JP2007007644A - ディスプレイ製造におけるシャドウマスクの洗浄方法(変形)および装置 - Google Patents
ディスプレイ製造におけるシャドウマスクの洗浄方法(変形)および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007007644A JP2007007644A JP2006157099A JP2006157099A JP2007007644A JP 2007007644 A JP2007007644 A JP 2007007644A JP 2006157099 A JP2006157099 A JP 2006157099A JP 2006157099 A JP2006157099 A JP 2006157099A JP 2007007644 A JP2007007644 A JP 2007007644A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- ion source
- ion
- vacuum chamber
- cooling holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】真空チャンバ1内においてイオン源2によりイオンビームを生成するステップと、チャンバ1内に、イオン源2の放射面3と対向させてマスク4を配置するステップとを含み、マスク4を配置した冷却ホルダ7を真空チャンバ1内に配置して、イオン源2の放射面3に面した、マスクの被処理面5を、リボンイオンビームを集束させることによりスキャンし、単一のイオンビームをこの面上に通過させている間にマスク面の要素が受け取るエネルギー線量が最大許容過熱に相当する熱量を超過しないように、スキャニングの速度を選択し、また、酸素または酸素との混合物をイオン生成ガスとして使用する。
【選択図】図1
Description
・物品から有機汚染物質を洗浄するときの効率が低くなること
・極薄の物品を洗浄するとき、物品が変形してしまうこと
・洗浄の質が高くないこと
・無機混合物による洗浄に関連する問題が解決されていないこと
・生産性が低いこと
技術的本質に従って提案する本発明に最も近いのは、イオン源により物品を処理するための方法および装置である。
・物品の洗浄速度を上昇させること
・洗浄温度を低下させること
・物品の洗浄に要する時間を短縮すること
・極薄(15から60μm)の物品(マスク)からの有機および無機堆積物の洗浄の質を向上させること
・極薄の物品の初期形状を維持すること
・洗浄プロセスにおいて物品の損傷および変形を排除すること
・生産性を向上させること
ここで、Piは、イオンビームの出力、
Liは、イオン源の長さ、
Cvは、熱容量、
hは、マスク厚、
ΔTは、マスク面を一度スキャンしている間の許容可能な過熱である。
寸法が(540×430mm)の汚染された物品(シャドウマスク)が、搬送マガジンとともに、OLEDディスプレイの製造用の、クラスタシステムの作動チャンバから真空搬送チャンバ内へ、そこから、真空洗浄チャンバ(以後、真空チャンバと呼ぶ)へ搬送される。
・面積が広いマスクを洗浄すること、
・面積が異なるマスクの高速洗浄を保証すること、
・被洗浄面の著しい加熱を減少させること、
・マスクの初期の形状寸法からのずれを減少させること、
・高い生産性および洗浄の質を保証すること、
が可能になる。
・物品の被処理面および非処理面から効率よく均一に除熱を行うこと、
・処理速度が増し処理に要する時間が短縮されること、
・過熱が妨げられ、したがって、物品の変形が妨げられること、
・垂直方向の部分に損傷を与えずに、物品の水平面の処理が効率よく高品質に行われること。
・第1に、寸法がより大きいマスク面の洗浄速度が増し、このような洗浄の均一性が高まること、
・第2に、マスクを使用するOLEDディスプレイ製造設備の作動サイクルの時間に対して洗浄時間が短縮されること、
・第3に、マスクパターンの初期の形状パラメータの維持が保証され、材料のどんな細かい損傷でさえ回避されること。
極薄(15から60μm)で、面積が2320cm2(540×430mm)のシャドウマスクを、提案した装置内において洗浄した。この装置は、クラスタ型の、OLEDディスプレイ製造工場の一体型真空システム内に含まれる。
−真空チャンバ内におけるマスク洗浄時間が、3〜7分間であること、
−洗浄プロセスにおけるマスクの温度が、50℃未満であること、
−マスクを無傷にすること、
−マスクを変形させないこと、および
−さらに使用するためにマスクの面を洗浄する目的で、真空チャンバからマスクを取り出す必要がないこと、
である。
・物品の被処理面の加熱温度を下げること、
・イオンビームによる物品洗浄プロセスの生産性を向上させること、
・洗浄中における被処理面の損傷を排除すること、
・物品の変形(初期の形状パラメータからのずれ)を排除すること、
・面積が異なる物品を処理し得ること、
・表面処理プロセスを完了すると、妨げられずに、冷却ホルダから物品を離し得ること、および
・厚さの範囲が15〜60μmである極薄の物品の処理の質を高めること。
1’: 孔
2: イオン源
3: 放射面
4: マスク
5: 被処理面
6: 非処理面
7: 冷却ホルダ
8: クランプ機構
9: 磁気システム
10: 位置調節部材
11: 回転歯車
Claims (20)
- ディスプレイ製造においてシャドウマスクを洗浄する方法であって、当該方法は、
真空チャンバ内においてイオン源によりイオンビームを生成するステップと、
前記チャンバ内に、イオン源の放射面と対向させて前記マスクを配置するステップと、
を含み、
前記マスクを配置した冷却ホルダを前記真空チャンバ内に配置して、前記イオン源の放射面に面した、前記マスクの被処理面を、リボンイオンビームを集束させることによりスキャンし、単一のイオンビームをこの面上に通過させている間に前記マスク面の要素が受け取るエネルギー線量が、最大許容過熱に相当する熱量を超過しないように、スキャニングの接線速度を選択し、また、酸素または酸素との混合物をイオン生成ガスとして使用することを特徴とする方法。 - 酸素を、Ar、Xe、Kr、Ne、N2、CxHy、およびCxFyからなる群から選択される少なくとも1つのガスと混合することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記混合物中の酸素部分は、10%を超えることを特徴とする請求項1、2のいずれかに記載の方法。
- ディスプレイ製造においてシャドウマスクを洗浄する方法であって、
真空チャンバ内においてイオン源によりイオンビームを生成するステップと、
前記チャンバ内に、前記イオン源の放射面と対向させて前記マスクを配置するステップと、
を含み、
前記マスクを配置した冷却ホルダを前記真空チャンバ内に配置し、
リボンイオンビームを集中させることにより、前記イオン源の放射面に面した、前記マスクの被処理面をスキャンしている間、前記冷却ホルダとマスクの非処理面との間の熱接触を保証するためのクランプ機構により、前記マスクを前記ホルダに押し付け、
単一のイオンビームをこの面上に通過させている間に前記マスク面の要素が受け取るエネルギー線量が、最大許容過熱に相当する熱量を超過しないように、スキャニングの接線速度を選択し、酸素またはその混合物をイオン生成ガスとして使用することを特徴とする方法。 - 酸素を、Ar、Xe、Kr、Ne、N2、CxHy、およびCxFyからなる群から選択される少なくとも1つのガスと混合することを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記混合物中の酸素部分は、10%を超えることを特徴とする請求項4、5のいずれかに記載の方法。
- 磁界源により生じる磁界により、前記マスクを前記冷却ホルダの面に押し付けることを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 請求項1、4のいずれかに記載の方法を実現する装置であって、
少なくとも1つのイオン源が中に配置され、前記イオン源の放射面に面した被処理面を有するマスクを有する真空チャンバを備え、
前記真空チャンバ内に配置される冷却ホルダと、
前記マスクを前記冷却ホルダに押し付けて、前記冷却ホルダと前記マスクの非処理面との間の熱接触を保証するように、前記真空チャンバの上方にかつ/またはその中に配置されるクランプ機構と、
がさらに設けられ、
前記イオン源は、前記イオンビームと前記マスクの被処理面との交差座標を変更し得るように設計されることを特徴とする装置。 - 陽極層を有する線形加速器を、イオン源として使用することを特徴とする請求項8に記載の装置。
- 前記イオン源を、前記冷却ホルダに対してクリアランスを設けて位置調節部材内に配置することを特徴とする請求項8に記載の装置。
- 前記位置調節部材には、前記位置調節部材が前記イオン源とともに回転することを保証する回転歯車が設けられることを特徴とする請求項10に記載の装置。
- 前記イオン源とともに前記位置調節部材が回転する角度は、前記真空チャンバ内に配置されたイオン源の数と、前記マスクの面積とにより決定されることを特徴とする請求項11に記載の装置。
- 前記位置調節部材は、前記イオン源および冷却ホルダの長手方向軸線に平行に配置されることを特徴とする請求項10に記載の装置。
- 前記クランプ機構は、前記マスクの平面に垂直方向に移動し得るように装着されることを特徴とする請求項8に記載の装置。
- 各前記位置調節部材内にそれぞれ配置されるイオン源を、2つまたはそれ以上含むことを特徴とする請求項8に記載の装置。
- 前記イオン源の位置調節部材は、前記マスクの平面と平行であり、前記マスクの平面と平行な同じ平面にあることを特徴とする請求項15に記載の装置。
- 前記イオン源の位置調節部材は、平行ではなく、別の平面にあることを特徴とする請求項15に記載の装置。
- 前記回転歯車は、前記位置調節部材の回転速度を変更し得ることを特徴とする請求項11に記載の装置。
- 前記クランプ機構は、多重極磁気システムの形態に形成されることを特徴とする請求項8に記載の装置。
- 前記多重極磁気システムは、同じ磁石を一組にして設計されることを特徴とする請求項19に記載の装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EA200501086A EA008187B1 (ru) | 2005-06-07 | 2005-06-07 | Способ очистки теневых масок в производстве дисплеев (варианты) и устройство для его реализации |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007007644A true JP2007007644A (ja) | 2007-01-18 |
Family
ID=37509439
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006157099A Pending JP2007007644A (ja) | 2005-06-07 | 2006-06-06 | ディスプレイ製造におけるシャドウマスクの洗浄方法(変形)および装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007007644A (ja) |
CN (1) | CN100577854C (ja) |
EA (1) | EA008187B1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1998389A1 (en) | 2007-05-31 | 2008-12-03 | Applied Materials, Inc. | Method of cleaning a patterning device, method of depositing a layer system on a substrate, system for cleaning a patterning device, and coating system for depositing a layer system on a substrate |
JP2011208255A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Ulvac Japan Ltd | クリーニング装置、成膜装置、成膜方法 |
CN104128342A (zh) * | 2013-05-02 | 2014-11-05 | 三星显示有限公司 | 用于清洗有机材料的方法和设备 |
US9233347B2 (en) | 2010-02-22 | 2016-01-12 | Fujikin Incorporated | Mixed gas supply device |
CN116347784A (zh) * | 2023-04-03 | 2023-06-27 | 上海铭控传感技术有限公司 | 一种电子线路板清洗系统及方法 |
CN116347784B (zh) * | 2023-04-03 | 2024-05-31 | 上海铭控传感技术有限公司 | 一种电子线路板清洗系统及方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106540928A (zh) * | 2016-10-24 | 2017-03-29 | 上海华力微电子有限公司 | 用于欧姆尼探针的修针装置以及修欧姆尼探针修针方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04120730A (ja) * | 1990-09-12 | 1992-04-21 | Hitachi Ltd | クリーニング方法とその装置 |
JPH0620640A (ja) * | 1992-07-06 | 1994-01-28 | Kobe Steel Ltd | イオン注入装置 |
JPH1064471A (ja) * | 1996-08-19 | 1998-03-06 | Hitachi Ltd | イオン注入装置 |
JP2000243598A (ja) * | 1999-02-17 | 2000-09-08 | Japan Atom Energy Res Inst | 中性原子ビーム光電離装置 |
JP2001507165A (ja) * | 1996-12-20 | 2001-05-29 | ガタン・インコーポレーテッド | 精密エッチング及びコーティング装置 |
JP2003173870A (ja) * | 2001-12-04 | 2003-06-20 | Sony Corp | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び製造方法 |
JP2004502869A (ja) * | 2000-07-12 | 2004-01-29 | オーテーベー、グループ、ベスローテン、フェンノートシャップ | 基材に少なくとも一つのプロセスを実施するための装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU1237358A1 (ru) * | 1984-04-04 | 1986-06-15 | Всесоюзный Научно-Исследовательский Институт По Монтажным И Специальным Строительным Работам | Подкладка дл формировани обратной стороны шва |
SU1461595A1 (ru) * | 1987-01-08 | 1989-02-28 | Институт Электросварки Им.Е.О.Патона | Способ односторонней сварки |
RU2071992C1 (ru) * | 1991-12-24 | 1997-01-20 | Научно-производственное предприятие "Новатех" | Способ обработки изделий источником ионов |
JP3309101B2 (ja) * | 1992-08-31 | 2002-07-29 | 株式会社シンクロン | 薄膜の屈折率測定方法および装置 |
RU2089654C1 (ru) * | 1993-10-26 | 1997-09-10 | Московский государственный институт электроники и математики (технический университет) | Устройство для охлаждения подложек в ваккуме |
RU2155242C2 (ru) * | 1998-01-13 | 2000-08-27 | Институт проблем машиноведения РАН | Устройство для нанесения покрытий в вакууме |
US6364956B1 (en) * | 1999-01-26 | 2002-04-02 | Symyx Technologies, Inc. | Programmable flux gradient apparatus for co-deposition of materials onto a substrate |
JP3839674B2 (ja) * | 2001-02-21 | 2006-11-01 | 株式会社アルバック | 有機蒸着装置及び有機薄膜製造方法 |
-
2005
- 2005-06-07 EA EA200501086A patent/EA008187B1/ru not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-05-19 CN CN200610081012A patent/CN100577854C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-06-06 JP JP2006157099A patent/JP2007007644A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04120730A (ja) * | 1990-09-12 | 1992-04-21 | Hitachi Ltd | クリーニング方法とその装置 |
JPH0620640A (ja) * | 1992-07-06 | 1994-01-28 | Kobe Steel Ltd | イオン注入装置 |
JPH1064471A (ja) * | 1996-08-19 | 1998-03-06 | Hitachi Ltd | イオン注入装置 |
JP2001507165A (ja) * | 1996-12-20 | 2001-05-29 | ガタン・インコーポレーテッド | 精密エッチング及びコーティング装置 |
JP2000243598A (ja) * | 1999-02-17 | 2000-09-08 | Japan Atom Energy Res Inst | 中性原子ビーム光電離装置 |
JP2004502869A (ja) * | 2000-07-12 | 2004-01-29 | オーテーベー、グループ、ベスローテン、フェンノートシャップ | 基材に少なくとも一つのプロセスを実施するための装置 |
JP2003173870A (ja) * | 2001-12-04 | 2003-06-20 | Sony Corp | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1998389A1 (en) | 2007-05-31 | 2008-12-03 | Applied Materials, Inc. | Method of cleaning a patterning device, method of depositing a layer system on a substrate, system for cleaning a patterning device, and coating system for depositing a layer system on a substrate |
US7973345B2 (en) | 2007-05-31 | 2011-07-05 | Applied Materials, Inc. | Method of cleaning a patterning device, method of depositing a layer system on a substrate, system for cleaning a patterning device, and coating system for depositing a layer system on a substrate |
US9233347B2 (en) | 2010-02-22 | 2016-01-12 | Fujikin Incorporated | Mixed gas supply device |
JP2011208255A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Ulvac Japan Ltd | クリーニング装置、成膜装置、成膜方法 |
CN104128342A (zh) * | 2013-05-02 | 2014-11-05 | 三星显示有限公司 | 用于清洗有机材料的方法和设备 |
CN116347784A (zh) * | 2023-04-03 | 2023-06-27 | 上海铭控传感技术有限公司 | 一种电子线路板清洗系统及方法 |
CN116347784B (zh) * | 2023-04-03 | 2024-05-31 | 上海铭控传感技术有限公司 | 一种电子线路板清洗系统及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1876888A (zh) | 2006-12-13 |
EA008187B1 (ru) | 2007-04-27 |
EA200501086A1 (ru) | 2006-12-29 |
CN100577854C (zh) | 2010-01-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR0158894B1 (ko) | 표면처리장치 및 표면처리방법 | |
TWI752925B (zh) | 表面塗佈處理 | |
JP5366436B2 (ja) | パターニングデバイスの洗浄方法、基板への層系の堆積方法、パターニングデバイスの洗浄システム及び基板に層系を堆積するためのコーティングシステム | |
US20090258159A1 (en) | Novel treatment for mask surface chemical reduction | |
JP2007007644A (ja) | ディスプレイ製造におけるシャドウマスクの洗浄方法(変形)および装置 | |
JP2012245565A (ja) | 半導体プロセスチャンバ内において使用するための物品 | |
US20070054492A1 (en) | Photoreactive removal of ion implanted resist | |
KR20110043018A (ko) | 플라즈마 세척장치 및 그 세척방법 | |
US5462635A (en) | Surface processing method and an apparatus for carrying out the same | |
WO2019161328A1 (en) | Microelectronic treatment system having treatment spray with controllable beam size | |
JP2008226991A (ja) | プラズマ処理装置 | |
WO2008097462A1 (en) | Plenum reactor system | |
JP5241169B2 (ja) | 誘電面をイオンビーム処理する方法、および当該方法を実施するための装置 | |
KR101210481B1 (ko) | 표시 장치의 제조에서 쉐도우 마스크를 세정하는 방법 및이의 실현 장치 | |
JP2023088915A (ja) | ビードブラストを用いない表面のテクスチャリング | |
JP2008047535A6 (ja) | 誘電面をイオンビーム処理する方法、および当該方法を実施するための装置 | |
JPH09302484A (ja) | 磁気中性線プラズマ型放電洗浄装置 | |
JP3841525B2 (ja) | プロセス処理方法および装置 | |
TWI277230B (en) | Methods of cleaning the shadow masks in the production of displays (variants) and device for their realization | |
JP2004031511A (ja) | 大気圧下での基板の連続処理装置及び方法 | |
JP2004211161A (ja) | プラズマ発生装置 | |
US20110061679A1 (en) | Photoreactive Removal of Ion Implanted Resist | |
KR102311213B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP3513730B2 (ja) | レーザーアニール処理装置 | |
JPS62278284A (ja) | 表面処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090521 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20110228 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110607 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110907 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20120124 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |