JP2006328490A - プラズマ蒸着装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 リング状または円筒状電極と、棒状電極と、高圧電源とを有し、前記リング状または円筒状電極と前記棒状電極との間に前記高圧電源による所定の電圧を印加することによって、前記リング状または円筒状電極と前記棒状電極との間に放電を発生させ、該放電の熱によって蒸着原料を蒸発させてプラズマ化し、該プラズマを対象物に向けて噴出することによって該対象物に対する前記蒸着原料の蒸着を行う。
【選択図】 図1
Description
2 棒電極
3 円筒電極
4 第2の支持部材
5 円筒管
6 ケーシング
7 先端部蓋
8 後端部蓋
10 第1の支持部材
11、12 貫通孔
13 噴出口
14、16 絶縁管
15、17 蒸着原料
18 エアポンプ
19 高圧電源
20 蒸着対象物
21 蒸着層
Claims (5)
- リング状または円筒状電極と、棒状電極と、高圧電源とを有し、前記リング状または円筒状電極と前記棒状電極との間に前記高圧電源による所定の電圧を印加することによって、前記リング状または円筒状電極と前記棒状電極との間に放電を発生させ、該放電の熱によって蒸着原料を蒸発させてプラズマ化し、該プラズマを対象物に向けて噴出することによって該対象物に対する前記蒸着原料の蒸着を行うことを特徴とするプラズマ蒸着装置。
- 前記棒状電極が、前記リング状または円筒状電極の中心軸上の位置に設けられたことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ蒸着装置。
- 請求項1または2に記載のプラズマ蒸着装置を複数備えてなることを特徴とするマルチ型のプラズマ蒸着装置。
- 前記リング状または円筒状電極と該棒状電極との間に放電を発生させたときに該棒状電極の先端を冷却する手段を設けたことを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマ蒸着装置。
- 前記棒状電極が中空の円筒状であり、前記リング状または円筒状電極と該棒状電極との間に放電を発生させたとき、該棒状電極の中空内部にガスを通過させることによって、該棒状電極の先端を冷却することを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマ蒸着装置。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008103141A (ja) * | 2006-10-18 | 2008-05-01 | Tohoku Univ | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
US20140130740A1 (en) * | 2012-11-15 | 2014-05-15 | Industrial Technology Research Institute | Plasma deposition apparatus |
CN104955979A (zh) * | 2013-01-29 | 2015-09-30 | 韩国基础科学支援研究院 | 等离子体辅助物理气相沉积源 |
JP2017126582A (ja) * | 2011-04-14 | 2017-07-20 | エドワーズ リミテッド | プラズマトーチ |
WO2020060025A1 (ko) * | 2018-09-20 | 2020-03-26 | 주식회사 경동냉열산업 | 수처리장치 등에 사용되는 플라즈마 발생장치 |
JP2020057608A (ja) * | 2019-12-02 | 2020-04-09 | アルファ株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマトーチ |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1161383A (ja) * | 1997-08-12 | 1999-03-05 | Ulvac Japan Ltd | 高真空薄膜形成装置 |
JPH11172419A (ja) * | 1997-12-08 | 1999-06-29 | Ulvac Corp | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
JP2004292830A (ja) * | 2003-03-25 | 2004-10-21 | Ulvac Japan Ltd | 同軸型真空アーク蒸着源、それを用いた真空蒸着装置、及び薄膜形成方法 |
-
2005
- 2005-05-27 JP JP2005154901A patent/JP4774510B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1161383A (ja) * | 1997-08-12 | 1999-03-05 | Ulvac Japan Ltd | 高真空薄膜形成装置 |
JPH11172419A (ja) * | 1997-12-08 | 1999-06-29 | Ulvac Corp | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
JP2004292830A (ja) * | 2003-03-25 | 2004-10-21 | Ulvac Japan Ltd | 同軸型真空アーク蒸着源、それを用いた真空蒸着装置、及び薄膜形成方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008103141A (ja) * | 2006-10-18 | 2008-05-01 | Tohoku Univ | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
JP2017126582A (ja) * | 2011-04-14 | 2017-07-20 | エドワーズ リミテッド | プラズマトーチ |
US20140130740A1 (en) * | 2012-11-15 | 2014-05-15 | Industrial Technology Research Institute | Plasma deposition apparatus |
CN104955979A (zh) * | 2013-01-29 | 2015-09-30 | 韩国基础科学支援研究院 | 等离子体辅助物理气相沉积源 |
WO2020060025A1 (ko) * | 2018-09-20 | 2020-03-26 | 주식회사 경동냉열산업 | 수처리장치 등에 사용되는 플라즈마 발생장치 |
JP2020057608A (ja) * | 2019-12-02 | 2020-04-09 | アルファ株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマトーチ |
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JP4774510B2 (ja) | 2011-09-14 |
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