JP2006519707A - ガラス−シリコンmemsプロセスで埋め込まれた電気的フィードスルーに関するシステム及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (19)
- 気密密封されたキャビティ(84)内に伝導経路を提供するための方法であって、前記密封されたキャビティが、シリコン−ガラス微小電気機械ストラクチャ(MEMS)プロセスを利用して形成され、
前記伝導経路を前記キャビティ内に通す場所で、ガラス基板(80)に凹部(82)を形成し、
前記凹部とその周りに伝導リード(86)を形成し、
基板の上、凹部の中、及び、伝導リードの上にわたってガラス層(92)を堆積させ、
前記伝導リードの一部が晒されるように、前記伝導リードのレベルまで前記堆積されたガラス層を平坦化させ、
前記ガラス層の少なくとも一部に密封表面(94)を形成し、
前記平坦化されたガラス層の密封表面にシリコンをボンディングさせ、
るステップを有し、
各リードのある一の部分(88)が密封されたキャビティ内にあり、各リードの他の一の部分が密封されたキャビティの外側にあるように、シリコンが位置決めされた、
ことを特徴とする気密密封されたキャビティ(84)内に伝導経路を提供するための方法。 - 前記平坦化されたガラス層(92)にシリコンをボンディングするステップが、
前記平坦化されたガラス層にシールリング(90)をボンディングさせ、
第2のガラス基板(208)にシールリングをボンディングさせる、
ステップを有することを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記伝導リード(86)のレベルまで前記堆積されたガラス層(108)を平坦化させるステップが更に、
各リードに関して第1のコンタクト(110)及び第2のコンタクト(112)を晒すために、前記堆積されたガラス層を平坦化させ、
各リードの前記第1のコンタクト及び第2のコンタクトに電極(118)を取り付ける、
ステップを有することを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記平坦化されたガラス層にシリコンをボンディングさせるステップが、シリコンが、キャビティ(156)を形成するように、前記平坦化されたガラス層(166)にシリコン(154)をボンディングさせることを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 気密密封されたキャビティ(84)を有する構造体であって、前記構造体が、前記密封されたキャビティの外側から内側に通過する少なくとも一つの電気的伝導経路を備え、該構造体が、
電気信号を前記密封されたキャビティ内に通す場所に、凹部(82)を備えたガラス基板(80)と、
前記凹部とその周りに堆積された伝導リード(86)と、
前記構造体の上にわたって堆積されたガラス層(92)とを有し、前記ガラス層が更に、前記凹部及び前記伝導リードの上に堆積され、前記ガラス層が、前記凹部の周りの前記伝導リードの一部(88)のレベルまで平坦化され、
キャビティを形成するために前記平坦化されたガラス層にボンディングされたシリコン(154)とを有し、前記シリコンが、前記各々の伝導リードのある一部が密封されたキャビティ内にあり、前記各々の伝導リードの他の一部が密封されたキャビティ外にあるように製造されたことを特徴とする構造体。 - 前記シリコンが、前記平坦化されたガラス層にボンディングされたシールリング(90)を有し、前記シールリングが第2のガラス基板(208)にボンディングされうるように構成されたことを特徴とする請求項5に記載の構造体。
- 微小電子機械システム(MEMS)ジャイロスコープ(130)が、
ハウジングと、
前記ハウジング内に配置されたジャイロスコープエレクトロニクス(28,36)と、
前記ハウジング内に気密密封されたキャビティ(134)を定義する構造体と、
前記気密密封されたキャビティ内に配置されたチューニングフォークジャイロスコープ(136)とを有し、前記構造体が、
前記ジャイロスコープエレクトロニクスと前記チューニングフォークジャイロスコープとの間に電気伝導を提供する複数の電気的フィードスルー(132)と、
凹部(82)を備えたガラス基板(80)とを含み、前記凹部が、気密密封されたキャビティの内外に前記電気的フィードスルーを通し、
前記構造体の上にわたって堆積されたガラス層(92)とを含み、前記ガラス層が更に、前記凹部の電気的フィードスルーの上にわたって堆積され、前記ガラス層が、前記凹部の周りの前記電気的フィードスルーの一部(88)のレベルまで平坦化され、
前記平坦化されたガラス層にボンディングされたシリコン(154)とを含み、前記電気的フィードスルーの各々のある一部が気密密封されたキャビティの内側にあり、前記電気的フィードスルーの各々の他のある一部が前記気密密封されたキャビティの外側にあるように前記シリコンが製造された、ことを特徴とする微小電子機械システム(MEMS)ジャイロスコープ(130)。 - 前記シリコンウェハ(120)が、前記平坦化されたガラス層(92)にボンディングされたシールリング(90)を有し、前記シールリングが、第2のガラス基板(208)にボンディングされるように構成された、ことを特徴とする請求項7に記載のMEMSジャイロスコープ(130)。
- チューニングフォークジャイロスコープ(14)とジャイロスコープエレクトロニクス(28,36)との間に電気伝導を提供するための方法であって、チューニングフォークジャイロスコープが、気密密封されたキャビティ(84)内に配置され、
電気的経路を前記キャビティ内に通す所で、ガラス基板(80)に凹部(82)を形成し、
前記凹部とその周りに伝導リード(86)を堆積させ、
前記基板の上、前記凹部の中、及び、前記リードの上にガラス層(92)を堆積させ、
前記凹部の周りのリードの一部(88)のレベルまで前記堆積されたガラス層を平坦化させ、各リードに関する第1のコンタクト(110)及び第2のコンタクト(112)を露出させ、
前記リードに関する第1のコンタクトと接触するようにチューニングフォークジャイロスコープを配置させ、
各リードに関する第2のコンタクトにジャイロスコープエレクトロニクスを接続させる、ことを特徴とする方法。 - 気密密封されたキャビティ(84)形成及び密封するために、前記平坦化されたガラス層(92)にシリコン(154)をボンディングさせるステップを更に有し、
各リード(86)の第1の部分(88)が密封されたキャビティの内側にあり、各リードの第2の部分が密封されたキャビティの外側になるようにシリコンが構成された、
ことを特徴とする請求項9に記載の方法。 - シリコン(154)を前記平坦化されたガラス層(92)にボンディングするステップが、
前記平坦化されたガラス層にシールリング(90)をボンディングさせ、
第2のガラス基板(208)に前記シールリングをボンディングさせる、
ステップを有することを特徴とする請求項10に記載の方法。 - 前記凹部(82)を形成するステップが、基板(80)内に凹部をエッチングするステップを有することを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 各リード(86)の第1のコンタクト(110)及び第2のコンタクト(112)に電極(118)を取り付けるステップを更に有することを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 気密密封されたキャビティ(84)内に電気伝導経路を提供するための方法であって、前記密封されたキャビティがシリコン−ガラス微小電子機械ストラクチャ(MEMS)プロセスを利用して形成され、
前記キャビティ内に電気伝導経路を通す場所に、ガラス基板(80)に凹部(82)を形成し、
前記凹部(86)に該凹部の外に延びる(88)リードを形成し、
伝導リードの上にガラスディポジット(92)を堆積させ、該堆積により前記凹部を満たし、且つ、露出されたリードの端を残し、
気密密封が形成されるように、基板の上部表面(104)のレベルまで前記ガラスディポジットを平坦化させ、
基板の上部表面及び前記平坦化されたガラスディポジットにシリコンウェハ(120)をボンディングさせ、各リードのある一部が密封されたキャビティ内にあり、各リードの他の一部が密封されたキャビティの外側にあるようにウェハが位置決めされた、
ことを特徴とする方法。 - 前記平坦化されたガラスディポジット(92)にシリコンウェハ(120)をボンディング(154)するステップが、
前記平坦化されたガラス層にシールリング(90)をボンディングさせ、
第2のガラス基板(208)に前記シールリングをボンディングさせる、
ステップを有することを特徴とする請求項14に記載の方法。 - 気密密封されたキャビティ(84)を備えた構造体であって、前記構造体が前記キャビティの外側から前記密封されたキャビティに通る少なくとも1つの電気伝導経路を有し、
電気信号が前記密封されたキャビティ及び上部表面(104)に通る場所に、凹部(82)を備えたガラス基板(80)と、
前記凹部に堆積された伝導リード(86)と、
前記伝導リードに堆積されたガラスディポジット(92)とを有し、前記ガラスディポジットが、前記基板の上部表面のレベルまで平坦化された上部表面を備え、
前記ガラスディポジットの前記上部表面と前記基板の前記上部表面とにボンディングされた(154)シリコンとを有し、前記シリコンが、前記各伝導リードのある一部が前記密封されたキャビティの内側にあり、前記各伝導リードの他の一部が前記密封されたキャビティの外側にあるように製造されたことを特徴とする構造体。 - コンポーネントの間に電気伝導を提供するための方法であって、
電気伝導が確立されるように、ガラス基板(80)に凹部(82)を形成し、
前記凹部の外に延びる(88)伝導リード(86)を前記凹部内に堆積させ、
前記伝導リードの上にガラスディポジット(92)を形成し、前記凹部を満たし、
電気伝導のために伝導リードの一部を露出させる、
ステップを有することを特徴とする方法。 - 前記伝導リード(86)の上にガラスディポジット(92)を形成するステップが、
前記凹部(82)を満たし、前記ガラス基板(80)を覆うガラスを堆積させるステップを有することを特徴とする請求項17に記載の方法。 - 前記伝導リード(86)の一部(88)を露出させるステップが、前記伝導リードの一部を露出させるために、ガラスディポジット(92)を平坦化させるステップを有することを特徴とする請求項18に記載の方法。
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