同じになっている。
上流側の流体圧力が減少した場合、瞬間的に第一の弁室46内の圧力も減少する。すると、第一ダイヤフラム42の上面が操作圧による圧縮空気から受ける力より、第一ダイヤフラム42の下面が流体から受ける力のほうが小さくなり、第一ダイヤフラム42は下方へと移動する。それにともなって、弁体47の位置も下方へ移動するため、弁座29との間で形成される流体制御部57の開口面積が増加し、第一の弁室46の流体圧力を増加させる。最終的に、弁体47の位置が前記3つの力が釣り合う位置まで移動し静止する。したがって、上流側圧力が増加した場合と同様に、第一の弁室46内の流体圧力はほぼもとの圧力と同じになっている。
このことから、流入された流体は流体制御弁5によって一定の流体圧力に制御される。さらに、流体制御装置1に流入する流体の上流側圧力が変動しても流体制御弁5の作動により流量は自立的に一定に保たれるためポンプの脈動など瞬間的な圧力変動が発生しても安定して流量を制御することができる。
次に流体制御弁5を通過した流体は絞り弁6に流入する。流体制御弁5で一定圧に制御された流体は、絞り弁6で精密に開口面積が調製された連通口61によって、一定流量に調節されて流出される。絞り弁6の開度を変化させることにより、流量を変化させることができ、流体制御装置1を幅広い流量範囲で流量を制御することができる。また、絞り弁6は微小な開度の調整を容易に行なうことができる構成であるため、開度の微調整を精密且つ短時間で行なうことができる。
ここで絞り弁6が微小な開度の調整を行なう作動について説明する。まず、本実施例の絞り弁6が全閉状態(図5の状態)において、第一流路から流入してきた流体は、弁座面59に圧接された第二弁体69によって閉止される。
ハンドル89を弁が開放する方向に回動させると、ハンドル89の回動に伴なって第一ステム84が外周面の雄ネジ部86のピッチ分だけ上昇し、逆に第一ステム84の内周面の雌ネジ部85に螺合された第二ステム76は第一ステム84の雌ネジ部85のピッチ分だけ下降する。ただし、第二ステム76は回動不能の状態で隔膜押さえ78の貫通孔82に収容されており上下方向のみに移動可能であるため、第二ステム76は本体58に対して第一ステム84外周面の雄ネジ部86と内周面の雌ネジ部85のピッチ差分、本実施例では第一ステム84の雄ネジ部86のピッチが1.5mm、第一ステム84の雌ネジ部85のピッチが1.25mmにしているので、第一ステム84に連動したハンドル89を1回転させることによって第二ステム76は0.25mm(雄ネジ部86のピッチの6分の1)上昇する。これに伴って、第二ステム76と接続された隔膜67が上昇することで最初に本体58の弁座面59に圧接されていた第二弁体69が弁座面59から離間し、第一弁体68は隔膜の上昇に伴なって上昇し、絞り弁6が半開状態となる(図6の状態)。流体は第一流路62から弁室60へと流れ込み、第二流路63を通過して排出される。
次に上記流量調節弁が半開状態(図6の状態)から、さらにハンドル89を開方向に回動させると第一ステム84の下部外周のストッパー部87が第一ステム支持体91の天井面100に圧接して回動は停止される。ハンドル89、第一ステム84および第二ステム76の回動と連動して隔膜67が上昇し、第一弁体68と第二弁体69は隔膜67の上昇に伴なって上昇し、弁は全開状態となる(図3、図4の状態)。なお、第一弁体68は、全開状態でも連通口61から抜けることはないので、絞り弁6は全閉から全開まで流量調節が行われる。
上記作用において、流量調節弁が全閉から全開に至るまで、開度によって第一弁体68と連通口61とで形成される第一流量調節部98の開口面積S1と、第二弁体69と弁座面59とで形成される第二流量調節部99の開口面積S2は変化するが、S1とS2の大小関係によって流量を調節する作用がそれぞれ異なる。以下に流量調節弁の開度の全閉から全開に至るまでのS1とS2の関係と流量の調節の仕組みを図4乃至図6に基づいて説明する。
S1>S2の場合、流量調節弁の開度は全閉から微開の時であり、流量は第二流量調節部99によって、つまりS2の大小によって調節される。S1>S2の範囲内では、第一流量調節部98は、第一弁体68の直線部74と連通口61で流量を一定に調節することができ、流体は第一流量調節部98によって流量を一定にされた後、第二流量調節部99に至る前にまず環状溝部72により形成される空間部分に流れ込む。流体は環状溝部72の底面に当たり、径方向へ広がって第二弁体69の内周面に当たり、さらに流れの向きを変えて第二流量調節部99に至るため、空間部分で流体の流れが一旦停滞される。そのため流体は、空間部分で流れが抑制されて急激な流量の増加を抑えることができ、第二流量調節部99で十分制御可能な流れで第二流量調節部99に至り、第二流量調節部99で精度良く流量が調節されるため、流量調節弁が微開時の微小流量の調節が可能となる。このとき、第二弁体69の円環状凸条の径D2は、連通口61の内径Dに対して1.1D≦D2≦2Dの範囲内で設けられているため、流量の増加を抑制するのに効果的な環状溝部72を第一弁体68と第二弁体69の間に形成することができ、環状溝部72により形成される空間部分で第一流量調節部98からの流体の流れを抑制することができる。
S1=S2の場合、第一流量調節部98の開口面積S1と第二流量調節部99の開口面積S2が同一となり、この時点を境に流量を調節する部分が第二流量調節部99から第一流量調節部98へと切り替わる。つまりS1の大小によって流量は調節される。
S1<S2の場合、流量調節弁の開度は微開から大きくして全開に至るまでであり、第二流量調節部99では細かい流量調節が困難となり、第一流量調節部98によって、つまりS1の大小によって調節される。S1<S2の範囲内では、第一流量調節部98は第一弁体68のテーパ部75と連通口61で流量を調節しており、第一弁体68のテーパ部75は、流量調節弁の開度に対して開口面積S1が比例して増加するように設定されているため、流量調節弁の開度を大きくするにつれて流量は線形に比例して増加するように調節することができる。
このことから、本発明の流量調節弁は、開度が微小なときには第二流量調節部99によって流量調節を行い、開度を大きくすると第二流量調節部99から第一流量調節部98に切り替わって流量調節を行うので、全閉から全開に至るまで開度に対して流量が良好な比例関係を得ることができ、微小な流量から大きな流量まで確実な流量の調節が可能となり、幅広い流量範囲で流量調節を行うことができる。
次に、流量調節弁が全開状態からハンドル89を逆に閉方向に回動させた場合は、開方向に回動させた場合とは逆の作動で弁体が降下し、流量調節弁の開度に応じて流量調節が行われる。ハンドル89を閉方向に回動させて全閉状態にした時には第二弁体69と弁座面59とが線接触によって確実な全閉シールを行うことができる。なお、第一ステム84の下部外周のストッパー部87が隔膜押さえ78の挿入部79の上端面に接触することで回動を停止させる構造にしても良く、この場合、全閉シール時に弁座面59や第二弁体69に過剰な負荷がかかるのを防ぐことができる。
さらに流量調節弁が全閉状態のとき、第一弁体68は常に連通口61とは非接触であるため、流量調節弁の長期的な使用により、弁体や弁座面59が摩耗などによって変形することがなく、長期間の使用によって流量調節特性が安定できなくなることを防止するとともに、摺動時のパーティクルの発生を抑制することができる。
以上の作動により、流体制御装置1の流体流入口3に流入する流体は、流量計測器4、流体制御弁5、絞り弁6によって、フィードバック制御されると共に流量の微調整が行なわれることにより設定流量になるように微細に調節され、流量が一定になるように制御され、流体流出口7から流出される。また、絞り弁6の開度を変化させることで幅広い流量範囲で流量をコントロールすることができる。さらに、1つのケーシング2内に設置されて流体制御装置1が一つのモジュールとなるため、設置が容易になり、設置作業の作業時間が短縮でき、各部品がケーシング2によって保護されると共に、流体制御装置1をブラックボックス化することで安易に流体制御装置1を分解させることを防ぎ、不慣れな利用者が流体制御装置を分解することにより不具合が生じることを防止することができる。
次に、図7、図8に基づいて本発明の第二の実施例である流体制御装置について説明する。
104は流体制御装置である。流体制御装置104は、ケーシング105、流体流入口106、開閉弁107、流量計測器108、流体制御弁109、絞り弁110、流体流出口111、制御部112から形成され、その各々の構成は以下の通りである。
107は開閉弁である。開閉弁107は弁本体113、駆動部114、ピストン115、ダイヤフラム押さえ116、弁体117で形成される。
113は弁本体であり、軸線方向上端の中央に弁室118と、弁室118と連通した入口流路119と出口流路120とを有している。また、弁本体113の上面における弁室118の外側には環状溝121が設けられている。
114は駆動部であり、内部に円筒状のシリンダ部122が設けられ、前記弁本体113の上部にボルト・ナットで固定されている。駆動部114の側面にはシリンダ部122の上側及び下側にそれぞれ連通された一対の作動流体供給口123、124が設けられている。
115はピストンであり、駆動部114のシリンダ部122内に密封状態且つ軸線方向に上下動自在に嵌挿されており、底面中央にロッド部125が垂下して設けられている。
116はダイヤフラム押さえであり、中央部にピストン115のロッド部125が貫通する貫通孔126を有しており、弁本体113と駆動部114の間に挟持されている。
117は弁室118に収容されている弁体であり、ダイヤフラム押さえ116の貫通孔126を貫通し且つダイヤフラム押さえ116の下面から突出した前記ピストン115のロッド部125の先端に螺着されており、ピストン115の上下動に合わせて軸線方向に上下するようになっている。弁体117は外周にダイヤフラム127を有しており、ダイヤフラム127の外周縁は弁本体113の環状溝121内に嵌挿されており、ダイヤフラム押さえ116と弁本体113との間に挟持さている。第二の実施例のその他の構成は第一の実施例と同様なので説明を省略する。
次に、本発明の第二の実施例である流体制御装置の作動について説明する。
流体制御装置104の流体流入口106から流入した流体は、まず開閉弁107に流入する。開閉弁107が開状態の場合、流体は開閉弁107を通過して流量計測器108に流入する。流量計測器108、流体制御弁109、絞り弁110、制御部112の作動は第一の実施例と同様なので説明を省略する。開閉弁107が閉状態の場合、流体は開閉弁107で遮断され、流体は開閉弁107から下流には流れなくなる。これにより、流体制御装置104内の流量計測器108、流体制御弁109、絞り弁110、制御部112のメンテナンス等を行なうことができる。また、流路内で何らかのトラブルが発生した際に、開閉弁107を閉状態にすることで流体の緊急遮断することができ、例えば腐食性流体が漏れ出ることで半導体製造装置内の部品を腐食させるなどの二次災害を防止することができる。
ここで、開閉弁107の作動を説明する。作動流体供給口124から外部より作動流体として圧縮空気が注入されると、圧縮空気の圧力でピストン115が押し上げられるためこれと接合されているロッド部125は上方へ引き上げられ、ロッド部125の下端部に接合された弁体117も上方へ引き上げられ弁は開状態となる。
一方、作動流体供給口123から圧縮空気が注入されると、ピストン115が押し下げられるのにともなって、ロッド部125とその下端部に接合された弁体117も下方へ押し下げられ、弁は閉状態となる。
以上の作動により、流体制御装置104の流体流入口106に流入する流体は、フィードバック制御されると共に流量の微調整が行なわれることにより設定流量になるように微細に調節され、流量が一定になるように制御され、流体流出口111から流出される。さらに、開閉弁107を閉状態にすることにより、流体制御装置104のメンテナンス等を容易に行なうことができ、また流体の緊急遮断を行なうことが可能である。