JP2006528219A5 - - Google Patents

Claims (17)

1. （ｉ）炭酸グアニジニウム、硫酸グアニジニウムまたはリン酸グアニジニウムから選択されたグアニジニウム塩と、
   （ｉｉ）以下の式：
   

   

   ［式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は独立にＨ、置換または未置換のＣ_１−Ｃ_５アルキル基、置換または未置換のＣ_２−Ｃ_５アルケニル基、アリール基、アリールアルキル基またはそれらの混合物から選択される］
   を有しているキサンチンと、
   を含むヘアトリートメント組成物。
2. グアニジニウム塩が炭酸グアニジニウムである請求項１に記載のヘアトリートメント組成物。
3. キサンチン（ｉｉ）のＲ^１、Ｒ^２及びＲ^３が独立にＨ、Ｃ_１−Ｃ_５アルキル基、Ｃ_２−Ｃ_５アルケニル基またはそれらの混合物から選択される請求項１または２に記載のヘアトリートメント組成物。
4. （ｉｉ）のＲ^１、Ｒ^２及びＲ^３が独立にＨ、メチル基またはそれらの混合物から選択される請求項１から３のいずれか一項に記載のヘアトリートメント組成物。
5. キサンチン（ｉｉ）がカフェインである請求項１から４のいずれか一項に記載のヘアトリートメント組成物。
6. 更に、二酸、その塩またはそれらの混合物を含む請求項１から５のいずれか一項に記載のヘアトリートメント組成物。
7. 二酸またはその塩が式：
   ＸＯＯＣ−（ＣＨ_２）_ｎ−ＣＯＯＸ
   ［式中、ｎは２−１０の整数、ＸはＨまたはアルカリ金属カチオンである］
   を有している請求項６に記載のヘアトリートメント組成物。
8. 二酸がアジピン酸である請求項７に記載のヘアトリートメント組成物。
9. 更に、二糖を含む請求項１から８のいずれか一項に記載のヘアトリートメント組成物。
10. 二糖が２個のヘキソース環を有している請求項１から９のいずれか一項に記載のヘアトリートメント組成物。
11. 二糖がトレハロースである請求項９に記載のヘアトリートメント組成物。
12. キサンチンと、グアナジン誘導体と、二糖と、Ｃ_２−Ｃ_６二酸とを含む請求項１から１１のいずれか一項に記載のヘアトリートメント組成物。
13. カチオン性またはシリコーン基材のコンディショニング剤を含む請求項１から１２のいずれか一項に記載のヘアトリートメント組成物。
14. 水性塩基を含む請求項１から１３のいずれか一項に記載のヘアトリートメント組成物。
15. 縮毛を矯正するための請求項１から１４のいずれか一項に記載の組成物の使用。
16. 頭髪のボリュームを抑えるための請求項１から１５のいずれか一項に記載の組成物の使用。
17. 請求項１から１４のいずれか一項に記載の組成物を頭髪に塗布する頭髪のトリートメント方法。