JP2006511469A - エポチロン誘導体の新規製造方法、新規エポチロン誘導体ならびに当該製造方法のための中間体およびそれらの製造方法 - Google Patents

エポチロン誘導体の新規製造方法、新規エポチロン誘導体ならびに当該製造方法のための中間体およびそれらの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006511469A
JP2006511469A JP2004535499A JP2004535499A JP2006511469A JP 2006511469 A JP2006511469 A JP 2006511469A JP 2004535499 A JP2004535499 A JP 2004535499A JP 2004535499 A JP2004535499 A JP 2004535499A JP 2006511469 A JP2006511469 A JP 2006511469A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
given above
temperature
inert solvent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004535499A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4628102B2 (ja
JP2006511469A5 (ja
Inventor
グイド・コッホ
オリヴィエ・ロワゼルール
Original Assignee
ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=9944042&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2006511469(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト filed Critical ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト
Publication of JP2006511469A publication Critical patent/JP2006511469A/ja
Publication of JP2006511469A5 publication Critical patent/JP2006511469A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4628102B2 publication Critical patent/JP4628102B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D275/00Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings
    • C07D275/04Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D275/06Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems with hetero atoms directly attached to the ring sulfur atom
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P17/00Drugs for dermatological disorders
    • A61P17/06Antipsoriatics
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P25/00Drugs for disorders of the nervous system
    • A61P25/28Drugs for disorders of the nervous system for treating neurodegenerative disorders of the central nervous system, e.g. nootropic agents, cognition enhancers, drugs for treating Alzheimer's disease or other forms of dementia
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P33/00Antiparasitic agents
    • A61P33/02Antiprotozoals, e.g. for leishmaniasis, trichomoniasis, toxoplasmosis
    • A61P33/06Antimalarials
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P35/00Antineoplastic agents
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P35/00Antineoplastic agents
    • A61P35/02Antineoplastic agents specific for leukemia
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/12Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
    • C07D303/16Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by esterified hydroxyl radicals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/12Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
    • C07D303/18Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D493/00Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
    • C07D493/02Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D493/04Ortho-condensed systems
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
  • Neurology (AREA)
  • Oncology (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Tropical Medicine & Parasitology (AREA)
  • Neurosurgery (AREA)
  • Communicable Diseases (AREA)
  • Hematology (AREA)
  • Hospice & Palliative Care (AREA)
  • Psychiatry (AREA)
  • Dermatology (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

本発明は、式(9)
【化1】
Figure 2006511469

〔式中、
R1は、メチルであり、そして
R2は、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロアリール、またはベンゼン核に縮合した非置換もしくは置換複素環ラジカルの意義を有する。〕
で示されるエポチロン誘導体、
およびその塩の製造方法、ならびに式(9)の化合物の合成のための中間体を提供する。

Description

発明の詳細な説明
本発明は、2−メチル−チアゾール置換基だけでなく、たとえば、他のヘテロアリールもしくはアリール置換基またはベンゼン核に縮合した複素環ラジカルおよびエポチロン構造内に12位に置換基としてメチルも有するエポチロン誘導体の新規製造方法、新規エポチロン誘導体ならびに当該製造方法のための中間体およびそれらの製造方法に関する。当該中間体はそれ自体新規化合物であり、そして本発明の一部である。
エポチロン(マイコバクテリウムSorangium cellulosumから最初に単離された16員環マクロライド)は、有望な抗腫瘍剤のクラスを表し、そして種々の癌細胞系、たとえば乳癌細胞系に対して強力であることが見いだされた。
これらの剤はタキソール(Taxol)(乳癌の処置のための一次処置として現在使用されている抗癌薬)と同じ生物学的メカニズムを有し、そしてタキソールよりも強いことが報告されている。
エポチロンの潜在的適用は、アルツハイマー病、マラリアおよびグラム陰性生物により引き起こされた疾患の処置である。特に、エポチロンは、増殖性疾患の処置に適している。
「増殖性疾患」なる用語は、とりわけ固形腫瘍疾患、液性腫瘍、たとえば白血病、および乾癬に関する。
「固形腫瘍疾患」なる用語は、とりわけ乳癌、結腸癌および一般的に胃腸管癌、たとえば胃癌、肝臓癌;肺癌、特に小細胞肺癌および非小細胞肺癌、腎臓癌、中皮腫、神経膠腫、皮膚の扁平上皮細胞カルシノーマ、頭部および頚部癌、泌尿生殖器癌、たとえば子宮頚部、子宮、卵巣、精巣、前立腺または膀胱癌;ホジキン病、カルチノイド症候群またはカポジ肉腫を意味する。
エポチロン誘導体は、たとえばWO 97/19086において既に記載されている。これらの誘導体は、天然のエポチロンAおよびBから出発して製造される。
エポチロンAの全合成は、シンザーら(Schinzer et al)により、Chem. Eur. J. 1996, 2, No. 11, 1477-1482において記載されている。エポチロンAおよびBならびにこれらの誘導体の別の合成は、ケー・シー・ニコラウら(K.C. Nicolaou et al)により、Angew. Chem. 1997, 109, 170-172およびNature, Vol. 387, 1997, 268-272において記載されている。
Chem. Commun. 1997, pp. 2343-2344において、ケー・シー・ニコラウらは、重要な工程として26−ヒドロキシ−エポチロンBおよび選択的ウィッテッヒ(Wittig)オレフィン化反応、アルドール反応およびマクロラクトン化を含む関連化合物の全合成を記載している。さらに詳しくは、26−ヒドロキシ−エポチロンBおよびマクロラクトン化に基づくストラテジーを経由する関連アナログの全合成が、ケー・シー・ニコラウらによりTetrahedron 54 (1998), 7127-7166において記載されている。
さらに、WO 98/25029において、ケー・シー・ニコラウらは、エポチロンA、エポチロンB、エポチロンアナログ、固相および液相化学を用いることによるエポチロンアナログのライブラリーを記載し、そして特許請求している。
本発明の実施態様および目的は、既知の製法のすべての欠点を克服し、そして合成経路の手順を短縮することにより工業的規模で実現可能になり、そして平均的に高い総合収率の基礎を構成し、そして高純度の前駆体および最終生成物を提供する、上記のエポチロンおよびエポチロン誘導体およびそれらの塩のより簡単かつ改善された製法を提供することである。
式9
Figure 2006511469
〔式中、
R1は、メチルであり、そして
R2は、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロアリール、またはベンゼン核に縮合した非置換もしくは置換複素環ラジカルの意義を有する。〕
で示されるエポチロン誘導体、
およびその塩の合成方法。
「低級」なる接頭語は、最大6まで(6を含む)、とりわけ最大4まで(4を含む)の炭素原子を有するラジカルを示し、このラジカルは非分枝鎖であるか、または1もしくは複数の分枝を有する分枝鎖である。
非置換または置換アリールとしてのR2は、好ましくは6〜14個の炭素原子を有する芳香族ラジカル、とりわけフェニル、ナフチル、フルオレニルまたはフェナントレニルであり、ここで、前記ラジカルは、非置換であるか、または1もしくはそれ以上の、好ましくは3までの、主に1または2の置換基、とりわけアミノ;低級アルカノイルアミノ、とりわけアセチルアミノ;ハロゲン、とりわけフッ素、塩素もしくは臭素;低級アルキル、とりわけメチルもしくはエチルもしくはプロピル;ハロゲン−低級アルキル、とりわけトリフルオロメチル;ヒドロキシ;低級アルコキシ、とりわけメトキシもしくはエトキシ;フェニル−低級アルコキシ、とりわけベンジルオキシ;ニトロ、シアノ、C−C12−アルコキシ、とりわけn−デシルオキシ、カルバモイル、低級アルキル−カルバモイル、たとえばN−メチル−もしくはN−tert−ブチルカルバモイル、低級アルカノイル、たとえばアセチル、フェニルオキシ、ハロゲン−低級アルキルオキシ、たとえばトリフルオロメトキシもしくは1,1,2,2−テトラフルオロエチルオキシ、低級アルコキシカルボニル、たとえばエトキシカルボニル、低級アルキルメルカプト、たとえばメチルメルカプト、ハロゲン−低級アルキルメルカプト、たとえばトリフルオロメチルメルカプト、ヒドロキシ−低級アルキル、たとえばヒドロキシメチルもしくは1−ヒドロキシメチル、低級アルカンスルホニル、たとえばメタンスルホニル、ハロゲン−低級アルカンスルホニル、たとえばトリフルオロメタンスルホニル、フェニルスルホニル、ジヒドロキシボラ(−B(OH))、2−メチル−ピリミジン−4−イル、オキサゾール−5−イル、2−メチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、1H−ピラゾール−3−イル、1−メチル−ピラゾール−3−イル;および2つの隣接する炭素原子に結合した低級アルキレンジオキシ、たとえばメチレンジオキシから選択されるものにより置換されている。
アリールとしてのR2は、とりわけフェニルである。
ハロゲンは、とりわけフッ素、塩素、臭素、もしくはヨウ素、特にフッ素もしくは塩素である。
非置換もしくは置換ヘテロアリールであるR2は、たとえば、以下の構造:
Figure 2006511469
(式中、Rはアシルである。);
から選択されるラジカルである。
ベンゼン核に縮合している複素環ラジカルとしてのR2は、たとえば、式
Figure 2006511469
Figure 2006511469
で示されるラジカルから選択されるラジカルである。
新規合成には、以下の手順が含まれる:
a)式1
Figure 2006511469
〔式中、R2は上で与えた意義を有し、そしてメシレート基をトシレート基などに代えてもよく、そして
Figure 2006511469
はアルコール保護基、好ましくはシリル保護基、さらに好ましくは後で列挙したシリルエーテル形成基のいずれかおよび最も好ましくは低級アルキルシリル保護基、好ましくはTES、TBDS、TPSから選択されるものである。〕
で示される化合物を、−50〜−100℃の比較的低温にて不活性溶媒中でルイス酸の存在下、かつ塩基を添加した選択的アルドール反応で、式2
Figure 2006511469
〔式中、
Figure 2006511469
はアルコール保護基、好ましくはシリル保護基、さらに好ましくは後で列挙したシリルエーテル形成基のいずれかおよび最も好ましくは低級アルキルシリル保護基、好ましくはTES、TBDS、TPSから選択されるものである。〕
で示されるスルタム誘導化合物と反応させ、その後、−20〜+20℃の上昇した温度にて、式3
Figure 2006511469
〔式中、R2は上で与えた意義を有する。〕
で示される化合物を得ること。
上で与えた式2の化合物を、式2〔式中、
Figure 2006511469
はアルコール保護基、好ましくはシリル保護基、さらに好ましくは後で列挙したシリルエーテル形成基のいずれかおよび最も好ましくは低級アルキルシリル保護基、好ましくはTES、TBDS、TPSから選択されるものである。〕
の化合物に代えてもよい。
式3の化合物は新規化合物であり、そして反応経路の次の工程b)の中間体として使用され、そして
b)得られた上記式3の化合物を、−70〜+25℃の温度にてシリル−エーテル形成化合物および2,6−ルチジンの存在下で反応させ、式4
Figure 2006511469
〔式中、R2および
Figure 2006511469
は上で与えた意義を有する。〕
で示される化合物を形成させる。
式4の化合物は新規化合物であり、そして反応経路の次の工程c)の前駆体として使用され、そして
c)上記の式4の化合物を、DME中のTBAOH/H2O2またはTHF/MeOH/H2O中のLiO2Hでキラル補助基を脱離することによりそのカルボン酸に変換し、式5
Figure 2006511469
〔式中、R2および
Figure 2006511469
は上で与えた意義を有する。〕
で示される化合物を得る。
得られた式5の化合物は新規化合物であり、そして反応経路の次の工程d)のさらなる中間体として使用され、そして
d)上の式5の化合物を、不活性溶媒中で還元試薬と反応させ、メシレートまたはトシレート基などを開裂させ、式6
Figure 2006511469
〔式中、R2および
Figure 2006511469
は上で与えた意義を有する。〕
で示される化合物を得る。
得られた式6の化合物は新規化合物であり、そして反応経路の次の工程e)の中間体として使用され、そして
e)上の式6のトリ保護されたトリ−シリルエーテル化合物を、不活性溶媒またはそれらの混合物、たとえばTHF中のTASFまたはHF−ピリジン中で脱シリル試薬または酸で加水分解し、選択的に脱シリル化された式7
Figure 2006511469
〔式中、R2および
Figure 2006511469
は上で与えた意義を有する。〕
で示される化合物を得る。
式7の化合物は新規化合物であり、そして反応経路の次の工程f)の前駆体として使用され、そして
f)M. Yamaguchi et al Bull. Chem. Soc. Jpn., 1979, 52, 1989により記載された条件にしたがって式7の化合物をマクロラクトン化し、式8
Figure 2006511469
〔式中、R2および
Figure 2006511469
は上で与えた意義を有する。〕
で示される完全に保護されたエポチロン誘導体を得る。
得られた式8の化合物は新規化合物であり、そして反応経路の次の工程g)の前駆体として使用され、そして
g)得られた式8の化合物を、不活性溶媒中で0〜30℃の温度にてHF−ピリジンで処理し、そして両方のシリルエーテル保護基を開裂させ、式9
Figure 2006511469
〔式中、R1は、メチルであり、そしてR2は上で記載した意義を有する。〕
のエポチロン誘導体を得、そして所望により式9の化合物を慣用的方法により金属カチオンで塩に変換してもよい。
エポチロンBの、対応するラクタムへの変換は、WO99/02514のスキーム21(31および32頁)および実施例3(48〜50頁)に開示されている。エポチロンBと異なる式9の化合物の、対応するラクタム化合物への変換は、同様に達成され得る。
反応工程a)〜g)の1つにおいて記載された不活性溶媒には、メタノール、エタノール、プロパノール、ジクロロメタン、ジクロロエタン、DMF、テトラヒドロフラン(THF)、ベンゼン、トルエン、ピリジン、酢酸エチル、アセトンもしくはt−ブチル−メチルエーテル(TBME)、ヘキサンもしくはヘプタンなど、およびこれらの混合物が含まれるが、これらに限定されるわけではない。
反応工程a)〜g)の1つにおいて記載した有機塩基には、有機アミン、たとえば非置換もしくはヒドロキシ−置換モノ−、ジ−もしくはトリ−アルキル−アミン、とりわけモノ−、ジ−もしくはトリ−低級アルキル−アミン、たとえばメチルアミン、ジメチルアミン、ジ−n−プロピルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミンおよびジ−イソプロピルエチルアミン(iPr2Net)、窒素ヘテロ環、エチレン−イミン、ピロリジン、ピペリジンおよびモルホリン、とりわけ4−ジメチルアミノ−ピリジン(DMAP)、ピリジン、2,6−ルチジン、2,6−ジ−tert−ブチルピリジンなどが含まれるが、これらに限定されるわけではない。
金属有機塩基(metalo-organic base)は、たとえばLDA(リチウムジイソプロピルアミン)、BuLi、sec−BuLi、KHMDS、LiHMDS、またはNaHMDSである。
還元剤は、たとえばDIBAL−H(ジイソブチルアルミニウムヒドリド)、LiAlH4(リチウムアルミニウムヒドリド)、リチウムトリエチル水素化ホウ素などである。
Figure 2006511469
は、有機合成においてよく使用されるアルコール保護基であり、そして不所望の二次反応に対して官能性ヒドロキシ基を保護すべきである。シリル−エーテル形成化合物は、たとえば有機合成において非常によく使用される標準的保護基であり、そして好ましくは、シリル保護基は低級アルキルシリルであり、さらに好ましくは、シリル保護基はTMS(トリメチル−シリル)、TES(トリエチル−シリル)、TPS(トリ−n−プロピルシリル)、TBDS(tert−ブチル−ジメチルシリル)、DEIPS(ジエチル−イソプロピル−シリル)、IPDMS(ジメチル−イソプロピルシリル)、TDS(テキシル−ジメチルシリル)、TIPS(トリ−イソプロピル−シリル)、THP(テトラヒドロピラニル−シリル)などから選択され、好ましくはTES、TPSまたはTBDMS、最も好ましくはTPSである。化合物が1を超える保護基を有する場合、保護基は、互いに独立して選択され、そして全て同一、すべて異なる、またはこれらの任意の組合せであってもよく、好ましくは、保護基はすべて同一であり、最も好ましくは、保護基はTPSである。
「医薬上許容される金属塩」なる用語には、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、鉄および亜鉛イオンで形成された塩が含まれる。塩は慣用的方法により製造される。
加水分解による式4の化合物のビス−トリメチルシラニルオキシ基の開裂に適した酸は、エポチロン構造のエポキシド環を開環させない弱有機酸であり、そして、たとえば希酢酸、プロピオン酸、グリコール酸、乳酸、フマル酸、コハク酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、リンゴ酸、酒石酸、マレイン酸、マンデル酸、アミノ酸、たとえばグルタミン酸またはアスパラギン酸、とりわけクエン酸などである。とりわけ、THF中のHF−ピリジンまたはピリジン中のHF−ピリジンが挙げられる。
前記反応経路a)にしたがうアルドール反応に使用されるキラル補助基は、たとえばスルタム補助基またはオキサゾリジノン基、たとえば
Figure 2006511469
および他の既知のキラル補助基である。
式9の化合物の製造のための上記の製造順序の反応工程a)〜g)は、以下にさらに詳細に記載したように行われる:
a)式1の化合物を、たとえば、ジクロロメタン中TiCl4およびヒューニッヒ塩基(iPr2NET)の存在下で−78℃の温度、その後0℃の温度にて式2の化合物と反応させ、式3の化合物を得る。
b)得られた式3の化合物を、2,6−ルチジンの存在下で−20〜25℃の温度、とりわけ−10℃の温度にて不活性溶媒としてジクロロメタン中でシリル−エーテル形成化合物、たとえばTPSCl、TBDMSOTfと反応させ、式4の化合物を形成させる。
c)得られた式4の化合物を、DME中のTBAOH/H2O2またはTHF/MeOH/H2O中のLiO2Hでスルタム補助基を脱離することによりカルボン酸に変換し、式5の化合物を得る。
d)得られた式5の化合物を、メシレートまたはトシレート基などを開裂させるため不活性溶媒としてTHF中の還元剤としてLiBHET3と反応させ、式6の化合物を得る。
e)得られた式6の化合物を、脱シリル試薬、とりわけ不活性溶媒、たとえばピリジンまたはTHF中のTASFまたは有機酸、とりわけHF−ピリジンで加水分解し、式7の化合物を得る。
f)得られた式7の化合物を、ヤマグチら(Yamaguchi et al)にしたがって、たとえば、ヒドロキシ酸をEt3Nおよび2,4,6−トリクロロベンゾイルクロライドで比較的低温、たとえば0℃にて処理し、その後、反応混合物を4−DMAPのトルエン溶液に添加し、そして温度を約75℃に上昇させて、マクロラクトン化し、式8の化合物を得る。
g)得られた式8の保護エポチロン誘導体を、不活性溶媒としてのピリジン中のHF−ピリジンで処理し、そして両方のシリル保護基(TPS、TES、TBDMS)を開裂後、式9〔式中、R1は、メチルであり、そしてR2は上で記載した意義を有する。〕のエポチロン誘導体を得、そして所望により式9の化合物[R1およびR2は式9で定義した意義を有する。]を慣用的方法により金属カチオンで塩に変換してもよい。
R2が非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロアリール、またはベンゼン核に縮合した非置換もしくは置換複素環ラジカルの意義を有する式1の反応経路に使用される出発化合物は、式9のエポチロン誘導体の製造のための重要な中間体として使用され、そして新規であり、そして以下で与えた工程a)〜g)を含む以下の反応経路により製造される。
R2および
Figure 2006511469
の詳細な意義は、それぞれ式9および式1で定義されている。
新たに開発された合成には以下の順序が含まれる:
a)式X
Figure 2006511469
で示される化合物を、50〜150℃の温度にて、より詳細には100℃の温度にてPPH3と反応させ、その後、0℃にて不活性溶媒中、とりわけTHF中でKHMDSと反応させ、その後、反応混合物を−50〜−100℃の温度に冷却し、そしてより詳細には−78℃の温度にてCH3CO2Clで処理し、式XI
Figure 2006511469
の化合物を得、
そして
b)得られた式XIの化合物を、不活性溶媒、たとえばトルエン中で20〜60℃の温度にて、より詳細には40℃の温度にて式XII
Figure 2006511469
で示される化合物と反応させ、式XIII
Figure 2006511469
で示される化合物を得、
c)式(XIII)の化合物を、不活性溶媒、たとえばトルエン中で−50〜−100℃の温度にて、より詳細には−78℃の温度にて還元剤、とりわけDIBALHで還元し、そしてその後、0℃まで温度を上昇させ、式XIV
Figure 2006511469
(式XIVの図およびその後の化合物は、以後、簡略化される。)
〔式中、R2および
Figure 2006511469
は上記の意義を有する。〕
で示される化合物を得、そして
d)式XIVの化合物のエポキシ化のために、シャープレスの条件[(+)−ジエチル−L−酒石酸エステル、Ti(OPr)4、t−BuOOH]を用いて、式XV
Figure 2006511469
〔式中、R2および
Figure 2006511469
は、それぞれ、式9および式1にて上で与えた意義を有する。〕
で示される化合物を得る。
得られた式XVの化合物は新規化合物であり、そして反応経路の次の工程e)の前駆体として使用され、そして
e)メシレート基を、不活性溶媒、たとえばジクロロメタン中のトリエチルアミン(EtN)の存在下でメシル酸クロライド(メシレート基を、対応するトシレート基などに代えてもよい。)を添加することにより式XVの化合物に導入し、式XVI
Figure 2006511469
〔式中、R2および
Figure 2006511469
は上で与えた意義を有する。〕
で示される化合物を得る。
得られた式XVIの化合物は新規化合物であり、そして次の工程f)のための中間体として使用され、そして
f)得られた式XVIの化合物を、不活性溶媒中の有機酸で、より詳細には無水エタノール中のピリジニウム p−トルエンスルホネートまたはカンファー スルホン酸で処理し、1つの保護基を加水分解し、そして式XVII
Figure 2006511469
〔式中、R2は上で与えた意義を有する。〕
で示される化合物を得、そして
g)スワン酸化法を用いて酸化し、たとえば塩化オキサリルの促進およびジメチルスルホキシドの活性化によるアルコール性基の酸化、アルコキシスルホニウム塩を経由し、そして塩基の添加および分子内転位後に、出発化合物として前記本発明の反応経路において使用される式1のケト化合物を得る。
式9のエポチロン誘導体を製造するための本発明の反応経路は、他の既知かつ公表された合成と比較して多くの利点を示す:
− エポキシドの早期の導入は、驚くべきことに、合成手順内の後期の中間体の問題の多いエポキシ化工程を避け、
− 顕著な安定化効果がメシレートおよびトシレートエポキシドについて認められた。多くの工程を、これらの官能基の存在下で行うことができる。
− α−分枝鎖アルデヒドおよびエチルケトン重要フラグメントの間の高収率および高ジアステレオ選択的チタニウムエノラートアルドール反応が達成された。
− アルドール反応は、驚くべきことに、メシレートおよびトシレートエポキシドの存在を許容する。
− アルドール反応は、エポチロン誘導体の高度収斂型合成(highly convergent synthesis)を可能にする。
− アルドール反応は、驚くべきことに、カルボキシレート保護基としてのキラルスルタム補助基の利用を可能にし、したがって、最後のマクロラクトン化工程の前の時間のかかるさらなる還元および酸化を回避する。
− 本発明の製造順序は、文献で知られている任意の他の公表された合成経路よりも短い合成経路であり、さらに、より高い総合収率が認められた。
概して言えば、要約した利点は、上記の製造順序の進歩性(inventive step)を明確に示している。
本発明の第2の態様は、前記の反応にしたがって製造され、そして式9の化合物の製造に有用な新規中間体である。
医療処置用の式9のエポチロン誘導体は、あらゆる既知の経路により投与され得、そして静脈内経路、動脈内経路、皮内(intracutaneus)経路、皮下経路、経口経路、頬側経路、筋肉内経路、肛門経路、経皮経路、皮内(intradermal)経路、髄腔内経路などからなる群から選択され得る。
また、持続放出製剤、たとえば生分解可能なマイクロスフェア、たとえばポリアクリル酸、ポリグリコール酸またはこれらの混合物を含むマイクロスフェアを含んで実現される。
本発明の式9の化合物は、単独で、または他の医薬活性物質と組み合わせて、たとえば伝統的な細胞増殖抑制剤のような他の化学療法剤と組み合わせて使用され得る。他の化学療法剤との組合せの場合において、2またはそれ以上の成分の固定された組合せ剤(たとえばキット・オブ・パーツ)を、当業者既知のように製造し、そして本発明の化合物および任意の他の化学療法剤を腫瘍処置のために通常の、相加的または好ましくは相乗的効果を可能にする間隔で投与する。
以下の非限定的実施例は、特許請求された本発明の化合物の、本発明者らの好適な製造方法を説明するものであり、これを、本発明の範囲を限定するものとして解釈してはならない。
Figure 2006511469
6−ベンジルオキシ−ヘキサン酸(II)(Can. J. Chem. 1992, 70, 1427)
1.5Lのトルエン中の102.2g(0.90mol)の6−カプロラクトンの溶液に、250.6g(4.48mol)のKOHおよび113.3ml(0.98mol)の塩化ベンジルを添加した。反応混合物を還流温度にて20時間撹拌した。反応を、1.7Lの水で室温にてクエンチした。水層を分離し、そしてトルエン層を200mlの水で抽出した。合わせた水相を12℃にて300mlのHCl(conc.)で処理し、溶液をpH 1.0まで酸性化した。1.1Lの酢酸イソプロピルで2回抽出した後、合わせた有機抽出液を300mlのブラインで洗浄し、そしてMgSOで乾燥した。減圧下で濃縮すると、黄色っぽいオイルとして151.2g(76%)の酸IIを得た。R=0.35(SiO、95:5 CHCl−CHOH).
6−ベンジルオキシ−ヘキサノイルクロライド(III)
粗製の酸II(110g、0.50mol)を320mlのトルエンに溶かした。この溶液に、140μlのDMFを添加し、56.7ml(0.66mol)の塩化オキサリルを添加した。反応混合物を室温にて一夜撹拌し、そして真空中で濃縮すると、126gの酸クロライドIIIを得、これを次の工程において直接使用した。
(S)−4−ベンジル−3−(6−ベンジルオキシ−ヘキサノイル)−オキサゾリジン−2−オン(V)
87.7g(0.50mol)の(S)−4−ベンジル−2−オキサゾリジニノンIVの溶液を、1.4LのTHFに溶かし、そして−78℃に冷却した。ヘキシルリチウム(ヘキサン中2.5M)(178ml、0.45mol)を添加し、続いて、100mlのTHF中の酸クロライドIII(126g、0.50mol)の溶液をゆっくりと添加した。−78℃にてさらに1時間撹拌した後、得られた溶液を0℃まで加温した。飽和水性塩化アンモニア溶液(400ml)を添加して、反応をクエンチした。層を分離し、そして有機層をさらに100mlの飽和塩化アンモニア溶液で洗浄した。THF層を200mlの1M NaOHで2回および500mlのブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、そして濃縮した。粗生成物(162.4g)をフラッシュクロマトグラフィー(200gのSiO、ヘプタン/TBME=80:20 − 60:20)により精製すると、110.1g(2工程で58%)のアミドVを得た。R=0.41(SiO、1:1 ヘキサン−TBME).
(S)−4−ベンジル−3−[(S)−6−ベンジルオキシ−2−メチル−ヘキサノイル]−オキサゾリジン−2−オン(VI)
アミドV(120.1g、0.32mol)のTHF(200ml)溶液を、380mlのTHF中の372ml(0.37mol)のNaHMDS(THF中1.0M)に−78℃にて添加し、続いて70mlのTHF中のCHI(78.4ml、1.26mol)の溶液を添加した。反応混合物を−78℃にて2時間撹拌した。水性飽和塩化アンモニア(670ml)を添加して、反応をクエンチした。層を分離し、そして水相200mlのTBMEで抽出した。合わせた有機層を250mlのブラインで2回洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮した。生成物VI(123.9g)を87%deで得、そして次の工程において直接使用した。R=0.50(SiO、1:1 ヘプタン−TBME);
(S)−6−ベンジルオキシ−2−メチル−ヘキサン−1−オール(VII)
380mlのTHF中の13.2g(0.35mol)のLiAlHの懸濁液に、0℃にて250mlのTHF中のアミドVIの溶液を添加した。混合物を0℃にて2時間撹拌し、14mlのHO、14mlの15%NaOHおよび25mlのHOでクエンチした。沈澱したアルミニウム塩を濾過により除去した。濾液を濃縮した後、粗生成物をシリカゲル濾過(570gのSiO、トルエン/EtOAc=90:10、3Lおよびトルエン/EtOAc=80:20 1L)により精製した。生成物VIIを無色のオイルとして得た(54.5g、2工程で81%)。R=0.24(SiO、1:1 ヘプタン−TBME);HPLC:87%de(Chiralcel OD、n−ヘキサン/i−PrOH=95:5、1.0ml/分、30℃) t=10.07分。
[(S)−6−ベンジルオキシ−2−メチル−ヘキシルオキシ]−tert−ブチル−ジメチル−シラン(VIII)
アルコールVII(54.4g、0.25mol)を100mlのDMFに溶かし、そして33.3g(0.49mol)のイミダゾールで処理し、続いて0℃にて100mlのDMF中の55.4g(0.37mol)のtert−ブチル−ジメチルシリルクロライドの溶液をゆっくりと添加した。混合物を20℃にて2時間撹拌し、次いで、240mlの氷冷0.1N HClに注ぎ、そして300mlのヘプタンで抽出した。有機層をさらに100mlの0.1N HCl、200mlの飽和水性NaHCO、200mlのブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮した。粗生成物(81.5g)を濾過により精製すると(670gのSiO、トルエン)、無色のオイルとして64.8g(79%)を得る。R=0.64(SiO、1:1 ヘプタン−TBME)。
(S)−6−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−5−メチル−ヘキサン−1−オール(IX)
500mlのTHF中の64.0g(0.19mol)のベンジルエーテルVIIIの溶液を、周囲温度にて7.0gの20% Pd(OH)/Cで30分間水素化(3.5bar)した。触媒を濾過により除去し、そして濾液を濃縮すると、無色のオイルとしてアルコールIXを得た(46.9g、100%)。R=0.33(SiO、1:1 ヘプタン−TBME).
tert−ブチル−[(S)−6−ヨード−2−メチル−ヘキシルオキシ]−ジメチル−シラン(X)
トリフェニルホスフィン(23.91g、91.16mmol)およびイミダゾール(12.45g、182.9mmol)を、室温にて390mlのアセトニトリル/トルエン(1:5)中の15g(60.9mmol)のアルコールIXの溶液に添加した。混合物を0℃に冷却し、そして23.13g(91.13mmol)のヨウ素を4回に分けて、10分かけて添加した。不均一な溶液を90分間撹拌した。水性亜硫酸水素ナトリウム(4%、300ml)および100mlのトルエンを添加した。水層を分離し、そしてトルエン(100ml)で再抽出した。合わせたトルエン層をシリカゲルで濾過し、そして真空中で濃縮した。残渣にヘプタン(225ml)を添加する。得られた懸濁液を10分間撹拌し、そして4℃にて12時間保存した。濾過し、そして濾液を濃縮すると、淡黄色のオイルとして21.05g(97%)のヨーダイドXを得た。R=0.66(SiO、7:3 ヘプタン−AcOEt).
Figure 2006511469
(S)−7−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−6−メチル−2−(トリフェニルホスファニリデン)−ヘプタン酸 メチルエステル(XI)
アルゴン下および室温にて、ヨーダイドX(15.46g、43.4mmol)およびトリフェニルホスフィン(12.52g、45.75mmol)をトルエン(8ml)に添加した。得られた混合物を100℃にて3時間加熱した。次いで、トルエンを減圧下で除去した。THF(400ml)を残渣(29.67g)に添加し、そして溶液を0℃に冷却し、そしてその後、トルエン(0.5M、174ml、86.8mmol)中のカリウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液で処理した。得られた橙色の懸濁液を0℃にて1時間撹拌し、次いで−75℃に冷却した。メチル クロロホルメート(3.72ml、48.2mmol)を添加した。−75℃にて1時間撹拌後、黄色がかった反応混合物を−40℃まで昇温させた。NaHCO(300ml)、続いてEtOAc(300ml)および水(150ml)を添加した。層を分離し、そして水相をEtOAc(150ml)で抽出した。合わせた有機層をNaCl(2X200ml)の飽和水溶液で洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮した。粘りけのある橙色のオイルとして得られた粗生成物XI(27.02g)を次の工程において直接使用した。
(2E,6E)−(S)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−2−[(S)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−4−メチル−ペンチル]−6−メチル−7−(2−メチル−チアゾール−4−イル)−ヘプタ−2,6−ジエン酸 メチルエステル(XIII)
イリド(XI)(27g)のトルエン(200ml)溶液を、周囲温度にてアルゴン下で、アルデヒド(XII)(12.7g、39.0mmol)のトルエン(80ml)溶液で処理した。得られた混合物を70℃にて5時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去した。残りの残渣(37.8g)を370mlのヘプタンに溶かし、そして連続的に、40℃にて30分間、室温にて2.5時間、および最後に0℃にて30分間撹拌した。得られた懸濁液を濾過し、そしてフィルターケーキをヘプタン(2X60ml)で洗浄した。濾液を集め、そして真空中で濃縮すると、黄色がかったオイルとして24.85gのウィッテッヒ生成物XIIIを得、これをさらなる精製なしに次の工程のために使用した。R=0.59(SiO、1:1 ヘプタン−AcOEt);
1H-NMR (DMSO-d6, 300 MHz, 300 K) δ 6.90 (s, 1H, C5''-H), 6.77 (t, J=7.5 Hz, 1H, C3-H), 6.47 (s, 1H, C7-H), 4.20 (dd, J=7.2, 5.4 Hz, 1H, C5-H), 3.69 (s, 3H, CO2CH3), 3.40 (dd, J=9.9, 5.7 Hz, 1H, C5'-Ha), 3.31 (dd, J=9.9, 6.6 Hz, 1H, C5'-Hb), 2.68 (s, 3H, C2''-CH3), 2.44-2.36 and 2.28-2.21 (two m, 4H, C4-H2 and C1'-H2), 2.00 (s, 3H, C6-CH3), 1.30-1.15 (two m, 4H, C2'-H2, C3'-Ha and C4'-H), 1.06-0.99 (m, 1 H, C3'-Hb), 0.86 (s, 9 H, SiC(CH3)3), 0.85 (s, 9 H, SiC(CH3)3), 0.83 (d, J=6.6, 3H, C5'-CH3), 0.05 (s, 3 H, SiCH3), 0.01 (s, 6 H, two SiCH3), -0.01 (s, 3 H, SiCH3).
(2E,6E)−(S)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−2−[(S)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−4−メチル−ペンチル]−6−メチル−7−(2−メチル−チアゾール−4−イル)−ヘプタ−2,6−ジエン−1−オール(XIV)
500mlのTHF中の13.9g(23mmol)のアリルエステルXIIIに、−78℃にて、47ml(70mmol)のDIBALH(トルエン中1.5M)を10分間かけて添加した。反応混合物を、連続的に−78℃にて3時間、30分以内に0℃まで昇温させ、そして0℃にてさらに30分間撹拌し、その後、50mlの水性0.1N HClの添加によりクエンチした。層を分離し、そして水層をTBME(2X50ml)で洗浄した。合わせた有機抽出液を水性飽和NaHCO(2X50ml)およびブライン(50ml)で洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮した。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー(SiO、5:1 ヘプタン/EtOAc)により精製すると、淡黄色のオイルとして10.0g(76%)のアリルアルコールXIVを得た。R=0.16(SiO、3:1 ヘプタン−AcOEt)。
{(2S,3S)−3−[(E)−(S)−2−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−3−メチル−4−(2−メチル−チアゾール−4−イル)−ブタ−3−エニル]−2−[(S)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−4−メチル−ペンチル]−オキシラニル}−メタノール(XV)
アリルアルコール(XIV)(3.00g、5.28mmol)を51mlのCHClに溶かした。−30℃にて、CHCl中の(+)−ジエチル−L−酒石酸エステル(4.48ml、2.64mmol)の0.59M溶液、続いてCHCl中のチタン酸(IV)イソプロポキシド(6.21ml、2.11mmol)の0.34M溶液を添加した。混合物を−30℃にて30分間撹拌した。次いで、2.11ml(16.6mmol)のtert−ブチル−ヒドロペルオキシド(デカン中5.5M)を5分間かけて添加した。反応混合物を−30℃にて24時間撹拌した。次いで、水性NaHSO(4%、50ml)を添加した。層を分離し、そして水層を酢酸エチル(2X50ml)で抽出した。合わせた有機抽出液を50mlのブラインで洗浄し、そしてMgSOで乾燥した。真空中で濃縮後、3.11gの粗エポキシアルコールXVを淡黄色のオイルとして得、これをさらなる精製なしに次の工程において使用した。R=0.22(SiO、2:1 ヘプタン−AcOEt);MS (ES+) m/z (%) 606 (100、[M+Na])、584 (13、[M+H]).
メタンスルホン酸(2S,3S)−3−[(E)−(S)−2−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−3−メチル−4−(2−メチル−チアゾール−4−イル)−ブタ−3−エニル]−2−[(S)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−4−メチル−ペンチル]−オキシラニルメチルエステル(XVI)
粗エポキシアルコール(XV)(3.11g、5.3mmol)のCHCl(40mL)溶液に、0℃にて、2.74mL(16.0mmol)のN−エチルジイソプロピルアミンを添加した。得られた混合物を0℃にて15分間撹拌した。その後、メタンスルホニルクロライド(0.75ml、8.0mmol)を滴下した。0℃にて1時間撹拌後、反応溶液を40mLのHOおよび40mLのTBMEでクエンチした。層を分離し、そして水層をTBME(40ml)で抽出した。有機抽出液をHCl(0.1N)(40ml)、飽和水性NaHCO(2X40ml)およびブライン(40ml)で洗浄し、そしてMgSOで乾燥した。真空中で濃縮すると、3.79gの粗メシレートXVIを得、これをさらなる精製なしに次の工程のために使用した。R=0.27(SiO、2:1 ヘプタン−AcOEt);HRMS m/z 684.3222([M+Na]、C3159NOSiは684.3220と求められる)。
メタンスルホン酸(2S,3S)−3−[(E)−(S)−2−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−3−メチル−4−(2−メチル−チアゾール−4−イル)−ブタ−3−エニル]−2−((S)−5−ヒドロキシ−4−メチル−ペンチル)−オキシラニルメチルエステル(XVII)
粗TBDMSエーテルXVI(3.79g、5.7mmol)を、CHClおよびCHOH(1:1 v/v)(140ml)の混合物に溶かし、そして0℃にて1.33g(5.73mmol)の10−カンファースルホン酸で処理した。反応混合物を0℃にて1時間撹拌した。脱保護の完了後、20mlのTBMEとともに20mlの飽和水性NaHCOを添加した。層を分離し、そして水層をTBME(2X20mL)で抽出した。合わせた有機層を飽和水性NaHCO(2X20ml)、ブライン(20ml)で洗浄し、MgSOで乾燥し、そして減圧下で濃縮した。黄色がかったオイルとして得られた粗生成物XVII(3.11g)を、さらなる精製なしに次の工程のために使用した。R=0.28(SiO、1:1 ヘプタン−AcOEt)。
メタンスルホン酸(2S,3S)−3−[(E)−(S)−2−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−3−メチル−4−(2−メチル−チアゾール−4−イル)−ブタ−3−エニル]−2−((S)−4−メチル−5−オキソ−ペンチル)−オキシラニルメチルエステル(1)
アルコールXVII(3.11g、5.7mmol)のCHCl(15ml)溶液を、0℃にて、トリエチルアミン(10ml)、DMSO(6ml)およびSO−ピリジン(3.61g、22.7mmol)のDMSO(40ml)溶液(これは、5分間かけて添加された)で連続的に処理した。0℃にて1時間後、反応混合物を水性NaHSO(10%、20ml)でクエンチし、そしてTBME(20ml)で希釈した。層を分離し、そして水層をTBME(2X20mL)で抽出した。合わせた有機層を飽和水性NaHCO(2X20ml)、ブライン(20ml)で洗浄し、MgSOを乾燥し、そして減圧下で濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(SiO、3:1 ヘプタン/EtOAc)により精製した。アルデヒド1は淡黄色のオイルとして得られた(2.20g、XIVに基づいて4つの工程で76%収率)。R=0.39(SiO、1:1 ヘプタン−AcOEt).
実施例3
TBDMS保護基を有するアルデヒドXVI'
Figure 2006511469
4−[(E)−(S)−3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ]−4−{(2S,3R)−3−[(S)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−4−メチル−ペンチル]−3−ヨードメチル−オキシラニル}−2−メチル−ブタ−1−エニル)−2−メチル−チアゾール(XVI')
5:1 v/v トルエン/アセトニトリル(2.4ml)中のエポキシ−アルコールXV'(50mg、86μmol)、トリフェニルホスフィン(34mg、0.13mmol)、(50mg、86 (34mg、0.13mmol)およびイミダゾール(18mg、0.26mmol)の溶液を、室温にてアルゴン下で、ヨウ素(33mg、0.13mmol)を一度に処理した。30分間撹拌後、反応終了と判断し(TLC)、そして後処理した。反応混合物を水性飽和NaHSO(5ml)に注いだ。層を分離し、そして水層をトルエン(2X2ml)で抽出した。合わせた有機層を1N HCl(5ml)、水性飽和NaHCO(5ml)およびブライン(5ml)で洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮した。残渣をヘプタン中に懸濁させ、そして不溶性のトリフェニルホスフィンオキサイドを濾過により除去した。粗ヨーダイドXVI'を淡黄色のオイルとして得(65mg)、これはさらなる精製を必要としなかった。
Figure 2006511469
1−(10,10−ジメチル−3,3−ジオキソ−6−チア−4−アザ−トリシクロ[5.2.1.0]デカ−4−イル)−3−ヒドロキシ−4,4−ジメチル−ヘプタン−1,5−ジオン(11)
アルゴン下およびテフロンフラスコ中で、TBDMSエーテル(10)(9.21g、18.43mmol)をHF−ピリジン錯体(26.3ml、921mmol)と周囲温度にて混合した。得られた反応混合物を2時間撹拌し、次いで、これを200mlのTBMEとともにNaHCO(500mlの水中78g)の撹拌水溶液に添加することによりクエンチした。層を分離し、そして有機層をブライン(2X200ml)で洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮すると、6.80gの粗生成物を得、これはさらなる精製を全く必要としなかった。
1−(10,10−ジメチル−3,3−ジオキソ−6−チア−4−アザ−トリシクロ[5.2.1.0]デカ−4−イル)−4,4−ジメチル−3−トリエチルシラニルオキシ−ヘプタン−1,5−ジオン(2)
粗アルコール(11)(6.80g、17.6mmol)のCHCl(90ml)溶液に、0℃にて、2,6−ルチジン(6.14ml、52.9mmol)、続いてトリエチルシリル トリフルオロメタンスルホネート(7.98ml、35.3mmol)を添加した。得られた溶液を0℃にて30分間撹拌した。反応液を、150mlのTBMEとともに140mlの1N HClを添加することにより注意深くクエンチした。層を分離し、そして有機層を100mlの飽和水性NaHCOおよび100mlのブラインで連続的に洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮した。クロマトグラフィー(SiO、4:6 ヘキサン/AcOEt)により粗生成物を精製すると、8.3gの純粋なTES−エーテル2を得た(2工程で90%)。R=0.62(SiO、1:1 ヘプタン−AcOEt);
1H-NMR (DMSO-d6, 400 MHz, 300 K) δ 4.55 (t, J=5.2 Hz, 1H, C3-H), 3.86 (d, J=14.3 Hz, 1H, C8-Ha), 3.83 (t, J=6.1 Hz, 1H, C1-H), 3.66 (d, J=14.2 Hz, 1H, C8-Hb), 2.84 (dd, J=17.4, 4.6 Hz, 1H, C2-Ha), 2.54 (m, 3H, C2-Hb and C7-H2, DMSOにより部分的に覆われている), 2.00-1.92 and 1.87-1.73 (2 m, 6H, C2-H2, C3-H and C5-H2), 1.48-1.20 and 1.34-1.24 ( 2 m, 2H, C4-H2), 1.10 (s, 3H, C4-CH3), 1.07 (s, 3H, C4-CH3), 0.98 (s, 3H, C9-CH3), 0.95 (s, 3H, C9-CH3), 0.94-0.87 (m, 12H, Si(CH2CH3)3 and C7-H3), 0.60-0.45 (m, 6H, Si(CH2CH3)3);
13C-NMR (DMSO-d6, 100 MHz, 300 K) δ 215.3, 169.7, 73.1, 65.1, 52.9, 52.7, 49.2, 48.1, 45.1, 40, 38.8, 32.8, 32.1, 26.7, 21.5, 20.9, 21.0, 20.4, 8.5, 7.6, 7.5, 5.4;
IR (KBr) νmax 2958s, 2913m, 2878s, 1702s, 1391m, 1333s, 1312m, 1267m, 1237m, 1219m, 1166m, 1136s, 1087s, 743m, 539m cm-1
MS (ES+) m/z (%) 769 (3, [3M+Ca]2+), 538 (6, [M+K]+), 522 (100, [M+Na]+), 519 (17, [2M+Ca]2+), 500 (5, [M+H]+).
Figure 2006511469
アルドール生成物(3)
「2」(750mg、1.50mmol)のCHCl(5.6ml)溶液を、−78℃にてアルゴン雰囲気下で、0.5M TiClのCHCl溶液(3.00ml、1.50mmol)およびN−エチルジイソプロピルアミン(257□l、1.50mmol)で連続的に処理すると、溶液は直ちに濃い暗赤色となった。−78℃にて10分間の撹拌後、「1」(900mg、1.65mmol)のCHCl(1.9ml)溶液を滴下した。その後、反応溶液を−78℃にて1時間撹拌し、次いで0℃まで昇温し、そしてさらに15分間撹拌し、この時点で反応終了と判断した(TLC)。反応を、ホスフェートバッファー(pH 7、4ml)の添加およびTBME(5ml)での希釈により0℃にてクエンチした。水層をTBME(2X5mL)で抽出した。合わせた有機抽出液を水性飽和NaHCO(2X4ml)およびブライン(4ml)で洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(50gのSiO、ヘプタン/AcOEt 2:1)により精製すると、淡黄色のオイルとしてアルドール生成物「3」(1200mg、「1」に基づいて70%)を得た。R=0.42(SiO、1:2 ヘプタン−AcOEt);MS (ES+) m/z (%) 1084 (5、[M+K])、1067 (100、[M+Na])、1045 (26、[M+H]).
TBDMSエーテル(4)
「3」(1.20g、1.15mmol)のCHCl(15ml)溶液を、0℃にてアルゴン雰囲気下で、2,6−ルチジン(0.87ml、7.49mmol)およびtert−ブチルジメチルシリル トリフルオロメタンスルホネート(1.32ml、5.74mmol)で連続的に処理した。0℃にて14時間撹拌した後、反応液を、CHCl(5ml)とともに0.1N水性HCl(5ml)を添加することにより後処理した。層を分離し、そして水層をCHCl(2X5mL)で抽出した。合わせた有機抽出液を、水性飽和NaHCO(2X5mL)およびブライン(5ml)で連続的に洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(50gのSiO、ヘプタン/AcOEt 2:1)により精製すると、淡黄色のオイルとして化合物「16」(893mg、67%)を得た。R=0.70(SiO、1:2 ヘプタン−AcOEt);MS (ES+) m/z (%) 1197 (12、[M+K])、1081 (100、[M+Na])、1059 (31、[M+H])、599 (75、[M+Ca]2+).
カルボン酸(5)
「4」(318mg、0.274mmol)の1,2−ジメトキシエタン(4.8ml)溶液を、0℃にてTBAOH(730□l、2.76mmol)およびH 30%(280□l、2.74mmol)で連続的に処理し、そして得られた混合物を0℃にて5時間撹拌し、その後後処理した:NHCl(2ml)の水性飽和溶液をTBME(2ml)とともに添加した。層を分離し、そして水層をTBME(2X2ml)で抽出した。有機抽出液を水性飽和NaHCO(2X2mL)およびブライン(2ml)で連続的に洗浄し、合わせ、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(15gのSiO、1%のAcOHを含有するヘプタン/AcOEt 1:1)により精製すると、淡黄色のオイルとして化合物「5」(103mg、39%)を得た。R=0.41 (SiO、3:3:4 CHCl−CHCN−ヘキサン);MS (ES+) m/z (%) 984 (100、[M+Na])、962 (12、[M+H]).
メチルエポキシド(6)
「5」(78mg、0.081mmol)のTHF(1.6ml)溶液を、周囲温度にて、LiBHEtの1M THF(970□l、0.97mmol)溶液を滴下して処理し、そして得られた混合物を周囲温度にて1時間撹拌した。反応液を、TBME(2ml)とともに水性飽和NHCl(2ml)を添加することによりクエンチした。層を分離し、そして水層をTBME(2X2ml)で抽出した。合わせた有機抽出液を、水性飽和NaHCO(2X2mL)およびブライン(2ml)で連続的に洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(6gのSiO、1%のAcOHを含有するヘプタン/AcOEt 1:1)により精製すると、淡黄色のオイルとして化合物「6」(60mg、85%)を得た。R=0.56 (SiO 1%のAcOH含有1:1 ヘプタン−AcOEt);MS (ES+) m/z (%) 890 (100、[M+Na])、868 (50、[M+H]).
Figure 2006511469
(2E,6E)−(S)−5−ヒドロキシ−2−[(S)−5'−ヒドロキシ−4'−メチル−ペンチル)−6−メチル−7−(2''−メチル−チアゾール−4''−イル]−ヘプタ−2,6−ジエン酸 メチルエステル(12)
24mlのHF−ピリジン錯体(839mol)含有テフロンフラスコ中、−10℃にて、アリルエステル(XIII)(10.0g、16.8mmol)を添加した。得られた混合物を−10℃にて10分間撹拌し、この時点で、出発物質の消失(TLC)により反応終了と判断し、そして直ちにクエンチした。混合物を水(100ml)およびTBME(100ml)中のNaHCO(70g)撹拌懸濁液に注いだ。層を分離し、そして水相をTBME(3X80ml)で抽出した。有機抽出液を合わせ、そして150mlの0.1N HClで洗浄し、そしてMgSOで乾燥した。真空中で濃縮すると、粗ジオール(2)(6.34g)を得、これを次の反応に直接付した。R=0.06(SiO、1:1 ヘプタン−AcOEt);
1H-NMR (DMSO-d6, 300 MHz, 300 K) δ 6.90 (s, 1H, C5-H), 6.75 (t, 1H, J=7.5 Hz, C3-H), 6.51 (s, 1H, C7-H), 4.23 (t, J=6.3 Hz, 1H, C3-H), 3.65 (s, 3H, CO2CH3), 3.41 (dd, J=10.5, 6.0 Hz, 1H, C5-Ha), 3.34 (dd, J=10.5, 6.3 Hz, 1H, C5-Hb), 2.64 (s, 3H, C2-CH3), 2.46 (t, J=6.9 Hz, 2H, C4-H2), 2.25 (t, J=7.2 Hz, 2H, C1-H2), 2.00 (s, 3H, C6-CH3), 1.70-1.55 and 1.53-1.25 (2 br m, 6 H, C2-H2, C3-Ha, C4-H, C5-OH and C5-OH), 1.15-1.00 (m, 1 H, C3-Hb), 0.85 (d, J=6.6 Hz, 3H, C4-CH3).
(2E,6E)−(S)−6−メチル−7−(2'−メチル−チアゾール−4'−イル)−2−[(S)−4''−メチル−5''−トリエチルシラニルオキシ−ペンチル]−5−トリエチルシラニルオキシ−ヘプタ−2,6−ジエン酸 メチルエステル(XIII')
粗ジオール(12)(6.33g、14mmol)のCHCl(150ml)の溶液を、0℃にて、N−エチルジイソプロピルアミン(23.6ml、138mmol)、4−(N,N−ジメチルアミノ)−ピリジン(70mg、0.57mmol)およびトリエチルクロロシラン(10.9ml、86.1mmol)で連続的に処理した。得られた溶液を周囲温度にて一夜撹拌した。反応液をNaHCO(150ml)の飽和水溶液でクエンチし、そして水層をCHCl(3X200ml)で抽出した。有機抽出液を合わせ、200mlのブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮した。クロマトグラフィー(SiO、20−30% ヘキサン/AcOEtグラジエント溶出)により残渣を溶出すると、8.6g(2工程で86%)のTES保護ジオール(XIII')を得た。R=0.63(SiO、1:1 ヘプタン−AcOEt);
1H-NMR (DMSO-d6, 400 MHz, 300 K) δ 7.26 (s, δ , C5-H), 6.73 (t, J=7.3 Hz, 1H, C3-H), 6.48 (s, 1H, C7-H), 4.30 (t, J=6.7 Hz, 1H, C5-H), 3.65 (s, 3H, CO2CH3), 3.41 (dd, J=9.8, 5.9 Hz, 1H, C5-Ha), 3.36 (dd, J=9.8, 6.3 Hz, 1H, C5-Hb), 2.66 (s, 3H, C2-CH3), 2.45 (t, J=6.7 Hz, 2H, C4-H2), 2.30-2.20 (br m, 2H, C1-H2), 2.04 (s, 3H, C6-CH3), 1.59-1.47 (br m, 1H, C4-H), 1.45-1.23 (br m, 3H, C2-H2 and C3-Ha), 1.01-1.00 (br m, 1H, C3-Hb), 0.98-0.88 (m, 18H, two Si(CH2CH3)3), 0.83 (d, J=6.9 Hz, 3H, C4-CH3), 0.62-0.52 (m, 12H, two Si(CH2CH3)3);
IR (film) νmax 2953s, 2934s, 2913s, 2875s, 1713s, 1644w, 1505w, 1459m, 1437m, 1414w, 1376w, 1285m, 1269m, 1241m, 1185m, 1120m, 1072m, 1006m, 744m, 723s cm-1
MS (ES+) m/z (%) 618 (100, [M + Na]+), 596 (72, [M + H]+).
(2E,6E)−(S)−6−メチル−7−(2'−メチル−チアゾール−4'−イル)−2−[(S)−4''−メチル−5''−トリエチルシラニルオキシ−ペンチル]−5−トリエチルシラニルオキシ−ヘプタ−2,6−ジエン−1−オール(XIV)
アリルエステル(XIII')(45.54g、76.4mmol)のTHF(250ml)溶液に、トルエン(153ml、229mmol)中のDIBAL−H 1.5Mを−78℃にて添加した。得られた混合物を−78℃にて3時間撹拌した。反応液を、115mlの2N HClのゆっくりとした添加および100mlのTBMEでの希釈によりクエンチした。層を分離し、そして水相をTBME(2X100ml)で抽出した。合わせた有機層を100mlのNaHCO、続いて100mlのブラインで洗浄し、そしてMgSOで乾燥した。真空中で濃縮すると、51.53gの粗アリル アルコールを得、これをクロマトグラフ(SiO、20−40% ヘキサン/AcOEtグラジエント溶出)に付すと、32.5g(75%)の純粋なアリル アルコール(XIV)を得た。R=0.47(SiO、1:1 ヘプタン−AcOEt);
1H-NMR (DMSO-d6, 500 MHz, 300 K) δ 7.29 (s, 1H, C5-H), 6.38 (s, 1H, C7-H), 5.29 (t, J=7.1 Hz, 1H, C3-H), 4.60 (t, J=5.4 Hz, 1H, C1-OH), 4.10 (t, J=6.4 Hz, 1H, C5-H), 3.79 (d, J=5.1 Hz, 2H, C1-H2), 3.40 (dd, J=9.8, 5.9 Hz, 1H, C5-Ha), 3.33 (dd, J=9.8, 6.5 Hz, 1H, C5-Hb), 2.64 (s, 3H, C2-CH3), 2.25 (t, J=6.8 Hz, 2H, C4-H2), 1.99 (s, 3H, C6-CH3), 2.00-1.90 (br m, 2H, C1-H2), 1.58-1.46 (m, 1H, C4-H), 1.43-1.22 (m, 3H, C3-Ha and C2-H2), 1.08-0.97 (m, 1H, C3-Hb), 0.95-0.85 (m, 18H, two Si(CH2CH3)3), 0.82 (d, J=6.7 Hz, 3H, C4-CH3), 0.58-0.50 (m, 12H, two Si(CH2CH3)3);
13C-NMR (DMSO-d6, 125 MHz, 300 K) δ 164.1, 152.5, 141.1, 140.7, 119.9, 118.4, 116.6, 78.0, 67.3, 64.6, 35.2, 34.4, 32.9, 28.0, 25.4, 18.9, 16.6, 13.7, 6.74, 6.72, 4.3, 4.0;
IR (film) νmax 3341s (br), 2952s, 2932s, 2874s, 1508m, 1458m, 1414m, 1378w, 1238w, 1190m, 1071s, 1016s, 883w, 829w, 743m, 728m cm-1
MS (ES+) m/z (%) 590 (28, [M + Na]+), 568 (100, [M + H]+).
{(2S,3S)−3−[(E)−(S)−3'−メチル−4'−(2''−メチル−チアゾール−4''−イル)−2−トリエチルシラニルオキシ−ブタ−3−エニル]−2−[(S)−4'''−メチル−5'''−トリエチルシラニルオキシ−ペンチル]−オキシラニル}−メタノール(XV)
乾燥フラスコ中およびアルゴン下で、5.00g(8.80mmol)のアリル アルコール(4)を100mlのCHClに溶かした。モレキュラーシーブス4Å(4g)を添加し、そして混合物の温度を−30℃に設定した。(+)−ジエチル−L−酒石酸エステル(7.46ml、4.40mmol)、続いてチタン酸(IV)イソプロポキシド(10.35ml、3.52mmol)を添加した。得られた混合物を−30℃にて1時間撹拌すると、溶液が徐々に黄緑色になった。次いで3.52mlのtert−ブチル−ヒドロペルオキシド(19.36mmol)を添加した。反応液を−25℃にて一夜放置し、そして100mlのNaHSOでクエンチし、そして十分に撹拌した。濾液をTBME(2X80ml)で抽出した。合わせた有機層を80mlのブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮すると、7.24gの粗生成物を得た。クロマトグラフィー(1:1 ヘキサン/AcOEt)での精製後、5.2g(100%)のエポキシアルコール(XV)を得た。R=0.38(SiO、1:1 ヘプタン−AcOEt);
1H-NMR (DMSO-d6, 400 MHz, 300 K) δ 7.28 (s, 1H, C5-H), 6.44 (s, 1H, C4-H), 4.30 (dd, J=8.2, 4.1 Hz, 1H, C2-H), 3.46 (d, J=12.2 Hz, 1H, C1-Ha), 3.39 (dd, J=10.2, 6.0 Hz, 1H, C5-Ha), 3.34 (dd, J=10.2, 6.2 Hz, 1H, C5-Hb), 3.27 (d, J=12.2 Hz, 1H, C1-Hb), 2.90 (dd, J=7.3, 4.6 Hz, 1H, C3-H), 2.63 (s, 3H, C2-CH3), 1.98 (s, 3H, C3-CH3), 1.81 (ddd, J=12.3, 8.2, 4.6 Hz, 1H, C1-Ha), 1.68-1.20 (4 m, 7H, C1-Hb, C1-H2, C2-H2, C3-Ha, C4-H,), 1.08-0.98 (m, 1H, C3-Hb), 0.93-0.83 (m, 18H, two Si(CH2CH3)3), 0.82 (d, J=6.7 Hz, 3H, C4-CH3), 0.59-0.50 (m, 12H, two Si(CH2CH3)3);
13C-NMR (DMSO-d6, 125 MHz, 300 K) δ 164.7, 152.6, 141.2, 118.7, 117.1, 76.3, 67.6, 63.6, 63.6, 60.2, 57.5, 35.5, 35.4, 33.3, 28.7, 22.3, 19.1, 16.8, 14.4, 13.9, 7.1, 7.0, 4.6, 4.3;
IR (film) νmax 3403s (br), 2954s, 2876s, 1507m, 1459m, 1414m, 1377m, 1239m, 1185m, 1084s, 1007s, 976w, 802w, 744s, 676w cm-1
MS (ES) m/z (%) 606 (52, [M + Na]+), 584 (100, [M + H]+).
メタンスルホン酸(2S,3S)−3−[(E)−(S)−3'−メチル−4'−(2''−メチル−チアゾール−4''−イル)−2−トリエチルシラニルオキシ−ブタ−3−エニル]−2−[(S)−4'''−メチル−5'''−トリエチルシラニルオキシ−ペンチル]−オキシラニルメチルエステル(XVI)
エポキシアルコール(XV)(11.71g、20.0mmol)のCHCl(148ml)溶液に、10.3ml(60.1mmol)のN−エチルジイソプロピルアミンを0℃にて添加した。得られた混合物を0℃にて15分間撹拌した。この後に、メタンスルホニルクロライド(2.33ml、30.1mmol)を添加した。0℃にて1時間撹拌後、反応溶液を50mlのHOおよび50mlのTBMEでクエンチした。層を分離し、そして水層をTBME(50ml)で洗浄した。合わせた有機抽出液を0.1N HCl(40ml)、飽和水性NaHCO(2X40ml)およびブライン(50ml)で洗浄し、そしてMgSO4で乾燥した。真空中で濃縮すると、13.7gのエポキシメシレート(XVI)を得、これはさらなる精製を全く必要としなかった。R=0.55(SiO、1:1 ヘプタン−AcOEt);
1H-NMR (DMSO-d6, 400 MHz, 300 K) δ 7.34 (s, 1H, C5-H), 6.49 (s, 1H, C4-H), 4.38 (d, J=11.4 Hz, 1H, C1-Ha), 4.34 (dd, J=8.2, 3.7 Hz, 1H, C2-H), 4.07 (d, J=11.4 Hz, 1H, C1-Hb), 3.43 (dd, J=9.8, 5.9 Hz, 1H, C5-Ha), 3.37 (dd, J=9.8, 6.3 Hz, 1H, C5-Hb), 3.33 (s, 3H, SO2CH3), 3.06 (dd, J=7.0, 4.6 Hz, 1H, C3-H), 2.66 ( s, 3H, C2-CH3), 2.03 (s, 3H, C3-CH3), 1.89 (ddd, J=15.2, 7.0, 3.7 Hz, 1H, C1-Ha), 1.77-1.20 (5 m, 7H, C1-Hb, C1-H2, C2-H2, C3-Ha, C4-H), 1.12-1.03 (m, 1H, C3-Hb), 0.97-0.88 (m, 18H, two Si(CH2CH3)3), 0.85 (d, J=6.6 Hz, 3H, C4-CH3), 0.63-0.50 (m, 12H, two Si(CH2CH3)3);
13C-NMR (DMSO-d6, 125 MHz, 300 K) δ 164.2, 152.3, 140.5, 118.6, 117.0, 75.8, 72.1, 67.2, 60.4, 57.8, 36.6, 35.1, 34.6, 32.8, 28.1, 21.7, 18.9, 16.5, 13.6, 6.8, 6.7, 4.3, 4.0;
MS (ES+) m/z (%) 684 (100, [M + Na]+), 662 (54, [M + H]+).
メタンスルホン酸(2S,3S)−2−[(S)−5'−ヒドロキシ−4'−メチル−ペンチル]−3−[(E)−(S)−3''−メチル−4''−(2'''−メチル−チアゾール−4'''−イル)−2−トリエチルシラニルオキシ−ブタ−3−エニル]−オキシラニルメチルエステル(XVII)
ビス−TESエーテル(XVI)(4.89g、7.38mmol)のTHF/AcOH/HO(10:2:1 v/v/v、115ml)溶液を、50℃にて15時間加熱した。反応をクエンチするために、460mlのNaHCOの飽和水溶液を添加し、そして混合物をTBME(2X250ml)で抽出した。有機層を合わせ、そしてブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮すると、4.73gの粗生成物を得た。フラッシュクロマトグラフィー(SiO;30−60% AcOEt/ヘキサングラジエント溶出)により精製すると、3.10g(XVに基づいて2工程で79%)のアルコール(XVII)を得た。R=0.15(SiO、1:1 ヘプタン−AcOEt);
1H-NMR (DMSO-d6, 400 MHz, 300 K) δ 7.42 (s, 1H, C5-H), 6.50 (s, 1H, C4-H), 4.38 (d, J=11.3 Hz, 1H, C1-Ha), 4.36 (dd, J=8.3, 4.6 Hz, 1H, C2-H, C1-Haにより部分的に覆われている), 4.07 (d, J=11.8 Hz, 1H, C1-Ha), 3.30-3.23 (m, 1H, C5-Ha), 3.20 (s, 3H, SO2CH3), 3.22-3.14 (m, 1H, C5-Hb, SO2CH3により部分的に覆われている), 3.06 (dd, J=7.1, 4.4 Hz, 1H, C3-H), 2.67 (s, 3H, C2-CH3), 2.04 (s, 3H, C3-CH3), 1.90 (ddd, J=14.2, 8.3, 4.4 Hz, 1H, C1-Ha), 1.70-1.58 (m, 1H, C1-Hb), 1.54-1.32 (m, 6H, C1-H2, C2-H2, C3-Ha, C4-H), 1.10-0.98 (m, 1H, C3-Hb), 0.93 (t, J=8.0 Hz, 9H, Si(CH2CH3)3), 0.84 (d, J=6.6 Hz, 3H, C4-CH3), 0.60 (q, J=8.0 Hz, 6H, Si(CH2CH3)3);
13C-NMR (DMSO-d6, 100 MHz, 300 K) δ 165.1, 153.2, 141.5, 119.4, 117.9, 76.6, 73.3, 67.0, 61.2, 58.6, 37.6, 36.0, 35.5, 33.9, 29.0, 22.6, 19.7, 17.5, 14.9, 14.5, 7.63, 7.58, 5.1;
IR (film) νmax 3410s (br), 2955s, 2876s, 1655w, 1505w, 1459m, 1414m, 1359s, 1270w, 1239w, 1177s, 1081m, 1006m, 958m, 833m, 745m, 529m cm-1
MS (ES+) m/z (%) 586 (5, [M+K]+), 570 (100, [M+Na]+), 548 (8, [M+H]+).
メタンスルホン酸(2S,3S)−3−[(E)−(S)−3'−メチル−4'−(2''−メチル−チアゾール−4''−イル)−2−トリエチルシラニルオキシ−ブタ−3−エニル]−2−[(S)−4'''−メチル−5'''−オキソ−ペンチル]−オキシラニルメチルエステル(1)
アルコール(XVII)(2.00g、3.65mmol)のCHCl(10ml)溶液に、0℃にて、トリエチルアミン(3.86ml、27.7mmol)、DMSO(6.48ml、91.3mmol)およびDMSO(26ml)中のピリジニウム−SO錯体(2.32g、14.6mmol)を連続的に添加した。得られた溶液を0℃にて1時間撹拌した。反応液をNaHSO(40%、120ml)の水溶液およびTBME(150ml)でクエンチした。層を分離し、そして有機層を飽和水性NaHCO(2X100ml)で洗浄した。これらの水層をTBME(2X100ml)で逆抽出した。有機抽出液を合わせ、そしてブライン(100ml)で洗浄し、MgSOで乾燥し、そして真空中で濃縮すると、1.94gの粗生成物を得た。フラッシュクロマトグラフィー(SiO2、50−70% AcOEt/ヘキサングラジエント溶出)により精製すると、1.63g(82%)の純粋なアルデヒド(1)を得た。R=0.30(SiO、1:1 ヘプタン−AcOEt);
1H-NMR (CDCl3, 500 MHz, 300 K) δ 9.61 (d, J=1.7 Hz, 1H, CHO), 6.95 (s, 1H, C5-H), 6.52 (s, 1H, C4-H), 4.33 (dd, J=4.4 Hz, 1H, C2-H, C1-Haにより部分的に覆われている), 4.34 (d, J=11.4 Hz, 1H, C1-Ha), 4.08 (d, J=11.4 Hz, 1H, C1-Hb), 3.11 (dd, J=7.8, 3.9 Hz, 1H, C3-H), 3.05 (s, 3H, SO2CH3), 2.71 (s, 3H, C2-CH3), 2.33 (m, 1H, C4-H), 2.02 (s, 3H, C3-CH3), 1.99-1.32 (6 m, 8H, C1-H2, C1-H2, C2-H2, C3-H2), 1.11 (d, J=7.1 Hz, 3H, C4-CH3), 0.94 (t, J=8.0 Hz, 9H, Si(CH2CH3)3), 0.61 (q, J=8.0 Hz, 6H, Si(CH2CH3)3);
13C-NMR (CDCl3, 125 MHz, 300 K) δ 204.7, 164.8, 152.8, 141.8, 119.2, 115.8, 76.0, 72.0, 60.7, 59.0, 46.3, 37.8, 35.3, 30.5, 28.3, 22.5, 19.4, 14.1, 13.5, 7.0, 4.9 ;
IR (film) ν 2956s, 2876s, 2720w, 1724s, 1658w, 1508m, 1459m, 1414w, 1358s, 1240w, 1177s, 1079m, 1006m, 957m, 883w, 828m, 745m, 529m cm-1
MS (ES+) m/z 546 (100, [M+H]+).MS (ES+) m/z 546 (100, [M+H]+).

Claims (34)

  1. 式9
    Figure 2006511469
    〔式中、
    R1は、メチルであり、そしてR2は、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロアリール、またはベンゼン核に縮合した非置換もしくは置換複素環ラジカルの意義を有する。〕
    で示されるエポチロン誘導体および金属カチオンとのその塩の製造方法であって、
    a)式1
    Figure 2006511469
    〔式中、R2は、上で与えた意義を有し、そしてメシレート基をトシレート基に代えてもよく、そしてメシレート基をトシレート基などに代えてもよく、そして
    Figure 2006511469
    は、アルコール保護基である。〕
    で示される化合物を、−50〜−100℃の比較的低温にて不活性溶媒中でルイス酸の存在下、かつ塩基を添加した選択的アルドール反応で、式2、たとえば、
    Figure 2006511469
    で示されるスルタム誘導化合物と反応させ、その後、−20〜+20℃の上昇した温度にて、式3
    Figure 2006511469
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物を得、そして
    b)上記式3の得られた化合物を、−70〜25℃の温度にてシリル−エーテル形成化合物および2,6−ルチジンの存在下で反応させ、式4
    Figure 2006511469
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物を形成させ、そして
    c)上記の式4の化合物を、DME中のTBAOH/H2O2またはTHF/MeOH/H2O中のLiO2Hでキラル補助基を脱離することによりそのカルボン酸に変換し、式5
    Figure 2006511469
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物を得、そして
    d)上の式5の化合物を、不活性溶媒中で還元試薬と反応させ、メシレートまたはトシレート基などを開裂させ、式6
    Figure 2006511469
    〔式中、R2は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物を得、
    e)上の式6の化合物を、不活性溶媒またはそれらの混合物、たとえばTHF中のTASFまたはHF−ピリジン中で脱シリル試薬または酸で加水分解し、選択的に脱シリル化された式7
    Figure 2006511469
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物を得、そして
    f)M. Yamaguchi et al Bull. Chem. Soc. Jpn., 1979, 52, 1989により記載された条件にしたがって式7の化合物をマクロラクトン化し、式8
    Figure 2006511469
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は上で与えた意義を有する。〕
    で示される完全に保護されたエポチロン誘導体を得、そして
    g)得られた式8の化合物を、不活性溶媒中で0〜30℃の温度にてHF−ピリジンで処理し、そして両方のシリル保護基を開裂させ、式9
    Figure 2006511469
    〔式中、R1は、メチルであり、そしてR2は上で記載した意義を有する。〕
    のエポチロン誘導体を得、そして所望により式9の化合物[R1およびR2は式9で定義した意義を有する。]を慣用的方法により金属カチオンで塩に変換すること
    を特徴とする方法。
  2. 式1の化合物を、式2の化合物と、たとえばジクロロメタン中のTiCl4およびヒューニッヒ塩基(iPr2Net)の存在下で、−78℃の温度にて、そしてその後0℃の温度にて反応させ、式3の新規化合物を得ることを特徴とする、請求項1の工程a)に記載の方法。
  3. 得られた式3の化合物を、シリル−エーテル形成化合物と、不活性溶媒としてのジクロロメタン中の2,6−ルチジンの存在下で−20〜+20℃、とりわけ−10℃の温度にて反応させ、式4の化合物を形成させること特徴とする、請求項1の工程b)に記載の方法。
  4. 得られた式4の化合物を、DME中のTBAOH/H2O2またはTHF/MeOH/H2O中のLiO2Hでキラル補助基を脱離することによりカルボン酸に変換し、式5の化合物を得ることを特徴とする、請求項1の工程c)に記載の方法。
  5. 得られた式5の化合物を、メシレートまたはトシレート基などを開裂させるために、不活性溶媒としてのTHF中で還元試薬としてのLiBHEt3と反応させ、式6の化合物を得ることを特徴とする、請求項1の工程d)に記載の方法。
  6. 得られた式6の化合物を、不活性溶媒、たとえばピリジンまたはTHF中にて脱シリル試薬で、とりわけTASFまたは有機酸、とりわけHF−ピリジンで加水分解し、式7の化合物を得ることにより特徴づけられる、請求項1の工程e)に記載の方法。
  7. 得られた式7の化合物を、ヤマグチら(Yamaguchi et al)にしたがって、たとえば、ヒドロキシ酸をEt3Nおよび2,4,6−トリクロロベンゾイルクロライドで比較的低温、たとえば0℃にて処理し、その後、反応混合物を4−DMAPのトルエン溶液に添加し、そして温度を約75℃に上昇させて、マクロラクトン化し、式8の化合物を得ることを特徴とする、請求項1の工程f)に記載の方法。
  8. 式8の得られた保護されたエポチロン誘導体を、不活性溶媒としてのピリジン中のHF−ピリジンで処理し、両方の保護基
    Figure 2006511469
    の開裂後、式9のエポチロン誘導体を得、そして所望により、式9の化合物[R1およびR2は式9で定義した意義を有する。]を慣用的方法により金属カチオンで塩に変換することを特徴とする、請求項1の工程g)に記載の方法。
  9. 式9
    Figure 2006511469
    〔式中、R1は、メチルであり、そしてR2は、非置換もしくは置換アリールである。〕
    で示される化合物および金属カチオンとの塩。
  10. 式9
    Figure 2006511469
    〔式中、R1は、メチルであり、そしてR2は、非置換もしくは置換フェニルである。〕
    で示される化合物および金属カチオンとの塩。
  11. 式3
    Figure 2006511469
    〔式中、R2は、式9で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物。
  12. 式1
    〔式中、R2は、上で与えた意義を有し、そしてすべてのその後の反応経路においてメシレート基をトシレート基などに代えてもよい。〕
    で示される化合物を、−50〜−100℃の比較的低温にて、その後、−20〜+20℃の上昇した温度にて、不活性溶媒中でルイス酸の存在下、かつ塩基を添加した選択的アルドール反応で、式2、たとえば、
    Figure 2006511469
    で示されるスルタム誘導化合物と反応させ、式3の化合物を得ることを特徴とする、式3の化合物の製造方法。
  13. 式4
    Figure 2006511469
    〔式中、R2は上記の意義を有する。〕
    で示される化合物。
  14. 式3
    Figure 2006511469
    で示される化合物を、−70〜25℃の温度にてシリル−エーテル形成化合物および2,6−ルチジンの存在下で反応させ、上で与えた式4の化合物を形成させることを特徴とする、式4の新規化合物の製造方法。
  15. 式5
    Figure 2006511469
    〔式中、R2は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物。
  16. 式4
    Figure 2006511469
    で示される化合物を、DME中のTBAOH/H2O2またはTHF/MeOH/H2O中のLiO2Hでキラル補助基を脱離することによりカルボン酸に変換し、式5の化合物を得ることを特徴とする、式5の新規化合物の製造方法。
  17. 式6
    Figure 2006511469
    〔式中、R2は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物。
  18. 式5
    Figure 2006511469
    で示される化合物を不活性溶媒中で還元剤と反応させ、メシレート基またはトシレート基などを開裂させ、上の式6の化合物を得ることを特徴とする、式6の新規化合物の製造方法。
  19. 式7
    Figure 2006511469
    〔式中、R2は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物。
  20. 上の式6のトリ−保護トリス−シリルエーテル化合物を、不活性溶媒、たとえばピリジンまたはTHF中にて脱シリル化試薬、とりわけTASFまたは有機酸、とりわけHF−ピリジンで加水分解し、式7の化合物を得ることを特徴とする、式7の新規化合物の製造方法。
  21. 式8
    Figure 2006511469
    〔式中、R2は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物。
  22. M. Yamaguchi et al Bull. Chem. Soc. Jpn., 1979, 52, 1989により記載された条件にしたがって式7の化合物をラクトン化し、式8
    Figure 2006511469
    〔式中、R2は上で与えた意義を有する。〕
    で示される完全に保護されたエポチロン誘導体を得ることを特徴とする、式8の化合物の製造方法。
  23. 式1
    Figure 2006511469
    〔式中、R2は、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロアリール、またはベンゼン核に縮合した非置換もしくは置換複素環ラジカルの意義を有する。〕
    で示される化合物。
  24. a)式X
    Figure 2006511469
    で示される化合物を、50〜150℃の温度にて、より詳細には100℃の温度にてPPH3と反応させ、その後、0℃にて不活性溶媒中、とりわけTHF中でKHMDSと反応させ、その後、反応混合物を−50〜−100℃の温度に冷却し、そしてより詳細には−78℃の温度にてCH3CO2Clで処理し、式XI
    Figure 2006511469
    の化合物を得、
    そして
    b)得られた式XIの化合物を、不活性溶媒、たとえばトルエン中で20〜60℃の温度にて、より詳細には40℃の温度にて式XII
    Figure 2006511469
    で示される化合物と反応させ、式XIII
    Figure 2006511469
    で示される化合物を得、
    c)式(XIII)の化合物を、不活性溶媒、たとえばトルエン中で−50〜−100℃の温度にて、より詳細には−78℃の温度にて還元剤、とりわけDIBALHで還元し、そしてその後、0℃まで温度を上昇させ、式XIV
    Figure 2006511469
    (式XIVの図およびその後の化合物は、以後、簡略化される。)
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は上記の意義を有する。〕
    で示される化合物を得、そして
    d)式XIVの化合物のエポキシ化のために、シャープレスの条件[(+)−ジエチル−L−酒石酸エステル、Ti(OPr)4、t−BuOOH]を用いて、式XV
    Figure 2006511469
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は、それぞれ、式9および式1にて上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物を得、
    得られた式XVの化合物は新規化合物であり、そして製造経路の次の工程e)のための前駆体として使用され、そして
    e)メシレート基を、不活性溶媒、たとえばジクロロメタン中のトリエチルアミン(EtN)の存在下でメシル酸クロライド(メシレート基を、対応するトシレート基などに代えてもよい。)を添加することにより式XVの化合物に導入し、式XVI
    Figure 2006511469
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物を得、
    得られた式XVIの化合物は新規化合物であり、そして製造経路の次の工程f)のための前駆体として使用され、そして
    f)得られた式XVIの化合物を、不活性溶媒中の有機酸で、より詳細には無水エタノール中のピリジニウム p−トルエンスルホネートまたはカンファー スルホン酸で処理し、1つの保護基を加水分解し、そして式XVII
    Figure 2006511469
    〔式中、R2は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物を得、そして
    g)スワン酸化法を用いて酸化し、たとえば塩化オキサリルの促進およびジメチルスルホキシドの活性化によるアルコール性基の酸化、アルコキシスルホニウム塩を経由し、そして塩基の添加および分子内転位後に、式1
    Figure 2006511469
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は上で与えた意義を有する。〕
    で示されるケト化合物を得ることを特徴とする、式1の化合物の製造方法。
  25. 式XV
    Figure 2006511469
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物。
  26. 上の式XIVの化合物のエポキシ化のために、シャープレスの条件[(+)−ジエチル−L−酒石酸エステル、Ti(OPr)4、t−BuOOH]を用いることにより、式XV
    Figure 2006511469
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は、それぞれ、式9および式1にて上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物を得ることを特徴とする、式XVの化合物の製造方法。
  27. 式XVI
    Figure 2006511469
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物。
  28. メシレート基またはトシレート基などを、不活性溶媒、たとえばジクロロメタン中のトリエチルアミン(EtN)の存在下でメシル酸クロライド(メシレート基を、対応するトシレート基などに代えてもよい。)を添加することにより式XV
    Figure 2006511469
    で示される化合物に導入し、式XVI
    Figure 2006511469
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物を得ることを特徴とする、式XVIIの化合物の製造方法。
  29. 式XVII
    Figure 2006511469
    〔式中、R2および
    Figure 2006511469
    は上で与えた意義を有する。〕
    で示される化合物。
  30. 得られた式XVIの化合物を、不活性溶媒中の有機酸で、より詳細には無水エタノール中のピリジニウム p−トルエンスルホネートまたはカンファー スルホン酸で処理し、保護基
    Figure 2006511469
    を加水分解し、そして式XVIIの化合物を得ることを特徴とする、式XVIIの化合物の製造方法。
  31. 式2
    Figure 2006511469
    で示される新規化合物。
  32. 癌疾患を患い、そして処置を必要としている温血動物の処置方法であって、当該温血動物に、当該処置に十分な量で、R2が非置換もしくは置換アリールラジカルである請求項9に記載の式9の化合物または医薬上許容されるその塩を投与することを含んでなる方法。
  33. 少なくとも1つの医薬上許容される担体とともに、癌疾患の処置に有効なR2が非置換もしくは置換アリールラジカルである請求項9に記載の式9の活性成分を含む、癌疾患を処置するための温血動物への投与に適した医薬組成物。
  34. 医療処置用の式9の化合物を製造するための、式8の化合物の使用。

JP2004535499A 2002-09-13 2003-09-12 エポチロン誘導体の新規製造方法、新規エポチロン誘導体ならびに当該製造方法のための中間体およびそれらの製造方法 Expired - Fee Related JP4628102B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GBGB0221312.2A GB0221312D0 (en) 2002-09-13 2002-09-13 Organic compounds
PCT/EP2003/010171 WO2004024735A2 (en) 2002-09-13 2003-09-12 A new process for the preparation of epothilone derivatives, new epothilone derivatives as well as new intermediate products for the process and the methods of preparing same

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006511469A true JP2006511469A (ja) 2006-04-06
JP2006511469A5 JP2006511469A5 (ja) 2006-11-02
JP4628102B2 JP4628102B2 (ja) 2011-02-09

Family

ID=9944042

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004535499A Expired - Fee Related JP4628102B2 (ja) 2002-09-13 2003-09-12 エポチロン誘導体の新規製造方法、新規エポチロン誘導体ならびに当該製造方法のための中間体およびそれらの製造方法

Country Status (30)

Country Link
US (1) US7470792B2 (ja)
EP (1) EP1539768B1 (ja)
JP (1) JP4628102B2 (ja)
KR (1) KR20050042500A (ja)
CN (1) CN100522968C (ja)
AR (1) AR041231A1 (ja)
AT (1) ATE373663T1 (ja)
AU (2) AU2003267349B2 (ja)
BR (1) BR0314263A (ja)
CA (1) CA2497119C (ja)
CY (1) CY1107794T1 (ja)
DE (1) DE60316456T2 (ja)
DK (1) DK1539768T3 (ja)
EC (1) ECSP055652A (ja)
ES (1) ES2290489T3 (ja)
GB (1) GB0221312D0 (ja)
HK (1) HK1078853A1 (ja)
IL (1) IL166829A (ja)
MX (1) MXPA05002785A (ja)
MY (1) MY140442A (ja)
NO (1) NO20051794L (ja)
NZ (1) NZ538612A (ja)
PE (1) PE20050052A1 (ja)
PL (1) PL375039A1 (ja)
PT (1) PT1539768E (ja)
RU (2) RU2404985C2 (ja)
SG (1) SG155770A1 (ja)
TW (1) TWI289563B (ja)
WO (1) WO2004024735A2 (ja)
ZA (1) ZA200501008B (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7649006B2 (en) 2002-08-23 2010-01-19 Sloan-Kettering Institute For Cancer Research Synthesis of epothilones, intermediates thereto and analogues thereof
WO2004018478A2 (en) 2002-08-23 2004-03-04 Sloan-Kettering Institute For Cancer Research Synthesis of epothilones, intermediates thereto, analogues and uses thereof
CA2799202C (en) 2010-05-18 2016-07-05 Cerulean Pharma Inc. Compositions and methods for treatment of autoimmune and other diseases

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999059985A1 (en) * 1998-05-18 1999-11-25 Novartis Ag Intermediates for the synthesis of epothilones and methods for their preparation
WO2001007439A2 (en) * 1999-07-22 2001-02-01 Schering Aktiengesellschaft Process for the production of epothiolone b and derivatives as well as intermediate products for this process
JP2001504856A (ja) * 1996-12-13 2001-04-10 ノヴァルティス アクチェンゲゼルシャフト エポチロン類似体
WO2001073103A2 (en) * 2000-03-24 2001-10-04 Bristol-Myers Squibb Company Preparation of epothilone intermediates
WO2002030356A2 (en) * 2000-10-13 2002-04-18 The University Of Mississipi Synthesis of epothilones and relates analogs
JP2002512245A (ja) * 1998-04-21 2002-04-23 ブリストル−マイヤーズ スクイブ カンパニー 2,3−オレフィン系エポチロン誘導体
JP2006505627A (ja) * 2002-07-31 2006-02-16 シエーリング アクチエンゲゼルシャフト 新規エフェクター接合体、それらの生成方法及びそれらの医薬使用

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001504856A (ja) * 1996-12-13 2001-04-10 ノヴァルティス アクチェンゲゼルシャフト エポチロン類似体
JP2002512245A (ja) * 1998-04-21 2002-04-23 ブリストル−マイヤーズ スクイブ カンパニー 2,3−オレフィン系エポチロン誘導体
WO1999059985A1 (en) * 1998-05-18 1999-11-25 Novartis Ag Intermediates for the synthesis of epothilones and methods for their preparation
WO2001007439A2 (en) * 1999-07-22 2001-02-01 Schering Aktiengesellschaft Process for the production of epothiolone b and derivatives as well as intermediate products for this process
WO2001073103A2 (en) * 2000-03-24 2001-10-04 Bristol-Myers Squibb Company Preparation of epothilone intermediates
WO2002030356A2 (en) * 2000-10-13 2002-04-18 The University Of Mississipi Synthesis of epothilones and relates analogs
JP2006505627A (ja) * 2002-07-31 2006-02-16 シエーリング アクチエンゲゼルシャフト 新規エフェクター接合体、それらの生成方法及びそれらの医薬使用

Also Published As

Publication number Publication date
BR0314263A (pt) 2005-07-05
HK1078853A1 (en) 2006-03-24
AR041231A1 (es) 2005-05-11
JP4628102B2 (ja) 2011-02-09
RU2404985C2 (ru) 2010-11-27
ECSP055652A (es) 2005-05-30
AU2003267349B2 (en) 2008-05-01
PL375039A1 (en) 2005-11-14
CA2497119A1 (en) 2004-03-25
PT1539768E (pt) 2007-12-17
DE60316456T2 (de) 2008-06-19
PE20050052A1 (es) 2005-03-28
CA2497119C (en) 2011-08-02
TWI289563B (en) 2007-11-11
WO2004024735A2 (en) 2004-03-25
NO20051794D0 (no) 2005-04-12
ES2290489T3 (es) 2008-02-16
KR20050042500A (ko) 2005-05-09
SG155770A1 (en) 2009-10-29
AU2008203451A1 (en) 2008-08-21
WO2004024735A3 (en) 2004-07-22
EP1539768B1 (en) 2007-09-19
NZ538612A (en) 2008-01-31
CY1107794T1 (el) 2013-06-19
CN1681824A (zh) 2005-10-12
RU2343155C2 (ru) 2009-01-10
DK1539768T3 (da) 2008-01-07
TW200413388A (en) 2004-08-01
CN100522968C (zh) 2009-08-05
DE60316456D1 (de) 2007-10-31
ZA200501008B (en) 2006-12-27
EP1539768A2 (en) 2005-06-15
ATE373663T1 (de) 2007-10-15
US7470792B2 (en) 2008-12-30
US20060106073A1 (en) 2006-05-18
RU2008129613A (ru) 2010-01-27
MY140442A (en) 2009-12-31
NO20051794L (no) 2005-04-12
IL166829A (en) 2011-01-31
MXPA05002785A (es) 2005-06-03
AU2003267349A1 (en) 2004-04-30
RU2005110925A (ru) 2006-01-20
GB0221312D0 (en) 2002-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7145018B2 (en) Method for synthesizing epothilones and epothilone analogs
WO2000000485A1 (de) Epothilon-derivate, verfahren zu deren herstellung, zwischenprodukte und ihre pharmazeutische verwendung
JP2005500974A (ja) エポシロン類及び関連類似体の合成
JP2001512723A (ja) 新規エポチロン誘導体、その製法およびその薬学的使用
CZ20012951A3 (cs) 16-Halogensubstituované deriváty epothilonu, způsoby jejich výroby a jejich farmaceutické pouľití
JP2002543203A (ja) 6−アルケニル−,6−アルキニル−及び6−エポキシ−エポチロン誘導体類、それらの生成方法、及び医薬製剤へのそれらの使用
DE19908760A1 (de) Neue Epothilon-Derivate, Verfahren zu deren Herstellung und ihre pharmazeutische Verwendung
US6350878B1 (en) Intermediates for the synthesis of epothilones and methods for their preparation
US20060046997A1 (en) 6-Alkenyl -, 6-alkinyl- and 6-epoxy-epothilone derivatives, process for their production, and their use in pharmaceutical preparations
EP1161430A2 (de) Epothilon-derivate, verfahren zu deren herstellung und ihre pharmazeutische verwendung
JP4628102B2 (ja) エポチロン誘導体の新規製造方法、新規エポチロン誘導体ならびに当該製造方法のための中間体およびそれらの製造方法
DE10020899A1 (de) 9-Oxa-Epothilon-Derivate, Verfahren zu deren Herstellung sowie ihre Verwendung in pharmazeutischen Präparaten
JP4597667B2 (ja) がん治療用新規マクロサイクル
DE19830060A1 (de) Epothilon-Derivate, Verfahren zu deren Herstellung, Zwischenprodukte und ihre pharmazeutische Verwendung
UA73118C2 (en) Derivatives of 6-alkenyl, 6-alkinyl and 6-epoxyepothilone, method for obtaining thereof and use in pharmaceutic preparates
KR100491337B1 (ko) 에포싸일론 유도체의 제조방법
AU2004200948A1 (en) Epothilon derivatives, method for the production and the use thereof as pharmaceuticals

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060911

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060911

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091202

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100105

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100402

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100409

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100506

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100608

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100908

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100915

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101008

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101102

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101109

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131119

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees