JP2006508206A - コーティング用ミスト防止剤としての星形枝分れシリコーンポリマー - Google Patents
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Abstract
MaMH bDcDH dTeTH f+αCH2=CHR1→M'gMaMH b−gDcD'hDH d−hTeT'iTH f−i
の反応で得ることができ、この化合物がミスト防止添加剤として有用な星形枝分れシロキサン化合物である。
Description
式中、α+1≦b+d+f、g≦b、h≦d、i≦f、1.5≦b+d+f≦100、2≦a+b≦12、0≦c+d≦1000、0≦e+f≦10であり、R1はハロゲン、水素、C1〜C60一価炭化水素基、C1〜C60一価ポリエステル基、C1〜C60一価ニトリル基、C1〜C60一価アルキルハライド基及びC1〜C60一価ポリエーテル基並びにこれらの混合物からなる群から選択される一価基であり、
M=R2R3R4SiO1/2、
MH=HR5R6SiO1/2、
D=R7R8SiO2/2、
DH=HR9SiO2/2、
T=R11SiO3/2、
TH=HSiO3/2、
M'=(CH2CHR1)R5R6SiO1/2、
D'=(CH2CHR1)R9SiO2/2、
T'=(CH2CHR1)SiO3/2であり
R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR11は各々独立にC1〜C60一価炭化水素基から群から選択され、下付文字a、b、c、d、e、f、g、h及びiは、b+d+f−g−h−i>0であることを条件として、0又は正の数である。
MVi=RViR5R6SiO1/2、
DVi=RViR10SiO2/2、
TVi=RViSiO3/2、
Q=SiO4/2であり、
R10は独立にC1〜C60一価炭化水素基から選択され、各RViは独立にC2〜C60一価アルケニル炭化水素基から選択される。
→ M'gMaMH b−gDcD'hDH d−hTeT'iTH f−i
式中、α+1≦b+d+f、g≦b、h≦d、i≦f、1.5≦b+d+f≦100、2≦a+b≦12、0≦c+d≦1000、0≦e+f≦10であり、R1はハロゲン、水素、C1〜C60一価炭化水素基、C1〜C60一価ポリエステル基、C1〜C60一価ニトリル基、C1〜C60一価アルキルハライド基及びC1〜C60一価ポリエーテル基並びにこれらの混合物からなる群から選択される一価基であり、
M=R2R3R4SiO1/2、
MH=HR5R6SiO1/2、
MVi=RViR5R6SiO1/2、
D=R7R8SiO2/2、
DH=HR9SiO2/2、
DVi=RViR10SiO2/2、
T=R11SiO3/2、
TH=HSiO3/2、
TVi=RViSiO3/2、
Q=SiO4/2、
M'=(CH2CHR1)R5R6SiO1/2、
D'=(CH2CHR1)R9SiO2/2、
T'=(CH2CHR1)SiO3/2であり、
各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10及びR11は独立にC1〜C60一価炭化水素基から選択され、各RViは独立にC2〜C60一価アルケニル炭化水素基から選択される。本発明の組成物では、b+d+f−g−h−i>0であることが必要とされる。
Claims (30)
- 可撓性支持体の塗工時のミスト発生を低減するための、a)MaMH bDcDH dTeTH fとb)量αのCH2=CHR1との次式のヒドロシリル化反応生成物を含んでなる組成物。
M'gMaMH b−gDcD'hDH d−hTeT'iTH f−i
式中、α+1≦b+d+f、1.5≦b+d+f≦100、2≦a+b≦12、0≦c+d≦1000、0≦e+f≦10であり、R1はハロゲン、水素、C1〜C60一価炭化水素基、C1〜C60一価ポリエステル基、C1〜C60一価ニトリル基、C1〜C60一価アルキルハライド基及びC1〜C60一価ポリエーテル基並びにこれらの混合物からなる群から選択される一価基であり、
M=R2R3R4SiO1/2、
MH=HR5R6SiO1/2、
D=R7R8SiO2/2、
DH=HR9SiO2/2、
T=R11SiO3/2、
TH=HSiO3/2、
M'=(CH2CHR1)R5R6SiO1/2、
D'=(CH2CHR1)R9SiO2/2、
T'=(CH2CHR1)SiO3/2であり
R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR11は各々独立にC1〜C60一価炭化水素基から群から選択され、下付文字a、b、c、d、e、f、g、h及びiは、b+d+f−g−h−i>0であることを条件として、0又は正の数である。 - a)請求項1記載の反応生成物組成物とb)(MjMVi kDlDVi mTnTVi o)pQp)qとのヒドロシリル化反応生成物を含んでなる組成物。
式中、下付文字j、k、l、m、n、o及びpは、k+m+o>0、k+m+o<b+d+f−g−h−i、pが0.4〜4.0であることを条件として、0又は正の数であり、qは、(b+d+f−g−h−i)/(((k+m+o)p)q)が4.59〜0.25であることを条件として、0でない正の数であり、
MVi=RViR5R6SiO1/2、
DVi=RViR10SiO2/2、
TVi=RViSiO3/2、
Q=SiO4/2であり、
R10は独立にC1〜C60一価炭化水素基から選択され、各RViは独立にC2〜C60一価アルケニル炭化水素基から選択される。 - R1が、C1〜C60一価炭化水素基、C1〜C60一価ポリエステル基、C1〜C60一価ニトリル基、C1〜C60一価アルキルハライド基及びC1〜C60一価ポリエーテル基からなる群から選択される、請求項2記載の組成物。
- R1が、C15〜C60一価炭化水素基、C15〜C60一価ポリエステル基、C15〜C60一価ニトリル基、C15〜C60一価アルキルハライド基及びC15〜C60一価ポリエーテル基からなる群から選択される、請求項2記載の組成物。
- R1が、C30〜C60一価炭化水素基、C30〜C60一価ポリエステル基、C30〜C60一価ニトリル基、C30〜C60一価アルキルハライド基及びC30〜C60一価ポリエーテル基からなる群から選択される、請求項2記載の組成物。
- 各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10及びR11がメチルである、請求項3記載の組成物。
- 各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10及びR11がメチルである、請求項4記載の組成物。
- 各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10及びR11がメチルである、請求項5記載の組成物。
- R1がスチリルである、請求項2記載の組成物。
- 各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10及びR11がメチルである、請求項9記載の組成物。
- a)MaMH bDcDH dTeTH fとb)量αのCH2=CHR1との次式のヒドロシリル化反応生成物を含んでなる組成物。
M'gMaMH b−gDcD'hDH d−hTeT'iTH f−i
式中、α+1≦b+d+f、g≦b、h≦d、i≦f、1.5≦b+d+f≦100、2≦a+b≦12、0≦c+d≦1000、0≦e+f≦10であり、R1はハロゲン、水素、C1〜C60一価炭化水素基、C1〜C60一価ポリエステル基、C1〜C60一価ニトリル基、C1〜C60一価アルキルハライド基及びC1〜C60一価ポリエーテル基からなる群から選択される一価基であり、
M=R2R3R4SiO1/2、
MH=HR5R6SiO1/2、
D=R7R8SiO2/2、
DH=HR9SiO2/2、
T=R11SiO3/2、
TH=HSiO3/2、
M'=(CH2CHR1)R5R6SiO1/2、
D'=(CH2CHR1)R9SiO2/2、
T'=(CH2CHR1)SiO3/2であり、
R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR11は各々独立にC1〜C60一価炭化水素基から選択され、下付文字a、b、c、d、e、f、g、h及びiは、g>0、b−g>0、h>0及びd−h>0であることを条件として、0又は正の数である、 - a)請求項11記載の反応生成物組成物とb)(MjMVi kDlDVi mTnTVi o)pQp)qとのヒドロシリル化反応生成物を含んでなる組成物。
式中、下付文字j、k、l、m、n、o及びpは、k+m+o>0、k+m+o<b+d+f−g−h−i、pが0.4〜4.0であることを条件として、0又は正の数であり、qは、(b+d+f−g−h−i)/(((k+m+o)p)q)が4.59〜0.25であることを条件として、0でない正の数であり、
MVi=RViR5R6SiO1/2、
DVi=RViR10SiO2/2、
TVi=RViSiO3/2、
Q=SiO4/2であり、
R10は独立にC1〜C60一価炭化水素基から選択され、各RViは独立にC2〜C60一価アルケニル炭化水素基から選択される。 - R1が、C1〜C60一価炭化水素基、C1〜C60一価ポリエステル基、C1〜C60一価ニトリル基、C1〜C60一価アルキルハライド基及びC1〜C60一価ポリエーテル基からなる群から選択される、請求項12記載の組成物。
- R1が、C15〜C60一価炭化水素、C15〜C60一価ポリエステル基、C15〜C60一価ニトリル、C15〜C60一価アルキルハライド基及びC15〜C60一価ポリエーテル基からなる群から選択される、請求項12記載の組成物。
- R1が、C30〜C60一価炭化水素、C30〜C60一価ポリエステル基、C30〜C60一価ニトリル、C30〜C60一価アルキルハライド基及びC30〜C60一価ポリエーテル基からなる群から選択される、請求項12記載の組成物。
- 各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10及びR11がメチルである、請求項13記載の組成物。
- 各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10及びR11がメチルである、請求項14記載の組成物。
- 各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10及びR11がメチルである、請求項15記載の組成物。
- R1がスチリルである、請求項12記載の組成物。
- 各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10及びR11がメチルである、請求項19記載の組成物。
- 可撓性基材の塗工時のミスト発生を低減する方法であって、基材を塗工するためのコーティング組成物を製造し、該コーティング組成物に請求項11記載の組成物を添加することを含んでなる方法。
- 可撓性基材の塗工時のミスト発生を低減する方法であって、基材を塗工するためのコーティング組成物を製造し、該コーティング組成物に請求項12記載の組成物を添加することを含んでなる方法。
- 可撓性基材の塗工時のミスト発生を低減する方法であって、基材を塗工するためのコーティング組成物を製造し、該コーティング組成物に請求項13記載の組成物を添加することを含んでなる方法。
- 可撓性基材の塗工時のミスト発生を低減する方法であって、基材を塗工するためのコーティング組成物を製造し、該コーティング組成物に請求項14記載の組成物を添加することを含んでなる方法。
- 可撓性基材の塗工時のミスト発生を低減する方法であって、基材を塗工するためのコーティング組成物を製造し、該コーティング組成物に請求項15記載の組成物を添加することを含んでなる方法。
- 可撓性基材の塗工時のミスト発生を低減する方法であって、基材を塗工するためのコーティング組成物を製造し、該コーティング組成物に請求項16記載の組成物を添加することを含んでなる方法。
- 可撓性基材の塗工時のミスト発生を低減する方法であって、基材を塗工するためのコーティング組成物を製造し、該コーティング組成物に請求項17記載の組成物を添加することを含んでなる方法。
- 可撓性基材の塗工時のミスト発生を低減する方法であって、基材を塗工するためのコーティング組成物を製造し、該コーティング組成物に請求項18記載の組成物を添加することを含んでなる方法。
- 可撓性基材の塗工時のミスト発生を低減する方法であって、基材を塗工するためのコーティング組成物を製造し、該コーティング組成物に請求項19記載の組成物を添加することを含んでなる方法。
- 可撓性基材の塗工時のミスト発生を低減する方法であって、基材を塗工するためのコーティング組成物を製造し、該コーティング組成物に請求項20記載の組成物を添加することを含んでなる方法。
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