JP2007017673A - 結像光学系、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 物体面のパターンの像を像面上に結像する結像光学系であって、真空雰囲気での結像倍率αを有し、第1の結像位置に結像する第1の結像光学系と、真空雰囲気での結像倍率βを有し、第2の結像位置に結像する第2の結像光学系とを有し、前記結像光学系が配置される環境が、真空雰囲気から大気雰囲気、又は、大気雰囲気から真空雰囲気に変化した場合において、前記第1の結像位置が光軸に沿って変化する方向と、前記第2の結像位置が光軸に沿って変化する方向とが、互いに逆方向であることを特徴とする結像光学系を提供する。
【選択図】 図1
Description
110 第1の結像光学系
111 第1のレンズ
112 第2のレンズ
113 第3のレンズ
114 第4のレンズ
115 第5のレンズ
120 第2の結像光学系
121 第6のレンズ
122 第7のレンズ
123 第8のレンズ
300 露光装置
350 アライメント検出系
360 フォーカス位置検出系
361 LED光源
362 マーク
363 プロジェクションユニット
364 ディテクションユニット
365 CCD
VC 真空雰囲気
Claims (14)
- 物体面のパターンの像を像面上に結像する結像光学系であって、
真空雰囲気での結像倍率αを有し、第1の結像位置に結像する第1の結像光学系と、
真空雰囲気での結像倍率βを有し、第2の結像位置に結像する第2の結像光学系とを有し、
前記結像光学系が配置される環境が、真空雰囲気から大気雰囲気、又は、大気雰囲気から真空雰囲気に変化した場合において、
前記第1の結像位置が光軸に沿って変化する方向と、前記第2の結像位置が光軸に沿って変化する方向とが、互いに逆方向であることを特徴とする結像光学系。 - 前記結像光学系が配置される環境が、真空雰囲気から大気雰囲気、又は、大気雰囲気から真空雰囲気に変化した場合において、
前記結像光学系の結像位置が光軸に沿って変化する変化量d3は、前記結像光学系の前記像面側の開口数をNAIMG、前記光の波長をλとすると、
−2×λ×(1/2NAIMG)2<d3<2×λ×(1/2NAIMG)2
を満足することを特徴とする請求項1記載の結像光学系。 - 前記結像光学系が配置される環境が、真空雰囲気から大気雰囲気、又は、大気雰囲気から真空雰囲気に変化した場合において、
前記第1の結像位置が光軸に沿って変化する変化量d1と、前記第2の結像位置が光軸に沿って変化する変化量d2とは、
|d1|−|d2|/(α×β)2/α2=0
を満足することを特徴とする請求項1記載の結像光学系。 - 前記第1の結像光学系の結像倍率αと、前記第2の結像光学系の結像倍率βとは、
2<2|α|<|β|
を満足することを特徴とする請求項1記載の結像光学系。 - 前記結像光学系が配置される環境が、真空雰囲気から大気雰囲気、又は、大気雰囲気から真空雰囲気に変化した場合において、
前記結像光学系の真空雰囲気での結像倍率αvac×βvacと、前記結像光学系の大気雰囲気での結像倍率αair×βairとは、
−(αvac×βvac)/10≦(αvac×βvac)−(αair×βair)≦(αvac×βvac)/10
を満足することを特徴とする請求項1記載の結像光学系。 - 前記結像光学系が配置される環境が、真空雰囲気から大気雰囲気、又は、大気雰囲気から真空雰囲気に変化した場合において、
真空雰囲気での前記結像光学系の結像面位置の波面収差WAvacと、大気雰囲気での前記結像光学系の結像面位置の波面収差WAairとは、前記光の波長をλとすると、
|WAvac|≦λ/4 且つ |WAair|≦λ/4
を満足することを特徴とする請求項1記載の結像光学系。 - 前記第1の結像光学系の第1の結像位置の光軸方向の変化量d1と、前記第2の結像光学系の第2の結像位置の光軸方向の変化量d2の変化の方向が互いに逆方向になるように、前記第1及び第2の結像光学系を構成するガラス材料の分散値を所定の値に設定したことを特徴とする請求項1記載の結像光学系。
- 物体面のパターンの像を像面上に結像する結像光学系であって、
正の屈折率を有する第1のレンズ群と、
第2のレンズ群とを有し、
前記第1のレンズ群は、
前記物体面側に平面を向けた正の第1のレンズと、
前記物体面側に凸面を向けた正の第2のレンズと、
前記物体面側に凹面を向けた負の第3のレンズと、
前記物体面側に凸面を向けた正の第4のレンズと、
前記物体面側に凹面を向けた負の第5のレンズとを有し、
前記第2のレンズ群は、
前記物体面側に平面を向けた正の第6のレンズと、
前記物体面側に凸面を向けたメニスカス形状の負の第7のレンズと、
前記物体面側に凸面を向けた正の第8のレンズとを有することを特徴とする結像光学系。 - 物体面のパターンの像を像面上に結像する結像光学系において、
前記物体面のパターンの中間像を結像する第1の結像光学系と、
前記中間像の像を結像する第2の結像光学系と、を備え、
前記第1の結像光学系及び前記第2の結像光学系が配置される雰囲気の屈折率が変化した場合に、前記第1の結像光学系及び前記第2の結像光学系のうちいずれか一方の物像間距離が長くなると、他方の物像間距離が短くなることを特徴とする結像光学系。 - 光源からの光を用いて、マスクのパターンで被処理体を露光する露光装置であって、
前記被処理体の表面の位置を検出する検出光学系を有し、
前記検出光学系は、請求項1乃至9のうちいずれか一項記載の結像光学系を含むことを特徴とする露光装置。 - 光源からの光を用いて、マスクのパターンで被処理体を露光する露光装置であって、
前記マスクと前記被処理体との相対位置を検出する検出光学系を有し、
前記検出光学系は、請求項1乃至9のうちいずれか一項記載の結像光学系を含むことを特徴とする露光装置。 - 光源からの光を用いて、マスクのパターンで被処理体を露光する露光装置であって、
前記被処理体の表面の位置を検出する第1の検出光学系と、
前記マスクと前記被処理体との相対位置を検出する第2の検出光学系とを有し、
前記第1の検出光学系及び前記第2の検出光学系の少なくとも一方は、請求項1乃至9のうちいずれか一項記載の結像光学系を含むことを特徴とする露光装置。 - 前記光は、波長20nm以下のEUV光であることを特徴とする請求項10、11又は12記載の露光装置。
- 請求項10乃至13のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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