JP2007023382A - ワイヤーボンディング接合用の金めっき皮膜形成用無電解金めっき液 - Google Patents
ワイヤーボンディング接合用の金めっき皮膜形成用無電解金めっき液 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】シアン化金化合物と、シュウ酸及び/又はその塩とを含有し、下地金属溶出抑制剤を含まないことを特徴とするワイヤーボンディング接合用の金めっき皮膜形成用無電解金めっき液。シアン化金化合物は金イオン濃度で0.5〜10g/L、シュウ酸及び/又はその塩は5〜50g/Lが好ましい。前記無電解金めっき液は、下地溶出金属の隠蔽剤を含有することが好ましく、前記隠蔽剤はエチレンジアミン四酢酸及び/又はその塩が好ましい。
【選択図】 なし
Description
ソルダーレジストを使用して形成した、大きさ50×50mmの銅素地微細回路を有する樹脂製テスト基板(線幅50〜100μm、ボンディング用パッド、シェア強度用のランド径0.6mm)を用意した。このテスト基板上に、市販の無電解ニッケルめっき液(日本カニゼン製 SN−150)を用いて、厚さ5μmの無電解ニッケルめっき皮膜を形成した。以下、この無電解ニッケルめっきを施した基板をニッケルめっき試料と称する。
実施例1で調製して得ためっき液を水酸化カリウムでpH7.0に調整し、液温85℃として、これにニッケルめっき試料を5分間浸漬した。5分後に下地金めっき試料を取出し、膜蛍光X線厚計測定器で析出膜厚を測定した。下地金めっき試料の金膜厚は0.05μmであった。
純水にシアン化金カリウムをAuとして2g/L、シュウ酸カリウム一水和物を20g/L、エチレンジアミン四酢酸を5g/L、リン酸二水素カリウムを5g/L、ベンゾトリアゾールを5g/L溶解させ置換無電解金めっき液を調製した。
比較例1で調製して得ためっき液を水酸化カリウムでpH7.0に調整し、液温85℃としてニッケルめっき試料を5分間浸漬した。5分後にめっき液から下地金めっき試料を取出し、膜蛍光X線厚計測定器で析出膜厚を測定した。下地金めっき試料の金膜厚は0.03μmであった。
実施例1〜2及び比較例1〜2で得られた下地金めっき処理済の試料を、更に還元金めっき液(エヌ・イー ケムキャット製 スーパーメックス#850)を用いて無電解金めっき上塗り処理を施し、金膜厚を0.5μmとした。以下、この上塗り金めっきを施した基板を上塗り金めっき試料と称する。得られた上塗り金めっき試料についてワイヤーボンディングプル強度試験を行い、表1に示す試験結果を得た。
EDTAを添加していない以外は実施例1と同様の下地金めっき用置換無電解金めっき液を用いて、実施例1と同様に操作した。
4 無電解ニッケル皮膜
6 無電解金めっき皮膜
8 金リード線
10 ニッケル皮膜と金めっき皮膜との界面
22 銅素地部
24 ニッケル皮膜
26 無電解金めっき皮膜
32 半田ボール
34 ソルダーレジスト
Claims (5)
- シアン化金化合物と、シュウ酸及び/又はその塩とを含有し、下地金属溶出抑制剤を含まないことを特徴とするワイヤーボンディング接合用の金めっき皮膜形成用無電解金めっき液。
- シアン化金化合物を金イオン濃度で0.5〜10g/L、シュウ酸及び/又はその塩を5〜50g/L含有する請求項1に記載のワイヤーボンディング接合用の金めっき皮膜形成用無電解金めっき液。
- 下地溶出金属の隠蔽剤を含有する請求項1に記載のワイヤーボンディング接合用の金めっき皮膜形成用無電解金めっき液。
- 下地溶出金属隠蔽剤がエチレンジアミン四酢酸及び/又はその塩である請求項3に記載のワイヤーボンディング接合用の金めっき皮膜形成用無電解金めっき液。
- 結晶調整剤を含有し、前記結晶調整剤が砒素化合物、タリウム化合物及び鉛化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種類である請求項1に記載のワイヤーボンディング接合用の金めっき皮膜形成用無電解金めっき液。
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JP2000178755A (ja) * | 1998-12-14 | 2000-06-27 | Okuno Chem Ind Co Ltd | 置換型無電解金めっき液 |
JP2002012979A (ja) * | 2000-04-25 | 2002-01-15 | Okuno Chem Ind Co Ltd | 置換型無電解金めっき方法 |
JP2003147542A (ja) * | 2001-11-14 | 2003-05-21 | Japan Pure Chemical Co Ltd | 無電解置換型金メッキ液 |
WO2004038063A1 (ja) * | 2002-10-22 | 2004-05-06 | Nihon Koujundo Kagaku Co., Ltd. | 置換型無電解金めっき液 |
JP2004190093A (ja) * | 2002-12-11 | 2004-07-08 | Ne Chemcat Corp | 置換無電解金めっき浴 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000087251A (ja) * | 1998-09-04 | 2000-03-28 | Okuno Chem Ind Co Ltd | 無電解金めっき液 |
JP2000178755A (ja) * | 1998-12-14 | 2000-06-27 | Okuno Chem Ind Co Ltd | 置換型無電解金めっき液 |
JP2002012979A (ja) * | 2000-04-25 | 2002-01-15 | Okuno Chem Ind Co Ltd | 置換型無電解金めっき方法 |
JP2003147542A (ja) * | 2001-11-14 | 2003-05-21 | Japan Pure Chemical Co Ltd | 無電解置換型金メッキ液 |
WO2004038063A1 (ja) * | 2002-10-22 | 2004-05-06 | Nihon Koujundo Kagaku Co., Ltd. | 置換型無電解金めっき液 |
JP2004190093A (ja) * | 2002-12-11 | 2004-07-08 | Ne Chemcat Corp | 置換無電解金めっき浴 |
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