JP2007036029A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 第1の保護用論理回路INV1と第2の保護用論理回路INV2とは、サージ電流が印加されてから、第1乃至第4の静電保護トランジスタTr10・・・Tr40のいずれかがブレイクダウンするまでの間、第2の電源系に属する第2のインターフェース200のインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−Bn及び第2の保護用論理回路INV1のトランジスタのゲートが破壊されるのを防止する。更に、回路が占める面積の増大を防止することを可能にする。
【選択図】なし
Description
本発明によれば、第2の電源系に属する第2の回路は、第3のサージ電流経路を介して第1の電源系に属する第1の回路に結合されている。更に、該第2の電源系に属する第2の回路は、該第3のサージ電流経路に結合される第1の抵抗と第1の容量とで与えられる第1の時定数とを有する。従って、前述の第1の回路と第2の回路とは、サージ電流が印加されてから静電保護トランジスタのいずれかがブレイクダウンするまでの間、第2の電源系に属する第2のインターフェースのインターフェース回路のトランジスタのゲートが破壊されるのを防止する。更に、複数のインターフェース回路のゲートを保護するのに、該複数のインターフェース回路より少ない数の第1の回路と第2の回路とを設けることが必要となる。このことは、回路が占める面積の増大を防止することを可能にする。
(本発明を適用する半導体集積回路のレイアウト)
図1は、本発明に係る静電保護回路の適用対象となり得る、異なる電源系に属する2つの内部回路及び2つのインターフェースを含む半導体集積回路のレイアウトを示す概略部分平面図である。
図2は、本発明の第1の実施形態に係るインターフェースに含まれる静電保護回路の等価回路図である。静電保護回路は、信号のビット数、即ちインターフェース用論理回路の数に依存せず静電保護回路が占める総面積を最小することが可能な回路構成を有する。該第1のインターフェース100から該第2のインターフェース200へnビットのデジタル信号を転送することを前提として、以下具体的な回路構成につき説明する。
以下、サージ電流印加後の回路動作につき簡単に説明する。サージ電流が、第1の電源線VDD1、第1のグランド線GND1、第2の電源線VDD2、第2のグランド線GND2のいずれかに印加されるのは、前述の半導体集積回路がまだ製品に組み込まれていない状態である。この状態では、第1のグランド線GND1、第2の電源線VDD2、第2のグランド線GND2は、いずれもフローティング状態にある。該半導体集積回路が製品に組み込まれ動作可能な状態では、第1の電源線VDD1、第1のグランド線GND1、第2の電源線VDD2、第2のグランド線GND2のいずれにもサージ電流が印加されることはない。通常、正極のサージ電圧が発生することが多いので、以下の説明では、正極のサージ電圧が発生した場合に限定して説明する。しかし、以下の説明は、負極のサージ電圧が発生した場合の回路動作にも準用可能である。
図2において、第1の電源線VDD1に正極サージが発生した直後は、第1の静電保護素子10を構成する第1の静電保護トランジスタTr10は、第1の電源線VDD1と第2の電源線VDD2とを電気的に分離している。従って、第1の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−A1・・・INV−AnのpMOSトランジスタTrpA1・・・TrpAn及び第1の電源系に属する第1の保護用論理回路INV1のpMOSトランジスタTrp1を介してインターフェース用論理回路INV−A1・・・INV−Anの出力及び第2の保護用論理回路INV2の出力へサージ電流が流れる。更に、信号線S1・・・Sn及び第5のサージ電流経路Sur5を介して、第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−Bnの入力及び第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2の入力へサージ電流が流れる。
図2において、第1の電源線VDD1に正極サージが発生した直後は、第2の静電保護素子20を構成する第2の静電保護トランジスタTr20は、第1の電源線VDD1と第2のグランド線GND2とを電気的に分離している。従って、第1の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−A1・・・INV−AnのpMOSトランジスタTrpA1・・・TrpAn及び第1の電源系に属する第1の保護用論理回路INV1のpMOSトランジスタTrp1を介してインターフェース用論理回路INV−A1・・・INV−Anの出力及び第2の保護用論理回路INV2の出力へサージ電流が流れる。更に、信号線S1・・・Sn及び第5のサージ電流経路Sur5を介して、第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−Bnの入力及び第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2の入力へサージ電流が流れる。
図2において、第1のグランド線GND1に正極サージが発生した直後は、第3の静電保護素子30を構成する互いに逆平行接続された第1及び第2のダイオードD1、D2は、第1の電源線VDD1と第2のグランド線GND2とを電気的に分離している。従って、第1の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−A1・・・INV−AnのnMOSトランジスタTrnA1・・・TrnAn及び第1の電源系に属する第1の保護用論理回路INV1のnMOSトランジスタTrn1を介してインターフェース用論理回路INV−A1・・・INV−Anの出力及び第2の保護用論理回路INV2の出力へサージ電流が流れる。更に、信号線S1・・・Sn及び第5のサージ電流経路Sur5を介して、第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−Bnの入力及び第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2の入力へサージ電流が流れる。
図2において、第1のグランド線GND1に正極サージが発生した直後は、第4の静電保護素子40を構成する第4の静電保護トランジスタTr40は、第2の電源線VDD2と第1のグランド線GND1とを電気的に分離している。従って、第1の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−A1・・・INV−AnのnMOSトランジスタTrnA1・・・TrnAn及び第1の電源系に属する第1の保護用論理回路INV1のnMOSトランジスタTrn1を介してインターフェース用論理回路INV−A1・・・INV−Anの出力及び第2の保護用論理回路INV2の出力へサージ電流が流れる。更に、信号線S1・・・Sn及び第5のサージ電流経路Sur5を介して、第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−Bnの入力及び第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2の入力へサージ電流が流れる。
図2において、第2の電源線VDD2に正極サージが発生した直後は、第1の静電保護素子10を構成する第1の静電保護トランジスタTr10は、第1の電源線VDD1と第2の電源線VDD2とを電気的に分離している。しかし、該正極サージは、第1の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−A1・・・INV−Anのトランジスタのゲート及び第1の電源系に属する第1の保護用論理回路INV1のトランジスタのゲート、並びに、第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−Bnのトランジスタのゲート及び第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2のトランジスタのゲートには印加されない。よって、これらトランジスタのゲートが破壊されることはない。該正極サージが第2の電源線VDD2に印加されてから、第1の静電保護トランジスタTr10が有するブレイクダウン達成時間が経過した後、第1の静電保護トランジスタTr10がブレイクダウンする。よって、該正極サージが第2の電源線VDD2から該ブレイクダウンした第1の静電保護トランジスタTr10を介して第1の電源線VDD1へ流れる。よって、第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−BnのpMOSトランジスタTrpB1・・・TrpBnのゲート及びnMOSトランジスタTrnB1・・・TrnBnのゲートが破壊されることはない。
図2において、第2の電源線VDD2に正極サージが発生した直後は、第4の静電保護素子40を構成する第4の静電保護トランジスタTr40は、第1のグランド線GND1と第2の電源線VDD2とを電気的に分離している。しかし、該正極サージは、第1の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−A1・・・INV−Anのトランジスタのゲート及び第1の電源系に属する第1の保護用論理回路INV1のトランジスタのゲート、並びに、第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−Bnのトランジスタのゲート及び第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2のトランジスタのゲートには印加されない。よって、これらトランジスタのゲートが破壊されることはない。該正極サージが第2の電源線VDD2に印加されてから、第4の静電保護トランジスタTr40が有するブレイクダウン達成時間が経過した後、第4の静電保護トランジスタTr40がブレイクダウンする。よって、該正極サージが第2の電源線VDD2から該ブレイクダウンした第4の静電保護トランジスタTr40を介して第1のグランド線GND1へ流れる。よって、第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−BnのpMOSトランジスタTrpB1・・・TrpBnのゲート及びnMOSトランジスタTrnB1・・・TrnBnのゲートが破壊されることはない。
図2において、第2のグランド線GND2に正極サージが発生した直後は、第2の静電保護素子20を構成する第2の静電保護トランジスタTr20は、第1の電源線VDD1と第2のグランド線GND2とを電気的に分離している。しかし、該正極サージは、第1の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−A1・・・INV−Anのトランジスタのゲート及び第1の電源系に属する第1の保護用論理回路INV1のトランジスタのゲート、並びに、第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−Bnのトランジスタのゲート及び第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2のトランジスタのゲートには印加されない。よって、これらトランジスタのゲートが破壊されることはない。該正極サージが第2のグランド線GND2に印加されてから、第2の静電保護トランジスタTr20が有するブレイクダウン達成時間が経過した後、第2の静電保護トランジスタTr20がブレイクダウンする。よって、該正極サージが第2のグランド線GND2から該ブレイクダウンした第2の静電保護トランジスタTr20を介して第1の電源線VDD1へ流れる。よって、第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−BnのpMOSトランジスタTrpB1・・・TrpBnのゲート及びnMOSトランジスタTrnB1・・・TrnBnのゲートが破壊されることはない。
図2において、第2のグランド線GND2に正極サージが発生した直後は、第3の静電保護素子30を構成する第2のダイオードD2は、第1のグランド線GND1と第2のグランド線GND2とを電気的に分離している。しかし、該正極サージは、第1の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−A1・・・INV−Anのトランジスタのゲート及び第1の電源系に属する第1の保護用論理回路INV1のトランジスタのゲート、並びに、第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−Bnのトランジスタのゲート及び第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2のトランジスタのゲートには印加されない。よって、これらトランジスタのゲートが破壊されることはない。該正極サージが第2のグランド線GND2に印加されてから、第2のダイオードD2が有するブレイクダウン達成時間が経過した後、第2のダイオードD2がブレイクダウンする。よって、該正極サージが第2のグランド線GND2から該第2のダイオードD2を介して第1のグランド線GND1へ流れる。よって、第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−BnのpMOSトランジスタTrpB1・・・TrpBnのゲート及びnMOSトランジスタTrnB1・・・TrnBnのゲートが破壊されることはない。
前述したように、第1の電源系に属する第1の保護用論理回路INV1は、サージ電流を第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2へ伝えるサージ電流経路を提供する。この観点に基づくと、第1の保護用論理回路INV1を構成するpMOSトランジスタTrp1及びnMOSトランジスタTrn1の寸法、特にゲート長さL及びゲート幅Wに対する制約はない。
前述したように、該第2の保護用論理回路INV2の入力の時定数は、pMOSトランジスタTrp2のゲート容量CpとnMOSトランジスタTrn2のゲート容量Cnの和(C=Cp+Cn)と、第1の保護用論理回路INV1の出力と第2の保護用論理回路INV2の入力とを接続する第5のサージ電流経路Sur5の抵抗RBとの積(C×RB)で与えられる。該時定数が、第1の静電保護素子10、第2の静電保護素子20、第3の静電保護素子30、第4の静電保護素子40のそれぞれのブレイクダウン達成時間のいずれよりも長くなるよう、pMOSトランジスタTrp2のゲートとnMOSトランジスタTrn2のゲートとを設計する。
C_Pinv2 = ε×S/d =ε×(L×W)/d = {(ε×L)/d}×W_Pinv2
C_Ninv2 = ε×S/d =ε×(L×W)/d = {(ε×L)/d}×W_Ninv2
ε:誘電率(材料及びプロセスに依存する値)
L: ゲート長(プロセスルールに依存する値)
d:ゲート絶縁膜の厚さ(プロセスに依存する値)
W_Pinv2:pMOSトランジスタTrp2のゲート幅
W_Ninv2:nMOSトランジスタTrn2のゲート幅
更に、追加の条件としてシミュレーション結果及び実験結果を考慮して該第2の保護用論理回路INV2を構成するpMOSトランジスタTrp2のゲート幅及びnMOSトランジスタTrn2のゲート幅を調整してもよい。これらの結果から該第2の保護用論理回路INV2を構成するpMOSトランジスタTrp2のゲート幅及びnMOSトランジスタTrn2のゲート幅について下記条件が導き出される。
W_Pinv2 ≧ 450um − ΣPWn
W_Ninv2 ≧ 450um − ΣNWn
ΣPWn: 第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−BnのpMOSトランジスタTrpB1・・・TrpBnのゲート幅の総和
ΣNWn : 第2の電源系に属するインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−BnのnMOSトランジスタTrnB1・・・TrnBnのゲート幅の総和
但し、上記条件で示す450μmという数字は0.16μmプロセスの時に有効な数字であり、その他プロセス(0.22μmや0.15μm)では、別な値となる。
{(ε×l)/d}×W_Ninv2 >> Td/RB
W_Ninv2 >> (Td/RB)× d/(ε×l)
Td:第1乃至第4の静電保護素子10、20,30、40のブレイクダウン達成時間の最大値
RB:nMOSトランジスタTrn2のゲート抵抗
前述したようにd、L、εはプロセスによって決まる。
W_Ninv2 ≧ 450um − ΣNWn ・・・・(1)
W_Ninv2 >> (Td/RB)× d/(ε×l) ・・・・(2)
更に、上記前提条件から、pMOSトランジスタTrp2のゲート幅W_Pinv2について制約条件を求める。
{(ε×l)/d}×W_PNinv2 >> Td/RB
W_Pinv2 >> (Td/RB)× d/(ε×l)
Td:第1乃至第4の静電保護素子10、20,30、40のブレイクダウン達成時間の最大値
RB:nMOSトランジスタTrn2のゲート抵抗
前述したようにd、L、εはプロセスによって決まる。
W_Pinv2 ≧ 450um − ΣPWn ・・・・(3)
W_Pinv2 >> (Td/RB)× d/(ε×l) ・・・・(4)
0.16μmプロセスにて第1の電源系と第2の電源系との間で100本のインターフェース信号を受ける100個のインターフェース用論理回路が設けられ、該インターフェース用論理回路に含まれるnMOSトランジスタのゲート幅が2μmである場合、上記式(1)によりnMOSトランジスタTrn2のゲート幅W_Ninv2は、下記値となる。
W_Ninv2 ≧ 450um − ΣNWn
= 450um − 100×2um = 250um
従って、W_Ninv2 ≧ 250umの関係が成り立つ。
W_Pinv2 ≧ 450um − ΣPWn
= 450um − 100×2um = 250um
従って、W_Pinv2 ≧ 250umの関係が成り立つ。
W_Ninv2 ≧ 450um − ΣNWn
= 450um − 89×5um = 5um
従って、W_Ninv2 ≧ 5umの関係が成り立つ。
W_Pinv2 ≧ 450um − ΣPWn
= 450um − 89×5um = 5um
従って、W_Pinv2 ≧ 5umの関係が成り立つ。
W_Ninv2 ≧ 450um − ΣNWn
= 450um − 2×5um = 440um
従って、W_Ninv2 ≧ 440umの関係が成り立つ。
W_Pinv2 ≧ 450um − ΣPWn
= 450um − 2×5um = 440um
従って、W_Pinv2 ≧ 440umの関係が成り立つ。
ゲート長L:0.16μm
ゲート絶縁膜の厚さd:1000nm
誘電率ε:8.85E−12×4
ゲート保護抵抗:1000Ω
W_Ninv2 >> (Td/RB)× d/(ε×l)
=(Td/1000)×1000nm/(8.85E-12×4×0.16um)
=(Td/1000)×1000nm/5.66E-18
=Td×1.77E+8
従って、W_Ninv2 >>Td×1.77E+8の関係が成り立つ。
=(Td/1000)×1000nm/(8.85E-12×4×0.16um)
=(Td/1000)×1000nm/5.66E-18
=Td×1.77E+8
従って、W_Ninv2 >>Td×1.77E+8の関係が成り立つ。
前述したように、第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2は、第5のサージ電流経路Sur5を介して第1の電源系に属する第1の保護用論理回路INV1に接続されていることが重要である。更に、第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2は、第5のサージ電流経路Sur5と接続する入力が、第1の電源系に属する高電位線と低電位線及び第2の電源系に属する高電位線と低電位線の各々の間に結合される静電保護素子のブレイクダウン達成時間のいずれよりも長い時定数を有することが重要である。従って、第2の電源系に属する第2の保護用論理回路は、上記2つの条件を満たすことが望ましい。よって、第2の電源系に属する第2の保護用論理回路は、必ずしも、CMOSインバータ回路で構成される必要はなく、上記2つの構成を満たせば、他の論理ゲートで構成することが可能である。
図4は、本発明の第1の実施形態に対する第2の変更例に係るインターフェースに含まれるESD保護回路の等価回路図である。図4に示す第1の変更例に係る回路が、図2に示す第1の実施形態の回路と異なる点は、第2の電源系に属する第2の保護用論理回路が出力を有しないダミーNORゲートNOR1で構成されることである。該NORゲートNOR1の2つの入力のうち第1の入力を第5のサージ電流経路Sur5に接続し、他方をフローティングするか、或いは、第2の電源線VDD2か第2のグランド線GND2のいずれかに接続する。そして、該NORゲートNOR1は出力を持たない構成とする。該NORゲートNOR1は、第3のサージ電流経路Sur3を介して第2の電源線VDD2と接続される。また、該NORゲートNOR1は、第4のサージ電流経路Sur4を介して第2のグランド線GND2に接続される。
図5は、本発明の第1の実施形態に対する第3の変更例に係るインターフェースに含まれるESD保護回路の等価回路図である。図5に示す第1の変更例に係る回路が、図2に示す第1の実施形態の回路と異なる点は、第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2が、フローティングしている出力を有することである。即ち、2の保護用論理回路INV2は、信号を処理する論理ゲートではないので、出力は必要としない。この構成も、前述した2つの条件を満たす。第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2は、第5のサージ電流経路Sur5を介して第1の電源系に属する第1の保護用論理回路INV1に接続されている。更に、第2の電源系に属する第2の保護用論理回路INV2は、第5のサージ電流経路Sur5と接続する入力が、第1の電源系に属する高電位線と低電位線及び第2の電源系に属する高電位線と低電位線の各々の間に結合される静電保護素子のブレイクダウン達成時間のいずれよりも長い時定数を有する。従って、前述の第1の保護用論理回路INV1と第2の保護用論理回路INV2とは、サージ電流が印加されてから前述の第1乃至第4の静電保護トランジスタTr10・・・Tr40のいずれかがブレイクダウンするまでの間、第2の電源系に属する第2のインターフェース200のインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−Bn及び第2の保護用論理回路INV2のトランジスタのゲートが破壊されるのを防止する。更に、複数のインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−Bnのゲートを保護するのに、該複数のインターフェース用論理回路INV−B1・・・INV−Bnより少ない数の第1の保護用論理回路INV1と第2の保護用論理回路INV2とを設けることが必要となる。このことは、回路が占める面積の増大を防止することを可能にする。
図6は、本発明の第1の実施形態に対する第1の変更例に係るインターフェースに含まれるESD保護回路の等価回路図である。図6に示す第4の変更例に係る回路が、図2に示す第1の実施形態の回路と異なる点は、第2の電源系に属する第2の保護用論理回路がフローティングされた出力を有するダミーNANDゲートNAND1で構成されることである。該NANDゲートNAND1の2つの入力のうち第1の入力を第5のサージ電流経路Sur5に接続し、他方をフローティングするか、或いは、第2の電源線VDD2か第2のグランド線GND2のいずれかに接続する。そして、該NANDゲートNAND1はフローティングされた出力を有する構成とする。該NANDゲートNAND1は、第3のサージ電流経路Sur3を介して第2の電源線VDD2と接続される。また、該NANDゲートNAND1は、第4のサージ電流経路Sur4を介して第2のグランド線GND2に接続される。
図7は、本発明の第1の実施形態に対する第5の変更例に係るインターフェースに含まれるESD保護回路の等価回路図である。図7に示す第1の変更例に係る回路が、図2に示す第1の実施形態の回路と異なる点は、第2の電源系に属する第2の保護用論理回路がフローティングされた出力を有するダミーNORゲートNOR1で構成されることである。該NORゲートNOR1の2つの入力のうち第1の入力を第5のサージ電流経路Sur5に接続し、他方をフローティングするか、或いは、第2の電源線VDD2か第2のグランド線GND2のいずれかに接続する。そして、該NORゲートNOR1はフローティングされた出力を有する構成とする。該NORゲートNOR1は、第3のサージ電流経路Sur3を介して第2の電源線VDD2と接続される。また、該NANDゲートNAND1は、第4のサージ電流経路Sur4を介して第2のグランド線GND2に接続される。
図8は、本発明の第1の実施形態に対する第6の変更例に係るインターフェースに含まれるESD保護回路の等価回路図である。図8に示す第1の変更例に係る回路が、図2に示す第1の実施形態の回路と異なる点は、第2の電源系に属する第2の保護用論理回路に代え、第2の保護用回路CAP1が設けられることである。該第2の保護用回路CAP1は、第2の電源線VDD2と第2のグランド線GND2との間に直列接続された1対のキャパシタで構成されることである。該1対のキャパシタは、第3のサージ電流経路Sur3を介して第2の電源線VDD2に接続される第1のキャパシタC1と、第4のサージ電流経路Sur4を介して第2のグランド線GND2に接続される第2のキャパシタC2とからなる。該第1のキャパシタC1と該第2のキャパシタC2との間には、第5のサージ電流経路Sur5が接続される。即ち、該第1のキャパシタC1は、第1の容量を提供する。該第2のキャパシタC2は、第2の容量を提供する。該1対のキャパシタは、従って、第1の容量と第2の容量との和Cを提供する。更に、該第5のサージ電流経路Sur5は、抵抗を有する。従って、該第2の保護用回路CAP1の入力は、時定数を提供する。前述したように、該時定数が、第1乃至第4の静電保護素子10、20、30、40のそれぞれのブレイクダウン達成時間のいずれよりも長くなるよう、該第1の容量と第2の容量とを調整する。
GND1 第1の電源系に属する低電位線(第1のグランド線)
VDD2 第2の電源系に属する高電位線(第2の電源線)
GND2 第2の電源系に属する低電位線(第2のグランド線)
1000 第1の電源系に属する第1の内部回路
2000 第2の電源系に属する第2の内部回路
100 第1の電源系に属する第1のインターフェース
200 第2の電源系に属する第2のインターフェース
10 第1の静電保護素子
20 第2の静電保護素子
30 第3の静電保護素子
40 第4の静電保護素子
INV−A1 第1の電源系に属するインターフェース用論理回路
INV−An 第1の電源系に属するインターフェース用論理回路
INV−B1 第2の電源系に属するインターフェース用論理回路
INV−Bn 第2の電源系に属するインターフェース用論理回路
INV1 第1の電源系に属する第1の保護用論理回路
INV2 第2の電源系に属する第2の保護用論理回路
NAND1 第2の電源系に属する第2の保護用論理回路
NOR1 第2の電源系に属する第2の保護用論理回路
CAP1 第2の電源系に属する第2の保護用回路
INA1 入力
OUTA1 出力
INAn 入力
OUTAn 出力
INB1 入力
OUTB1 出力
INBn 入力
OUTBn 出力
IN1 入力
OUT1 出力
IN2 入力
OUT2 出力
S1 信号線
Sn 信号線
R1 抵抗
Rn 抵抗
RA 抵抗
RB 抵抗
Sur1 第1のサージ電流経路
Sur2 第2のサージ電流経路
Sur3 第3のサージ電流経路
Sur4 第4のサージ電流経路
Sur5 第5のサージ電流経路
TrpA1 pMOSトランジスタ
TrnA1 nMOSトランジスタ
TrpAn pMOSトランジスタ
TrnAn nMOSトランジスタ
Trp1 pMOSトランジスタ
Trn1 nMOSトランジスタ
TrpB1 pMOSトランジスタ
TrnB1 nMOSトランジスタ
TrpBn pMOSトランジスタ
TrnBn nMOSトランジスタ
Trp2 pMOSトランジスタ
Trn2 nMOSトランジスタ
Tr10 第1の静電保護トランジスタ
Tr20 第2の静電保護トランジスタ
Tr40 第4の静電保護トランジスタ
D1 第1のダイオード
D2 第2のダイオード
Tb1 第1のブレイクダウン達成時間
Tb2 第2のブレイクダウン達成時間
Tb3 第3のブレイクダウン達成時間
Tb4 第4のブレイクダウン達成時間
RC1 第1の時定数
Claims (30)
- 第1の電源系に属する第1の電源線と前記第1の電源系に属する第2の電源線との間にそれぞれ電気的に結合される、複数の第1のインターフェース回路と、
前記第1の電源線に結合される第1のサージ電流経路と、前記第2の電源線に結合される第2のサージ電流経路とを有し、前記複数の第1のインターフェース回路の数より少ない数の第1の回路と、
前記第1の電源系から独立した第2の電源系に属する第3の電源線と前記第2の電源系に属する第4の電源線との間にそれぞれ電気的に結合されると共に、前記複数の第1のインターフェース回路の対応するものにそれぞれ電気的に結合される、複数の第2のインターフェース回路と、
前記第1の回路に結合される第3のサージ電流経路と、前記第3のサージ電流経路に結合される第1の抵抗と第1の容量とで与えられる第1の時定数と、を有し、前記複数の第2のインターフェース回路の数より少ない数の第2の回路と、
を少なくとも含む半導体装置。 - 前記複数の第1のインターフェース回路と、前記複数の第2のインターフェース回路と、前記第1の回路と、前記第2の回路とは、第1の論理回路構成を有する請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第1の論理回路構成は、CMOSインバータを含む請求項2に記載の半導体装置。
- 前記第2の回路に含まれるCMOSインバータを構成するトランジスタのゲート幅は、前記複数の第2のインターフェース回路の各々に含まれるCMOSインバータを構成するトランジスタのゲート幅より広い請求項3に記載の半導体装置。
- 前記第2の回路に含まれるnチャネルトランジスタのゲート幅と、前記複数の第2のインターフェース回路に含まれる複数のnチャネルトランジスタのゲート幅との合計は450μm以上であり、且つ、前記第2の回路に含まれるpチャネルトランジスタのゲート幅と、前記複数の第2のインターフェース回路に含まれる複数のpチャネルトランジスタのゲート幅の合計は450μm以上である請求項3又は4に記載の半導体装置。
- 前記第2の回路に含まれる前記トランジスタのゲート幅と、前記複数の第2のインターフェース回路に含まれる複数の前記トランジスタのゲート幅の合計との和が、予め定められた値となるよう、前記第2の回路に含まれる前記トランジスタのゲート幅が設定されている請求項4又は5に記載の半導体装置。
- 前記第1の回路に含まれるCMOSインバータを構成するトランジスタのゲート幅と、前記複数の第1のインターフェース回路の各々に含まれるCMOSインバータを構成するトランジスタのゲート幅とは、互いに等しい請求項3に記載の半導体装置。
- 前記第1の抵抗は、前記複数の第1のインターフェース回路と前記複数の第2のインターフェース回路との間にそれぞれ存在する複数の抵抗のいずれよりも小さい請求項1乃至7のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1の容量は、トランジスタのゲート容量である請求項1乃至8のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第2の回路は、更に、前記第3の電源線に結合される第4のサージ電流経路と、前記第4の電源線に結合される第5のサージ電流経路とを有する請求項1乃至9のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1の電源線と前記第3の電源線との間に結合されると共に、第1のブレークダウン達成時間を有する第1の保護回路と、
前記第1の電源線と前記第4の電源線との間に結合されると共に、第2のブレークダウン達成時間を有する第2の保護回路と、
前記第2の電源線と前記第4の電源線との間に結合されると共に、第3のブレークダウン達成時間を有する第3の保護回路と、
前記第2の電源線と前記第3の電源線との間に結合されると共に、第4のブレークダウン達成時間を有する第4の保護回路と、
を更に含み、
前記第1の時定数は、前記第1のブレークダウン達成時間、前記第2のブレークダウン達成時間、前記第3のブレークダウン達成時間、及び前記第4のブレークダウン達成時間のいずれよりも長い請求項1乃至10のいずれかに記載の半導体装置。 - 前記第2の回路は、出力を有しない請求項1乃至11のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第2の回路は、前記第3のサージ電流経路に接続された入力とフローティングされた出力とを有する請求項1乃至11のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1の回路の数及び前記第2の回路の数は、共に1である請求項1乃至13のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1の容量は、キャパシタ素子の容量である請求項1に記載の半導体装置。
- 第1の電源系に属する第1の電源線と第2の電源線との間にそれぞれ電気的に結合される、複数の第1のインターフェース回路と、
前記第1の電源線に結合される第1のサージ電流経路と、前記第2の電源線に結合される第2のサージ電流経路と、第3のサージ電流経路に電気的に接続される入力を有し且つ出力を有さない第1のダミー論理回路と、
を少なくとも含む半導体装置。 - 前記第1のダミー論理回路は、少なくとも1つのトランジスタを有し、前記トランジスタのゲート幅は、前記複数の第1のインターフェース回路の各々に含まれるトランジスタのゲート幅より広い請求項16に記載の半導体装置。
- 第1の電源系に属する第1の電源線と第2の電源線との間にそれぞれ電気的に結合される、複数の第1のインターフェース回路と、
前記第1の電源線に結合される第1のサージ電流経路と、前記第2の電源線に結合される第2のサージ電流経路と、第3のサージ電流経路に電気的に接続される入力とフローティングされた出力とを有する第1のダミー論理回路と、
を少なくとも含む半導体装置。 - 前記第1の論理回路は、少なくとも1つのトランジスタを有し、前記トランジスタのゲート幅は、前記複数の第1のインターフェース回路の各々に含まれるトランジスタのゲート幅より広い請求項18に記載の半導体装置。
- 第1の電源系に属する第1の電源線と前記第1の電源系に属する第2の電源線との間にそれぞれ電気的に結合される、複数の第1のインターフェース回路と、
前記第1の電源線に結合される第1のサージ電流経路と、前記第2の電源線に結合される第2のサージ電流経路とを有し、前記複数の第1のインターフェース回路の数より少ない数の第1の回路と、
前記第1の電源系から独立した第2の電源系に属する第3の電源線と前記第2の電源系に属する第4の電源線との間にそれぞれ電気的に結合されると共に、前記複数の第1のインターフェース回路の対応するものにそれぞれ電気的に結合される、複数の第2のインターフェース回路と、
前記第3の電源線に結合される第3のサージ電流経路と、前記第4の電源線に結合される第4のサージ電流経路と、前記第1の回路に結合される第5のサージ電流経路と、前記第5のサージ電流経路に結合される入力とを有し、更に出力を有しない、前記複数の第2のインターフェース回路の数より少ない数の第2の回路と、
を少なくとも含む半導体装置。 - 前記第2の回路は、少なくとも1つのトランジスタを有し、前記トランジスタのゲート幅は、前記複数の第2のインターフェース回路の各々に含まれるトランジスタのゲート幅より広い請求項20に記載の半導体装置。
- 前記第2の回路は、前記第5のサージ電流経路に結合される第1の抵抗と第1の容量とで与えられる第1の時定数を更に有する請求項20又は21に記載の半導体装置。
- 前記第1の電源線と前記第3の電源線との間に結合されると共に、第1のブレークダウン達成時間を有する第1の保護回路と、
前記第1の電源線と前記第4の電源線との間に結合されると共に、第2のブレークダウン達成時間を有する第2の保護回路と、
前記第2の電源線と前記第4の電源線との間に結合されると共に、第3のブレークダウン達成時間を有する第3の保護回路と、
前記第2の電源線と前記第3の電源線との間に結合されると共に、第4のブレークダウン達成時間を有する第4の保護回路と、
を更に含み、
前記第1の時定数は、前記第1のブレークダウン達成時間、前記第2のブレークダウン達成時間、前記第3のブレークダウン達成時間、及び前記第4のブレークダウン達成時間のいずれよりも長い請求項22に記載の半導体装置。 - 第1の電源系に属する第1の電源線と前記第1の電源系に属する第2の電源線との間にそれぞれ電気的に結合される、複数の第1のインターフェース回路と、
前記第1の電源線に結合される第1のサージ電流経路と、前記第2の電源線に結合される第2のサージ電流経路とを有し、前記複数の第1のインターフェース回路の数より少ない数の第1の回路と、
前記第1の電源系から独立した第2の電源系に属する第3の電源線と第4の電源線との間にそれぞれ電気的に結合されると共に、前記複数の第1のインターフェース回路の対応するものにそれぞれ電気的に結合される、複数の第2のインターフェース回路と、
前記第3の電源線に結合される第3のサージ電流経路と、前記第4の電源線に結合される第4のサージ電流経路と、前記第1の回路に結合される第5のサージ電流経路と、前記第5のサージ電流経路に結合される入力と、フローティングされた出力とを有する、前記複数の第2のインターフェース回路の数より少ない数の第2の回路と、
を少なくとも含む半導体装置。 - 前記第2の回路は、少なくとも1つのトランジスタを有し、前記トランジスタのゲート幅は、前記複数の第2のインターフェース回路の各々に含まれるトランジスタのゲート幅より広い請求項24に記載の半導体装置。
- 前記第2の回路は、前記第5のサージ電流経路に結合される第1の抵抗と第1の容量とで与えられる第1の時定数を更に有する請求項24又は25に記載の半導体装置。
- 前記第1の電源線と前記第3の電源線との間に結合されると共に、第1のブレークダウン達成時間を有する第1の保護回路と、
前記第1の電源線と前記第4の電源線との間に結合されると共に、第2のブレークダウン達成時間を有する第2の保護回路と、
前記第2の電源線と前記第4の電源線との間に結合されると共に、第3のブレークダウン達成時間を有する第3の保護回路と、
前記第2の電源線と前記第3の電源線との間に結合されると共に、第4のブレークダウン達成時間を有する第4の保護回路と、
を更に含み、
前記第1の時定数は、前記第1のブレークダウン達成時間、前記第2のブレークダウン達成時間、前記第3のブレークダウン達成時間、及び前記第4のブレークダウン達成時間のいずれよりも長い請求項26に記載の半導体装置。 - 第1の電源系に属する第1の電源線と前記第1の電源系に属する第2の電源線との間にそれぞれ電気的に結合される、複数の第1のインターフェース回路と、
前記第1の電源線に結合される第1のサージ電流経路と、前記第2の電源線に結合される第2のサージ電流経路とを有し、前記複数の第1のインターフェース回路の数より少ない数の第1の回路と、
前記第1の電源系から独立した第2の電源系に属する第3の電源線と第4の電源線との間にそれぞれ電気的に結合されると共に、前記複数の第1のインターフェース回路にそれぞれ電気的に結合される、複数の第2のインターフェース回路と、
前記第1の電源線と前記第3の電源線との間に結合されると共に、第1のブレークダウン達成時間を有する第1の保護回路と、
前記第1の電源線と前記第4の電源線との間に結合されると共に、第2のブレークダウン達成時間を有する第2の保護回路と、
前記第2の電源線と前記第4の電源線との間に結合されると共に、第3のブレークダウン達成時間を有する第3の保護回路と、
前記第2の電源線と前記第3の電源線との間に結合されると共に、第4のブレークダウン達成時間を有する第4の保護回路と、
前記第3の電源線に結合される第3のサージ電流経路と、前記第4の電源線に結合される第4のサージ電流経路と、前記第1の回路に結合される第5のサージ電流経路と、前記第5のサージ電流経路に結合される第1の抵抗と第1の容量とで与えられる第1の時定数であって且つ前記第1のブレークダウン達成時間、前記第2のブレークダウン達成時間、前記第3のブレークダウン達成時間、及び前記第4のブレークダウン達成時間のいずれよりも長い第1の時定数とを有すると共に、前記複数の第2のインターフェース回路の数より少ない数の第2の回路と、
を少なくとも含む半導体装置。 - 前記第2の回路に含まれるトランジスタのゲート幅は、前記複数の第2のインターフェース回路の各々に含まれるトランジスタのゲート幅より広い請求項28に記載の半導体装置。
- 前記第2の回路は、前記第5のサージ電流経路に結合される入力を有し、更に、出力を有さない請求項29に記載の半導体装置。
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