JP2000327783A - ポリオルガノシロキサン、ポリオルガノシロキサン含有組成物、およびシリコーンエラストマーの製造方法 - Google Patents
ポリオルガノシロキサン、ポリオルガノシロキサン含有組成物、およびシリコーンエラストマーの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 樹脂組成物の引裂抵抗、破断点伸びおよび極
限引張強さを向上させる架橋剤の提供。 【解決手段】 （ＨＲ2Ｓｉ−Ｏ1/2）ＨＭ単位、（Ｓｉ
−Ｏ4/2）Ｑ単位、（Ｒ1Ｓｉ−Ｏ3/2）Ｔ単位および
（Ｒ2Ｓｉ−Ｏ2/2）Ｄ単位を、比率２：１：０：０〜
６：４：２：２で含有するか、または（ＨＲ2Ｓｉ−Ｏ
1/2）ＨＭ単位、（Ｒ1Ｓｉ−Ｏ3/2）Ｔ単位、（Ｒ2Ｓｉ
−Ｏ2/2）Ｄ単位および（Ｒ2（Ｒ1Ｏ）Ｓｉ−Ｏ1/2）
を、ＨＭ：Ｔ：Ｄ：アルコキシＭの比率１：２：０：０
〜３：４：２：２で含有するポリオルガノシロキサンに
おいて、Ｒは同一または異なっていてよく、基あたり炭
素原子１〜１８個を有する非ハロゲン化またはハロゲン
化炭化水素基、またはＯＲ1であり、ここでＲ1は、一価
で、炭素原子１〜８個を有する非置換または置換炭化水
素基であり、分子毎に少なくとも３つのＳｉ−結合性水
素原子を有する、ポリオルガノシロキサン。
限引張強さを向上させる架橋剤の提供。 【解決手段】 （ＨＲ2Ｓｉ−Ｏ1/2）ＨＭ単位、（Ｓｉ
−Ｏ4/2）Ｑ単位、（Ｒ1Ｓｉ−Ｏ3/2）Ｔ単位および
（Ｒ2Ｓｉ−Ｏ2/2）Ｄ単位を、比率２：１：０：０〜
６：４：２：２で含有するか、または（ＨＲ2Ｓｉ−Ｏ
1/2）ＨＭ単位、（Ｒ1Ｓｉ−Ｏ3/2）Ｔ単位、（Ｒ2Ｓｉ
−Ｏ2/2）Ｄ単位および（Ｒ2（Ｒ1Ｏ）Ｓｉ−Ｏ1/2）
を、ＨＭ：Ｔ：Ｄ：アルコキシＭの比率１：２：０：０
〜３：４：２：２で含有するポリオルガノシロキサンに
おいて、Ｒは同一または異なっていてよく、基あたり炭
素原子１〜１８個を有する非ハロゲン化またはハロゲン
化炭化水素基、またはＯＲ1であり、ここでＲ1は、一価
で、炭素原子１〜８個を有する非置換または置換炭化水
素基であり、分子毎に少なくとも３つのＳｉ−結合性水
素原子を有する、ポリオルガノシロキサン。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリオルガノシロ
キサン、シリコーンエラストマーの製造方法、および該
ポリオルガノシロキサンを含有する組成物に関する。
キサン、シリコーンエラストマーの製造方法、および該
ポリオルガノシロキサンを含有する組成物に関する。
【０００２】Ｑ単位を有し、水素含量が１％である付加
−架橋樹脂組成物用の架橋剤は、ＥＰ−Ａ−０５６５２
３８に記載されている。この組成物の不利点は、加硫が
遅く、それ故射出成形に長いサイクルタイムを要し、か
つ望ましくない機械特性を有する点である。
−架橋樹脂組成物用の架橋剤は、ＥＰ−Ａ−０５６５２
３８に記載されている。この組成物の不利点は、加硫が
遅く、それ故射出成形に長いサイクルタイムを要し、か
つ望ましくない機械特性を有する点である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、従来
技術の改良であり、特に、樹脂組成物の引裂抵抗、破断
点伸びおよび極限引張強さの向上した架橋剤の提供であ
る。
技術の改良であり、特に、樹脂組成物の引裂抵抗、破断
点伸びおよび極限引張強さの向上した架橋剤の提供であ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、（ＨＲ2Ｓｉ
−Ｏ1/2）ＨＭ単位、（Ｓｉ−Ｏ4/2）Ｑ単位、（Ｒ1Ｓ
ｉ−Ｏ3/2）Ｔ単位および（Ｒ2Ｓｉ−Ｏ2/2）Ｄ単位
を、比率２：１：０：０〜６：４：２：２で含有する
か、または（ＨＲ2Ｓｉ−Ｏ1/2）ＨＭ単位、（Ｒ1Ｓｉ
−Ｏ3/2）Ｔ単位、（Ｒ2Ｓｉ−Ｏ2/2）Ｄ単位および
（Ｒ2（Ｒ1Ｏ）Ｓｉ−Ｏ1 /2）を、ＨＭ：Ｔ：Ｄ：アル
コキシＭの比率１：２：０：０〜３：４：２：２で含有
するポリオルガノシロキサンを提供し、式中、Ｒは、は
同一または異なっていてよく、基あたり炭素原子１〜１
８個を有する非ハロゲン化またはハロゲン化炭化水素
基、またはＯＲ1であり、ここでＲ1は、一価で、炭素原
子１〜８個を有する非置換または置換炭化水素基であ
り、分子毎に少なくとも３つのＳｉ−結合水素原子を有
する。
−Ｏ1/2）ＨＭ単位、（Ｓｉ−Ｏ4/2）Ｑ単位、（Ｒ1Ｓ
ｉ−Ｏ3/2）Ｔ単位および（Ｒ2Ｓｉ−Ｏ2/2）Ｄ単位
を、比率２：１：０：０〜６：４：２：２で含有する
か、または（ＨＲ2Ｓｉ−Ｏ1/2）ＨＭ単位、（Ｒ1Ｓｉ
−Ｏ3/2）Ｔ単位、（Ｒ2Ｓｉ−Ｏ2/2）Ｄ単位および
（Ｒ2（Ｒ1Ｏ）Ｓｉ−Ｏ1 /2）を、ＨＭ：Ｔ：Ｄ：アル
コキシＭの比率１：２：０：０〜３：４：２：２で含有
するポリオルガノシロキサンを提供し、式中、Ｒは、は
同一または異なっていてよく、基あたり炭素原子１〜１
８個を有する非ハロゲン化またはハロゲン化炭化水素
基、またはＯＲ1であり、ここでＲ1は、一価で、炭素原
子１〜８個を有する非置換または置換炭化水素基であ
り、分子毎に少なくとも３つのＳｉ−結合水素原子を有
する。
【０００５】基Ｒの例は、有利に、アルキル基、例えば
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、イソブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、イソ
ペンチル、ネオペンチルおよびtert−ペンチル基；ヘキ
シル基、例えばｎ−ヘキシル基；ヘプチル基、例えばｎ
−ヘプチル基；オクチル基、例えばｎ−オクチル基およ
びイソオクチル基、例えば２,２,４−トリメチルペンチ
ル基；ノニル基、例えばｎ−ノニル基；デシル基、例え
ばｎ−デシル基；ドデシル基、例えばｎ−ドデシル基；
オクタデシル基、例えばｎ−オクタデシル基；アルケニ
ル基、例えばビニル基およびアリル基；シクロアルキル
基、例えばシクロペンチル、シクロヘキシルおよびシク
ロヘプチル基、さらにメチルシクロヘキシル基である。
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、イソブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、イソ
ペンチル、ネオペンチルおよびtert−ペンチル基；ヘキ
シル基、例えばｎ−ヘキシル基；ヘプチル基、例えばｎ
−ヘプチル基；オクチル基、例えばｎ−オクチル基およ
びイソオクチル基、例えば２,２,４−トリメチルペンチ
ル基；ノニル基、例えばｎ−ノニル基；デシル基、例え
ばｎ−デシル基；ドデシル基、例えばｎ−ドデシル基；
オクタデシル基、例えばｎ−オクタデシル基；アルケニ
ル基、例えばビニル基およびアリル基；シクロアルキル
基、例えばシクロペンチル、シクロヘキシルおよびシク
ロヘプチル基、さらにメチルシクロヘキシル基である。
【０００６】置換された基Ｒの例は、シアノアルキル
基、例えばβ−シアノエチル基、およびハロゲン化炭化
水素基、例えばハロアルキル基、例えば３,３,３−トリ
フルオロ−ｎ−プロピル基、２,２,２,２',２',２'−ヘ
キサフルオロイソプロピル基およびヘプタフルオロイソ
プロピル基である。
基、例えばβ−シアノエチル基、およびハロゲン化炭化
水素基、例えばハロアルキル基、例えば３,３,３−トリ
フルオロ−ｎ−プロピル基、２,２,２,２',２',２'−ヘ
キサフルオロイソプロピル基およびヘプタフルオロイソ
プロピル基である。
【０００７】単に入手が容易であることから、基Ｒとし
てメチルまたはエチル基が有利である。
てメチルまたはエチル基が有利である。
【０００８】基Ｒ1は、有利に水素原子および炭素原子
１〜８個を有する非置換または置換炭化水素基であり、
特に有利に水素および炭素原子１〜３個を有するアルキ
ル基であり、特にメチル、エチルおよびイソプロピル基
である。
１〜８個を有する非置換または置換炭化水素基であり、
特に有利に水素および炭素原子１〜３個を有するアルキ
ル基であり、特にメチル、エチルおよびイソプロピル基
である。
【０００９】有利なポリオルガノシロキサンは、式（Ｈ
（ＣＨ3）2ＳｉＯ）4Ｓｉ（＝ＨＭ４Ｑ）または（Ｈ
（ＣＨ3）2ＳｉＯ）3ＳｉＣＨ3（＝ＨＭ３Ｔ）で示され
る化合物である。
（ＣＨ3）2ＳｉＯ）4Ｓｉ（＝ＨＭ４Ｑ）または（Ｈ
（ＣＨ3）2ＳｉＯ）3ＳｉＣＨ3（＝ＨＭ３Ｔ）で示され
る化合物である。
【００１０】基Ｒ1の例は、基Ｒに関して記載した炭素
原子１〜８個を有する例である。これらの化合物は、液
体シリコーンラバー系中に架橋剤として使用するのが有
利である。
原子１〜８個を有する例である。これらの化合物は、液
体シリコーンラバー系中に架橋剤として使用するのが有
利である。
【００１１】新規ポリオルガノシロキサンの粘度は、有
利に１０〜５０００００ｍＰａ.ｓ、特に有利に１０〜
１０００００ｍＰａ.ｓ、非常に有利に１０〜１０００
０ｍＰａ.ｓである。
利に１０〜５０００００ｍＰａ.ｓ、特に有利に１０〜
１０００００ｍＰａ.ｓ、非常に有利に１０〜１０００
０ｍＰａ.ｓである。
【００１２】新規ポリオルガノシロキサンは、硬度低減
成分としても使用される。
成分としても使用される。
【００１３】本発明はまた、アルケニル基を有するシリ
コーンポリマーを含有しかつ触媒、さらに前記ポリオル
ガノシロキサンをも含有する組成物を提供する。
コーンポリマーを含有しかつ触媒、さらに前記ポリオル
ガノシロキサンをも含有する組成物を提供する。
【００１４】この種の組成物は、通常、アルケニル基を
有するシリコーンポリマー（１）から成り、ここでアル
ケニル基は有利にビニルまたはアリル基であり、このシ
リコーンポリマーは有利にビニル末端基を有するポリジ
メチルシロキサンである。これらは５５〜８５質量％の
量で存在する。その製造方法は、例えばＥＰ２０８２８
５に記載されている。その粘度は、温度２５℃で有利に
０.５〜５００Ｐａ.ｓ、特に有利に１〜１００Ｐａ.
ｓ、非常に有利に４〜５０Ｐａ.ｓである。
有するシリコーンポリマー（１）から成り、ここでアル
ケニル基は有利にビニルまたはアリル基であり、このシ
リコーンポリマーは有利にビニル末端基を有するポリジ
メチルシロキサンである。これらは５５〜８５質量％の
量で存在する。その製造方法は、例えばＥＰ２０８２８
５に記載されている。その粘度は、温度２５℃で有利に
０.５〜５００Ｐａ.ｓ、特に有利に１〜１００Ｐａ.
ｓ、非常に有利に４〜５０Ｐａ.ｓである。
【００１５】架橋して任意にエラストマーを生じるシリ
コーンラバー組成物は、補強充填剤または非補強性充填
剤（２）をも含有する。非補強性充填剤の例は、ＢＥＴ
表面積が５０ｍ2／ｇを下回る物質、例えば粉末石英、
珪藻土、チョーク、カオリンおよびケイ酸塩である。本
発明の目的において、補強充填剤はＢＥＴ表面積が５０
ｍ2／ｇ以上であり、例えばヒュームドシリカがある。
有利な補強充填剤は、ＢＥＴ表面積が１５０〜３００ｍ
2／ｇである。これらは疎水化されていてよく、使用量
は０〜４０質量％である。
コーンラバー組成物は、補強充填剤または非補強性充填
剤（２）をも含有する。非補強性充填剤の例は、ＢＥＴ
表面積が５０ｍ2／ｇを下回る物質、例えば粉末石英、
珪藻土、チョーク、カオリンおよびケイ酸塩である。本
発明の目的において、補強充填剤はＢＥＴ表面積が５０
ｍ2／ｇ以上であり、例えばヒュームドシリカがある。
有利な補強充填剤は、ＢＥＴ表面積が１５０〜３００ｍ
2／ｇである。これらは疎水化されていてよく、使用量
は０〜４０質量％である。
【００１６】架橋剤（３）は新規架橋剤であり、０.５
〜７質量％の量で存在する。
〜７質量％の量で存在する。
【００１７】慣用の白金ヒドロシリル化触媒を金属触媒
（４）として使用すべきである。触媒は、前記ポリオル
ガノシロキサン（１）中のアルキレン基と新規架橋剤
（３）中の珪素結合水素原子との間の付加反応に関与す
る。一般的に、文献に記載される付加架橋シリコーンラ
バー組成物のためのヒドロシリル化触媒の全てを使用し
てよい。ここで有利に使用するのは金属、例えば白金、
パラジウム、イリジウム、ロジウムおよびルテニウムで
あり、特に有利に白金および白金化合物である。非常に
有利に、ポリオルガノシロキサン中に溶解性の白金−ビ
ニルシロキサン錯体およびヘキサクロロ白金酸である。
架橋してエラストマーを生じさせるために組成物へ添加
するこのような触媒の量は０.１〜５００質量ｐｐｍで
ある。有利に白金金属５〜１００質量ｐｐｍを使用し、
加硫速度を使用量を変化させることで制御できる。
（４）として使用すべきである。触媒は、前記ポリオル
ガノシロキサン（１）中のアルキレン基と新規架橋剤
（３）中の珪素結合水素原子との間の付加反応に関与す
る。一般的に、文献に記載される付加架橋シリコーンラ
バー組成物のためのヒドロシリル化触媒の全てを使用し
てよい。ここで有利に使用するのは金属、例えば白金、
パラジウム、イリジウム、ロジウムおよびルテニウムで
あり、特に有利に白金および白金化合物である。非常に
有利に、ポリオルガノシロキサン中に溶解性の白金−ビ
ニルシロキサン錯体およびヘキサクロロ白金酸である。
架橋してエラストマーを生じさせるために組成物へ添加
するこのような触媒の量は０.１〜５００質量ｐｐｍで
ある。有利に白金金属５〜１００質量ｐｐｍを使用し、
加硫速度を使用量を変化させることで制御できる。
【００１８】硬化性ラバー組成物の可使時間の調節に働
く添加物（５）も必要であれば含有してよい。このよう
な添加物は公知の阻害剤、例えば２−メチル−３−ブチ
ン−２−オール、１,３−ジビニル−１,１,３−テトラ
メチルジシロキサンおよびエチニルシクロヘキサノール
である。阻害剤の使用量は有利に、下記に列挙した各成
分の総質量あたり０.０１〜０.２質量％である。
く添加物（５）も必要であれば含有してよい。このよう
な添加物は公知の阻害剤、例えば２−メチル−３−ブチ
ン−２−オール、１,３−ジビニル−１,１,３−テトラ
メチルジシロキサンおよびエチニルシクロヘキサノール
である。阻害剤の使用量は有利に、下記に列挙した各成
分の総質量あたり０.０１〜０.２質量％である。
【００１９】組成物が実質的に反応性であり、室温でゆ
っくりと加硫するので、混合物を２成分に分離し、うち
ひとつには１、２、４および５が含まれ、他方には１、
２、３および５が含まれる。加工前に、機械を使用して
成分を混合し、次いで、射出成形、押出、トランスファ
ー成形、回転遠心注型法により加工する。
っくりと加硫するので、混合物を２成分に分離し、うち
ひとつには１、２、４および５が含まれ、他方には１、
２、３および５が含まれる。加工前に、機械を使用して
成分を混合し、次いで、射出成形、押出、トランスファ
ー成形、回転遠心注型法により加工する。
【００２０】本発明は、機械特性および加硫特性を顕著
に改良している。例えば、引裂抵抗は向上し、３０ショ
アータイプの破断点伸びは約７００から１０００手前ま
で上昇した。また、意外にも、開始温度は以前の１４０
℃から、新規架橋剤により１００℃を下回るまで減少
し、他方で可使時間は３日より長く保持される。
に改良している。例えば、引裂抵抗は向上し、３０ショ
アータイプの破断点伸びは約７００から１０００手前ま
で上昇した。また、意外にも、開始温度は以前の１４０
℃から、新規架橋剤により１００℃を下回るまで減少
し、他方で可使時間は３日より長く保持される。
【００２１】本発明の化合物はまた、少なくともひとつ
のＳｉＨ基またはＳｉ−アルケニル基、有利にＳｉ−ビ
ニル基を有する任意の直鎖または分枝鎖ポリジメチルシ
ロキサンポリマーと混和させて使用できる。
のＳｉＨ基またはＳｉ−アルケニル基、有利にＳｉ−ビ
ニル基を有する任意の直鎖または分枝鎖ポリジメチルシ
ロキサンポリマーと混和させて使用できる。
【００２２】使用されるアルケニル基含有シリコーンポ
リマーには、有利にポリジオルガノシロキサンポリマ
ー、例えば有利にビニル基またはアリル基のようなアル
ケニル基を末端アルケニル基の代わりに鎖中に有するポ
リジメチルシロキサンが含まれる。従って、ショアー硬
度は４０〜６０となる。このポリマーの使用量は、有利
に２〜５０質量％、特に有利に２〜２０質量％である。
このポリマーを、末端アルケニル基、例えばビニル基、
アリル基、エポキシ基またはメチル基を有するポリマー
といっしょに使用してよい。アルケニル末端ポリマーの
ビニルＤ単位を鎖中に有するポリマーに対する含量比
は、有利に２５：１〜２.５：１、特に有利に１２：１
〜４：１である。
リマーには、有利にポリジオルガノシロキサンポリマ
ー、例えば有利にビニル基またはアリル基のようなアル
ケニル基を末端アルケニル基の代わりに鎖中に有するポ
リジメチルシロキサンが含まれる。従って、ショアー硬
度は４０〜６０となる。このポリマーの使用量は、有利
に２〜５０質量％、特に有利に２〜２０質量％である。
このポリマーを、末端アルケニル基、例えばビニル基、
アリル基、エポキシ基またはメチル基を有するポリマー
といっしょに使用してよい。アルケニル末端ポリマーの
ビニルＤ単位を鎖中に有するポリマーに対する含量比
は、有利に２５：１〜２.５：１、特に有利に１２：１
〜４：１である。
【００２３】樹脂アルケニル基含有ポリオルガノシロキ
サン（ビニル−水ガラス樹脂）の添加により、完全に硬
化させたシリコーンラバー組成物の切欠抵抗（切裂抵
抗）が著しく向上する（実施例４参照）。これらは、Ｒ
3ＳｉＯ1/2、ＲＳｉＯ3/2および／またはＳｉＯ4/2単位
から成り、一置換と３置換または４置換単位との間のモ
ル比は、０.４：１〜１.５：１である。成分（１）〜
（４）から成る組成物に対する添加量は有利に０〜２０
質量％である。
サン（ビニル−水ガラス樹脂）の添加により、完全に硬
化させたシリコーンラバー組成物の切欠抵抗（切裂抵
抗）が著しく向上する（実施例４参照）。これらは、Ｒ
3ＳｉＯ1/2、ＲＳｉＯ3/2および／またはＳｉＯ4/2単位
から成り、一置換と３置換または４置換単位との間のモ
ル比は、０.４：１〜１.５：１である。成分（１）〜
（４）から成る組成物に対する添加量は有利に０〜２０
質量％である。
【００２４】本発明の利点は、開始温度が、意外にも、
８０〜１２０℃であり、最終混合物が室温で３日より長
い長期の可使時間および加工時間を有する点である。こ
れに加え、良好な加工性、本発明の化合物を有する組成
物、またはそこから成形されたエラストマーの、金属ま
たはプラスチック金型からの容易な離型性、１５００％
の高い破断点伸び、および６０Ｎ／ｍｍまでの高い切裂
抵抗を有する。
８０〜１２０℃であり、最終混合物が室温で３日より長
い長期の可使時間および加工時間を有する点である。こ
れに加え、良好な加工性、本発明の化合物を有する組成
物、またはそこから成形されたエラストマーの、金属ま
たはプラスチック金型からの容易な離型性、１５００％
の高い破断点伸び、および６０Ｎ／ｍｍまでの高い切裂
抵抗を有する。
【００２５】新規架橋剤を用いた組成物は、射出成形、
トランスファー成形、プレス加硫、押出、遠心注型法、
圧延、ビード適用（bead application）または吹込成形
により加工できる。
トランスファー成形、プレス加硫、押出、遠心注型法、
圧延、ビード適用（bead application）または吹込成形
により加工できる。
【００２６】新規架橋剤を用いたエラストマーは、スポ
ーツ用品、ダイビングマスク、換気口のベローズ、バル
ーンカテーテル、哺乳びん用ゴム乳首、おしゃぶり、薄
肉膜、スイッチカバー、点火プラグコネクター、医薬
品、絶縁物、単線シール、プラグコネクターシール、管
材料およびバルブ、および“冷却−収縮技術（cold-shr
ink technology）”等に使用される。
ーツ用品、ダイビングマスク、換気口のベローズ、バル
ーンカテーテル、哺乳びん用ゴム乳首、おしゃぶり、薄
肉膜、スイッチカバー、点火プラグコネクター、医薬
品、絶縁物、単線シール、プラグコネクターシール、管
材料およびバルブ、および“冷却−収縮技術（cold-shr
ink technology）”等に使用される。
【００２７】
【実施例】例１ Ｈ−Ｓｉ−含有架橋剤の製造例 メチルトリエトキシシラン８５４４ｇ、テトラメチルジ
ヒドロシロキサン３２１６ｇおよびジメチルヒドロクロ
ロシラン６０ｇを初めに装填し、脱イオン水３６００ｇ
を流しながら１時間の期間内で攪拌する。その後、１時
間かけて周囲湿度（７７％）で４０℃まで冷却する。Ｎ
ａＨＣＯ3３６ｇを添加し、混合物を４０℃で１時間攪
拌し、その後濾過した。
ヒドロシロキサン３２１６ｇおよびジメチルヒドロクロ
ロシラン６０ｇを初めに装填し、脱イオン水３６００ｇ
を流しながら１時間の期間内で攪拌する。その後、１時
間かけて周囲湿度（７７％）で４０℃まで冷却する。Ｎ
ａＨＣＯ3３６ｇを添加し、混合物を４０℃で１時間攪
拌し、その後濾過した。
【００２８】得られたポリオルガノシロキサンは、単位
ＨＭ：Ｄ：Ｔ：ＥｔＯ1/2の比率が１：０.１０８：１.
８１７：０.０５２６であり、収量５３０３ｇである。
ＨＭ：Ｄ：Ｔ：ＥｔＯ1/2の比率が１：０.１０８：１.
８１７：０.０５２６であり、収量５３０３ｇである。
【００２９】例１（比較例） いずれの場合も、ビニルジメチルシロキシ基を末端単位
として有するポリジメチルシロキサン（粘度２０Ｐａ*
ｓ）６８質量部とＢＥＴ表面積が３００ｍ2／ｇである
疎水化ヒュームドシリカ３２質量部を、有利に目的に好
適な混合装置、例えば混練器中で混合して均質な混合物
を得ることにより、初期混合物（ａ）を製造した。
として有するポリジメチルシロキサン（粘度２０Ｐａ*
ｓ）６８質量部とＢＥＴ表面積が３００ｍ2／ｇである
疎水化ヒュームドシリカ３２質量部を、有利に目的に好
適な混合装置、例えば混練器中で混合して均質な混合物
を得ることにより、初期混合物（ａ）を製造した。
【００３０】初期混合物（ａ）を成分Ａの獲得に使用
し、この際、混合物（ａ）１００質量部あたり白金−ビ
ニルシロキサン錯体（４）０.１６質量部およびエチニ
ルシクロヘキサノール０.０６質量部を添加した。
し、この際、混合物（ａ）１００質量部あたり白金−ビ
ニルシロキサン錯体（４）０.１６質量部およびエチニ
ルシクロヘキサノール０.０６質量部を添加した。
【００３１】初期混合物（ａ）１００質量部あたり、ジ
メチルシロキサン単位、メチル水素単位およびトリメチ
ルシロキサン単位から成り、Ｓｉ−Ｈを約０.４５％含
有するコポリマー４.２質量部およびエチニルシクロヘ
キサノール０.０６質量部を添加することにより、成分
Ｂを獲得した。
メチルシロキサン単位、メチル水素単位およびトリメチ
ルシロキサン単位から成り、Ｓｉ−Ｈを約０.４５％含
有するコポリマー４.２質量部およびエチニルシクロヘ
キサノール０.０６質量部を添加することにより、成分
Ｂを獲得した。
【００３２】２つの成分ＡおよびＢを混合比１：１で均
質に混合し、混合物を２〜６ｍｍ厚さの加硫シートを製
造するために使用した。
質に混合し、混合物を２〜６ｍｍ厚さの加硫シートを製
造するために使用した。
【００３３】（加硫条件：５分／１６５℃） 例２ 例１の初期混合物（ａ）から、混合物（ａ）１００質量
部あたり白金ビニルシロキサン錯体（４）０.１６質量
部およびエチニルシクロヘキサノール０.０６質量部を
添加することにより、成分Ａを獲得した。
部あたり白金ビニルシロキサン錯体（４）０.１６質量
部およびエチニルシクロヘキサノール０.０６質量部を
添加することにより、成分Ａを獲得した。
【００３４】初期混合物（ａ）１００質量部あたり、例
１の新規網状ポリオルガノシロキサン（３）３.０質量
部およびエチニルシクロヘキサノール０.０６質量部を
添加することにより、成分Ｂを獲得した。
１の新規網状ポリオルガノシロキサン（３）３.０質量
部およびエチニルシクロヘキサノール０.０６質量部を
添加することにより、成分Ｂを獲得した。
【００３５】２つの成分ＡおよびＢを混合比１：１で均
質に混合し、混合物を２〜６ｍｍ厚さの加硫シートを製
造するために使用した。
質に混合し、混合物を２〜６ｍｍ厚さの加硫シートを製
造するために使用した。
【００３６】（加硫条件：５分／１６５℃）。
【００３７】例３：末端単位としてビニルジメチルシロ
キシ基を有するポリジメチルシロキサン（粘度１００Ｐ
ａ＊ｓ）５９質量部、例１のトリメチルシロキシ基およ
びメチルビニルシロキシ基を含むポリジメチルシロキサ
ン９質量部、およびＢＥＴ表面積が３００ｍ2／ｇであ
る疎水化ヒュームドシリカ３２質量部を有利に目的に好
適な混合装置、例えば混練器中で混合して均質な混合物
を得ることにより、初期混合物（ｂ）を製造した。
キシ基を有するポリジメチルシロキサン（粘度１００Ｐ
ａ＊ｓ）５９質量部、例１のトリメチルシロキシ基およ
びメチルビニルシロキシ基を含むポリジメチルシロキサ
ン９質量部、およびＢＥＴ表面積が３００ｍ2／ｇであ
る疎水化ヒュームドシリカ３２質量部を有利に目的に好
適な混合装置、例えば混練器中で混合して均質な混合物
を得ることにより、初期混合物（ｂ）を製造した。
【００３８】初期混合物（ｂ）を成分Ａの獲得に使用
し、この際、混合物（ｂ）１００質量部あたり白金−ビ
ニルシロキサン錯体（４）０.１６質量部およびエチニ
ルシクロヘキサノール０.０６質量部を添加した。
し、この際、混合物（ｂ）１００質量部あたり白金−ビ
ニルシロキサン錯体（４）０.１６質量部およびエチニ
ルシクロヘキサノール０.０６質量部を添加した。
【００３９】初期混合物（ｂ）１００質量部あたり例１
のジメチルシロキサン単位、メチル水素単位およびトリ
メチルシロキサン単位から成るコポリマー４.５質量部
およびエチニルシクロヘキサノール０.０６質量部を添
加することにより、成分Ｂを獲得した。
のジメチルシロキサン単位、メチル水素単位およびトリ
メチルシロキサン単位から成るコポリマー４.５質量部
およびエチニルシクロヘキサノール０.０６質量部を添
加することにより、成分Ｂを獲得した。
【００４０】２つの成分ＡおよびＢを混合比１：１で均
質に混合し、混合物を２〜６ｍｍ厚さの加硫シートを製
造するために使用した。
質に混合し、混合物を２〜６ｍｍ厚さの加硫シートを製
造するために使用した。
【００４１】（加硫条件：５分／１６５℃） 例４ 例１の初期混合物（ａ）から、混合物（ａ）１００質量
部あたり白金ビニルシロキサン錯体（４）０.１６質量
部、粘度が２０Ｐａｓでありかつビニル樹脂を含有する
ポリオルガノシロキサン１５質量部およびエチニルシク
ロヘキサノール０.０６質量部を添加することにより、
成分Ａを獲得した。
部あたり白金ビニルシロキサン錯体（４）０.１６質量
部、粘度が２０Ｐａｓでありかつビニル樹脂を含有する
ポリオルガノシロキサン１５質量部およびエチニルシク
ロヘキサノール０.０６質量部を添加することにより、
成分Ａを獲得した。
【００４２】初期混合物（ａ）１００質量部あたり、例
１のジメチルシロキサン単位、メチル水素単位およびト
リメチルシロキサン単位から成るコポリマー５.０質量
部、粘度が２０Ｐａｓでありかつ樹脂を含有するポリオ
ルガノシロキサン１５質量部およびエチニルシクロヘキ
サノール０.０６質量部を添加することにより、成分Ｂ
を獲得した。
１のジメチルシロキサン単位、メチル水素単位およびト
リメチルシロキサン単位から成るコポリマー５.０質量
部、粘度が２０Ｐａｓでありかつ樹脂を含有するポリオ
ルガノシロキサン１５質量部およびエチニルシクロヘキ
サノール０.０６質量部を添加することにより、成分Ｂ
を獲得した。
【００４３】２つの成分ＡおよびＢを混合比１：１で均
質に混合し、混合物を２〜６ｍｍ厚さの加硫シートを製
造するために使用した。
質に混合し、混合物を２〜６ｍｍ厚さの加硫シートを製
造するために使用した。
【００４４】（加硫条件：５分／１６５℃）。
【００４５】例５（比較例）：末端単位としてビニルジ
メチルシロキシ基を有するポリジメチルシロキサン（粘
度２０Ｐａ＊ｓ）７２質量部をＢＥＴ表面積が３００ｍ
2／ｇである疎水化ヒュームドシリカ２８質量部と、有
利に目的に好適な混合装置、例えば混練器中で混合して
均質な混合物を得ることにより、初期混合物（ｃ）を製
造した。
メチルシロキシ基を有するポリジメチルシロキサン（粘
度２０Ｐａ＊ｓ）７２質量部をＢＥＴ表面積が３００ｍ
2／ｇである疎水化ヒュームドシリカ２８質量部と、有
利に目的に好適な混合装置、例えば混練器中で混合して
均質な混合物を得ることにより、初期混合物（ｃ）を製
造した。
【００４６】初期混合物（ｃ）を成分Ａの獲得に使用で
き、この際、混合物（ｃ）１００質量部あたり白金−ビ
ニルシロキサン錯体（４）０.１６質量部およびエチニ
ルシクロヘキサノール０.０６質量部を添加した。
き、この際、混合物（ｃ）１００質量部あたり白金−ビ
ニルシロキサン錯体（４）０.１６質量部およびエチニ
ルシクロヘキサノール０.０６質量部を添加した。
【００４７】初期混合物（ａ）１００質量部あたりジメ
チルシロキサン単位、メチル水素単位およびトリメチル
シロキサン単位から成りかつＳｉ−Ｈ含量が約０.４５
％であるコポリマー３.０質量部およびエチニルシクロ
ヘキサノール０.０６質量部を添加することにより、成
分Ｂを獲得した。
チルシロキサン単位、メチル水素単位およびトリメチル
シロキサン単位から成りかつＳｉ−Ｈ含量が約０.４５
％であるコポリマー３.０質量部およびエチニルシクロ
ヘキサノール０.０６質量部を添加することにより、成
分Ｂを獲得した。
【００４８】２つの成分ＡおよびＢを混合比１：１で均
質に混合し、混合物を２〜６ｍｍ厚さの加硫シートを製
造するために使用した。
質に混合し、混合物を２〜６ｍｍ厚さの加硫シートを製
造するために使用した。
【００４９】（加硫条件：５分／１６５℃） 例６ いずれの場合も、末端単位としてビニルジメチルシロキ
シ基を有するポリジメチルシロキサン（粘度２０Ｐａ＊
ｓ）７２質量部、およびＢＥＴ表面積が３００ｍ2／ｇ
である疎水化ヒュームドシリカ２８質量部を、有利に目
的に好適な混合装置、例えば混練器中で混合して均質な
混合物を得ることにより、初期混合物（ｃ）を製造し
た。
シ基を有するポリジメチルシロキサン（粘度２０Ｐａ＊
ｓ）７２質量部、およびＢＥＴ表面積が３００ｍ2／ｇ
である疎水化ヒュームドシリカ２８質量部を、有利に目
的に好適な混合装置、例えば混練器中で混合して均質な
混合物を得ることにより、初期混合物（ｃ）を製造し
た。
【００５０】初期混合物（ｃ）を成分Ａの獲得に使用で
き、この際、混合物（ｃ）１００質量部あたり白金−ビ
ニルシロキサン錯体（４）０.１６質量部およびエチニ
ルシクロヘキサノール０.０６質量部を添加した。
き、この際、混合物（ｃ）１００質量部あたり白金−ビ
ニルシロキサン錯体（４）０.１６質量部およびエチニ
ルシクロヘキサノール０.０６質量部を添加した。
【００５１】初期混合物（ｃ）１００質量部あたり例１
の新規網状ポリオルガノシロキサン（３）３.５質量部
およびエチニルシクロヘキサノール０.０６質量部を添
加することにより、成分Ｂを獲得した。
の新規網状ポリオルガノシロキサン（３）３.５質量部
およびエチニルシクロヘキサノール０.０６質量部を添
加することにより、成分Ｂを獲得した。
【００５２】２つの成分ＡおよびＢを混合比１：１で均
質に混合し、混合物を２〜６ｍｍ厚さの加硫シートを製
造するために使用した。
質に混合し、混合物を２〜６ｍｍ厚さの加硫シートを製
造するために使用した。
【００５３】（加硫条件：５分／１６５℃） 機械特性：
【００５４】
【表１】
【００５５】ＳＨ Ａ＝ショアーＡ ＵＴＳ＝極限引張強さ ＥＢ＝破断点伸び ＴＰＳ＝引裂抵抗 ＯＴ＝開始温度 全ての値は、試験片を２００℃で４時間アニーリングし
た後に得られた値である。
た後に得られた値である。
【００５６】使用したＳｉＨ供与体の別の利点は、例６
に示されるように、硬度−低減作用である。慣用の混合
規格は、例５の硬度３４である。新規架橋剤では硬度２
８となり、機械特性に顕著な向上をもたらす。
に示されるように、硬度−低減作用である。慣用の混合
規格は、例５の硬度３４である。新規架橋剤では硬度２
８となり、機械特性に顕著な向上をもたらす。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ペーター イェルショフ ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン ハイ リヒクロイツ 16 (72)発明者 ヘートヴィヒ シュライター ドイツ連邦共和国 ティットモーニング ラウフナー シュトラーセ 25 (72)発明者 リヒャルト ビルネーダー ドイツ連邦共和国 ジムバッハ ポストハ ルターシュトラーセ 28 (72)発明者 アロイス リードル ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン ウン クハウザー シュトラーセ 30
Claims (5)
- 【請求項１】 （ＨＲ2Ｓｉ−Ｏ1/2）ＨＭ単位、（Ｓｉ
−Ｏ4/2）Ｑ単位、（Ｒ1Ｓｉ−Ｏ3/2）Ｔ単位および
（Ｒ2Ｓｉ−Ｏ2/2）Ｄ単位を、比率２：１：０：０〜
６：４：２：２で含有するか、または（ＨＲ2Ｓｉ−Ｏ
1/2）ＨＭ単位、（Ｒ1Ｓｉ−Ｏ3/2）Ｔ単位、（Ｒ2Ｓｉ
−Ｏ2/2）Ｄ単位および（Ｒ2（Ｒ1Ｏ）Ｓｉ−Ｏ1/2）
を、ＨＭ：Ｔ：Ｄ：アルコキシＭの比率１：２：０：０
〜３：４：２：２で含有し、ここで、Ｒは同一または異
なっていてよく、基あたり炭素原子１〜１８個を有する
非ハロゲン化またはハロゲン化炭化水素基、またはＯＲ
1であり、ここでＲ1は、一価で、炭素原子１〜８個を有
する非置換または置換炭化水素基であり、分子毎に少な
くとも３つのＳｉ−結合水素原子を有する、ポリオルガ
ノシロキサン。 - 【請求項２】 アルケニル基を有するシリコーンポリマ
ーおよび白金−ビニルシロキサン錯体またはヘキサクロ
ロ白金酸を含有する組成物において、さらに請求項１記
載のポリオルガノシロキサンをも含有することを特徴と
する、組成物。 - 【請求項３】 鎖末端アルケニル基を有するシリコーン
ポリマーと鎖中にアルケニル基を有するシリコーンポリ
マーとの混合物を含有する、請求項２記載の組成物。 - 【請求項４】 ビニル−水ガラス樹脂を含有する、請求
項２または３のいずれか１項記載の組成物。 - 【請求項５】 請求項１記載の成分を使用することから
成る、シリコーンエラストマーの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19920954A DE19920954A1 (de) | 1999-05-06 | 1999-05-06 | Vernetzer |
| DE19920954.5 | 1999-05-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000327783A true JP2000327783A (ja) | 2000-11-28 |
Family
ID=7907235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000133726A Pending JP2000327783A (ja) | 1999-05-06 | 2000-05-02 | ポリオルガノシロキサン、ポリオルガノシロキサン含有組成物、およびシリコーンエラストマーの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6518371B1 (ja) |
| EP (1) | EP1050553A1 (ja) |
| JP (1) | JP2000327783A (ja) |
| DE (1) | DE19920954A1 (ja) |
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| JP2006506510A (ja) * | 2002-11-15 | 2006-02-23 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | コーティング用ミスト防止剤としての星形枝分れシリコーンポリマー |
| JP2006508206A (ja) * | 2002-11-15 | 2006-03-09 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | コーティング用ミスト防止剤としての星形枝分れシリコーンポリマー |
| JP2013541623A (ja) * | 2010-11-02 | 2013-11-14 | ヘンケル・チャイナ・カンパニー・リミテッド | ヒドロシリコーン樹脂およびその製造方法 |
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| DE102004037243B4 (de) * | 2004-07-31 | 2015-07-02 | Huf Hülsbeck & Fürst Gmbh & Co. Kg | Betätiger, insbesondere für Fahrzeuge |
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2000
- 2000-04-20 EP EP00108026A patent/EP1050553A1/de not_active Ceased
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