JP2007049057A - ステージ装置及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ステージ装置の制御精度を向上させ、振動を効果的に抑制することができるステージ装置、及びこのステージ装置を備える露光装置を提供する。
【解決手段】 レチクルステージ装置10は、レチクルステージ定盤11上をY方向に移動可能なレチクルステージRSTと、レチクルステージRSTのY方向への移動に応じてレチクルステージRSTとは反対方向に移動するカウンタマスとを備える。カウンタマス12の四隅の底面には気体を用いてカウンタマス12を支持する自重キャンセラ34が設けられている。停電等の異常時には自重キャンセラ34に供給された気体が緩やかに排気されるよう調整される。
【選択図】 図2
【解決手段】 レチクルステージ装置10は、レチクルステージ定盤11上をY方向に移動可能なレチクルステージRSTと、レチクルステージRSTのY方向への移動に応じてレチクルステージRSTとは反対方向に移動するカウンタマスとを備える。カウンタマス12の四隅の底面には気体を用いてカウンタマス12を支持する自重キャンセラ34が設けられている。停電等の異常時には自重キャンセラ34に供給された気体が緩やかに排気されるよう調整される。
【選択図】 図2
Description
本発明は、物体を載置して移動可能に構成されたステージ装置、及び当該ステージ装置を備える露光装置に関する。
半導体素子、液晶表示素子、撮像装置(CCD(Charge Coupled Device:電荷結合素子)等)、薄膜磁気ヘッド等のデバイスの製造工程の一つであるリソグラフィ工程においては、マスクとしてのレチクルのパターンを、投影光学系を介して基板としてのフォトレジストが塗布されたウェハ(又はガラスプレート等)上に転写露光するために、露光装置が使用されている。
この露光装置としては、マスクを保持するマスクステージと基板を保持する基板ステージとを所定の位置関係に位置決めした状態で露光を行うステッパー等の一括露光型(静止露光型)の投影露光装置、又はマスクステージと基板ステージとを相対的に同期移動(走査)させながら露光を行うスキャニングステッパー等の走査露光型の投影露光装置(走査型露光装置)等が使用されている。近年においては、露光領域の拡大に伴ってスキャニングステッパーが多く用いられてきている。
以下の特許文献1には、案内面上を移動可能に構成された第1部分と、第1部分上に配置された第2部分とを備え、ローレンツ力モータ及びガス圧を利用した支持ユニットによって第1部分上において第2部分を支持する基板ステージが開示されている。
特開2004−311459号公報
ところで、近年、特に半導体素子の製造においては、スループット(単位時間に露光処理することができる基板の枚数)の向上が望まれており、この要望に応えるためにマスクステージ及び基板ステージの最高速度及び最高加速度が引き上げられている。これらの高速化・高加速度化に伴って、基板ステージには極めて高い制御精度が求められるようになっている。また、ステージの高速化・高加速度化に伴って振動の影響が大きくなっており、振動を大幅に抑制する必要が生じてきた。
また、ローレンツ力モータとガス圧を利用した支持ユニットとを用いてステージを支持する従来の構成においては、支持ユニットの支持力に誤差が生じていると、その誤差分をローレンツ力モータによって補償する必要がある。支持ユニットの支持力の誤差が大きいと、その誤差を補うだけの推力を発生するローレンツ力モータが必要になるため大型化してしまう。また、ローレンツ力モータの推力が大きくなると発熱量が多くなるため、この発熱によって露光精度(解像度、転写忠実度、重ね合わせ精度、線幅誤差等)が悪化する虞もある。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、ステージ装置の制御精度を向上させ、振動を効果的に抑制することができるステージ装置、及び当該ステージ装置上の基板にマスクのパターンを露光精度の悪化を招かずに転写することができる露光装置を提供することを目的とする。
本発明は、実施の形態に示す各図に対応付けした以下の構成を採用している。但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。
上記課題を解決するために、本発明の第1の観点によるステージ装置は、ベース(11)の移動面を少なくとも一軸方向に移動可能なステージ(RST)と、前記ステージの前記一軸方向への移動に応じて前記ステージとは反対方向に移動するカウンタマス(12)と、気体を供給する供給部と、前記気体を排気する排気部とを備え、前記気体を用いて前記カウンタマスを支持する支持機構(64、64)と、前記排気部の排気量を調整する調整装置(66、67a、67b)とを備えたことを特徴としている。
この発明によると、ステージの移動に応じてステージとは反対方向に移動するカウンタマスを支持する支持機構の排気量が調整装置によって制御される。
上記課題を解決するために、本発明の第2の観点によるステージ装置は、ベース(11)の移動面を少なくとも一軸方向に移動可能なステージ(RST)と、前記ステージの前記一軸方向への移動に応じて前記ステージとは反対方向に移動するカウンタマス(12)と、気体を供給する供給部と、前記気体を排気する排気部とを備え、前記気体を用いた支持力により前記カウンタマスを前記移動面と交差する方向に支持する支持機構(34)と、前記カウンタマスを前記移動面と交差する方向に駆動するアクチュエータ(41a〜41d)と、前記アクチュエータに与える推力の少なくとも一部を前記支持機構の前記支持力に置換する制御装置(70)とを備えることを特徴としている。
この発明によると、カウンタマスを移動面と交差する方向に駆動するアクチュエータの推力の少なくとも一部が支持機構の支持力に置換され、この支持機構の支持力によりステージの移動に応じてステージとは反対方向に移動するカウンタマスが支持される。
上記課題を解決するために、本発明の露光装置は、マスク(R)に形成されたパターンを基板(W)に転写する露光装置(EX)において、前記マスクを保持するステージ及び前記基板を保持するステージの少なくとも一方として上記の何れかに記載のステージ装置を備えることを特徴としている。
上記課題を解決するために、本発明の第1の観点によるステージ装置は、ベース(11)の移動面を少なくとも一軸方向に移動可能なステージ(RST)と、前記ステージの前記一軸方向への移動に応じて前記ステージとは反対方向に移動するカウンタマス(12)と、気体を供給する供給部と、前記気体を排気する排気部とを備え、前記気体を用いて前記カウンタマスを支持する支持機構(64、64)と、前記排気部の排気量を調整する調整装置(66、67a、67b)とを備えたことを特徴としている。
この発明によると、ステージの移動に応じてステージとは反対方向に移動するカウンタマスを支持する支持機構の排気量が調整装置によって制御される。
上記課題を解決するために、本発明の第2の観点によるステージ装置は、ベース(11)の移動面を少なくとも一軸方向に移動可能なステージ(RST)と、前記ステージの前記一軸方向への移動に応じて前記ステージとは反対方向に移動するカウンタマス(12)と、気体を供給する供給部と、前記気体を排気する排気部とを備え、前記気体を用いた支持力により前記カウンタマスを前記移動面と交差する方向に支持する支持機構(34)と、前記カウンタマスを前記移動面と交差する方向に駆動するアクチュエータ(41a〜41d)と、前記アクチュエータに与える推力の少なくとも一部を前記支持機構の前記支持力に置換する制御装置(70)とを備えることを特徴としている。
この発明によると、カウンタマスを移動面と交差する方向に駆動するアクチュエータの推力の少なくとも一部が支持機構の支持力に置換され、この支持機構の支持力によりステージの移動に応じてステージとは反対方向に移動するカウンタマスが支持される。
上記課題を解決するために、本発明の露光装置は、マスク(R)に形成されたパターンを基板(W)に転写する露光装置(EX)において、前記マスクを保持するステージ及び前記基板を保持するステージの少なくとも一方として上記の何れかに記載のステージ装置を備えることを特徴としている。
本発明によれば、カウンタマスを支持する支持機構の排気量を調整しているため、通常時においては支持機構に対する気体の給排気を阻害しないようにすることでステージ装置の制御精度を向上させることができるとともに、停電等の異常時には支持機構に供給されている気体の緩やかな排気を行うことで衝撃等を生じないで支持機構をベース上に着地させることができるという効果がある。また、支持機構は気体を用いてカウンタマスを支持しているため、ベースからカウンタマスへ伝わる振動、更にはカウンタマスを介してステージに伝わる振動を効果的に抑制することができるという効果がある。
また、本発明によれば、アクチュエータの推力の少なくとも一部が支持機構の支持力に置換されてカウンタマスが支持されるため、アクチュエータの発熱を抑えることができるとともに、アクチュエータを小型化することができる。
更に、本発明によれば、アクチュエータの発熱を抑えることができるため、発熱に起因する露光精度の低下を防止することができる。
また、本発明によれば、アクチュエータの推力の少なくとも一部が支持機構の支持力に置換されてカウンタマスが支持されるため、アクチュエータの発熱を抑えることができるとともに、アクチュエータを小型化することができる。
更に、本発明によれば、アクチュエータの発熱を抑えることができるため、発熱に起因する露光精度の低下を防止することができる。
以下、図面を参照して本発明の一実施形態によるステージ装置及び露光装置について詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態による露光装置の概略構成を示す側面図である。図1に示す露光装置EXは、図1中の投影光学系PLに対してマスクとしてのレチクルRと基板としてのウェハWとを相対的に移動させつつ、レチクルRに形成されたパターンをウェハWに逐次転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の露光装置である。
尚、以下の説明においては、必要であれば図中にXYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。図1に示すXYZ直交座標系は、X軸及びY軸がウェハWの移動面に平行な面に含まれるよう設定され、Z軸が投影光学系PLの光軸AXに沿う方向に設定されている。また、本実施形態ではレチクルR及びウェハWを同期移動させる方向(走査方向)をY方向に設定している。
図1に示す通り、本実施形態の露光装置EXは、照明ユニットILU、マスクとしてのレチクルRをY方向に所定のストロークで駆動するとともに、X方向、Y方向、及びθZ方向(Z軸回りの回転方向)に微少駆動するレチクルステージ装置10、投影光学系PL、基板としてのウェハWを保持するウェハステージWST、及びこれらの制御系、並びに投影光学系PL等が搭載されたボディBD等を含んで構成される。
照明ユニットILUは、光源及び照明光学系を含み、照明光学系の内部に配置された視野絞り(マスキングブレード又はレチクルブラインドとも呼ばれる)で規定される矩形又は円弧状の照明領域IRに照明光(露光光)ILを照射し、パターンが形成されたレチクルRをほぼ均一な照度で照明する。尚、ここでは照明光ILとしては、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)が用いられるものとする。
レチクルステージ装置10は、照明光学系ILSの下方(−Z方向)に配置されており、図1に示す通り、レチクルステージ定盤11、レチクルステージRST、カウンタマス12、及びレチクルステージ駆動系等を備えている。レチクルステージ定盤11は、照明ユニットILUの下方に所定間隔をあけて配置されており、後述する第2コラムCL2の天板部を構成する。レチクルステージRSTは、レチクルステージ定盤11の上方に配置されている。カウンタマス12は、レチクルステージRSTを取り囲む状態でレチクルステージ定盤11の上方に配置されている。
レチクルステージ定盤11は、後述する第2コラムCL2を構成する例えば4本の脚13(但し、図1における紙面奥側の2本の脚13は図示省略)によって略水平に支持されている。レチクルステージ定盤11は概略板状の部材からなり、そのほぼ中央には凸部11a(図3参照)が形成されている。この凸部11aのほぼ中央に照明光ILを通過させるためのX方向を長手方向とする矩形開口11bがZ方向に連通状態で形成されている。凸部11aの上面はレチクルステージRSTの移動面とされている。
レチクルステージRSTは、レチクルステージ定盤11の上面(移動面)の上方に、例えば数μm程度のクリアランスを介して浮上支持されている。このレチクルステージRST上には、レチクルRが、例えば真空吸着(又は静電吸着)により保持される。レチクルステージRSTは、後述するレチクルステージ駆動系により、投影光学系PLの光軸AXに垂直なXY平面内で2次元的に(X方向、Y方向、及びZ軸回りの回転方向(θZ方向)に)微少駆動可能であるとともに、レチクルステージ定盤11上をY方向に指定された走査速度で駆動可能となっている。
レチクルステージRSTの移動面内の位置(Z軸周りの回転を含む)は、レーザ干渉計(以下、レチクル干渉計という)14によって、移動鏡15(実際にはY軸に直交する反射面を有するY移動鏡とX軸に直交する反射面を有するX移動鏡とが設けられている)を介して、例えば0.5〜1nm程度の分解能で常時検出される。このレチクル干渉計14の計測値は主制御装置20に出力され、主制御装置20は、このレチクル干渉計14の計測値に基づいてレチクルステージRSTのX方向、Y方向、及びθZ方向(Z軸周りの回転方向)の位置を算出するとともに、この算出結果に基づいてレチクルステージ駆動系を制御することで、レチクルステージRSTの位置(及び速度)を制御する。
投影光学系PLは、レチクルステージRSTの図1における下方(−Z方向)に配置され、ボディBDを構成する第1コラムCL1に保持されている。ここで、ボディBDについて簡単に説明する。ボディBDは、クリーンルームの床面FL上に設置された第1コラムCL1と、第1コラムCL1の上面に設置された第2コラムCL2とを備えている。第1コラムCL1は、4本の脚部16(但し、図1における紙面奥側の2本の脚部16は図示省略)と、これらの脚部16の上端面がその下端面にそれそれ接続されるとともに第1コラムCL1の天井を構成する鏡筒定盤17とを備えている。
各脚部16の各々は、床面に設置された支柱19と、この支柱19の上部に設けられた防振ユニット18とを備えている。各防振ユニット18によって、床面FLからの微振動がマイクロGレベルで絶縁され、鏡筒定盤17に殆ど伝達されないようになっている。鏡筒定盤17はそのほぼ中央部に不図示の円形開口が形成されており、この開口内に投影光学系PLがその光軸AX方向をZ方向として上方から挿入されている。
投影光学系PLの鏡筒の高さ方向のほぼ中央部にはフランジFLGが設けられており、投影光学系PLはこのフランジFLGを介して鏡筒定盤17により支持されている。鏡筒定盤17の上面には、投影光学系PLを取り囲む位置に、前述の4本の脚13(但し、図1における紙面奥側の2本の脚13は図示省略)の下端が固定されており、これら脚13の上部に前述のレチクルステージ定盤11が載置されて水平に支持されている。即ち、レチクルステージ定盤11とこれを支持する4本の脚13とによって第2コラムCL2が構成されている。
投影光学系PLとしては、ここでは両側テレセントリックな縮小系、且つ共通のZ方向の光軸を有する複数枚のレンズエレメントからなる屈折光学系が用いられている。この投影光学系PLの投影倍率βは、例えば1/4或いは1/5である。このため、前述の如く、照明ユニットILUからの照明光ILによりレチクルRが照明されると、照明領域IR内におけるレチクルRのパターン像が投影光学系PLによってウェハW上における照明領域IRと共役な照明光ILの照射領域(露光領域)ERに縮小投影され、パターンの縮小像(部分倒立像)が転写形成される。
ウェハステージWSTは、ウェハホルダ21を介してウェハWを真空吸着等により保持し、例えばリニアモータ等を含む不図示のウェハ駆動系によって、ステージベースBSの上面に沿ってXY平面内の2次元方向に自在に駆動されるようになっている。ステージベースBSは、複数の防振ユニット22を介してほぼ水平に支持されており、防振ユニット22によって、床面FLからステージベースBSに伝達される微振動(暗振動)が例えばマイクロGレベルで絶縁されるようになっている。尚、ウェハステージWSTが6自由度で移動可能な場合には、複数の防振ユニット22を省略しても良い。
ウェハホルダ21の−Y側の端部には、平面鏡からなるY移動鏡23YがX方向に延設されている。このY移動鏡23Yに対してほぼ垂直にY軸レーザ干渉計24Yからの測長ビームが投射され、その反射光がY軸レーザ干渉計24Y内部のディテクタによって受光される。これにより、Y軸レーザ干渉計24Y内部の参照鏡の位置を基準としてY移動鏡23Yの位置、即ちウェハWのY方向の位置が検出される。同様に、図示は省略しているが、ウェハホルダ21の+X側の端部には、平面鏡からなるX移動鏡がY方向に延設されている。そして、このX移動鏡を介してX軸レーザ干渉計によって上記と同様にしてX移動鏡の位置、即ちウェハWのX位置が検出される。上記2つのレーザ干渉計の検出値(計測値)は主制御装置20に供給され、主制御装置20は上記2つのレーザ干渉計の検出値をモニタしつつ、ウェハ駆動系を介してウェハステージWSTの位置制御を行う。
次に、レチクルステージ装置10について詳細に説明する。図2はレチクルステージ装置10の構成を示す斜視図であり、図3はレチクルステージ10の分解斜視図である。図2に示す通り、レチクルステージRSTは、レチクルステージ本体30及びレチクルステージ本体30に固定された各種磁極ユニット等を含んで構成される。レチクルステージ本体30は、平面視(上方から見て)概略矩形の板状部30aと、板状部30aの−X端部に設けられたミラー部30bとを備えている。板状部30aのほぼ中央部には、照明光ILの通路となる開口が形成されている。ミラー部30bは、Y方向を長手方向とする概略角柱状の形状であり、−X側の端面は鏡面加エが施された反射面とされている。
レチクルステージ本体30の底面には、例えば特開2002−15985号に開示された定盤給気タイプの差動排気型気体静圧軸受が形成されている。本実施形態では、レチクルステージ本体30の底面に形成された気体静圧軸受からレチクルステージ定盤11の上面に対して噴き付けられる加圧気体の静圧とレチクルステージRST全体の自重とのバランスにより、レチクルステージRSTがレチクルステージ定盤11の上面の上方に数μm程度のクリアランスを介して非接触で浮上支持されるようになっている。
レチクルステージ駆動系は、図2,図3に示す通り、カウンタマス12の内部においてY方向に架設された一対の固定子ユニット31,32を含む第1駆動機構と、カウンタマス12の内部においてY方向に架設され、固定子ユニット32の+X側に配置された固定子ユニット33を含む第2駆動機構とを備えている。第1駆動機構は、レチクルステージRSTをY方向に駆動するとともにθZ方向(Z軸回りの回転方向)に微小駆動する。第2駆動機構は、レチクルステージRSTをX方向に微小駆動する。
固定子ユニット31は、図3に示す通り、Y方向を長手方向とする一対の電機子ユニットからなるY軸固定子31a,31bと、これらのY軸固定子31a,31bをY方向(長手方向)の一端部と他端部で保持する一対の固定部材31cとを備えている。Y軸固定子31a,31bは、一対の固定部材31cによってZ方向(上下方向)に所定間隔をあけて相互に対向して且つXY面にそれぞれ平行に保持されている。一対の固定部材31cの各々は、カウンタマス12の内壁面に固定されている。固定子ユニット32も上記の固定子ユニット31と同様に構成されている。つまり、固定子ユニット32は、Y軸固定子32a,32bと一対の固定部材32cとを備えており、一対の固定部材32cの各々は、カウンタマス12の内壁面に固定されている。
Y軸固定子31a,32aとY軸固定子31b,32bとの間には、それぞれ所定のクリアランスを介してレチクルステージRSTが配設されている。レチクルステージRSTの上面及び底面には、Y軸固定子31a,31bの各々に対向して一対の磁極ユニット(図示省略)が埋め込まれており、Y軸固定子32a,32bの各々に対向して一対の磁極ユニット(図示省略)が埋め込まれている。Y軸固定子31a,31b及びY軸固定子32a,32bが備える電機子コイルの各々に同一の電流を供給することにより同一の駆動力を発生させることができ、レチクルステージRSTを+Y方向又は−Y方向に平行移動させることができる。また、Y軸固定子31a,31bが備える電機子コイルに供給する電流とY軸固定子32a,32bが備える電機子コイルに異なる電流を供給することによりレチクルステージRSTの+X側の駆動力と−Y側の駆動力を異ならせることができ、レチクルステージRSTをZ軸周りに微少回転させることができる。
以上の通り、レチクルステージRSTに設けられた一対の磁極ユニットと、対応するY軸固定子31a,31bとによりレチクルステージRSTをY方向に駆動する一対のムービングマグネット型のリニアモータが構成されている。また、レチクルステージRSTに設けられた他の一対の磁極ユニットと、対応するY軸固定子32a,32bとによりレチクルステージRSTをY方向に駆動する一対のムービングマグネット型のY軸リニアモータが構成されている。
固定子ユニット33は、図3に示す通り、Y方向を長手方向とする一対の電機子ユニット33a,33bと、これらの電機子ユニット33a,33bをY方向(長手方向)の一端部と他端部で保持する一対の固定部材33cとを備えている。電機子ユニット33a,33bは、一対の固定部材33cによってZ方向(上下方向)に所定間隔をあけて相互に対向して且つXY面にそれぞれ平行に保持されている。一対の固定部材33cの各々は、カウンタマス12の内壁面に固定されている。
電機子ユニット33a,33b間には、それぞれ所定のクリアランスを介して、レチクルステージRSTの+X方向端部に固定された断面矩形(長方形)の板状の永久磁石(図示省略)が配置されている。この永久磁石によって形成されるZ方向の磁界と電機子ユニット33a,33bの各々を構成する電機子コイルをY方向に流れる電流との間の電磁相互作用によりX方向の電磁力(ローレンツ力)が発生し、このローレンツ力の反力がレチクルステージRSTをX方向に駆動する駆動力となる。このように、電機子ユニット33a,33bとレチクルステージRSTの+X方向端部に固定された永久磁石によって、レチクルステージRSTをX方向に微少駆動可能なムービングマグネット型のボイスコイルモータが構成されている。
カウンタマス12は、図2,図3に示す通り、レチクルステージRSTが配される中央部が開口とされた矩形形状であり、レチクルステージRSTの移動に伴う反力を相殺するために、レチクルステージ定盤11の上面の上方において移動可能に構成されている。このカウンタマス12は、レチクルステージRSTの移動方向とは反対方向に移動することによりレチクルステージRSTの移動に伴う反力を相殺する。
図4は、カウンタマス12の底面斜視図である。図4に示す通り、カウンタマス12の底面の四隅の各々には、対をなす自重キャンセラ34(34a〜34b)が設けられている。この自重キャンセラ34は、レチクルステージ上端11の上方においてレチクルステージRSTを移動可能に支持するものである。図3に示す通り、カウンタマス12にはレチクルステージRSTが取り付けられており、これらを共に支持する必要があることから計8個の自重キャンセラ34を設けている。尚、自重キャンセラ34の詳細については後述する。
図4に示す通り、カウンタマス12の底面の四隅の各々には、一部に凹部を有し全体的に略U字状の形状を有する磁極ユニットからなる可動子35a〜35dが設けられている。また、+X側面には可動子35a〜35dと同様の形状を有する可動子36a,36bが設けられており、−Y側面には可動子35a〜35d及び可動子36a,36bと同様の形状を有する可動子37a,37bが設けられている。
また、図2に示す通り、可動子35a〜35dに対応して電機子ユニットからなる固定子38a〜38d(図2においては、固定子38a,38dのみを図示)が設けられており、可動子36a,36bに対応して電機子ユニットからなる固定子39a,39bが設けられており、可動子37a,37bに対応して電機子ユニットからなる固定子40a,40bが設けられている。尚、これらの固定子38a〜38d、固定子39a,39b、及び固定子40a,40bは、レチクルステージ定盤11とは分離した不図示の支持台に固定されている。
上記の可動子35a〜35dと、これらに対応する固定子38a〜38dとにより、ムービングマグネット型のボイスコイルモータからなるZ方向駆動用の4つのボイスコイルモータ(以下、Zボイスコイルモータという)41a〜41d(図2においては、Zボイスコイルモータ41a,41dのみを図示)が構成されている。これら4つのZボイスコイルモータ41a〜41dにより、カウンタマス12がZ方向、θX方向(X軸回りの回転方向)、θY方向(Y軸回りの回転方向)の3自由度方向に駆動可能となっている。
また、上記の可動子36a及び固定子39aによりムービングマグネット型のボイスコイルモータからなるX方向駆動用のトリムモータ42aが構成され、上記の可動子36b及び固定子39bによりムービングマグネット型のボイスコイルモータからなるX方向駆動用のトリムモータ42bが構成されている。同様に、上記の可動子37a及び固定子40aによりムービングマグネット型のボイスコイルモータからなるY方向駆動用のトリムモータ43aが構成され、上記の可動子37b及び固定子40bによりムービングマグネット型のボイスコイルモータからなるX方向駆動用のトリムモータ43bが構成されている。これら4つのトリムモータ42a,42b,43a,43bによりカウンタマス12がX方向、Y方向、及びθZ方向の3自由度方向に駆動可能となっている。
また、カウンタマス12の−Y側面の中央部には、カウンタマス12の位置を検出するためのX移動鏡44及びY移動鏡45a,45bが取り付けられている。これらX移動鏡44及びY移動鏡45a,45bの各々には、レーザ干渉計73,74a,74b(図8参照)からの測長ビームが投射され、その反射光がレーザ干渉計内部のディテクタによって受光される。これにより、レーザ干渉計内部の参照鏡の位置を基準としてカウンタマス12のX方向及びY方向の位置がそれぞれ検出される。
尚、図示は省略しているが、カウンタマス12の+Y側面には図1に示すレチクル干渉計14からの測長ビームを通過させる通過孔が設けられており、−X側面にはレチクルステージRSTのミラー部30bに投射する測長ビームを透過させる透過孔が設けられている。そして、これらの測長ビームを用いてレチクルステージRSTの位置が検出されるようになっている。
次に、自重キャンセラ34について詳細に説明する。図5は、自重キャンセラ34の構成を示す図であって、(a)は一部断面を含む斜視図であり、(b)は縦断面図である。図5(a),(b)に示す通り、自重キャンセラ34は、自重支持機構51とエアパッド部52とを備えている。自重支持機構51は、カウンタマス12の底面に固定されるシリンダ部53とシリンダ部53と係合したピストン部54とから構成される。また、エアパッド部52は、ピストン部54の底面に固定された軸受を含んで構成される。
シリンダ部53は、その上端面が閉塞された円筒状部分53aと、円筒状部分53aの下端部(−Z側端部)の全周に渡って設けられたフランジ部53bとを備えている。シリンダ部53は、円筒状部分53aの上端面にてカウンタマス12の底面に固定されている。ピストン部54は、円柱状のピストン54aと、ピストン54aの底面に固定された円盤状部材54bと、円盤状部材54bの上面の外緑部に設けられた断面略L字状のリング状部材からなるストッパ部材54cとを備えている。前述したシリンダ部53は、ピストン部54のピストン54aの外周囲に沿ってZ方向に相対移動可能とされ、シリンダ部53内部のピストン54aより上方には、空間SPが形成されている(図5(b)参照)。
ピストン54aには、その外周に沿って環状の溝55が形成されている。この環状の溝55には、Oリング56が設けられており、このOリング56により空間SPの気密が維持されるようになっている。ストッパ部材54cは、シリンダ部53とピストン部54との係合が解除されるのを防止する役割を果たしている。
エアパッド部52は、ピストン部54を構成する円盤状部材54bの下面に固定されている。このエアパッド部52の底面には溝52aが形成されている。尚、実際には、溝52aは円と十字とを組み合わせた形状を有している。この溝52aには、図5(b)に示す通り、ピストン部54とエアパッド部52との中心軸近傍に上下貫通した状態で形成された貫通孔52bの一端部が形成されている。
空間SPには、シリンダ部53の一部に形成された開口53cを介して給気管57の一端が接続されており、この給気管57の他端は、空圧制御部61(図7参照)に接続されている。この空圧制御部61から、例えば空気等の気体が給気管57を介して空間SP内に供給されることにより、空間SPが、シリンダ部53の外部に比べて気圧の高い陽圧空間とされている。
上記構成の自重キャンセラ34は、その上端部でカウンタマス12を支持するときには、自重支持機構51の空間SPに供給される陽圧によってカウンタマス12を支持する。これによりカウンタマス12が陽圧により低剛性で支持される。また、空間SPに陽圧が供給されることにより、貫通孔52b内には下向きの気体の流れが生じる。この気体は、貫通孔52bの下端部から噴出され、溝52a内に外側に向かう流れとなる。そして、気体は、溝52aの全域に行き渡り、溝の全体からレチクルステージ定盤11の上面に向けて噴出される。
これにより、エアパッド部52の底面とレチクルステージ定盤11の上面との間の気体の静圧(隙間内圧力)により、エアパッド部52の底面とレチクルステージ定盤11の上面との間には、所定のクリアランスが形成されるようになっている。即ち、エアパッド部52の底面には、実質的に、一種の気体静圧軸受が形成されており、カウンタマス12及び自重キャンセラ34がレチクルステージ定盤11の上方に非接触で浮上支持される。
尚、以上説明した自重キャンセラ34は、ピストン部54とシリンダ部53との組み合わせにより陽圧空間を構成していたが、この構成に限られることはなく、例えば図6に示す構成とすることができる。図6は、自重キャンセラ34の他の構成例を示す側面図である。図6に示す自重キャンセラ34は、カウンタマス12の底面に取り付けられたベローズ58を備えており、このベローズ58を用いて陽圧空間を形成するようにしたものである。ベローズ58内の陽圧空間には、ベローズ58に接続された給気管57を介して、空圧制御部61(図7参照)から気体が供給されるようになっている。
次に、図5又は図6に示す自重キャンセラ34に気体を供給する空圧制御部61について説明する。図7は、空圧制御部61の構成を示すブロック図である。図7において、気体供給装置60は、数MPa〜数十Mpaに加圧された気体を空圧制御部61に供給する。空圧制御部61は気体供給装置60から供給される気体の圧力を制御して自重キャンセラ34に供給する。図7に示す通り、空圧制御部61は、電磁弁62、逆止弁63、電空レギュレータ64、圧力センサ65、切り替え弁66、及び絞り67a,67bを含んで構成される。
電磁弁62は、配管R1を介して気体供給装置60と接続されているとともに、配管R2を介して逆止弁63と、配管R7を介して切り替え弁66とそれぞれ接続されている。この電磁弁62は、気体供給装置60からの気体を自重キャンセラ34に供給するか、又は遮断するかを切り替える。具体的には、電磁弁62が通電状態にある場合には、配管R1と逆止弁63に接続された配管R2とを接続状態にし、気体供給装置60からの気体を自重キャンセラ34に供給する。これに対し、地震若しくは停電の発生等の緊急時、又はメンテナンス等による露光装置EXの停止時等において電磁弁62が非通電状態になった場合には、配管R1と配管R2との間を遮断状態にして気体供給装置60から自重キャンセラ34への気体の供給を遮断する。尚、電磁弁62が非通電状態のときには、配管R1と切り替え弁66に接続された配管R7を接続状態にし、気体供給装置60からの気体を切り替え弁66に供給する。
逆止弁63は、配管R2を介して電磁弁62に接続されているとともに、配管R3を介して電空レギュレータ64に接続されている。この逆止弁63は、気体供給装置60から供給される気体の圧力が低下したときに、電空レギュレータ64から気体供給装置60へ気体が逆流するのを防止するために設けられている。電空レギュレータ64は、配管R3を介して逆止弁63に接続されているとともに、給気管57を介して自重キャンセラ34に接続され、配管R4を介して切り替え弁66に接続されている。この電空レギュレータ64は、入力電圧に比例した圧力を得ることができる比例制御機器であり、制御装置70(図8参照)により制御される。圧力センサ65は、電空レギュレータ64から自重キャンセラ34に供給される気体の圧力を検出するものであり、その検出結果は制御装置70(図8参照)に出力される。
切り替え弁66は、配管R4を介して電空レギュレータ64に接続され、配管R7を介して電磁弁62に接続されている。また、排気側には2つの配管R5,R6が接続されている。配管R5には配管R5の流路抵抗を所定の値にするための絞り67aが取り付けられており、配管R6には配管R6の流路抵抗を配管R5の流路抵抗よりも高くするための絞り67bが取り付けられている。この切り替え弁66は、配管R4と配管R5とを接続するか、又は配管R4と配管R6とを接続するかを切り替える。具体的には、切り替え弁66は、配管R7を介して電磁弁62から気体が供給されていない場合には配管R4と配管R5とを接続し、配管R7を介して電磁弁62から気体が供給された場合には配管R4と配管R6とを接続する。
上記構成において、露光装置EXが正常に動作している通常時には、電磁弁62が通電状態にあり、気体供給装置60からの気体は配管R1、電磁弁62、配管R2、逆止弁63、及び配管R3を順に介して電空レギュレータ64に供給される。そして、電空レギュレータ64で圧力が制御され、所定の圧力の気体が給気管57を介して自重キャンセラ34に供給される。電空レギュレータ64に供給された気体のうち、自重キャンセラ34に供給されなかった気体は、配管R4を介して切り替え弁66に供給される。電磁弁62が通電状態のときには、電磁面62から配管R6を介して切り替え弁66に気体が供給されておらず配管R4と配管R5とが接続されているため、電空レギュレータ64から配管R4を介して切り替え弁66に供給された気体は、絞り67aが取り付けられた配管R5を介して外部に排出される。
これに対し、緊急時等においては、電磁弁62が非通電状態になり、電磁弁62によって配管R1と配管R2との間が遮断される一方で配管R1と配管R7とが接続される。これにより、気体供給装置60からの気体が配管R7を介して切り替え弁66に供給されて配管R4と配管R6とが接続される。自重キャンセラ34から排出すべき気体は電空レギュレータ64及び配管R4を介して切り替え弁66に供給され、流路抵抗を高くするための絞り67bが取り付けられた配管R6を介して外部に排出される。
以上の通り、通常時においては流路抵抗の低い絞り67aが取り付けられた流路R5を介して気体を排気しているため、電空レギュレータ64の給排気が阻害されず良好な制御精度を確保することができる。これに対し、緊急時等においては流路抵抗の高い絞り67bが取り付けられた流路R6を介して自重キャンセラ34からの気体を排気しているため、自重キャンセラ34に支持されているレチクルステージRST(カウンタマス12)をゆっくりと降下させることができ、衝撃等を生じないでレチクルステージ定盤11上に着地されることができる。これにより、レチクルステージRSTの破損、並びにボディBD及び投影光学系PLへの振動による悪影響を防止することができる。
次に、カウンタマス12の制御系について説明する。図8は、カウンタマス12の制御系の構成を示す図である。尚、図8(a)では制御系とともにカウンタマス12の上面を模式的に図示しており、図8(b)では制御系とともにカウンタマス12及びレチクルステージ定盤11の断面を模式的に示している。図8に示す通り、カウンタマス12の制御系は、制御装置70、アンプ71,72、空圧制御部61a〜61c、レーザ干渉計73,74a,74b,75a〜75cを含んで構成される。
制御装置70は、レーザ干渉計73,74a,74b,75a〜75cの検出結果、及び空圧制御部61a〜61cに設けられた圧力センサ65(図8においては図示省略:図7参照)の検出結果に基づいて空圧制御部61a〜61cを制御し、自重キャンセラ34a〜34dに供給する気体の圧力を制御する。また、レーザ干渉計73,74a,74b,75a〜75cの検出結果、及び空圧制御部61a〜61cに設けられた圧力センサ65の検出結果に基づいて、Zボイスコイルモータ41a〜41d及びトリムモータ42a,42b,43a,43bで発生させる推力を制御する。
アンプ71は、制御装置70から出力されるZボイスコイルモータ41a〜41d及びトリムモータ42a,42b,43a,43bに対する制御信号を、これらのモータで必要となるレベルまで増幅する。また、アンプ72は、制御装置70から出力される空圧制御部61a〜61cに対する制御信号を、これらで必要となるレベルまで増幅する。空圧制御部61a〜61cの各々は、図8を用いて説明した空圧制御部61と同様の構成である。
空圧制御部61aは、制御装置70の制御の下でカウンタマス12の−Y側底面に設けられた自重キャンセラ34a,34b(計4個の自重キャンセラ)に供給する気体の圧力を制御する。空圧制御部61bは、制御装置70の制御の下でカウンタマス12の+Y側底面の隅部のうちの−X側の隅部に設けられた自重キャンセラ34c(計2個の自重キャンセラ)に供給する気体の圧力を制御する。空圧制御部61cは、制御装置70の制御の下でカウンタマス12の+Y側底面の隅部のうちの+X側の隅部に設けられた自重キャンセラ34d(計2個の自重キャンセラ)に供給する気体の圧力を制御する。
つまり、自重キャンセラ34a,34bの各々には空圧制御部61aから同一圧力の気体が供給され、自重キャンセラ34cには空圧制御部61bからの気体が供給され、自重キャンセラ34dには空圧制御部61cからの気体が供給される。このように、カウンタマス12は、−Y底面に設けられた自重キャンセラ34a,34bと、+Y側底面に設けられた自重キャンセラ34cと、+Y側底面に設けられた自重キャンセラ34dとによって擬似的に3点支持されて擬似的に3点制御される。
レーザ干渉計73は、カウンタマス12の−Y側面に取り付けられたX移動鏡44に対して測長ビームを照射し、その反射光を受光してカウンタマス12のX方向の位置を検出する。レーザ干渉計74a,74bは、カウンタマス12の−Y側面に取り付けられたY移動鏡45a,45bの各々に対して測長ビームを照射し、その反射光を受光してカウンタマス12のY方向の位置、及びθY方向(Y軸回りの回転方向)の位置を検出する。レーザ干渉計75aはカウンタマス12の−Y側底面中央部の下方(−Z方向)に配置され、レーザ干渉計75bはカウンタマス12の−X側底面における+Y側部の下方に配置され、レーザ干渉計75cはカウンタマス12の+X側底面における+Y側部の下方に配置されている。これらレーザ干渉計75a〜75cは、カウンタマス12の底面に測長ビームを照射し、各々の測長ビーム照射位置におけるカウンタマス12のZ方向の位置を検出する。レーザ干渉計73,74a,74b,75a〜75cの検出結果は制御装置70に出力される。
制御装置70は、レーザ干渉計73,74a,74bの検出結果に基づいてトリムモータ42a,42b,43a,43bを制御し、カウンタマス12のX方向、Y方向、θZ方向の位置を制御する。また、レーザ干渉計75a〜75cの検出結果に基づいてZボイスコイルモータ41a〜41dを制御し、カウンタマス12のZ方向の位置、及び姿勢(θX(X軸回りの回転方向)、θY方向(Y軸回りの回転方向)の位置を制御する。このとき、制御装置70は、カウンタマス12の−Y側に設けられた2つのZボイスコイルモータ41a,41bに対しては同一の制御信号を出力してZボイスコイルモータ41a,41bを一体的に駆動する。これに対し、カウンタマス12の+Y側に設けられた2つのZボイスコイルモータ41c,41dに対しては各々個別に制御信号を出力して駆動する。このように、カウンタマス12は、カウンタマス12の−Y側に設けられたZボイスコイルモータ41a,41bと、+Y側に設けられたZボイスコイルモータ41cと、+Y側に設けられたZボイスコイルモータ41dとによって擬似的に3点制御される。尚、レーザ干渉計73,74a,74b,75a〜75cの代わりにエンコーダを用いても良い。
次に、以上説明したカウンタマス12の制御系で行われる制御について詳細に説明する。以上の通り、カウンタマス12は、レチクルステージ定盤11上において、自重キャンセラ34a〜34dとZボイスコイルモータ41a〜41dとによって支持される。ここで、自重キャンセラ34a〜34dがカウンタマス12及びレチクルステージRSTを支持するために必要な力Fは以下の(1)式で表される。
F=P・A ……(1)
ここで、Pは自重キャンセラ34a〜34d内の気体の圧力であり、Aは自重キャンセラ34a〜34dの受圧面積である。
F=P・A ……(1)
ここで、Pは自重キャンセラ34a〜34d内の気体の圧力であり、Aは自重キャンセラ34a〜34dの受圧面積である。
上記(1)式から分かる通り、自重キャンセラ34a〜34dの受圧面積が設計通りであれば、自重キャンセラ34a〜34dに所定圧力の気体を供給することでによりカウンタマス12及びレチクルステージRSTの自重が相殺され、カウンタマス12及びレチクルステージRSTを所定の高さ位置に支持することができる。しかしながら、自重キャンセラ34a〜34dの製造誤差等による受圧面積のばらつきがある場合には、上記の所定圧力の気体を自重キャンセラ34a〜34dに供給してもカウンタマス12及びレチクルステージRSTを所定の高さ位置に支持することができないことがある。これは、カウンタマス12及びレチクルステージRSTの重量ばらつき、電空レギュレータ64(図7参照)の制御誤差等がある場合も同様である。
これらの場合は、カウンタマス12及びレチクルステージRSTを所定の高さ位置に支持するために、Zボイスコイルモータ41a〜41dを駆動して誤差を補償する必要がある。しかしながら、かかる場合には、カウンタマス12及びレチクルステージRSTを支持するために、Zボイスコイルモータ41a〜41dは定常的に推力を発生し続けなければならず、発熱が生じてしまう。この発熱が生ずると、ボディBDの熱膨張が生じ、又は空気揺らぎの影響による露光精度の悪化が生ずる虞がある。
いま、カウンタマス12及びレチクルステージRSTの自重を相殺するために必要な力をFiとし、自重キャンセラ34a〜34dが実際に発生する力をFrとすると、カウンタマス12及びレチクルステージRSTの自重を相殺するために必要なZボイスコイルモータ41a〜41dの推力Fmは、上記(1)式を用いて変形すると以下の(2)式で表される。
Fm=Fr−Fi≒Pi・ΔA+ΔP・Ai ……(2)
但し、Pi :自重を相殺するために設計上必要な圧力
Ai:受圧面積の設計値
ΔP:自重を相殺するために設計上必要な圧力からの誤差
ΔA:受圧面積の設計値からの誤差
上記(2)式を参照すると、カウンタマス12及びレチクルステージRSTの自重を相殺するために必要なZボイスコイルモータ41a〜41dの推力Fmは、自重キャンセラ34a〜34dの受圧面積のばらつき(右辺第1項)と、自重キャンセラ34a〜34dに供給する気体の圧力の誤差(右辺第2項)とに依存していることが分かる。
Fm=Fr−Fi≒Pi・ΔA+ΔP・Ai ……(2)
但し、Pi :自重を相殺するために設計上必要な圧力
Ai:受圧面積の設計値
ΔP:自重を相殺するために設計上必要な圧力からの誤差
ΔA:受圧面積の設計値からの誤差
上記(2)式を参照すると、カウンタマス12及びレチクルステージRSTの自重を相殺するために必要なZボイスコイルモータ41a〜41dの推力Fmは、自重キャンセラ34a〜34dの受圧面積のばらつき(右辺第1項)と、自重キャンセラ34a〜34dに供給する気体の圧力の誤差(右辺第2項)とに依存していることが分かる。
上記(2)式右辺第1項は、自重を相殺するために設計上必要な圧力Pi と受圧面積の設計値からの誤差ΔAとの積になっている。このため、支持すべきカウンタマス12及びレチクルステージRSTの重量増大により圧力Piが高くなると、受圧面積の誤差が小さくてもZボイスコイルモータ41a〜41dにより大きな推力を発生しなければならないことが分かる。また、上記(2)式右辺第2項は、自重を相殺するために設計上必要な圧力からの誤差ΔPと受圧面積の設計値Aiとの積になっている。このため、例えば防振特性向上のために受圧面積Aiが増大すると、自重キャンセラ34a〜34dに供給する圧力の誤差が小さくてもZボイスコイルモータ41a〜41dにより大きな推力を発生しなければならないことが分かる。
以上から支持する重力が重い程、気体の圧力誤差及び受圧面積の誤差を補償するためのZボイスコイルモータ41a〜41dの推力が増大して発熱の影響が大きくなり、露光精度の低下を招く虞がある。また、上記の誤差をZボイスコイルモータ41a〜41dで補償しようとすると大きな推力が必要となるため、Zボイスコイルモータ41a〜41dが大型化してしまう。
そこで、本実施形態では、Zボイスコイルモータ41a〜41dの発熱量の増大及び大型化を防止するために、Zボイスコイルモータ41a〜41dで発生させる推力が零となるように、自重キャンセラ34a〜34dに対して供給する気体の圧力制御を行っている。上述した通り、Zボイスコイルモータ41a〜41dの推力を発生させる要因としては、気体の圧力誤差及び受圧面積の誤差がある。このため、予め自重キャンセラ34a〜34d各々の受圧面積を求めておき、その後に求めた受圧面積を用いてZボイスコイルモータ41a〜41dの推力が零となるように、自重キャンセラ34a〜34d供給する気体の圧力を制御している。
自重キャンセラ34a〜34dの受圧面積は、カウンタマス12のZ方向の位置を所定の位置に設定し、この位置を保ちつつ自重キャンセラ34a〜34dに供給する気体の圧力とを変化させたときのZボイスコイルモータ41a〜41dの推力をモニタすることで求める。具体的な受圧面積の求め方は以下の通りである。つまり、まず制御装置70が空圧制御部61a〜61cの各々を制御して自重キャンセラ34a〜34dに供給する気体の圧力を所定の圧力に設定する。このときに自重キャンセラ34a,34b、自重キャンセラ34c、及び自重キャンセラ34dに供給された気体の圧力は、空圧制御部61a,61b,61cの各々に設けられた圧力センサ65(図7参照)で検出され、各々の検出結果をP11,P12,P13とする。
次に、制御装置70はレーザ干渉計75a〜75cの検出結果をモニタしつつ、Zボイスコイルモータ41a,41b,Zボイスコイルモータ41c、及びZボイスコイルモータ41cを駆動しカウンタマス12を所定の高さ位置に配置する。このときにZボイスコイルモータ41a,41b,Zボイスコイルモータ41c、及びZボイスコイルモータ41cの各々で発生している推力は、制御装置70から出力されている制御信号(推力指令値)により求められ、それぞれF11,F12,F13とする。
次いで、制御装置70は空圧制御部61a〜61cの各々を制御して自重キャンセラ34a〜34dに供給する気体の圧力を先に設定した圧力とは異なる圧力に設定する。このときに空圧制御部61a,61b,61cの各々に設けられた圧力センサ65で検出された検出結果をP21,P22,P23とする。次に、制御装置70はレーザ干渉計75a〜75cの検出結果をモニタしつつ、Zボイスコイルモータ41a,41b,Zボイスコイルモータ41c、及びZボイスコイルモータ41cを駆動し、カウンタマス12を先の高さ位置と同じ位置に配置する。このときに、出力する制御信号(推力指令値)から求められるZボイスコイルモータ41a,41b,Zボイスコイルモータ41c、及びZボイスコイルモータ41cで発生している推力をそれぞれF21,F22,F23とする。
以上の処理を終えると、制御装置70は、前述した(1)式を用いて受圧面積を求める。自重キャンセラ34a,34b、自重キャンセラ34c、及び自重キャンセラ34dの受圧面積をそれぞれA1,A2,A3とすると、これらは以下の(3)式〜(5)式で表される。
A1=(F11−F21)/(P11−P21) ……(3)
A2=(F12−F22)/(P12−P22) ……(4)
A3=(F13−F23)/(P13−P23) ……(5)
以上により求められた受圧面積A1,A2,A3は、制御装置70に記憶される。
A1=(F11−F21)/(P11−P21) ……(3)
A2=(F12−F22)/(P12−P22) ……(4)
A3=(F13−F23)/(P13−P23) ……(5)
以上により求められた受圧面積A1,A2,A3は、制御装置70に記憶される。
尚、受圧面積のばらつきは、自重キャンセラの製造誤差に起因しており、図6に示すベローズ58を備えるものの製造誤差は、図5に示すピストン部54とシリンダ部53とを備えるものよりも大きいことが多い。このため、図6に示すベローズ58を備える自重キャンセラに対しては以上の受圧面積を求めるのが望ましい。図7に示すピストン部54とシリンダ部53とを備える自重キャンセラについては、製造誤差が小さいため以上説明した受圧面積を求める処理は省略して受圧面積の設計値を制御装置70に記憶させても良い。
制御装置70は、以上の処理で得られた受圧面積(受圧面積を求める処理を省略した場合には受圧面積の設計値)を用いて、Zボイスコイルモータ41a〜41dで発生させる推力が零となるように、自重キャンセラ34a〜34dに対して供給する気体の圧力制御行う。具体的には、レーザ干渉計75a〜75cの検出結果をモニタしつつ、カウンタマス12のZ方向の位置が目標位置(中立位置)となるように、自重キャンセラ34a,34b、自重キャンセラ34c、及び自重キャンセラ34dに供給する気体の圧力を制御する。
図9は、カウンタマス12等の重量とカウンタマス12等を支持する力との関係を示す図である。図9において、符号WTを付した直線はカウンタマス12及びレチクルステージRSTの重量により作用する力(重力)を示している。また、符号FCを付した直線は自重キャンセラ34a〜34dがカウンタマス12及びレチクルステージを支持する支持力を示しており、符号FMを付した直線はZボイスコイルモータ41a〜41dがカウンタマス12及びレチクルステージを支持する支持力を示している。
図9中の「圧力補正前」に示す通り、カウンタマス12及びレチクルステージRSTの重量により作用する力f1と自重キャンセラ34a〜34dの各々が発生している支持力f2との間に誤差があると、この誤差を補償するために、Zボイスコイルモータ41a〜41dを駆動して+Z方向の推力f3(=f1−f2)を発生させる必要がある。本実形態では、このZボイスコイルモータ41a〜41dによる推力f3を自重キャンセラ34a〜34dの支持力に置換することにより、図9中の「圧力補正後」に示す通り、Zボイスコイルモータ41a〜41dの推力を零としている。
ここで、Zボイスコイルモータ41a〜41dで発生させる推力は、前述した通り、制御装置70から出力される制御信号(推力指令値)により求められる。このため、制御装置70は、Zボイスコイルモータ41a〜41dで発生させるべき推力と、記憶している受圧面積(受圧面積を求める処理を省略した場合には受圧面積の設計値)とを前述した(1)式に代入し、Zボイスコイルモータ41a〜41dで発生させるべき推力と等しい支持力が得られる気体の圧力を算出する。そして、算出した圧力が得られるよう、空圧制御部61a〜61cに制御信号を出力する。これにより、Zボイスコイルモータ41a〜41dによる推力が自重キャンセラ34a〜34dの支持力に置換され、Zボイスコイルモータ41a〜41dによる推力が零となる。
以上説明した通り、本実施形態では、Zボイスコイルモータ41a〜41dによる推力を自重キャンセラ34a〜34dの支持力に置換してカウンタマス12及びレチクルステージRSTを支持しているため、Zボイスコイルモータ41a〜41dの推力発生を最小に抑えることができる。これにより、発熱による露光精度の低下を防止することができ、またZボイスコイルモータ41a〜41dの小型化を図ることができる。また、レチクルステージRST及びカウンタマス12が自重キャンセラ34a〜34dにより支持されているため、レチクルステージ定盤11からレチクルステージRSTに伝わる振動を効果的に抑制することができるとともに制御精度を向上させることができる
次に、上記構成の露光装置EXの動作について簡単に説明する。露光処理が開始されると、ウェハステージWSTが所定のローディングポジションに移動し、露光処理を行うべきウェハWがロードされてウェハホルダ21上に保持される。ウェハWのロードが完了すると、ウェハステージWSTは不図示のアライメント系の下方(ーZ方向)に移動して、EGA計測が行われる。このEGA計測では、ウェハWに形成された代表的な数個のアライメントマークの計測が行われ、統計演算によりウェハW上に設定された全てのショット領域の配列が求められる。
EGA計測が終了すると、ウェハW上に設定された各ショット領域に対する露光が行われる。この処理では、まず不図示の主制御系によってウェハステージWSTに設けられている駆動系が駆動され、最初に露光すべきショット領域が移動開始位置に配置されるようウェハステージWSTを移動させる。これと同時にレチクルステージRSTも移動開始に配置される。以上の配置が完了すると、主制御装置はレチクルステージRST及びウェハステージWSTの移動を開始させ、レチクルステージRST及びウェハステージWSTが所定の速度に達してから整定時間(レチクルステージRST及びウェハステージWSTの加速により生じた振動を収めるために設けられる時間)経過後に照明光ILがレチクルRに照射されてショット領域の露光が開始される。1つのショット領域に対する露光処理が終了すると、主制御装置はウェハステージWSTをX方向にステップ移動させ、次に露光すべきショット領域を移動開始位置に配置する。以下、同様にしてウェハW上のショット領域の全てに対する露光が行われる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に制限されず、本発明の範囲内で自由に変更が可能である。例えば、上記の実施形態では、図7に示す空圧制御部61の切り替え弁66の排気側の配管R5,R6にそれぞれ絞り67a,67bを設けて排気量を制御していた。しかしながら、電空レギュレータ64と自重キャンセラ34a〜34dとを接続する給気管57の途中に絞り67a,67bを切り替え可能に設けても良い。
また、上記実施形態では、図8に示すZボイスコイルモータ41a〜41dによる推力を自重キャンセラ34a〜34dの支持力に置換してカウンタマス12及びレチクルステージRSTを支持していたが、Zボイスコイルモータ41a〜41dによる推力の全てを置換する必要は必ずしも必要ではなく、一部の推力のみを置換しても良い。更に、上記実施形態では、レチクルステージRSTに設けられたカウンタマス12を自重キャンセラ34a〜34dで支持する場合を例に挙げて説明したが、カウンタマスを備えるウェハステージWSTにも本発明を適用することが可能である。
また、上記実施形態ではArFエキシマレーザ光を用いる場合を例に挙げて説明したが、これ以外に、例えばg線(波長436nm)、i線(波長365nm)、又はKrFエキシマレーザ光(波長248nm)、F2レーザ光(波長157nm)、Kr2レーザ光(波長146nm)、YAGレーザ光、若しくは半導体レーザの高周波を用いることができる。更に、DFB半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム(又はエルビウムとイットリビウムの両方)がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。例えば、単一波長レーザの発振波長を1.51〜1.59μmの範囲内とすると、発生波長が189〜199nmの範囲内である8倍高調波、又は発生波長が151〜159nmの範囲内である10倍高調波が出力される。
また、本発明は、ウェハステージが複数設けられるツインステージ型の露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば特開平10−163099号公報及び特開平10−214783号公報(対応米国特許6,341,007号、6,400,441号、6,549,269号及び6,590,634号)、特表2000−505958号(対応米国特許5,969,441号)或いは米国特許6,208,407号に開示されている。更に、本発明を本願出願人が先に出願した特願2004−168481号のウェハステージに適用してもよい。
また、国際公開第99/49504号公報に開示されているような液浸法を用いる露光装置にも本発明を適用することができる。ここで、本発明は、投影光学系PLとウェハWとの間を局所的に液体で満たす液浸露光装置、特開平6−124873号公報に開示されているような露光対象の基板を保持したステージを液槽の中で移動させる液浸露光装置、特開平10−303114号公報に開示されているようなステージ上に所定深さの液体槽を形成し、その中に基板を保持する液浸露光装置の何れの露光装置にも適用可能である。
尚、上記各実施形態で移動ステージに保持される基板としては、半導体デバイス製造用の半導体ウェハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウェハ、或いは露光装置で用いられるマスク又はレチクルの原版(合成石英、シリコンウェハ)等が適用される。露光装置EXとしては、レチクルRとウェハWとを静止した状態でレチクルRのパターンを一括露光し、ウェハWを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパ)にも適用することができる。また、本発明はウェハW上で少なくとも2つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。露光装置EXの種類としては、ウェハWに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD)或いはレチクル又はマスク等を製造するための露光装置等にも広く適用できる。
11 チクルステージ定盤(ベース)
12 カウンタマス
34 自重キャンセラ(支持機構)
41a〜41d Zボイスコイルモータ(アクチュエータ)
62 電磁弁(遮断装置)
64 電空レギュレータ(支持機構)
65 圧力センサ(圧力検出装置)
66 切り替え弁(調整装置)
67a,67b 絞り(調整装置、絞り部材)
70 制御装置
75a〜75c レーザ干渉計(位置検出装置)
EX 露光装置
R レチクル(マスク)
R5 配管(第1の排気流路)
R6 配管(第2の排気流路)
RST レチクルステージ(ステージ)
W ウェハ(基板)
12 カウンタマス
34 自重キャンセラ(支持機構)
41a〜41d Zボイスコイルモータ(アクチュエータ)
62 電磁弁(遮断装置)
64 電空レギュレータ(支持機構)
65 圧力センサ(圧力検出装置)
66 切り替え弁(調整装置)
67a,67b 絞り(調整装置、絞り部材)
70 制御装置
75a〜75c レーザ干渉計(位置検出装置)
EX 露光装置
R レチクル(マスク)
R5 配管(第1の排気流路)
R6 配管(第2の排気流路)
RST レチクルステージ(ステージ)
W ウェハ(基板)
Claims (12)
- ベースの移動面を少なくとも一軸方向に移動可能なステージと、
前記ステージの前記一軸方向への移動に応じて前記ステージとは反対方向に移動するカウンタマスと、
気体を供給する供給部と、前記気体を排気する排気部とを備え、前記気体を用いて前記カウンタマスを支持する支持機構と、
前記排気部の排気量を調整する調整装置と
を備えたことを特徴とするステージ装置。 - 前記調整装置は、前記排気量を絞る際に絞り部材を用いることを特徴とする請求項1記載のステージ装置。
- 前記排気部は、前記気体を排気する第1の排気流路と、該第1排気流路よりも排気量が絞られた第2の排気流路とを備えることを特徴とする請求項1記載のステージ装置。
- 前記調整装置は、前記第1の排気流路と、前記第2の排気流路とを切り替えて前記排気量を調整することを特徴とする請求項3記載のステージ装置。
- 前記支持機構への前記気体の供給を遮断する遮断装置を備え、
前記調整装置は、前記遮断装置が前記気体の供給を遮断した際に、前記第2の排気流路を用いて前記気体の排気をすることを特徴とする請求項4記載のステージ装置。 - 前記供給部及び前記排気部と協働して、前記移動面と交差する方向の前記カウンタマスの位置を制御する制御装置を備えたことを特徴とする請求項1から請求項5の何れか一項に記載のステージ装置。
- ベースの移動面を少なくとも一軸方向に移動可能なステージと、
前記ステージの前記一軸方向への移動に応じて前記ステージとは反対方向に移動するカウンタマスと、
気体を供給する供給部と、前記気体を排気する排気部とを備え、前記気体を用いた支持力により前記カウンタマスを前記移動面と交差する方向に支持する支持機構と、
前記カウンタマスを前記移動面と交差する方向に駆動するアクチュエータと、
前記アクチュエータに与える推力の少なくとも一部を前記支持機構の前記支持力に置換する制御装置と
を備えることを特徴とするステージ装置。 - 前記制御装置は、前記移動面と交差する方向の中立位置に前記カウンタマスを位置決めする際に前記アクチュエータに与える推力が零となるように前記支持機構の支持力を制御することを特徴とする請求項7記載のステージ装置。
- 前記カウンタマスの前記移動面と交差する方向の位置を検出する位置検出装置を備えたことを特徴とする請求項7又は請求項8記載のステージ装置。
- 前記気体の圧力を検出する圧力検出装置を備え、
前記制御装置は、前記圧力検出装置の検出結果と、前記支持機構の受圧面積とに基づいて前記支持機構の前記支持力を制御することを特徴とする請求項7から請求項9の何れか一項に記載のステージ装置。 - 前記カウンタマスは前記ベース上を移動することを特徴とする請求項1から請求項10の何れか一項に記載のステージ装置。
- マスクに形成されたパターンを基板に転写する露光装置において、
前記マスクを保持するステージ及び前記基板を保持するステージの少なくとも一方として請求項1から請求項11の何れか一項に記載のステージ装置を備えることを特徴とする露光装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005234062A JP2007049057A (ja) | 2005-08-12 | 2005-08-12 | ステージ装置及び露光装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009076521A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Yaskawa Electric Corp | 精密微動位置決め装置およびそれを備えた微動位置決めステージ、露光装置、検査装置 |
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-
2005
- 2005-08-12 JP JP2005234062A patent/JP2007049057A/ja not_active Withdrawn
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