JP2007025419A - 液晶装置の製造方法及び液晶装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 第1の基板に、紫外線ラジカル硬化型接着材料を用いて仮止め部及びシール部を形成する工程(S22,S23)と、前記第1の基板と第2の基板とを圧着し、前記仮止め部に紫外線を照射して硬化させて、前記第1及び第2の基板同士を貼り合わせる工程(S24,S25)と、前記シール部に紫外線を照射して硬化させる工程(S27)とを具備したことを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
液晶装置は、図2及び図3に示すように、例えば、石英基板、ガラス基板、シリコン基板を用いたTFT基板10と、これに対向配置される、例えばガラス基板や石英基板を用いた対向基板20との間に液晶50を封入して構成される。対向配置されたTFT基板10と対向基板20とは、シール材52によって貼り合わされている。
第1層には、例えば、Ti(チタン)、Cr(クロム)、W(タングステン)、Ta(タンタル)、Mo(モリブデン)等の高融点金属のうちの少なくとも一つを含む、金属単体、合金、金属シリサイド、ポリシリサイド、これらを積層したもの、或いは導電性ポリシリコン等からなる走査線11aが設けられている。走査線11aは、同一行に存在するTFT30のON・OFFを一斉に制御する機能を有する。また、走査線11aは、画素電極9aが形成されない領域を略埋めるように形成されており、TFT30に下側から入射しようとする光を遮る機能をも有している。これにより、TFT30の半導体層1aにおける光リーク電流の発生を抑制し、フリッカ等のない高品質な画像表示が可能となる。
Claims (7)
- 第1の基板に、紫外線ラジカル硬化型接着材料を用いて仮止め部及びシール部を形成する工程と、
前記第1の基板と第2の基板とを圧着し、前記仮止め部に紫外線を照射して硬化させて、前記第1及び第2の基板同士を貼り合わせる工程と、
前記シール部に紫外線を照射して硬化させる工程とを具備したことを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 前記仮止め部は、前記第1及び第2の基板同士を導通させるための導通部を兼ねることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記仮止め部を硬化させる工程は、前記シール部をマスクする工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記シール部を硬化させる工程は、500〜5000mJ/cm2の照射光量を前記シール部に照射することによって行われることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記シール部を硬化させる工程は、前記シール部によって囲まれた表示領域をマスクする工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶装置の製造方法。
- 対向基板に、紫外線ラジカル硬化型接着材料を用いて仮止め部及びシール部を形成する工程と、
複数の素子基板を含む素子マザー基板上の前記素子基板上に、前記仮止め部及びシール部が形成された対向基板を圧着し、前記仮止め部に紫外線を照射して硬化させて、前記対向基板と前記素子マザー基板とを貼り合わせる工程と、
前記仮止め部を硬化させる工程によって複数の前記対向基板が前記素子マザー基板に貼り合わされた後に、前記複数の対向基板の各シール部に紫外線を照射して硬化させる工程とを具備したことを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 電気光学物質を介在させた第1及び第2の基板同士を貼り合わせるために前記第1及び第2の基板の少なくとも一方に紫外線ラジカル硬化型接着材料によって形成されるシール部と、
前記シール部と異なる位置に紫外線ラジカル硬化型接着材料によって形成される仮止め部とを具備したことを特徴とする液晶装置。
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Citations (6)
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---|---|---|---|---|
JPH05127174A (ja) * | 1991-10-31 | 1993-05-25 | Sony Corp | 液晶表示パネルの製造方法 |
JPH05333351A (ja) * | 1992-05-28 | 1993-12-17 | Nippondenso Co Ltd | 液晶表示パネルの製造方法 |
JPH0695061A (ja) * | 1992-09-17 | 1994-04-08 | Fujitsu Ltd | 液晶表示パネル |
JP2000162615A (ja) * | 1998-11-25 | 2000-06-16 | Seiko Epson Corp | 液晶装置の製造方法並びに露光マスク及び露光装置 |
JP2002357836A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネルおよびその製造方法 |
JP2003114441A (ja) * | 2001-10-02 | 2003-04-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法および製造装置 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05127174A (ja) * | 1991-10-31 | 1993-05-25 | Sony Corp | 液晶表示パネルの製造方法 |
JPH05333351A (ja) * | 1992-05-28 | 1993-12-17 | Nippondenso Co Ltd | 液晶表示パネルの製造方法 |
JPH0695061A (ja) * | 1992-09-17 | 1994-04-08 | Fujitsu Ltd | 液晶表示パネル |
JP2000162615A (ja) * | 1998-11-25 | 2000-06-16 | Seiko Epson Corp | 液晶装置の製造方法並びに露光マスク及び露光装置 |
JP2002357836A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネルおよびその製造方法 |
JP2003114441A (ja) * | 2001-10-02 | 2003-04-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法および製造装置 |
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