JP2006337364A - 光学材料の不可逆性放射線損傷測定方法 - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 106
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 82
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 74
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 title claims abstract description 15
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 title description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 72
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 69
- 230000007774 longterm Effects 0.000 claims abstract description 25
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims abstract description 16
- 230000008859 change Effects 0.000 claims abstract description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 59
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 19
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 claims 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 37
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 13
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 10
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 5
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000002189 fluorescence spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052566 spinel group Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010199 LiAl Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020068 MgAl Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000013112 stability test Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/33—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using ultraviolet light
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N2021/1734—Sequential different kinds of measurements; Combining two or more methods
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Resistance To Weather, Investigating Materials By Mechanical Methods (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】永久的放射線損傷を受ける傾向が小さく、かつ高エネルギー密度をもつ紫外線での長期間照射期間中一定の吸収度をもつ光学材料の不可逆的放射線損傷程度の測定方法を、a)試験対象光学材料に対して波長250nm以下の紫外線を照射して波長740nmにおける非固有的蛍光強度を測定する工程と、b)前記光学材料へレーザ光を照射して、照射前後の波長385nmにおける吸収値それぞれの変化を測定する工程と、c)前記光学材料へ高エネルギー放射線源を用いて照射して可能なすべての色中心を形成させ、かつ照射前後の紫外スペクトル域及び/または可視スペクトル域における対応吸収スペクトルのそれぞれの面積分の差を測定する工程から構成する。
【選択図】なし
Description
a)測定対象光学材料へ250nm以下、好ましくは193nmの波長をもつ紫外線を照射して波長740nmにおける非固有的蛍光強度を測定し、
b)前記光学材料へ高エネルギー密度をもつレーザ光を照射して照射前後の波長385nmにおける各吸収値の変化を計測し、及び
c)前記光学材料を高エネルギー放射線源を用いて照射して可能なすべての色中心を形成し、照射前後の紫外スペクトル域及び/または可視スペクトル域における対応吸収スペクトルの各面積分の差を計測する各工程が含まれる。
)、及びMizuguchiら、J.Opt.Soc.Am.B,第16巻、1153頁以降(1999年7月)に記載がある。
実施例1:試験1−193nmでのレーザビーム照射及び740nmでの蛍光測定
エネルギーΔk0がゼロである時の波長193nmにおける初期吸収変化を、それぞれ10mmの長さをもつ別個に生成された6結晶サンプルについて測定した。各サンプルの透過率値を異なるエネルギー密度においてそれぞれ測定し、これら透過率測定値の外挿によってエネルギー密度0mJ/cm2における吸収値を得た。次いでこれらサンプルを約1ギガパルス及び10〜12mJ/cm2のエネルギー密度をもつ作用波長193nmのArFレーザで照射した。前記と同様の方法で照射を行った後、各結晶サンプルについて再度初期吸収を測定した。初期吸収変化はΔk0で与えられている。
実施例2:高エネルギー照射(試験2)による、及びX線(XRD)照射後(試験3)におけるスペクトル特性の測定及び変化
a)ここに記載された試験手順は結晶に対して使用され、LIF評価(試験1)において適すると判断される。別言すれば、試験2及び3において試験された結晶は、試験1における場合と同様に、740nmにおいて殆んどあるいは全く放出帯域をもたないものである。試験手順2及び試験手順3の双方を用いてΔk0を測定するため、照射前に結晶3及び4について試験を実施した。その結果を図2A及び2Bにグラフで示す。図2Aに示すように、結晶3及び4の双方は試験2に従った手順において同等な結果を示したが、試験手順3によって得られた結果では図2Bに示すように結晶3及び4はスペクトルにおいて明らかな相違を示した。
Claims (15)
- a)試験対象光学材料に対して波長250nm以下の紫外線を照射して波長740nmにおける非固有的蛍光強度を測定する工程と、
b)前記光学材料へレーザ光を照射して、照射前後の波長385nmにおける吸収値それぞれの変化を測定する工程と、
c)前記光学材料へ高エネルギー放射線源を用いて照射して可能なすべての色中心を形成させ、かつ照射前後の紫外スペクトル域及び/または可視スペクトル域における対応吸収スペクトルのそれぞれの面積分の差を測定する工程から構成される、
永久的放射線損傷を受ける傾向が少なく、かつ高エネルギー密度をもつ紫外線での長期間照射期間中一定の吸収度をもつ光学材料の不可逆性放射線損傷程度の測定方法。 - 前記250nm以下の波長が193nmであることを特徴とする請求項1項記載の方法。
- 波長740nmにおける非固有的蛍光強度を測定する工程と共に波長285nmにおける固有的蛍光強度も測定し、次いで光学材料の光学品質の尺度となる前記非固有的蛍光強度の前記固有的蛍光強度に対する比を得る工程がさらに含まれることを特徴とする請求項1項記載の方法。
- 急速な可逆性放射線損傷と連携関係にある前記光学材料の吸収状態が飽和されるように、前記工程の実施に先立って前記光学材料を少なくとも3000パルスのレーザを用いて予備照射する工程がさらに含まれることを特徴とする請求項1項記載の方法。
- 前記非固有的蛍光強度の測定が、前記250nm以下の波長での照射終了後の所定の時間間隔内に実施され、及び前記時間間隔が前記蛍光強度減衰時間の80%に相当することを特徴とする請求項1項記載の方法。
- 前記レーザ光が25〜150mJ/cm2の高エネルギー密度をもち、及び/または前記光学材料が3×104〜20×104パルスの前記レーザ光で照射されることを特徴とする請求項1項記載の方法。
- 前記対応吸収スペクトルの面積分それぞれの差が240nm及び300nmの波長限界間で測定されることを特徴とする請求項1項記載の方法。
- 照射前後の265nmにおける吸収それぞれの変化が、光学材料が前記色中心を形成するために高エネルギー放射線源で照射される時に計測されることを特徴とする請求項1項記載の方法。
- 前記高エネルギー放射線源がX線源であることを特徴とする請求項1項記載の方法。
- 前記光学材料がアルカリ金属ハロゲン化物結晶、アルカリ土金属ハロゲン化物結晶、または混晶であることを特徴とする請求項1項記載の方法。
- a)試験対象光学材料に対して250nm以下の波長で紫外線を照射し、波長285nmにおいて固有的蛍光強度を測定し、波長740nmにおいて非固有的蛍光強度を測定し、次いで前記非固有的蛍光強度の前記固有的蛍光強度に対する比を得る工程と、
b)工程a)において得られた前記比が所定の限界値を下回ったならば、前記光学材料へレーザ光を照射し、及び照射前後の波長385nmにおける吸収それぞれの変化を計測する工程と、
c)工程a)において得られた前記比が前記所定の限界値を下回ったならば、前記光学材料に対し高エネルギー放射線源を用いて照射して可能なすべての色中心を形成させ、及び照射前後の紫外スペクトル域及び/または可視スペクトル域における対応吸収スペクトルのそれぞれの面積分の差を計測する工程と、
d)工程b)及びc)における前記差が各限界値を下回った場合に、前記光学材料の永久的放射線損傷がリトグラフィー用光学部品の前記光学材料からの製造にとって十分小さいことを確認する工程から構成される、高放射線密度をもつ紫外線の長期間照射中における光学材料の永久的放射線損傷の測定方法。 - 請求項1項に記載の方法によって得られる光学材料。
- 請求項11項記載の方法によって得られる、リトグラフィー用光学部品製造のための長期間使用中における永久的放射線損傷が十分小さい光学材料。
- 請求項1項記載の方法によって得られる光学材料から製造される、レンズ、プリズム、光導通棒、光学窓、DUVリトグラフィー用光学部品、ステッパ、エキシマレーザ、ウェハー、コンピュータチップ、集積回路、及び前記コンピュータチップあるいは前記集積回路を含む電子装置。
- 請求項11項記載の方法によって得られる光学材料から製造される、レンズ、プリズム、光導通棒、光学窓、DUVリトグラフィー用光学部品、ステッパ、エキシマレーザ、ウェハー、コンピュータチップ、集積回路、及び前記コンピュータチップあるいは前記集積回路を含む電子装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102005024678A DE102005024678B3 (de) | 2005-05-30 | 2005-05-30 | Verfahren zur Bestimmung von irreversiblen Strahlenschäden von optischem Material |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006337364A true JP2006337364A (ja) | 2006-12-14 |
JP4540636B2 JP4540636B2 (ja) | 2010-09-08 |
Family
ID=36794381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006147635A Active JP4540636B2 (ja) | 2005-05-30 | 2006-05-29 | 光学材料の不可逆性放射線損傷測定方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7522270B2 (ja) |
EP (1) | EP1729114B1 (ja) |
JP (1) | JP4540636B2 (ja) |
AT (1) | ATE425449T1 (ja) |
DE (2) | DE102005024678B3 (ja) |
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- 2006-05-25 US US11/440,925 patent/US7522270B2/en active Active
- 2006-05-29 EP EP06011009A patent/EP1729114B1/de active Active
- 2006-05-29 JP JP2006147635A patent/JP4540636B2/ja active Active
- 2006-05-29 AT AT06011009T patent/ATE425449T1/de not_active IP Right Cessation
- 2006-05-29 DE DE502006003059T patent/DE502006003059D1/de not_active Expired - Fee Related
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JP7150373B2 (ja) | 2019-09-18 | 2022-10-11 | ルミアナ ツェンコヴァ | 可視近赤外分光分析装置及び可視近赤外分光分析方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7742156B2 (en) | 2010-06-22 |
US20090159816A1 (en) | 2009-06-25 |
ATE425449T1 (de) | 2009-03-15 |
US7522270B2 (en) | 2009-04-21 |
EP1729114A1 (de) | 2006-12-06 |
EP1729114B1 (de) | 2009-03-11 |
US20060268279A1 (en) | 2006-11-30 |
DE102005024678B3 (de) | 2006-08-31 |
JP4540636B2 (ja) | 2010-09-08 |
DE502006003059D1 (de) | 2009-04-23 |
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JPH0158454B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A601 | Written request for extension of time |
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A602 | Written permission of extension of time |
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A602 | Written permission of extension of time |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
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