JP2007000733A5

JP2007000733A5 -

Info

Publication number: JP2007000733A5
Application number: JP2005181866A
Authority: JP
Filing date: 2005-06-22
Publication date: 2008-07-31

Claims

ｉ）大気の一部分として捕集されたガスを吸着剤と接触させることにより、当該ガス中のNOxを含む被処理成分を前記吸着剤に吸着させる工程と、
ii）前記吸着剤に酸素濃度10vol％以下で純度90vol%以上の窒素ガスの存在下で非熱プラズマを印加させることにより吸着剤からの前記被処理成分の脱着処理及び吸着剤の再生を行う工程と、
iii） ii）工程で脱着された被処理成分を、下流に接続又は一体化又は離れた位置に配置された被処理成分除去プラズマリアクタ内に導き、酸素濃度10vol％以下で純度90vol%以上の窒素ガスの存在下で非熱プラズマを印加することによりNOxを含む被処理成分を分解処理する工程と、
iv）前記ii）とiii）の工程について、吸着部の吸着剤にプラズマを印加するリアクタと
、前記被処理成分除去のためのプラズマリアクタとが、ガス流入口から排気口に向かい直列に配置された流路とし、これら流路を複数準備し、切り替えする工程、
とからなるガス処理方法。
前記流路の切り替え方式が四方向弁による切り替えであることを特徴とする、請求項１に記載のガス処理方法。
前記ガスが、トンネル内、地下駐車場内、屋内駐車場内、都市内幹線道路近傍のいずれから捕集された大気の一部分であることを特徴とする、請求項１に記載のガス処理方法。
前記被処理成分の脱着、還元処理時の流路がガス循環式である、請求１又は２に記載のガス処理方法。
請求項２において、吸着後、四方向弁で流路の切り替えを行い、純度90vol％以上の窒素ガスをポンプを用いて、吸着後の吸着剤に流し、プラズマ電源をＯＮすることで、吸着剤を脱着、再生させることを特徴とする、請求項２〜４のいずれかに記載のガス処理方法。
前記ガスの被処理成分がNO、NO₂、N₂O、N₂O₃、N₂O₄、N₂O₅、SO₂、SO₃、揮発性有機化合物（VOC's）、ダイオキシン類に代表される環境汚染物質、炭化水素、CO、CO₂及び水蒸気（H₂O）から選ばれる少なくとも一つである、請求項１又は２に記載のガス処理方法。
前記酸素濃度10vol%以下で純度90vol%以上の窒素ガスが、酸素透過膜、窒素透過膜、酸素吸着剤、窒素吸着剤のいずれかを備えた窒素ガス発生装置から排出されることを特徴とする、請求項１又は２に記載のガス処理方法。
請求項１に記載の方法を実施するための装置であって、
大気の一部分として捕集されたガス中のNOxを含む被処理成分を吸着剤に吸着させる吸着部と、
酸素濃度10vol％以下で、純度90vol％以上の窒素ガスを供給するためのガス供給部と、
前記窒素ガスの存在下で非熱プラズマを発生するためのプラズマ発生部と、前記被処理成分除去プラズマリアクタ部とからなり、
前記吸着部に前記ガス供給部とプラズマ発生部が付設され、前記被処理成分除去プラズマリアクタ部は、吸着部の下流に接続又は一体化又は離れた位置に配置され且つ前記プラズマ発生部が付設されて、ガス流入口から排気口に向かい直列に配置された流路とし、これら流路を複数備え、該流路の切り替え部、
とからなるガス処理装置。
前記ガスが、トンネル内、地下駐車場内、屋内駐車場内、都市内幹線道路近傍のいずれから捕集された大気の一部分であることを特徴とする請求項８に記載のガス処理装置。
前記流路の切り替え部が、弁切り替え方式又は回転式ロータ方式である、請求項８に記載のガス処理装置。
前記被処理成分の脱着、還元処理時の流路が、ガス循環式である、請求項８〜１０のいずれかに記載のガス処理装置。
前記ガス処理装置に、大気圧以下あるいは大気圧以上にガス圧力を変化させて、吸着及び脱着を促進する排気装置をさらに備えた、請求項８〜１１のいずれかに記載のガス処理装置。
前記ガス処理装置に、当該ガス又は窒素ガスを加熱又は冷却して、吸着及び脱着を促進する装置をさらに備えた、請求項８〜１１のいずれかに記載のガス処理装置。
前記ガス処理装置に、ガス中に含まれる窒素酸化物をオゾンを用いて酸化する前処理装置をさらに備えた、請求項８〜１１のいずれかに記載のガス処理装置。