JP2006338747A - 強誘電体記憶装置 - Google Patents

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邦吏 山岡
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Abstract

【課題】ノーマルセルから読み出したデータの電位をリファレンスセルのリファレンスレベルと比較して、その読み出しデータが”H”データか”L”データかを判別する強誘電体記憶装置において、ノーマルセルからのデータの読み出し時には、前記リファレンスレベルを常に所定の一定レベルに保持する。
【解決手段】最初にノーマルセルからデータを読み出す際には、リファレンスセルがリラクゼーション状態にあるため、そのノーマルセルからデータを読み出す前に、リファレンスセルをリセットする。その後、そのノーマルセルからデータを読み出し、次いでリファレンスセルをリセットする。他のアドレスのノーマルセルから2回目以降のデータを読み出す際には、リファレンスセルがリセット状態にあるので、最初と第2回目以降とではリファレンスレベルは同一である。
【選択図】図1

Description

本発明は強誘電体記憶装置に関し、特に、リファレンスレベルの発生技術に関するものである。
近年、強誘電体記憶装置は、製造プロセスの微細化と大容量化とに伴って、現状の2トランジスタ2強誘電体キャパシタ型のメモリセルから、メモリセルサイズを縮小することができる1トランジスタ1強誘電体キャパシタ型のメモリセルが採用されている。1トランジスタ1強誘電体キャパシタ型は、通常のメモリセル(以下、ノーマルセルという)に加えて、リファレンスセルを必要とし、高信頼性を実現するためには、リファレンスレベルの発生技術が重要となってきている。強誘電体記憶装置におけるリファレンスレベル発生技術としては、従来、特許文献1に記載された技術がある。
以下、前記特許文献1に記載された従来の強誘電体記憶装置について、図面を参照しながら説明する。
図3はリセット状態及びリラクゼーション状態のノーマルセル及びリファレンスセルからデータを読み出す時のヒステリシス曲線上の軌跡と、“H”レベル、“L”レベル及びリファレンスレベルの関係を示す図、図8は従来の強誘電体記憶装置のメモリアレイ構成図、図9は従来の強誘電体記憶装置の動作タイミングチャート、図10は従来の強誘電体記憶装置のノーマルセルとリファレンスセルとの物理配置イメージと動作概略を示す図である。
従来の強誘電体記憶装置について、以下、図3、図8〜図10を参照しながら説明する。
図3において、(a)はリセット状態のメモリセル及びリファレンスセルの“H”データと“L”データとを読み出す時の状態を示したものであり、同図(b)はリラクゼーション状態にあるメモリセル及びリファレンスセルの“H”データと“L”データとを読み出す時の状態を示したものであり、同図(c)はリセット状態のリファレンスセルからデータを読み出してリファレンスレベルを発生した時の“H”レベル、“L”レベル及びリファレンスレベルの関係を示したものであり、同図(d)はリラクゼーション状態にあるリファレンスセルからデータを読み出してリファレンスレベルを発生した時の“H”レベル、“L”レベル及びリファレンスレベルの関係を示したものである。
図8において、BPはビット線プリチャージ信号、SAEはセンスアンプ起動信号、WL1〜WLnは第1〜第nのワード線、CP1〜CPnは第1〜第nのセルプレート線、RWL1、RWL2は第1及び第2のリファレンスワード線、RCP1、RCP2は第1及び第2のリファレンスセルプレート線、REQ1、REQ2は第1及び第2のリファレンスイコライズ信号、RDINは“H”データリセットデータ、XRDINは“L”データリセットデータ、RSTはリファレンスリセット信号、BL1〜BL8m(m:整数)は第1〜第8mのビット線、11はセルプレートドライバー回路、12はリファレンスセル制御回路、13はセンスアンプ及びビット線プリチャージ制御回路、14はセンスアンプ及びビット線プリチャージ回路、15は周辺回路、16はロウデコーダ回路、17は8ビットのノーマルセルアレイ、18は8ビット線分のリファレンスセル、T1〜T7は第1〜第7のMOSトランジスタ、C1〜C4は第1〜第4の強誘電体キャパシタである。
前記第1のMOSトランジスタT1のゲートが第1のワード線WL1に接続され、そのドレインが第1のビット線BL1に接続され、そのソースが第1の強誘電体キャパシタC1の第1の電極に接続され、第1の強誘電体キャパシタC1の第2の電極が第1のセルプレート線CP1に接続され、第2のMOSトランジスタT2のゲートが第1のワード線WL1に接続され、そのドレインが第4のビット線BL4に接続され、そのソースが第2の強誘電体キャパシタC2の第1の電極に接続され、第2の強誘電体キャパシタC2の第2の電極が第1のセルプレート線CP1に接続されている。また、第5のMOSトランジスタT5のゲートが第1のリファレンスイコライズ信号REQ1に、そのドレインが第2のビット線BL2に、そのソースが第3のビット線BL3に接続され、第6のMOSトランジスタT6のゲートがリファレンスリセット信号RSTに、そのドレインが第3の強誘電体キャパシタC3の第1の電極に、そのソースが“L”データリセットデータXRDINに、第3の強誘電体キャパシタC3の第2の電極が第1のリファレンスセルプレート線RCP1に接続され、第7のMOSトランジスタT7のゲートがリファレンスリセット信号RSTに、そのドレインが第4の強誘電体キャパシタC4の第1の電極に、そのソースが“H”データリセットデータRDINに、第4の強誘電体キャパシタC4の第2の電極が第1のリファレンスセルプレート線RCP1に接続されている。
図9において、BPはビット線プリチャージ信号、WL1は第1のワード線、CP1は第1のセルプレート線、REQ1は第1のリファレンスイコライズ信号、RWL1は第1のリファレンスワード線、RCP1は第1のリファレンスセルプレート線、SAEはセンスアンプ起動信号、BL1〜BL4は第1〜第4のビット線である。
図10は、ノーマルセル及びリファレンスセルの物理的な配置イメージを示すと共に、1つのアドレスでアクセスされるノーマルセルとリファレンスセルの単位を枠内で示したものである。同図(a)は、ノーマルセル及びリファレンスセル共に全てリラクゼーション状態にあることを黒丸で示している。同図(b)は、ノーマルセルの特定アドレスをアクセスした後のノーマルセル(斜線で示した部分)とリファレンスセルとの状態を示したものであり、リラクゼーション状態にあるセルを図中黒丸で、アクセスされてリセット状態にあるセルを図中白丸で示している。
従来の強誘電体記憶装置について、(8×n×m)個のノーマルセルと(8×2×m)個のリファレンスセルとで構成される場合に、第1の強誘電体キャパシタC1及び第4の強誘電体キャパシタC4に“H”データが保持され、第2の強誘電体キャパシタC2及び第3の強誘電体キャパシタC3に“L”データが保持され、ノーマルセルとリファレンスセルがリセット状態にある場合を例として説明する。すなわち、図3(a)のように、リセット状態では、“H”データは点Aの状態に、“L”データは点Eの状態にある。
従来の強誘電体記憶装置では、先ず、図9のタイミングt01でビット線プリチャージ信号BPを“L”にすることにより、第1〜第8mの全てのビット線BL1〜BL8mがフローティング状態になる。その後、図9のタイミングt02で第1のリファレンスイコライズ信号REQ1を、タイミングt03で第1のワード線WL1と第1のリファレンスワード線RWL1とを、タイミングt04で第1のセルプレート線CP1と第1のリファレンスセルプレート線RCP1とを“H”レベルにして、図8の第1の強誘電体キャパシタC1と第4の強誘電体キャパシタC4とから“H”データを、第2の強誘電体キャパシタC2と第3の強誘電体キャパシタC3とから“L”データを読み出す。そうすると、“H”データは図3(a)の点Aの状態から点Bの状態へ、“L”データは点Eの状態から点Dの状態になり、第1のビット線BL1に“H”データが、第4のビット線BL4に“L”データが、第2のビット線BL2と第3のビット線BL3とにリファレンスレベルが読み出される。点Mと点B及び点Nと点Dを結ぶ直線の傾きは、ビット線容量に等しい。リファレンスレベルの発生方式として、図8の第5のMOSトランジスタT5によって2個のリファレンスセル(即ち、強誘電体キャパシタC3及びC4)をイコライズしながら、リファレンスセルからデータを読み出す方式であり、“H”データの強誘電体容量(図3(a)の点Bの接線Csh1)と“L”データの強誘電体容量(図3(a)の点Dの接線Csl1)とが異なる部分(Csh1>Csl1)でイコライズする関係上、図3(b)のように、リファレンスレベルを“H”レベルと“L”レベルとの真中に設定するためには、“L”データを保持するリファレンスセルの個数xを“H”データを保持するリファレンスセルの個数yよりも多くする必要がある。
その後、図9のタイミングt05で第1のセルプレート線CP1と第1のリファレンスセルプレート線RCP1とを、タイミングt06で第1のリファレンスワード線RWL1を、タイミングt07で第1のリファレンスイコライズ信号REQ1を“L”にして、タイミングt09でセンスアンプ(図示せず)により読み出しデータを増幅する。
タイミングt10で第1のセルプレート線CP1と第1のリファレンスセルプレート線RCP1とを“H”にすることにより、ノーマルセル及びリファレンスセルへの“L”データの再書き込み(リセット)が実施され、タイミングt11で第1のリファレンスセルプレート線RCP1を“L”にすることにより、リファレンスセルへの“H”データの再書き込みが実施され、タイミングt12で第1のセルプレート線CP1を“L”にすることにより、ノーマルセルへの“H”データの再書き込み(リセット)が実施される。最後に、タイミングt14でビット線プリチャージ信号BPを“H”に、センスアンプ起動信号SAEを“L”に、タイミングt16で第1のワード線WL1を“L”にすることにより、動作が終了する。
次に、従来の強誘電体記憶装置において、ノーマルセル及びリファレンスセルが各々への書き込み動作の後にデータ保存され、リラクゼーション状態になった場合について説明する。
ノーマルセル及びリファレンスセルの“H”データは図3(b)の点Pの状態に、“L”データは図3(b)の点Qの状態にある。ノーマルセル及びリファレンスセルからデータを読み出すと、“H”データは点Pの状態から点Gの状態に、“L”データは点Qの状態から点Jの状態になり、点Gの接線Csh2と点Jの接線Csl2との強誘電体容量に応じた電荷が読み出され、図8の第1〜第8mの全てのビット線BL1〜BL8mをイコライズすることにより、リファレンスレベルが発生される。リラクゼーション状態では、点Gにおける接点Csh2<点Bにおける接点Csh1、点Jにおける接点Csl2>点Dにおける接点Csl1であること、及び、“L”データを保持するリファレンスセルの個数xを“H”データを保持するリファレンスセルの個数yよりも多くしていることにより、リファレンスレベルは、図3(d)のように、リラクゼーションした“H”レベルと“L”レベルとの真中(点線で示した部分)よりも“H”データ側にシフトしたレベルとなる。ちなみに、“H”データの個数yと“L”データの個数xとが等しい場合には、リラクゼーションした”H”レベルと“L”レベルとの真中(点線で示した部分)となる。
特開2004−55007号公報
しかしながら、前記従来の強誘電体記憶装置では、ノーマルセルからのデータの読み出しについて、最初の読み出しと2番目以降の読み出しとでは、リファレンスレベルが異なるという課題があった。以下、この様子を詳述する。
すなわち、前記従来の強誘電体記憶装置について、ノーマルセル及びリファレンスセルの全てが書き込み後に保存されてリラクゼーション状態にある時の動作について図9を用いて説明すると、ある任意のアドレスのデータを読み出すときは、図3(d)のようにリラクゼーションしたノーマルセルの“H”レベルと“L”レベル、及びリファレンスレベルの関係で読み出しが実施される。
しかし、その読み出しが終了した後は、そのデータ読み出しをしたノーマルセル、及びリファレンスセルは、共に、リセット状態に戻る。このため、次のあるアドレスのノーマルセルからデータを読み出す時には、そのデータ読み出しするノーマルセルの“H”レベルと“L”レベルとは、図3(d)のようになる一方、リファレンスレベルは、図3(c)のようになって、図3(d)に示した位置関係のリファレンスレベルとはならず、リラクゼーション状態にある“H”レベルと“L”レベルのほぼ真中に設定されることになる。その結果、図3(d)のような1番目に読み出しが実施されるノーマルセルの“H”レベル、“L”レベル及びリファレンスレベルの関係と、2番目以降に読み出しが実施されるノーマルセルの“H”レベル、“L”レベル及びリファレンスレベルの関係が異なってしまう欠点があった。
本発明は、前記の課題に着目し、その目的は、最初と2回目以降のデータ読み出し時には、常にリファレンスレベルを同一レベルに設定することにある。
前記目的を達成するために、本発明では、最初のデータ読み出し時のリファレンスセルはリラクゼーション状態にあり、一方、2回目以降のデータ読み出し時のリファレンスセルはリセット状態にある点に着目し、常にリセット状態のリファレンスセルに基づいてリファレンスレベルを設定する。
すなわち、請求項1記載の発明の強誘電体記憶装置は、多数の強誘電体記憶素子で構成されたノーマルセルと、リファレンスセルと、前記多数のノーマルセルのうち1個のノーマルセルのデータを読み出すとき、前記ファレンスセルのリファレンスレベルを読み出す制御回路と、前記ノーマルセルから読み出されたデータの電位と前記リファレンスセルのリファレンスレベルとの電位差を増幅するセンスアンプとを備えた強誘電体記憶装置において、前記制御回路は、前記リファレンスレベルを、前記リファレンスセルに高電位側データが保持されたときと低電位側データが保持されたときとの間の読み出し電位差が前記リファレンスセルの状態に応じて最大となる場合の前記高電位側データと前記低電位側データの両電位の間の電位であって、且つ、前記センスアンプの感度以上の所定の電位、に設定することを特徴とする。
請求項2記載の発明は、前記請求項1記載の強誘電体記憶装置において、前記リファレンスセルは複数個備えられ、前記制御回路は、前記複数のリファレンスセルのうち2個以上のリファレンスセルをイコライズして、リファレンスレベルを発生することを特徴とする。
請求項3記載の発明は、前記請求項2記載の強誘電体記憶装置において、前記制御回路は、高電位側データを保持するリファレンスセルの個数と、低電位側データを保持するリファレンスセルの個数との個数比を変化させて、リファレンスレベルを変化させることを特徴とする。
請求項4記載の発明は、前記請求項3記載の強誘電体記憶装置において、前記高電位側データを保持するリファレンスセルの個数と前記低電位側データを保持するリファレンスセルの個数との個数比は、誘電体記憶素子以外の不揮発性メモリ若しくはラッチ回路に記憶され、又は物理ヒューズ若しくは電気ヒューズにより設定されることを特徴とする。
請求項5記載の発明は、前記請求項2記載の強誘電体記憶装置において、前記制御回路は、前記多数のノーマルセルのうち1個以上のノーマルセルをアクセスする前に、前記全てのリファレンスセルをリセットすることを特徴とする。
請求項6記載の発明は、前記請求項5記載の強誘電体記憶装置において、前記制御回路は、前記ノーマルセルのアクセス前での前記全てのリファレンスセルのリセットに際し、そのリセット時間を、前記ノーマルセルに対するデータ書き込み時間よりも短く設定することを特徴とする。
請求項7記載の発明は、前記請求項6記載の強誘電体記憶装置において、前記制御回路は、前記ノーマルセルをアクセスした後に、前記リファレンスセルにデータを再書き込みしないことを特徴とする。
請求項8記載の発明は、前記請求項6記載の強誘電体記憶装置において、前記制御回路は、前記ノーマルセルをアクセスした後に、前記リファレンスセルにデータを再書き込みすることを特徴とする。
請求項9記載の発明は、前記請求項1〜8の何れか1項に記載の強誘電体記憶装置において、前記リファレンスセルは、常誘電体キャパシタで構成されることを特徴とする。
以上により、請求項1〜9記載の発明の強誘電体記憶装置では、ノーマルセルからの最初と第2回目以降とのデータ読み出し時には、リファレンスセルのリファレンスレベルが同一レベル、例えばノーマルセル(強誘電体素子)のリセット状態でのリファレンスレベルに統一される。従って、最初と第2回目以降のデータ読み出し時には、その読み出しデータは常に同一レベルのリファレンスレベルを基準に、H又はLデータとして読み出される。
特に、請求項6記載の発明では、ノーマルセルへのデータ書き込みに関しては、リテンションを考慮して強誘電体キャパシタへの電圧印加時間を設定する必要があるが、リファレンスセルのリセットがノーマルセルへのアクセス前に行われる関係上、リファレンスセルに対する電圧印加時間は、そのリファレンスセルの強誘電体キャパシタをリセットできる最小限の電圧印加時間に設定することができる。従って、ノーマルセルの強誘電体キャパシタへの電圧印加時間よりも短く設定することができるので、複数個のノーマルセルに1個のリファレンスセルが対応する構成の場合であっても、リファレンスセルの総合ストレス印加時間をノーマルセルの総合ストレス印加時間と同等にすることが可能である。
以上説明したように、請求項1〜9記載の発明の強誘電体記憶装置によれば、最初に読み出しが実施されるノーマルセルと、2番目以降に読み出しが実施されるノーマルセルについて、リファレンスレベルが全て同一レベルにできるので、最初及び2番目以降のデータ読み出しを正確に行うことができる。
特に、請求項6記載の発明では、リファレンスセルへのストレス印加時間をノーマルセルとほぼ同等にできるので、リファレンスセルの信頼性の向上を図る事が可能である。
以下、本発明の実施形態の強誘電体記憶装置について、図面を参照しながら説明する。
(第1の実施形態)
以下、本発明の第1の実施形態の強誘電体記憶装置を説明する。
図1は本発明の第1の実施形態のメモリアレイ構成図、図2は本発明の第1の実施形態の動作タイミングチャート、図3はリセット状態及びリラクゼーション状態のノーマルセル(強誘電体記憶素子)、リファレンスセルからデータを読み出す時のヒステリシス曲線上の軌跡と、“H”レベル、“L”レベル及びリファレンスレベルの関係とを示す図、図5は本実施形態のリラクゼーション状態のノーマルセル及びリファレンスセルをリセットする時のヒステリシス曲線上の軌跡を示す図、図6は本実施形態のリファレンスセルをリセットする時のヒステリシス曲線上の軌跡を示す図、図7は本実施形態のノーマルセルとリファレンスセルとの物理配置イメージと動作概略とを示す図である。
先ず、本実施形態の強誘電体記憶装置について、図1〜図3及び図5〜図7を参照しながら説明する。
図1において、BPはビット線プリチャージ信号、SAEはセンスアンプ起動信号、WL1〜WLnは第1〜第nのワード線、CP1〜CPnは第1〜第nのセルプレート線、RWL1、RWL2は第1及び第2のリファレンスワード線、RCP1、RCP2は第1及び第2のリファレンスセルプレート線、REQ1、REQ2は第1及び第2のリファレンスイコライズ信号、RDINは“H”データリセットデータ、XRDINは“L”データリセットデータ、RSTはリファレンスリセット信号、BL1〜BL8m(m:整数)は第1〜第8mのビット線、11はセルプレートドライバー回路、12はリファレンスセル制御回路、13はセンスアンプ及びビット線プリチャージ制御回路、14はセンスアンプ及びビット線プリチャージ回路、15は周辺回路、16はロウデコーダ回路、17は8ビットのノーマルセルアレイ、18は8ビット線分のリファレンスセルである。前記リファレンスセル制御回路12とロウデコーダ回路16とにより、多数のリファレンスセル17のリファレンスレベルを読み出す制御回路を構成する。
また、T1〜T7は第1〜第7のMOSトランジスタ、C1〜C4は第1〜第4の強誘電体キャパシタであり、第1のMOSトランジスタT1のゲートが第1のワード線WL1に接続され、そのドレインが第1のビット線BL1に接続され、そのソースが第1の強誘電体キャパシタC1の第1の電極に接続され、第1の強誘電体キャパシタC1の第2の電極が第1のセルプレート線CP1に接続され、第2のMOSトランジスタT2のゲートが第1のワード線WL1に接続され、そのドレインが第4のビット線BL4に接続され、そのソースが第2の強誘電体キャパシタC2の第1の電極に接続され、第2の強誘電体キャパシタC2の第2の電極が第1のセルプレート線CP1に接続されている。
また、第5のMOSトランジスタT5のゲートが第1のリファレンスイコライズ信号REQ1に、そのドレインが第2のビット線BL2に、そのソースが第3のビット線BL3に接続され、第6のMOSトランジスタT6のゲートがリファレンスリセット信号RSTに、そのドレインが第3の強誘電体キャパシタC3の第1の電極に、そのソースが“L”データリセットデータに、第3の強誘電体キャパシタC3の第2の電極が第1のリファレンスセルプレート線RCP1に接続され、第7のMOSトランジスタT7のゲートがリファレンスリセット信号RSTに、そのドレインが第4の強誘電体キャパシタC4の第1の電極に、そのソースが“H”データリセットデータに、第4の強誘電体キャパシタC4の第2の電極が第1のリファレンスセルプレート線RCP1に接続されている。また、第8のMOSトランジスタT8のゲートが第1のリファレンスイコライズ信号REQ1に、そのドレインが第5のMOSトランジスタT5のソース(即ち、第3のビット線BL3)に接続され、そのソースが他の第5のMOSトランジスタT5のドレイン(即ち、第6のビット線BL6)に接続される。第2のリファレンスイコライズ信号REQ2の系統にも、第5のMOSトランジスタT5と同様の第9のMOSトランジスタT9と、第8のMOSトランジスタT8と同様の第10のMOSトランジスタT10とが配置される。
更に、図2において、BPはビット線プリチャージ信号、SAEはセンスアンプ起動信号、WL1は第1のワード線、CP1は第1のセルプレート線、RWL1は第1のリファレンスワード線、RCP1は第1のリファレンスセルプレート線、REQ1、REQ2は第1及び第2のリファレンスイコライズ信号、RDINは“H”データリセットデータ、XRDINは“L”データリセットデータ、RSTはリファレンスリセット信号、BL1〜BL4は第1〜第4のビット線である。
図3において、同図(a)はノーマルセル及びリファレンスセルのリセット状態にある“H”データ(高電位側データ)及び“L”データ(低電位側データ)を読み出す時のヒステリシス曲線上の軌跡を示した図、同図(b)はノーマルセル及びリファレンスセルがリラクゼーション状態にある際に“H”データと“L”データとを読み出す場合のヒステリシス曲線上の軌跡を示した図であり、各図において、横軸は電圧を、縦軸は分極電荷量を表している。同図(c)はノーマルセル及びリファレンスセルがリセット状態にある際に“H”データと“L”データとを読み出した場合の“H”レベル、“L”レベルとリファレンスレベルとの関係を示した図、同図(d)はノーマルセル及びリファレンスセルが共にリラクゼーション状態にある際に“H”データ及び“L”データを読み出した時の“H”レベル、“L”レベルとリファレンスレベルとの関係を示した図であり、各図において、横軸は時間を、縦軸は電圧を表している。
本実施形態の強誘電体記憶装置について、(8×n×m)個のノーマルセルと(8×2×m)個のリファレンスセルとで構成される場合に、第1の強誘電体キャパシタC1と第4の強誘電体キャパシタC4とに“H”データが保持され、第2の強誘電体キャパシタC2と第3の強誘電体キャパシタC3とに“L”データが保持され、ノーマルセルとリファレンスセルにデータが書き込まれた後に保存されて、リラクゼーション状態にある場合を例として説明する。すなわち、図3(b)のようにリセット状態で点Aの状態にある“H”データは点Pの状態に、リセット状態で点Eの状態にある“L”データは点Qの状態にあり、図7(a)に示したように、ノーマルセル及びリファレンスセルは、全てリラクゼーション状態にある。
本実施形態の強誘電体記憶装置では、先ず、図2のタイミングt01でビット線プリチャージ信号BPを“L”にすることにより、図1の第1〜第8mの全てのビット線BL1〜BL8mがフローティング状態になる。その後、図1のタイミングt02で“H”データリセットデータRDINを、タイミングt03でリファレンスリセット信号RSTを、タイミングt04で第1のリファレンスセルプレート線RCP1を“H”にすることにより、リファレンスセルの“L”データをリセットし、タイミングt05で第1のリファレンスセルプレート線RCP1を“L”にすることにより、リファレンスセルの“H”データをリセットする。すなわち、図5の点Pの状態にある“H”データは点Fを経由して点Aの状態になり、“L”データは点Jから点Cを経由して点Eの状態にリセットされ、図7(b)に示したように、ノーマルセルはリラクゼーション状態(黒丸で示す)、リファレンスセルはリセット状態(白丸で示す)になる。
次に、図7(b)の斜線で示した部分のノーマルセルをアクセスするに際し、タイミングt08で第1のリファレンスイコライズ信号REQ1を、タイミングt09で第1のワード線WL1と第1のリファレンスワード線RWL1とを、タイミングt10で第1のセルプレート線CP1と第1のリファレンスセルプレート線RCP1とを“H”レベルにして、図1の第1の強誘電体キャパシタC1と第4の強誘電体キャパシタC4とから“H”データを、第2の強誘電体キャパシタC2と第3の強誘電体キャパシタC3とから“L”データを各々読み出す。そうすると、“H”データは図3(b)の点Pの状態から点Gの状態へ、“L”データは点Qの状態から点Jの状態になり、第1のビット線BL1に“H”データが、第4のビット線BL4に“L”データが、第2のビット線BL2と第3のビット線BL3とにリファレンスレベルが読み出される。点Rと点G及び点Sと点Jを結ぶ直線の傾きはビット線容量に等しい。
リファレンスレベル発生方式は、図1に内部構成を示した1個のリファレンスセル18内において、第5及び第8のMOSトランジスタT5、T8によって4個のリファレンスセル(強誘電体キャパシタC3及びC4)をイコライズしながら、リファレンスセルからデータを読み出して、1つのリファレンスレベルを4本のビット線BL2、BL3、BL6、BL7に共通に出力し、合計m個のリファレンスセル18では、4m個のリファレンスセル(強誘電体キャパシタC3及びC4)をイコライズして、1つのリファレンスレベルを4m本のビット線に共通に出力する方式である。
ここで、“H”データの強誘電体容量(図3(b)の点Gの接線Csh2)と“L”データの強誘電体容量(図3(b)の点Jの接線Csl2)とが異なる部分(Csh2>Csl2)でイコライズすること、及び、リファレンスセルの“H”データの強誘電体容量がリセット状態にある場合(図3(a)の点Bの接線Csh1)よりも小さく(Csh2<Csh1)、また、リファレンスセルの“L”データの強誘電体容量がリセット状態にある場合(図3(a)の点Dの接線Csl1)よりも大きく(Csl2>Csl1)なる関係上、図3(d)のようにリファレンスレベルを“H”レベルと“L”レベルとの真中(点線部分)にするためには、リファレンスセルがリセット状態にある場合よりも、“L”データを保持するリファレンスセルの個数xを多くしなければならない。“H”データ及び“L”データを保持するリファレンスセルの各個数y、xは、“H”データと“L”データとの電位差がワースト(最大)となる場合に、その“H”データと“L”データとの間の電位であって且つセンスアンプの感度以上の所定の電位となる最適な電位ポイントに設定する。
その後、図2のタイミングt12で第1のセルプレート線CP1と第1のリファレンスセルプレート線RCP1とを、タイミングt13で第1のリファレンスワード線RWL1を、タイミングt14で第1のリファレンスイコライズ信号REQ1を“L”にして、タイミングt16でセンスアンプ(図示せず)により読み出しデータを増幅する。タイミングt17で第1のセルプレート線CP1を“H”にすることにより、ノーマルセルへの“L”データの再書き込み(リセット)が実施され、タイミングt19で第1のセルプレート線CP1を“L”にすることにより、ノーマルセルへの“H”データの再書き込みが実施される。
最後に、タイミングt21でセンスアンプ起動信号SAEを“L”に、ビット線プリチャージ信号BPを“H”に、タイミングt23で第1のワード線WL1を“L”にすることにより、動作が終了する。
本実施形態の強誘電体記憶装置では、ノーマルセルについては、データを書き込む際、リテンションを考慮して強誘電体キャパシタへの電圧印加時間を設定すべきである。しかし、リファレンスセルについては、ノーマルセルにアクセスする前にリセットするので、リファレンスセルの強誘電体キャパシタがリセットできる電圧印加時間に設定することができる。そのため、ノーマルセルの強誘電体キャパシタへの電圧印加時間よりも短くすることができる。この詳細を、図2の動作タイミングチャートと図6のヒステリシス曲線とを用いて以下に説明する。
すなわち、ノーマルセルについては、リテンションを考慮して“H”データから“L”データに書き換える際は、図2の期間t17−t19間で、図6の点Aの状態から点Cの状態を経由して点Eの状態になる。また、“L”データから“H”データに書き換える時は、図2の期間t19−t21間で、図6の点Eの状態から点Fの状態を経由して点Aの状態になる。
一方、図2のタイミングt04でリセットする時のリファレンスセルの状態は、前回の読み出しサイクルにおけるノーマルセルの読み出しデータに依存する。すなわち、ノーマルセルの読み出しデータが“H”データの時は、リファレンスセルは“L”データに増幅された後に、リファレンスセルの強誘電体キャパシタへの印加電圧が0Vになるために、図6の点Eの状態にある。逆に、ノーマルセルの読み出しデータが“L”データの時は、リファレンスセルは“H”データに増幅された後に、リファレンスセルの強誘電体キャパシタへの印加電圧が0Vになるために、図6の点Aの状態にある。リファレンスセルのリセット時間の最大値は、“H”データにリセットされるリファレンスセルが“L”の状態にある場合と、その反対に、“L”データにリセットされるリファレンスセルが“H”の状態にある場合である。その状態で、リファレンスセルの書き換え時間を図2の期間t04−t05間のようにノーマルセルよりも短くした場合には、“H”の状態から“L”の状態にリセットするときは、図6の点Aの状態から点C’の状態を経由して点E’の状態に、一方、“L”の状態から“H”の状態にリセットするときは、図6の点Eの状態から点F’の状態を経由して点A’の状態になる。点A’の状態と点E’の状態とからリファレンスセルの読み出しが実施され、イコライズ時のリファレンスセルの強誘電体容量値は、図6の点B’の接線Csh3’と点D’の接線Csl3’となる。この接線Csh3’と接線Csl3’とは、リファレンスセルのリセット時間がノーマルセルのリセット時間と同じ場合の点Bの接線Csh3及び点Dの接線Csl3と比較して、Csh3’<Csh3、Csl3’>Csl3であって、“L”データの容量値の方が大きいため、“L”データを保持するリファレンスセルの個数xをノーマルセルのリセット時間と同じ場合よりも多くする必要がある。
以上のように、本施形態の強誘電体記憶装置では、複数のリファレンスセルをイコライズしてリファレンスレベルを発生する場合、リラクゼーション状態にあるノーマルセルの全てに対して常にリセットされた同じリファレンスレベルを用いてデータを読み出すことができると共に、リファレンスセルの強誘電体キャパシタへの電圧印加時間をノーマルセルよりも2桁くらい短くすることができるので、リファレンスセルの強誘電体キャパシタへのストレスをノーマルセルの強誘電体キャパシタへのストレスと同等にすることが可能である。
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態の強誘電体記憶装置について、図面を参照しながら説明する。
図4は本発明の第2の実施形態の動作タイミングチャート、図6は本実施形態のリファレンスセルをリセットする時のヒステリシス曲線上の軌跡を示す図である。
本実施形態の強誘電体記憶装置について、図4及び図6を参照しながら説明する。本実施形態が前記第1の実施形態と異なる点は、図4の期間t17−t18間に第1のリファレンスセルプレート線RCP1は“H”になっている点である。図4のタイミングt14までは、前記第1の実施形態の動作説明と同様であるので、その説明を省略する。
以下、本実施形態が前記第1の実施形態と異なる動作について説明する。図4のタイミングt15で“H”データリセットデータRDINを、タイミングt16でリファレンスリセット信号RSTを、タイミングt17で第1のリファレンスプレート線RCP1を“H”にすることにより、リファレンスセルの“H”データのリセットを実施する。次に、タイミングt18で第1のリファレンスプレート線RCP1を“L”にすることにより、“L”データのリセットが実施される。そして、タイミングt19で“H”データリセットデータRDINを、タイミングt20でリファレンスリセット信号RSTを“L”にすることにより、リファレンスセルへのリセットを終了する。
その時、前記第1の実施形態と同様に、リファレンスセルのリセット時間がノーマルセルよりも短いので、リセット終了時には、リファレンスセルの“H”データは図6の点A’の状態に、“L”データは図6の点E’の状態にある。その状態から、次の読み出しサイクルの図4の期間t02−t07間のタイミングで実施されるリファレンスセルのリセット動作では、図6の点A’の状態にある”H“データは点Fの状態を経由して点Aの状態に、点E’の状態にある“L”データは点Cの状態を経由して点Eの状態になる。
以上のように、本実施形態の強誘電体記憶装置では、リセット後のリファレンスセルの“H”データと“L”データとをノーマルセルと同じ状態である図6の点Aの状態と点Eの状態にすることができるので、前記第1の実施形態のようにリファレンスセルのリセット状態がノーマルセルと異なる時と比較して、リファレンスレベルをノーマルセルの“H”データと“L”データとの真中に設定し易くなる。ここで、“H”データと“L”データとのリファレンスセルの個数y、xは、“H”データと“L”データとの電位差がワーストとなる条件で最適なポイントに設定する。
前記第1及び第2の実施形態の強誘電体記憶装置では、“H”データと“L”データとの読み出し電位差がワーストとなる時に、リファレンスレベルが最適値となるように設定される“H”データを保持するリファレンスセルの個数yと“L”データを保持するリファレンスセルの個数xとは、図1のノーマルセル17の一部に保持されていて、ノーマルセル及びリファレンスセルの分布により、最適値を変更することができる。
また、リファレンスレベルが最適化されるリファレンスセルの個数y、xは、強誘電体素子以外の不揮発性メモリやラッチ回路に記憶したり、物理ヒューズ又は電気ヒューズを用いて設定しても良い。これ等の場合には、これ等の個数y、xをノーマルセルの強誘電体キャパシタに保持するよりもデータの信頼性を向上させることができる。
尚、前記第1及び第2の実施形態において、リファレンスレベルの発生に強誘電体キャパシタではなく、常誘電体キャパシタを使用した場合であっても本発明を適用できるのは勿論であり、同様の効果を得ることができる。
以上説明したように、本発明は、ノーマルセルからのデータ読み出しについて、最初と2番目以降のデータ読み出しとでリファレンスレベルを同一レベルにして、データ読み出しを常に正確に行うことができるので、低電圧で且つ高信頼性が要求される強誘電体記憶装置等として有用である。
本発明の第1及び第2の実施形態の強誘電体記憶装置が備えるメモリアレイの構成を示す図である。 本発明の第1の実施形態の動作タイミングチャート図である。 (a)及び(b)はノーマルセル及びリファレンスセルからデータを読み出す時のヒステリシス曲線上の軌跡を示し、(a)はリセット状態の場合を示す図、(b)はリラクゼーション状態の場合を示す図である。(c)及び(d)はノーマルセル及びリファレンスセルからデータを読み出す時の“H”レベル、“L”レベル及びリファレンスレベルの関係を示し、(c)はリセット状態の場合を示す図、(d)はリラクゼーション状態の場合を示す図である。 本発明の第2の実施形態の動作タイミングチャート図である。 本発明の第1及び第2の実施形態において、リラクゼーション状態のノーマルセル及びリファレンスセルをリセットする時のヒステリシス曲線上の軌跡を示す図である。 本発明の第1及び第2の実施形態において、リファレンスセルをリセットする時のヒステリシス曲線上の軌跡を示す図である。 本発明の第1及び第2の実施形態において、ノーマルセル及びリファレンスセルの物理配置のイメージと動作概略とを示し、(a)はノーマルセル及びリファレンスセルの全てがリラクゼーション状態にある場合を示す図、(b)はノーマルセルがリラクゼーション状態にあり且つリファレンスセルがリセット状態にある場合を示す図である。 従来の強誘電体記憶装置のメモリアレイ構成を示す図である。 同従来の強誘電体記憶装置の動作タイミングチャート図である。 従来の強誘電体記憶装置のノーマルセル及びリファレンスセルの物理配置イメージと動作概略とを示し、(a)はノーマルセル及びリファレンスセルの全てがリラクゼーション状態にある場合を示す図、(b)はアクセスされたノーマルセル及び全てのリファレンスセルがリセット状態にあり且つ残りのノーマルセルがリラクゼーション状態にある場合を示す図である。
符号の説明
BP ビット線プリチャージ信号
SAE センスアンプ起動信号
WL1〜WLn 第1〜第nのワード線
CP1〜CPn 第1〜第nのセルプレート線
RWL1〜RWL2 第1及び第2のリファレンスワード線
RCP1〜RCP2 第1及び第2のリファレンスセルプレート線
REQ1〜REQ2 第1及び第2のリファレンスイコライズ信号
RDIN “H”データリセットデータ
XRDIN “L”データリセットデータ
RST リファレンスリセット信号
BL1〜BL8m 第1〜第8mのビット線
11 セルプレートドライバー回路
12 リファレンスセル制御回路(制御回路)
13 センスアンプ及びビット線プリチャージ制御回路
14 センスアンプ及びビット線プリチャージ回路
15 周辺回路
16 ロウデコーダ回路(制御回路)
17 8ビットのノーマルセルアレイ
18 8ビット線分のリファレンスセル
T1〜T7 第1〜第7のMOSトランジスタ
C1〜C4 第1〜第4の強誘電体キャパシタ
Csh1 点Bにおける接線
Csl1 点Dにおける接線
Csh2 点Gにおける接線
Csl2 点Jにおける接線
QH1 点Aの状態にあるデータを読み出す時の電荷量
QL1 点Eの状態にあるデータを読み出す時の電荷量
QH2 点Pの状態にあるデータを読み出す時の電荷量
QL2 点Qの状態にあるデータを読み出す時の電荷量
H1 点Aの状態にあるデータを読み出す時の
近似強誘電体容量値
L1 点Eの状態にあるデータを読み出す時の
近似強誘電体容量値
H2 点Pの状態にあるデータを読み出す時の
近似強誘電体容量値
L2 点Qの状態にあるデータを読み出す時の
近似強誘電体容量値
Csh3 点Bにおける接線
Csl3 点Dにおける接線
Csh3’ 点B’における接線
Csl3’ 点D’における接線

Claims (9)

  1. 多数の強誘電体記憶素子で構成されたノーマルセルと、
    リファレンスセルと、
    前記多数のノーマルセルのうち1個のノーマルセルのデータを読み出すとき、前記ファレンスセルのリファレンスレベルを読み出す制御回路と、
    前記ノーマルセルから読み出されたデータの電位と前記リファレンスセルのリファレンスレベルとの電位差を増幅するセンスアンプとを備えた強誘電体記憶装置において、
    前記制御回路は、
    前記リファレンスレベルを、前記リファレンスセルに高電位側データが保持されたときと低電位側データが保持されたときとの間の読み出し電位差が前記リファレンスセルの状態に応じて最大となる場合の前記高電位側データと前記低電位側データの両電位の間の電位であって、且つ、前記センスアンプの感度以上の所定の電位、に設定する
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  2. 前記請求項1記載の強誘電体記憶装置において、
    前記リファレンスセルは複数個備えられ、
    前記制御回路は、
    前記複数のリファレンスセルのうち2個以上のリファレンスセルをイコライズして、リファレンスレベルを発生する
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  3. 前記請求項2記載の強誘電体記憶装置において、
    前記制御回路は、
    高電位側データを保持するリファレンスセルの個数と、低電位側データを保持するリファレンスセルの個数との個数比を変化させて、リファレンスレベルを変化させる
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  4. 前記請求項3記載の強誘電体記憶装置において、
    前記高電位側データを保持するリファレンスセルの個数と前記低電位側データを保持するリファレンスセルの個数との個数比は、
    誘電体記憶素子以外の不揮発性メモリ若しくはラッチ回路に記憶され、又は物理ヒューズ若しくは電気ヒューズにより設定される
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  5. 前記請求項2記載の強誘電体記憶装置において、
    前記制御回路は、
    前記多数のノーマルセルのうち1個以上のノーマルセルをアクセスする前に、前記全てのリファレンスセルをリセットする
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  6. 前記請求項5記載の強誘電体記憶装置において、
    前記制御回路は、
    前記ノーマルセルのアクセス前での前記全てのリファレンスセルのリセットに際し、そのリセット時間を、前記ノーマルセルに対するデータ書き込み時間よりも短く設定する
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  7. 前記請求項6記載の強誘電体記憶装置において、
    前記制御回路は、
    前記ノーマルセルをアクセスした後に、前記リファレンスセルにデータを再書き込みしない
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  8. 前記請求項6記載の強誘電体記憶装置において、
    前記制御回路は、
    前記ノーマルセルをアクセスした後に、前記リファレンスセルにデータを再書き込みする
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  9. 前記請求項1〜8の何れか1項に記載の強誘電体記憶装置において、
    前記リファレンスセルは、常誘電体キャパシタで構成される
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
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