JP2007031353A - 3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体 - Google Patents
3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007031353A JP2007031353A JP2005217629A JP2005217629A JP2007031353A JP 2007031353 A JP2007031353 A JP 2007031353A JP 2005217629 A JP2005217629 A JP 2005217629A JP 2005217629 A JP2005217629 A JP 2005217629A JP 2007031353 A JP2007031353 A JP 2007031353A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- oxa
- hydrogen atom
- atom
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
Abstract
【解決手段】 下記式(1)
【化1】
(式中、Raは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基等を示し、R1、R2は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基等を示し、R3、R4、R5は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基等を示し、Xは酸素原子又は硫黄原子を示す。但し、R5、R6のうち一方が水素原子であり他方が水素原子又は置換オキシカルボニル基である場合には、R1、R2、R3、R4、R5のうち少なくとも1つは水素原子ではない)で表される3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体。
【選択図】 なし
Description
本発明の他の目的は、前記3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体の合成原料として有用な新規な5−ヒドロキシ−3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体とその効率のよい製造法を提供することにある。
で表される3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体を提供する。
で表される5−ヒドロキシ−3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体と、下記式(3)
で表される不飽和カルボン酸又はその反応性誘導体を反応させて、下記式(1)
で表される3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体を得る3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体の製造法を提供する。
で表される5−ヒドロキシ−3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体を提供する。
で表される2,3−エポキシ−7−オキサ(又はチア)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−5−カルボン酸誘導体を環化反応に付して、下記式(2)
で表される5−ヒドロキシ−3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体を得る5−ヒドロキシ−3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体の製造法を提供する。
下記の反応工程式に従って、5−メタクリロイルオキシ−8−メチル−3,7−ジオキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン及び5−メタクリロイルオキシ−6−メチル−3,7−ジオキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オンを製造した。
[式(1a)で表される5−メタクリロイルオキシ−8−メチル−3,7−ジオキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン及び式(1b)で表される5−メタクリロイルオキシ−6−メチル−3,7−ジオキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オンの混合物のスペクトルデータ]
1H−NMR(CDCl3) δ:6.14-6.17(1H), 5.63-5.66(1H), 4.78-4.81(1H), 4.63-4.65(1H), 4.27-4.31(1H), 2.35-2.48(2H), 2.12-2.15(1H), 1.96(3H), 1.73(3H)
[式(1c)で表される1−シアノ−5−メタクリロイルオキシ−3,7−ジオキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オンのスペクトルデータ]
1H−NMR(CDCl3) δ:6.16(1H), 5.65(1H), 4.62-4.93(m, 3H), 2.08-2.30(m, 2H), 1.93(s, 3H)
元素分析(CHN):Calculated % C 57.83, H 4.45, N 5.62
Found % C 57.88, H 4.43, N 5.56
MS:249, 180
Claims (4)
- 下記式(1)
で表される3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体。 - 下記式(2)
で表される5−ヒドロキシ−3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体と、下記式(3)
で表される不飽和カルボン酸又はその反応性誘導体を反応させて、下記式(1)
で表される3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体を得る3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体の製造法。 - 下記式(2)
で表される5−ヒドロキシ−3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体。 - 下記式(4)
で表される2,3−エポキシ−7−オキサ(又はチア)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−5−カルボン酸誘導体を環化反応に付して、下記式(2)
で表される5−ヒドロキシ−3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体を得る5−ヒドロキシ−3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005217629A JP4740677B2 (ja) | 2005-07-27 | 2005-07-27 | 3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005217629A JP4740677B2 (ja) | 2005-07-27 | 2005-07-27 | 3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007031353A true JP2007031353A (ja) | 2007-02-08 |
JP4740677B2 JP4740677B2 (ja) | 2011-08-03 |
Family
ID=37791026
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005217629A Expired - Fee Related JP4740677B2 (ja) | 2005-07-27 | 2005-07-27 | 3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4740677B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008231059A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Daicel Chem Ind Ltd | 電子吸引性置換基及びラクトン骨格を含む多環式エステル及びその高分子化合物、フォトレジスト組成物 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4828603A (en) * | 1988-03-21 | 1989-05-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Herbicidal oxatricyclo-nonane ethers |
JP2000026446A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-25 | Nec Corp | ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 |
JP2000159758A (ja) * | 1998-09-25 | 2000-06-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ―ン形成方法 |
JP2002169289A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Daicel Chem Ind Ltd | フォトレジスト用高分子及びフォトレジスト用樹脂組成物 |
JP2002212174A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-07-31 | Daicel Chem Ind Ltd | 2−オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−3−オン誘導体及びその製造法 |
JP2003226689A (ja) * | 2001-06-25 | 2003-08-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 新規なエステル化合物 |
JP2004271843A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
JP2004315494A (ja) * | 2003-02-26 | 2004-11-11 | Tosoh Corp | ラクトン化合物、ラクトン構造を有する含フッ素アクリレート誘導体及びそれらの製造方法 |
-
2005
- 2005-07-27 JP JP2005217629A patent/JP4740677B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4828603A (en) * | 1988-03-21 | 1989-05-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Herbicidal oxatricyclo-nonane ethers |
JP2000026446A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-25 | Nec Corp | ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 |
JP2000159758A (ja) * | 1998-09-25 | 2000-06-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ―ン形成方法 |
JP2002169289A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Daicel Chem Ind Ltd | フォトレジスト用高分子及びフォトレジスト用樹脂組成物 |
JP2002212174A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-07-31 | Daicel Chem Ind Ltd | 2−オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−3−オン誘導体及びその製造法 |
JP2003226689A (ja) * | 2001-06-25 | 2003-08-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 新規なエステル化合物 |
JP2004315494A (ja) * | 2003-02-26 | 2004-11-11 | Tosoh Corp | ラクトン化合物、ラクトン構造を有する含フッ素アクリレート誘導体及びそれらの製造方法 |
JP2004271843A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008231059A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Daicel Chem Ind Ltd | 電子吸引性置換基及びラクトン骨格を含む多環式エステル及びその高分子化合物、フォトレジスト組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4740677B2 (ja) | 2011-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4212576B2 (ja) | 3−オキサ−2−チアトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン誘導体 | |
JP4740951B2 (ja) | シアノ基及びラクトン骨格を含む多環式エステル | |
JP4781086B2 (ja) | 脂環式骨格を有する高分子化合物 | |
JP4740677B2 (ja) | 3−オキサ−7−オキサ(又はチア)トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体 | |
JP5352387B2 (ja) | スルトン誘導体の製造方法 | |
JP4718922B2 (ja) | 3−オキサ−7−チアトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン誘導体 | |
Katritzky et al. | A Novel Heterocycle-Stabilized Homoenolate Anion and Its Applications in the Syntheses of. beta.-Propenoylcarboxylic Esters, Cyclopropanecarboxylic Esters, 1-Vinyl-1-ethoxy Epoxides, and. gamma.-Lactones | |
JP4796794B2 (ja) | ラクトン骨格を含む多環式エステル | |
JP4748860B2 (ja) | 2−オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−3−オン誘導体及びその製造法 | |
EP1302469B1 (en) | Process for producing hydroxylactone | |
JP4832019B2 (ja) | 環状カーボネート骨格を含む多環式エステル | |
JP4993263B2 (ja) | 2−(メタ)アクリロイルオキシ−6−シアノ−5−オキソ−4−オキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナンの製造方法。 | |
JP4748848B2 (ja) | 5−ヒドロキシ−2,6−ノルボルナンカルボラクトン及びその(メタ)アクリル酸エステルの製造法 | |
WO2016141563A1 (zh) | 脂环式环氧化合物及其制造方法、以及2-羟基-4-氧杂-5-硫杂三环[4.2.1.03,7]壬烷衍生物的制造方法 | |
JP5005197B2 (ja) | 多環式エステル | |
JP4919508B2 (ja) | フォトレジスト用単量体、高分子化合物及びフォトレジスト組成物 | |
JP2009256307A (ja) | 不飽和カルボン酸アダマンチルエステル及びその製造法 | |
JP5572127B2 (ja) | 脂環式骨格を有する高分子化合物 | |
JP4659251B2 (ja) | ヒドロキシ−4−オキサトリシクロ[4.3.1.13,8]ウンデカン−5−オン及びその(メタ)アクリル酸エステルの製造方法 | |
JP2002226474A (ja) | ラクトン環を含有する(メタ)アクリル酸エステル誘導体の製造方法 | |
EP0478803B1 (en) | Process for producing (S)-gamma-acyloxy-methyl-alpha-beta-butenolide | |
JP2019513808A (ja) | ビマトプロストの調製方法 | |
JP2005023063A (ja) | 新規なラクトン化合物 | |
JP2002205988A (ja) | 5−ヒドロキシ−3−オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン誘導体の製造法 | |
JPH11158182A (ja) | ビスエポキシ−1,5,7,11−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン誘導体及びその製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070704 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080401 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110201 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110329 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110426 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110502 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |