JP2006515457A - 電子デバイスでの使用に適した電気化学セル - Google Patents
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Abstract
Description
[六方晶系の液晶相からの白金の電着]
2.0グラムの水および2.0グラムの水中のヘキサクロロ白金酸水和物に、3グラムのオクタエチレングリコールモノヘキサデシルエーテル(C16EO8)界面活性剤を添加した。均一な混合物が得られるまで、混合物を加熱し、激しく振とうさせた。2ミリクーロンの還元電荷(reduction charge)が通過するまで、標準カロメル電極に対して+0.6ボルトから、標準カロメル電極に対して−0.1ボルトまで電位をステップさせることによって、0.000314平方センチメートルの研磨した金電極上に、25℃〜85℃の温度で、この混合物からの電着を実行した。蒸留水ですすいで界面活性剤を除去した。金属構造を有するフィルムが得られ、これは、透過型電子顕微鏡法による実験で、幅25Å(±2Å)の金属壁で隔てられた25Å(±1.5Å)の内径を有する細孔の六方晶系の配置を有することが分かった。
[六方晶系の液晶相からの白金の電着]
C16EO8の代わりに、より短い鎖長の界面活性剤C12EO8を用いて実施例1のプロセスを実行した。TEMにより決定された細孔の直径は、17.5Å(±2Å)であることが分かった。
[六方晶系の液晶相からの白金の電着]
モル比2:1のC16EO8およびn−ヘプタンを含有する4成分混合物を用いて、実施例1のプロセスを繰り返した。TEMにより決定されるように、細孔の直径は、35Å(±1.5Å)であることが分かった。
[立方晶系の液晶相からの白金の電着]
27重量%のヘキサクロロ白金酸水溶液(水に対して33重量%)および73重量%のオクタエチレングリコールモノヘキサデシルエーテル(C16EO8)から、通常のトポロジーの立方晶相(Ia3d空間群に指標付け)を有する混合物を調製した。白金網対向電極を用いて35℃〜42℃の温度で、研磨した金電極上への電着をポテンシオスタットを用いて実行した。0.8ミリクーロンの電荷が通過するまで、標準カロメル電極に対して+0.6Vから、標準カロメル電極に対して−0.1Vまでセルの電位差をステップさせた。析出後、フィルムを多量の脱イオン水ですすいで、界面活性剤を除去した。洗浄したナノ構造化析出物は均一であり、外観上は光沢があった。透過型電子顕微鏡法の研究で、内径25Åの円筒形の孔の3次元の周期的なネットワークからなる非常に多孔質の構造が明らかになった。
[六方晶系の液晶相からのニッケルの電着]
50重量%の0.2Mの硫酸ニッケル(II)および0.58Mホウ酸の水溶液、ならびに50重量%のオクタエチレングリコールモノヘキサデシルエーテル(C16EO8)から、通常のトポロジーの六方晶相を有する混合物を調製した。白金網対向電極を用いて25℃で、研磨した金電極上への電着をポテンシオスタットを用いて実行した。平方センチメートルあたり1クーロンの電荷が通過するまで、飽和カロメル電極に対して−1.0Vまでセルの電位差をステップさせた。析出後、フィルムを多量の脱イオン水ですすいで、界面活性剤を除去した。洗浄したナノ構造化析出物は均一であり、外観上は光沢があった。電着したスズの小角X線回析の研究により、58Åの格子の周期性が明らかになり、透過型電子顕微鏡法の研究により、厚さ28Åのニッケル壁で隔てられた内径34Åを有する円筒形の孔からなる非常に多孔質の構造が明らかになった。
2.0gのH2O、3.0gのC16EO8、および2.0gのヘキサクロロ白金酸からなる六方晶系の液晶相から、SCEに対して−0.1V(+0.6Vからステップさせた)の析出電位で、25℃で金板電極上での析出を実行した。走査型電子顕微鏡法を用いて破砕サンプルを検査することによって、厚さデータを得た。結果は以下の表1に示される。
2.0gのH2O、3.0gのC16EO8、および2.0gのヘキサクロロ白金酸からなる六方晶系の液晶相から、ナノ構造化白金フィルムを析出させた。SCEに対して−0.1Vの析出電位(+0.6Vからステップさせた)で、直径0.2mmの金ディスク電極上での析出を実行した。通過した電荷は6.37Ccm−2であった。SCEに対して−0.2V〜+1.2Vの電位限界で、2M硫酸中でのサイクリックボルタンメトリーからデータを得た。粗度係数は、電気化学的な実験から決定される表面積を電極の幾何表面積で除したものと定義される。結果は、以下の表2に示される。
2.0gのH2O、3.0gのC16EO8、および2.0gのヘキサクロロ白金酸からなる六方晶系の液晶相から、ナノ構造化白金フィルムを析出させた。示した析出電位(+0.6Vからステップさせた)で、直径0.2mmの金ディスク電極上での析出を実行した。通過した電荷は6.37Ccm−2であった。SCEに対して−0.2V〜+1.2Vの電位限界で、2M硫酸中でのサイクリックボルタンメトリーからデータを得た。結果は、以下の表3に示される。
実施例1〜3のデータは、界面活性剤の鎖長を変化させることによって、あるいは疎水性炭化水素添加剤をさらに添加することによって、細孔直径がどのように制御され得るかを示す。特に、実施例1と実施例2の比較は、鎖長のより短い界面活性剤を用いることにより細孔径が減少され得ることを実証するのに対して、実施例1と実施例3の比較は、析出混合物に炭化水素添加剤を添加することによって細孔径が増大され得ることを示す。
[メソポーラスニッケル電極およびメソポーラスパラジウム電極の作製]
[(i)金基板の調製]
エポキシ絶縁体中に封入された金ディスク(直径200μmまたは1mm)と、クロムコートされた顕微鏡用ガラススライド上に金を蒸着することによって製造した薄膜金電極(約1cm2)とを、メソポーラスニッケル電極およびパラジウム電極を次に析出させるために、以下のように調製した。
35重量%の0.2Mの酢酸ニッケル(II)、0.5Mの酢酸ナトリウムおよび0.2Mのホウ酸の水溶液、ならびに65重量%のBrij(登録商標)56非イオン性界面活性剤(C16EOn、ここでnは約10、Aldrichから入手)から、通常のトポロジーの六方晶(HI)相を有する混合物を調製し、Nelson等のChem. Mater., 2002, 14, 524-529に開示される方法に従って、白金網対向電極を用いて25℃で、研磨した金基板上への電着をポテンシオスタットを用いて実行した。析出後、フィルムを多量のイソプロパノール中で24時間洗浄し、界面活性剤を除去した。六方晶の細孔配列を有する約1マイクロメートル厚のメソポーラスニッケルフィルムが得られた。
35重量%の0.5Mのテトラクロロパラジウム酸アンモニウム(Premion、Alfa Aesarから入手)水溶液、および65重量%のBrij(登録商標)56非イオン性界面活性剤(C16EOn、ここでnは約10、Aldrichから入手)から、通常のトポロジーの六方晶(HI)相を有する混合物を調製した。25℃において、パラジウム析出テンプレート溶液中のHI液晶相の存在を、偏光顕微鏡法を用いて確認した。Bartlett等のPhys. Chem. Chem. Phys., 2002, 4, 3835-3842に開示される電着方法に従って、上記の変性テンプレート溶液を使用して、白金網対向電極を用いて25℃で、研磨した金基板上への電着をポテンシオスタットを用いて実行した。析出後、フィルムを多量のイソプロパノール中で24時間洗浄して、界面活性剤を除去した。六方晶の細孔配列を有する約1マイクロメートル厚のメソポーラスパラジウムフィルムが得られた。
スーパーキャパシタの組立ての前に、上記の(ii)および(iii)で作製した析出メソポーラス電極を、サイクリックボルタンメトリーにより個々に作動させた。これは、6MのKOH溶液を含有する三電極セルにおいて実行した。セルは、Grant ZDサーモスタット付水浴に接続されたPyrexウォータージャケット付セル、水銀/酸化水銀(6MのKOH)基準電極(Hg/HgO)、および広い面積のPt網対向電極で構成した。全ての実験は25℃で実行した。基準電極を含む実験における電位はHg/HgO基準に対して引用される。
スーパーキャパシタ構成におけるメソポーラスニッケルの性能および限界を研究するために、より高い容量およびパワー能力を有する負極が必要とされた。このために、上記の(iii)で作製した液晶テンプレート化メソポーラスパラジウムを使用した。性能限界がニッケル電極における限界によるように、メソポーラスパラジウム電極の大きさをメソポーラスニッケル電極よりもかなり大きくした。
サイクル寿命を試験するために、1cm2の蒸着金基板上に析出させた上記の(ii)および(iii)で作製されるようなメソポーラスニッケル電極およびパラジウム電極からなる構成のスーパーキャパシタを組み立て、メソポーラスNi電極およびメソポーラスPd電極を、6MのKOHが充満された多孔質PTFE膜で隔てた。0V〜1.2Vの電位範囲でデバイスを500mVs−1で連続的にサイクルすることによって、ニッケル−パラジウムスーパーキャパシタのサイクル性(cyclability)を調査した。全ての性能データは、ニッケル電極の質量または幾何面積に関する単位で引用される。
[ナノ構造化水酸化ニッケル/炭素スーパーキャパシタの作製]
[(i)ニッケル基板の調製]
ニッケル箔(10μm厚)をJohnson Mattheyから入手し、次にメソポーラスニッケルを析出させるために以下のように調製した。
45重量%の0.2Mの酢酸ニッケル(II)、0.5Mの酢酸ナトリウムおよび0.2Mのホウ酸の水溶液、ならびに55重量%のBrij56(Brijは商標)非イオン性界面活性剤(C16EOn、ここでnは約10、Aldrichから入手)から、通常のトポロジーの六方晶(HI)相を有する混合物を調製した。Nelson等のChem. Mater., 2002, 14, 524-529に開示される方法に従って、白金網対向電極を用いて25℃で、飽和カロメル電極に対して−0.9Vにおいて、ニッケル箔基板上への電着をポテンシオスタットを用いて実行した。析出後、フィルムを多量のイソプロパノール中で24時間洗浄し、界面活性剤を除去した。厚さ約1マイクロメートルのメソポーラスニッケルフィルムが得られた。
90重量%のNorit Ultra炭素(1,200m2g−1)、5重量%のポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、2.5重量%のアセチレンブラック(100%圧縮)、および2.5重量%のSuperiorグラファイトを乳棒および乳鉢を用いて混合することによって、高表面積の炭素電極を製造した。次に、Durston Mini Millローリングミルを用いて、ペーストを手動でシート状に延ばした(フィルム厚50〜65μm)。次に金層(0.5mgcm−2、約100nm厚)を炭素フィルム上に蒸着させ、フィルムの伝導性を改善した。高表面積の炭素電極は、70〜100Fg−1の容量および0.45mgcm−2の質量を有した。
Solartron1287電気化学インターフェースおよびCorrwareソフトウェアを用いて、サイクリックボルタンメトリー実験を実行し、National Instrumentsのデータ収集カードおよびLabVIEWソフトウェアとインターフェース接続された特注のポテンシオスタットおよびランプ発生器を用いて、電位ステップ実験を行った。
スーパーキャパシタ構成におけるメソポーラスニッケルの性能および限界を研究するために、より高い容量およびパワー能力を有する負極が必要とされた。このために、上記(iii)で作製された高表面積炭素フィルムを使用した。性能限界がニッケル電極における限界によるように、高表面積炭素電極の電荷貯蔵能力をメソポーラスニッケル電極よりもかなり大きくした。
[ナノ構造化ニッケル/鉄スーパーキャパシタの作製]
[(i)ニッケル基板の調製]
メソポーラスニッケルフィルムのために、ニッケル箔(10μm厚、4cm2)をJohnson Mattheyから入手し、次にメソポーラスニッケルを析出させるために、次のように調製した。
45重量%の0.2Mの酢酸ニッケル(II)、0.5Mの酢酸ナトリウムおよび0.2Mのホウ酸の水溶液、ならびに55重量%のBrij56(Brijは商標)非イオン性界面活性剤(C16EOn、nは約10、Aldrichから入手)から、通常のトポロジーの六方晶(HI)相を有する混合物を調製した。Nelson等のChem. Mater. , 2002, 14, 524-529に開示される方法に従って、飽和カロメル電極に対して−0.9Vで、25℃で白金網対向電極を用いて、ニッケル箔基板上への電着をポテンシオスタットを用いて実行した。総析出電荷は2.0Cであった。析出の後、フィルムを多量のイソプロパノール中で24時間洗浄し、界面活性剤を除去した。
脱酸素化した40重量%の0.2Mの硫酸鉄(II)の水溶液および60重量%のBrij56非イオン性界面活性剤(C16EOn、ここでnは約10、Aldrich)から、通常のトポロジーの六方晶(HI)相を有する混合物を調製した。飽和カロメル電極に対して−0.9Vで、白金網対向電極を用いて25℃で、ニッケル箔基板(面積2cm2)上への電着をポテンシオスタットを用いて実行した。0.2mAhの電荷が通過した後、析出電位からフィルムが絶縁される直前にフィルムを亜鉛箔に取り付けることにより、陰極の保護下でフィルムを析出混合物から取り出した。亜鉛箔と共にフィルムを多量の脱酸素化アセトン中で1時間洗浄し、界面活性剤を除去した。
洗浄後、鉄電極を6MのKOH水に浸漬し、亜鉛を取り外した。開回路の電位を測定し、充電されたナノ構造化NiOOH電極に対して1.1Vであることが分かった。Solartron1287電気化学インターフェースおよびCorrwareソフトウェアを用いて、サイクリックボルタンメトリー実験を実行した。
上記のように作製した鉄およびニッケル電極を6MのKOH溶液中に浸漬させた。開回路の電位を測定し、1.1Vであることが分かった。2つの電極および溶液は、このようにして、サイクリング試験のために本発明者等のキャパシタを構成した。
Claims (18)
- 正極、負極および電解質を有する電気化学セルであって、
少なくとも前記正極が、約10−8〜10−9mの断面の実質的に均一な大きさの細孔の周期的な配列を有するメソポーラス構造を含むことを特徴とする電気化学セル。 - 前記正極のメソポーラス構造が、金属、金属酸化物、金属水酸化物またはこれらの2つ以上の組み合わせから選択される材料で形成される請求項1に記載の電気化学セル。
- 前記正極のメソポーラス構造が、金属および金属酸化物または水酸化物を含み、前記金属酸化物または水酸化物が、前記金属上に表面層を形成すると共に少なくとも前記細孔表面上に延在する請求項1または2に記載の電気化学セル。
- 前記正極のメソポーラス構造が、ニッケルと、遷移金属の合金、ニッケル/コバルト合金および鉄/ニッケル合金を含むニッケル合金と、コバルトと、白金と、パラジウムと、ルテニウムとから選択される金属を含む請求項1〜3のいずれか一項に記載の電気化学セル。
- 前記正極のメソポーラス構造が、酸化金、酸化パラジウム、酸化ニッケル(NiO)、水酸化ニッケル(Ni(OH)2)、オキシ水酸化ニッケル(NiOOH)および酸化ルテニウムから選択される、金属酸化物、水酸化物またはオキシ水酸化物を含む請求項1〜4のいずれか一項に記載の電気化学セル。
- 前記メソポーラス構造が、1〜10nm、好ましくは2.0〜8.0nmの範囲内の細孔直径を有する請求項1〜5のいずれか一項に記載の電気化学セル。
- 前記メソポーラス構造が、4×1011〜3×1013細孔/cm2、好ましくは1×1012〜1×1013細孔/cm2の細孔数密度を有する請求項1〜6のいずれか一項に記載の電気化学セル。
- 前記メソポーラス構造の細孔の少なくとも85%が、平均細孔直径の30%以内、好ましくは10%以内、より好ましくは5%以内の細孔直径を有する請求項1〜7のいずれか一項に記載の電気化学セル。
- 前記メソポーラス構造が、電極の厚さを貫通して連続的である細孔の六方晶系配列を有する請求項1〜8のいずれか一項に記載の電気化学セル。
- 前記細孔の六方晶系配列が、5〜9nmの範囲の細孔周期性を有する請求項9に記載の電気化学セル。
- 前記負極が、約10−8〜10−9mの断面の実質的に均一な大きさの細孔の周期的な配列を有するメソポーラス構造を含む請求項1〜10のいずれか一項に記載の電気化学セル。
- 前記メソポーラス構造が、0.5〜5マイクロメートルの範囲の厚さを有するフィルムである請求項1〜11のいずれか一項に記載の電気化学セル。
- 前記負極が、炭素、カドミウム、鉄、パラジウム/ニッケル合金、鉄/チタン合金、パラジウムおよび混合金属水素化物LaNi5Hxから選択される材料を含む請求項1〜12のいずれか一項に記載の電気化学セル。
- 前記負極が、炭素およびパラジウムから選択される材料を含む請求項1〜13のいずれか一項に記載の電気化学セル。
- 前記正極のメソポーラス構造が、ニッケルと、NiO、Ni(OH)2およびNiOOHから選択される酸化、水酸化またはオキシ水酸化ニッケルとを含み、前記酸化または水酸化ニッケルが、前記ニッケル上に表面層を形成すると共に少なくとも前記細孔表面上に延在し、前記負極が、炭素またはパラジウムのメソポーラス構造を有する請求項1〜14のいずれか一項に記載の電気化学セル。
- 前記正極のメソポーラス構造が、ニッケルと、NiO、Ni(OH)2およびNiOOHから選択される酸化、水酸化またはオキシ水酸化ニッケルとを含み、前記酸化または水酸化ニッケルが、前記ニッケル上に表面層を形成すると共に少なくとも前記細孔表面上に延在し、前記負極が、ナノ粒子状の炭素を含む請求項1〜15のいずれか一項に記載の電気化学セル。
- 前記セルが、電池、スーパーキャパシタまたは結合型電池/スーパーキャパシタとして機能するように構成される請求項1〜16のいずれか一項に記載の電気化学セル。
- 請求項1〜17のいずれか一項に記載の電気化学セルを含む携帯用電子デバイス。
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