JP2007016185A - 被処理物ガス化システムと被処理物ガス化方法 - Google Patents
被処理物ガス化システムと被処理物ガス化方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】被処理物をガス化するガス化設備2と、このガス化設備2により得られたガス化ガス3を精製するガス精製設備4と、このガス精製設備4で精製されたガス化ガスからメタノールを製造するメタノール合成触媒を有するメタノール製造装置5と、を有する。メタノール製造装置5から発生する使用済みメタノール合成触媒6が、ガス精製設備4の脱硫剤として使用される被処理物ガス化システム。
【選択図】図1
Description
H2 S+Cu++O2−→Cu+SH−+OH− (2)
脱硫装置の設置位置としては、下流側に位置するメタノール製造装置のメタノール合成用の昇圧工程の後段に設置する場合と、昇圧工程の前段に設置する場合とが考えられる。メタノール合成用の昇圧工程の後段に設置する場合には、高圧(3〜5MPa)条件となり、高い脱硫性能が得られるため必要な脱硫剤の容量は少なくてよいため、脱硫装置の容量も小さくて済む。しかし、高圧条件に適合した設備として、高圧ガス保安法による特定設備として規定を満たす必要があり、重厚な設備設計を要する。
ガス化炉にてガス化ガス100Nm3 /hを生成させ、上記実施形態の製造方法に基づいてメタノールを製造するに際して、使用済のメタノール合成触媒を用いて脱硫を試みた。ガス化ガス中に含まれる硫黄分(硫化水素、硫化カルボニルなど)は約20ppmであり、ガス精製設備の脱硫装置(脱硫塔)における脱硫剤の必要充填量は、1塔当たり100kg(SV値(空間速度)1000h−1)として、2塔を直列にして用いた。このときの脱硫条件は200℃であり、稼働日数を連続360日(8640時間)とし、硫黄除去率99.5%/2塔(95%/1塔)となるように使用済のメタノール合成触媒を2塔に充填して、このガス精製設備にて精製されたガス化ガス中の硫黄分を、0.1ppm未満となるように維持するために要する交換頻度(日数)を測定したところ、300日まで維持できた。その後、脱硫剤を補充し、上記稼働日数で消費した消費量は、総計120kgであった。その間、脱硫剤としては使用済のメタノール合成触媒のみを使用したので、新たな脱硫剤としての費用は不要であった。なお、メタノール合成に用いる触媒消費量は、充填量100kg(SV値1000h−1)に対して交換頻度24時間×90日/回であり、年間およそ400kgの使用済メタノール合成触媒が発生するため、実施例1で消費する使用済のメタノール合成触媒を十分に確保することができる。
実施例1と同様の条件で、ガス化ガスの脱硫を行ったが、使用済のメタノール合成触媒を用いることなく、市販の酸化亜鉛を用いて脱硫した。その場合、精製されたガス化ガス中の硫黄分を、0.1ppm未満となるように維持するために要する交換頻度(日数)を測定したところ、120日で交換する必要が生じ、結局、360日で脱硫剤を3回交換した。その間に要した費用は、300,000円であった。以上の結果を表1に示す。
次に、使用済みメタノール合成触媒を用いて脱硫試験を行った結果を、説明する。100時間メタノール合成に使用後、大気中への開放により酸化した使用済みメタノール合成触媒(ZnO:20wt%,CuO:50%)の脱硫剤粒径1〜2mm、12mL(SV値7500h−1)を内径21.4mmの脱硫塔に充填し、温度200±5℃、圧力3±0.1MPa、入口ガス流量1.5L/分、入口ガス組成(H2 /CO/CO2 /N2 /H2 S=35%/15%/15%/balance/400ppm)の条件で上記脱硫塔に通ガスを行い、脱硫塔後段でガスを冷却した後、背圧弁により大気圧に減圧したガスをサンプリングし、数中のH2 S濃度を測定した。その結果を図2に示す。図に示すように、H2 Sの破過率([出口濃度/入口濃度]×100)5%のときの通ガス時間は3600分であり、従って、脱硫設備入口ガス中のH2 S濃度が20ppm未満の場合は、脱硫塔を2基直列に接続することにより、3600分後に脱硫目標値0.1ppm未満を達成できることになる。脱硫設備入口ガス中のH2 S濃度が20ppmを越える場合は、脱硫塔を3基以上直列に接続するか、あるいは前段に湿式ガス精製設備を設けることで、脱硫目標値0.1ppm未満を達成できる。
かかる充填塔を2基直列に接続して設置することにより、出口のH2 S濃度を0.1ppm未満にできることになり、実施例1に示したように、300日で交換することにより、出口のH2 S濃度を0.1ppm未満にできたことになる。
(1)本発明に適用される原料としては、木屑、草木などの植物バイオマスや各種汚泥などはもとより、その他の有機系廃棄物などであってもよく、また、ガス化したガス中に含まれる硫黄分の量に限定されるものではない。
(2)上記実施形態では、ガス化設備として循環流動層ガス化炉を例に挙げて説明したが、これと同等程度の温度域の生成ガスを排出することができれば、他の流動層炉、ガス化炉であってもよい。
3 ガス化ガス
4 ガス精製設備
5 メタノール製造装置
6 使用済みメタノール合成触媒
Claims (6)
- 被処理物をガス化するガス化設備と、このガス化設備により得られたガス化ガスを精製するガス精製設備と、このガス精製設備で精製されたガス化ガスからメタノールを製造するメタノール合成触媒を有するメタノール製造装置と、を有する被処理物ガス化システムにおいて、
前記メタノール製造装置から発生する使用済みメタノール合成触媒が、前記ガス精製設備の脱硫剤として使用されることを特徴とする被処理物ガス化システム。 - 前記被処理物が硫黄分を含むバイオマスである請求項1記載の被処理物ガス化システム。
- 前記メタノール合成触媒が、酸化銅20〜70wt%、酸化亜鉛10〜60wt%を含み、前記酸化銅と酸化亜鉛の総計が50wt%以上である請求項1又は2記載の被処理物ガス化システム。
- 被処理物をガス化設備にてガス化し、このガス化ガスをガス精製設備により精製し、この精製されたガス化ガスを、メタノール合成触媒を有するメタノール製造装置に送給してメタノールを製造する被処理物ガス化方法において、
前記メタノール製造装置から発生する使用済みメタノール合成触媒を、前記ガス精製設備の脱硫剤として使用することを特徴とする被処理物ガス化方法。 - 前記被処理物が硫黄分を含むバイオマスである請求項4記載の被処理物ガス化方法。
- 前記メタノール合成触媒は、酸化銅20〜70wt%、酸化亜鉛10〜60wt%を含み、前記酸化銅と酸化亜鉛の総計が50wt%以上である請求項4又は5記載の被処理物ガス化方法。
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