JP2006505116A5 - - Google Patents
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Claims (111)
- 構造を形成する方法であって、
基板上に、厚みが約2nm(約20オングストローム)より小さな空乏領域を備えている層を形成すること、
前記層の一部を除去してトランジスタのゲートを画定して、該ゲートがチャンネル長さを画定すること、
前記ゲートに隣接している前記基板に複数のドーパントを導入してソースおよびドレインを画定すること、および
前記基板を、複数のドーパントが活性化する温度に加熱することを含み、
前記温度が十分に低く、これにより、前記複数のドーパントの少なくとも一部が拡散して高いOFF電流が誘導されることが防止される、方法。 - 前記基板が絶縁体層を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記基板が、前記絶縁体層上に設けられた歪み層を含む、請求項2に記載の方法。
- 前記基板が歪み層を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記歪み層が引張り歪みを有している、請求項4に記載の方法。
- 前記歪み層が圧縮歪みを有している、請求項4に記載の方法。
- 前記基板が緩和層を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記基板がゲルマニウムからなっている、請求項1に記載の方法。
- 誘導されたOFF電流が、1マイクロメートルあたり10−6アンペアより小さい、請求項1に記載の方法。
- 前記誘導されたOFF電流が、1マイクロメートルあたり10−9アンペアより小さい、請求項9に記載の方法。
- 複数のドーパントを導入した後、前記ソースの領域に導入された複数のドーパントの一部が、チャンネル付近でソース限界を画定し、基板の加熱後、該ソース限界がゲート下で広がり、その広がる距離はチャンネル長さの12.5%よりも短い、請求項1に記載の方法。
- 前記ソース限界におけるドーパント成分の濃度が、少なくとも約1018原子/立方センチメートルである、請求項11に記載の方法。
- 複数のドーパントが導入された後、前記ドレインの領域に導入された複数のドーパントの一部が、チャンネル付近でドレイン限界を画定し、基板の加熱後、該ドレイン限界がゲート下で広がり、その広がる距離はチャンネル長さの12.5%よりも小さい、請求項1に記載の方法。
- 前記ドレイン限界におけるドーパント成分の濃度が、少なくとも約1018原子/立方センチメートルである、請求項13に記載の方法。
- 前記層が半導体からなっており、前記層を形成するステップが、当該層内に複数のゲートドーパントを導入することと、当該層内のゲートドーパントの分布を変化させるために該層を第1の温度に加熱することとを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記半導体がシリコンを含む、請求項15に記載の方法。
- 前記半導体がゲルマニウムを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記層が金属元素を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記金属元素が、モリブデン、チタン、タンタル、タングステン、イリジウム、ニッケル、コバルトおよび白金のうちの少なくとも1つを含む、請求項18に記載の方法。
- 構造を形成する方法であって、
基板上に設けられたゲート電極層に、第1の複数のドーパントを導入すること、
前記ゲート電極層内の第1の複数のドーパントの分布を変化させるために、当該ゲート電極層を第1の温度に加熱すること、
前記ゲート電極層の一部を除去して、トランジスタのゲートを画定すること、
第2の複数のドーパントを前記ゲートに隣接する前記基板に導入して、ソースおよびドレインを画定すること、および
前記第2の複数のドーパントを活性化させるために、前記基板を第2の温度に加熱することを含み、
前記第2の温度が前記第1の温度よりも低い方法。 - 前記基板が絶縁体層を含む、請求項20に記載の方法。
- 前記基板が、前記絶縁体層上に設けられた歪み層を含む、請求項21に記載の方法。
- 前記基板が歪み層を含む、請求項20に記載の方法。
- 前記歪み層が引張り歪みを有している、請求項23に記載の方法。
- 前記歪み層が圧縮歪みを有している、請求項23に記載の方法。
- 前記基板が緩和層を含む、請求項20に記載の方法。
- 前記基板がゲルマニウムを含む、請求項20に記載の方法。
- 前記第1の温度が1273K(1000℃)よりも高い、請求項20に記載の方法。
- 前記第2の温度が1273K(1000℃)よりも低い、請求項20に記載の方法。
- 前記ゲート電極層が半導体層を含む、請求項20に記載の方法。
- 前記半導体層がシリコンを含む、請求項30に記載の方法。
- 前記半導体層がゲルマニウムを含む、請求項30に記載の方法。
- 前記第1の複数のドーパントおよび第2の複数のドーパントが、n型ドーパントからなっている、請求項20に記載の方法。
- 前記第1の複数のドーパントおよび第2の複数のドーパントが、p型ドーパントからなっている、請求項20に記載の方法。
- 構造を形成する方法であって、
基板上に設けられたゲート電極層に、第1の複数のドーパントを導入すること、
前記ゲート電極層内の前記第1の複数のドーパントの分布を変化させるために、基板を第1の時間加熱すること、
前記ゲート電極層の一部を除去して、トランジスタのゲートを画定すること、
第2の複数のドーパントを前記ゲートに隣接する基板に導入して、ソースおよびドレインを画定すること、
前記第2の複数のドーパントを活性化させるために、前記基板を第2の時間加熱することを含み、
前記第2の時間が前記第1の時間よりも短い方法。 - 前記基板が絶縁体層を含む、請求項35に記載の方法。
- 前記基板が、前記絶縁体層上に設けられた歪み層を含む、請求項36に記載の方法。
- 前記基板が歪み層を含む、請求項35に記載の方法。
- 前記歪み層が引張り歪みを有している、請求項38に記載の方法。
- 前記歪み層が圧縮歪みを有している、請求項38に記載の方法。
- 前記基板が緩和層を含む、請求項35に記載の方法。
- 前記基板が、シリコンおよびゲルマニウムの少なくとも1つを含む、請求項35に記載の方法。
- 前記第1の時間が5秒よりも長い、請求項35に記載の方法。
- 前記第1の時間が30秒より長い、請求項35に記載の方法。
- 前記ゲート電極層が半導体層を含む、請求項35に記載の方法。
- 前記半導体層がシリコンを含む、請求項45に記載の方法。
- 前記半導体層がゲルマニウムを含む、請求項45に記載の方法。
- 前記第1の複数のドーパントがn型ドーパントからなっている、請求項35に記載の方法。
- 前記第2の複数のドーパントがp型ドーパントからなっている、請求項35に記載の方法。
- 基板上に設けられた歪み層、
第1のトランジスタであって、
第1のソースおよび第1のドレインであって、該第1のソースの少なくとも一部および該第1のドレインの少なくとも一部が、前記歪み層の第1の部分に設けられている、第1のソースおよび第1のドレインと、
前記歪み層上にかつ前記ソースと前記ドレインとの間に設けられていて、第1の金属を含む第1のゲートと、
前記第1のゲートと前記歪み層との間に設けられている第1のゲート誘電体層と
を有する第1のトランジスタ、および
第2のトランジスタであって、
第2のソースおよび第2のドレインであって、該第2のソースの少なくとも一部および該第2のドレインの少なくとも一部が、歪み層の第2の部分に設けられている、第2のソースおよび第2のドレインと、
前記歪み層上にかつ前記第2のソースと前記第2のドレインとの間に設けられていて、第2の金属を含む第2のゲートと、
前記第2のゲートと前記歪み層との間に設けられている前記第2のゲート誘電体層とを有する第2のトランジスタ、を含む構造であって、
前記第1のトランジスタが、n型金属-酸化物-半導体電界効果トランジスタであり、前記第1のソースおよび前記第1のドレインがn型ドーパントを含み、前記第2のトランジスタが、p型金属-酸化物-半導体電界効果トランジスタであり、前記第2のソースおよび前記第2のドレインがp型ドーパントを含み、前記第1のゲートが第1の仕事関数を有し、前記第2のゲートが第2の仕事関数を有しており、前記第1の仕事関数が前記第2の仕事関数と実質的に異なる、構造。 - 構造を形成する方法であって、
トランジスタのゲートを基板上に形成し、該ゲートが、その下のチャネルを画定し、
前記基板内に、前記チャネル近傍で複数のドーパントを導入して、ソースおよびドレインを画定し、
前記基板を、前記複数のドーパントを活性化させる温度および時間で加熱することを含む方法であって、
前記ゲートが、約2nm(約20オングストローム)より薄い空乏領域を有しており、前記温度および時間の少なくとも一方が十分に抑えられていて、これにより、前記複数のドーパントの前記ソースおよび前記ドレインを越えた拡散が、前記トランジスタのオフ電流を低くするのに十分な程度に小さくなっている、方法。 - 前記チャネルが、歪み半導体を含む、請求項51に記載の方法。
- 前記ゲートを形成することが、前記基板上に半導体層を堆積させること、該半導体層上に金属層を形成すること、および前記半導体層の少なくとも一部を前記金属層と反応させて金属半導体合金を形成するように前記基板を加熱することを含む、請求項51に記載の方法。
- 複数のドーパントを前記ゲート内に導入することをさらに含む、請求項53に記載の方法。
- 前記半導体層の実質的に全部分が前記金属と反応して、金属半導体合金を形成する、請求項53に記載の方法。
- 前記金属がNiを含む、請求項53に記載の方法。
- 前記基板を、フラッシュアニールおよびレーザアニールの少なくとも一方によって加熱し、その時間が1秒未満である、請求項56に記載の方法。
- 前記温度が、900〜1350℃の範囲から選択される、請求項57に記載の方法。
- 前記基板の加熱後、前記ソースおよび前記ドレインの少なくとも一方のドーパント濃度の下降が、ディケードあたり約2nmより大きい、請求項51に記載の方法。
- 前記低下の割合が、ディケードあたり約4nmより大きい、請求項59に記載の方法。
- 前記ゲートが、本質的に金属からなる、請求項51に記載の方法。
- 前記金属が、本質的に、単一の金属元素からなる、請求項61に記載の方法。
- 前記金属が、本質的に、少なくとも2種の金属元素からなる、請求項61に記載の方法。
- 前記ソースおよび前記ドレインの少なくとも一方が、Si以外の元素を含む、請求項51に記載の方法。
- 前記元素がGeを含む、請求項64に記載の方法。
- 前記ソースおよび前記ドレインの少なくとも一方が、歪み半導体材料を含む、請求項51に記載の方法。
- 前記歪み半導体材料が、圧縮歪みを有している、請求項66に記載の方法。
- 前記歪み半導体材料が、SiGeおよびGeの少なくとも一方を含む、請求項68に記載の方法。
- 前記オフ電流が、マイクロメートル当たり10 −6 未満である、請求項51に記載の方法。
- 前記オフ電流が、マイクロメートル当たり10 −9 未満である、請求項69に記載の方法。
- 基板、
前記基板上に設けられているn型金属酸化物半導体電界効果トランジスタであって、
間に第1のチャネルを画定し、それぞれがn型ドーパントを含む第1のソースおよび第1のドレインと、
第1の仕事関数を有し、第1の金属を含む、前記第1のチャネル上に設けられている第1のゲートと、
前記第1のゲートと前記第1のチャネルとの間に設けられている第1のゲート誘電体層とを含むn型金属酸化物半導体電界効果トランジスタ、および
前記基板上に設けられているp型金属酸化物半導体電界効果トランジスタであって、
間に第2のチャネルを画定し、それぞれがp型ドーパントを含む第2のソースおよび第2のドレインと、
第2の仕事関数を有し、第2の金属を含む、前記第2のチャネル上に設けられている第2のゲートと、
前記第2のゲートと前記第2のチャネルとの間に設けられている第2のゲート誘電体層とを含むp型金属酸化物半導体電界効果トランジスタ
を備えている構造であって、前記第1の仕事関数が、前記第2の仕事関数と実質的に異なっており、前記第1のチャネルおよび前記第2のチャネルの少なくとも一方が、歪み半導体を含む、構造。 - 前記第1のチャネルおよび前記第2のチャネルのそれぞれが、歪み半導体を含む、請求項71に記載の構造。
- 前記第1の金属および前記第2の金属の少なくとも一方が、モリブデン、チタン、タンタル、タングステン、イリジウム、コバルトおよび白金の少なくとも1つを含む、請求項71に記載の構造。
- 前記第1の金属および前記第2の金属の少なくとも一方が、ニッケルを含む、請求項71に記載の構造。
- 前記第1のゲートおよび前記第2のゲートの少なくとも一方が、本質的に金属半導体合金からなる、請求項71に記載の構造。
- 前記第1のソース、前記第1のドレイン、前記第2のソースおよび前記第2のドレインの少なくとも1つ中のドーパント濃度の下降が、ディケードあたり約2nmより大きい、請求項71に記載の構造。
- 前記下降が、ディケードあたり約4nmより大きい、請求項76に記載の構造。
- 前記第1のソース、第1のドレイン、第2のソースおよび第2のドレインの少なくとも1つが、第2の歪み半導体を含む、請求項71に記載の構造。
- 前記第2の歪み半導体が、圧縮歪みを有している、請求項78に記載の構造。
- 前記第2の歪み半導体が、SiGeおよびGeの少なくとも一方を含む、請求項78に記載の構造。
- 前記歪み半導体が、引張り歪みSiを含む、請求項71に記載の構造。
- 構造を形成する方法であって、
半導体材料を含む基板を設けるステップ、
前記基板上に設けられたn型金属酸化物半導体電界効果トランジスタ(NMOSFET)を画定するステップであって、該NMOSFETが、
間に第1のチャネルを画定し、それぞれがn型ドーパントを含む第1のソースおよび第1のドレインと、
第1の仕事関数を有しかつ第1の金属を含む、前記第1のチャネル上に設けられている第1のゲートと、
前記第1のゲートおよび前記第1のチャネルとの間に設けられている第1のゲート誘電体層とを含んでいる、ステップ、および
前記基板上に設けられたp型金属酸化物半導体電界効果トランジスタ(PMOSFET)を画定するステップであって、該PMOSFETが、
間に第2のチャネルを画定し、それぞれがp型ドーパントを含む第2のソースおよび第2のドレインと、
第2の仕事関数を有しかつ第2の金属を含む、前記第2のチャネル上に設けられている第2のゲートと、
前記第2のゲートおよび前記第2のチャネルとの間に設けられている第2のゲート誘電体層とを含んでおり、
前記第1の仕事関数が、前記第2の仕事関数と実質的に異なり、前記第1のチャネルおよび前記第2のチャネルの少なくとも1つが、歪み半導体チャネル材料を含んでいる、ステップを含む方法。 - 前記第1のチャネルおよび前記第2のチャネルのそれぞれが、歪み半導体チャネル材料を含む、請求項82に記載の方法。
- 前記第1のチャネルに引張り歪みがかけられており、前記第2のチャネルに圧縮歪みがかけられている、請求項82に記載の方法。
- 前記歪み半導体チャネル材料が、シリコンである、請求項84に記載の方法。
- 前記基板が、前記歪み半導体チャネル材料の歪みを実質的に導入しない、請求項85に記載の方法。
- 前記第1のチャネルおよび前記第2のチャネルの少なくとも一方が、本質的に前記歪み半導体チャネル材料からなる、請求項82に記載の方法。
- 前記歪み半導体チャネル材料が、シリコンである、請求項87に記載の方法。
- 前記シリコンが、同位体に関して純粋な(isotopically pure)シリコンを含む、請求項88に記載の方法。
- 前記歪み半導体チャネル材料が、前記基板上に設けられかつ該基板と接触しており、当該基板が、本質的にシリコンからなる、請求項88に記載の方法。
- 前記歪み半導体チャネル材料が、緩和シリコンと接触して設けられている、請求項88に記載の方法。
- 前記半導体チャネル材料が、前記基板半導体材料と同じである、請求項82に記載の方法。
- 前記基板が、前記歪み半導体チャネル材料の歪みを実質的に導入しない、請求項82に記載の方法。
- 前記基板が、本質的にシリコンからなる、請求項82に記載の方法。
- 前記第1のゲートおよび前記第2のゲートの少なくとも一方が、本質的に、ドープされた金属半導体合金からなる、請求項82に記載の方法。
- 前記第1のゲートおよび第2のゲートが、本質的に、ドープされた金属半導体合金からなる、請求項82に記載の方法。
- 前記金属半導体合金の金属が、ニッケルを含む、請求項96に記載の方法。
- 前記金属が、本質的にニッケルからなる、請求項97に記載の方法。
- 前記第1のソース、前記第1のドレイン、前記第2のソースおよび前記第2のドレインの少なくとも1つが、第2の半導体材料を含む、請求項82に記載の方法。
- 前記第2の半導体材料が、歪みSiGeを含む、請求項99に記載の方法。
- 前記第2の半導体材料が、緩和SiGeを含む、請求項99に記載の方法。
- 前記第1のゲート誘電体層および前記第2のゲート誘電体層の少なくとも1つが、高誘電率誘電体材料を含む、請求項82に記載の方法。
- 前記第1のゲート誘電体材料および前記第2のゲート誘電体材料の両方が、高誘電率(high-k)誘電体材料を含む、請求項102に記載の方法。
- 活性化アニールを実施して、前記n型ドーパントおよびp型ドーパントの少なくとも一方で活性化させることをさらに含む、請求項82に記載の方法。
- 前記活性化アニールが、フラッシュランプアニールおよびレーザアニールの少なくとも一方を含む、請求項104に記載の方法。
- 前記基板上に歪み層を設けることをさらに含む、請求項82に記載の方法。
- 前記歪み層が、ゲルマニウムを含む、請求項106に記載の方法。
- 前記歪み層が、本質的にSiGeからなる、請求項107に記載の方法。
- 前記歪み層が、化学蒸着によって形成される、請求項108に記載の方法。
- 前記化学蒸着を、シングルウェハ反応器内でゲルマン前駆体を用いて行う、請求項109に記載の方法。
- 前記第1のソース、前記第1のドレイン、前記第2のソースおよび前記第2のドレインの各領域の少なくとも1つが、SiGeを含むエクステンションを有している、請求項82に記載の方法。
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