JP2006323330A - 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 露光点データに基づいて露光ヘッドにより基板上に露光パターンを露光する際に用いられる露光点データであって、基板の変形などに応じて原画像データから取得される露光点データの取得方法において、その露光点データの取得時間を短縮し、生産効率の向上を図る。
【解決手段】 基板１２上の露光ヘッド３０のマイクロミラーの仮想的な描画軌跡の情報に対応する、原画像データ上の仮想露光点データ軌跡の情報を複数取得し、その仮想描画点データ軌跡に対応したトレースデータを原画像データからそれぞれ取得して予めテンプレート記憶部５６ａに記憶し、実際の露光の際の基板１２上におけるマイクロミラーの露光軌跡の情報に対応する仮想露光点データ軌跡情報を特定し、その特定された仮想渡航点データ軌跡情報に対応するトレースデータを、実際の露光軌跡情報に対応した露光点データとして取得する。
【選択図】 図５

Description

本発明は、描画データに基づいて基板上に画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得方法および装置並びにその描画データ取得方法および装置により取得された描画データに基づいて基板上に画像を描画する描画方法および装置に関するものである。

従来、プリント配線板や液晶ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの基板に所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。

上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビームを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、露光パターンを表す露光画像データに基づいて変調することにより露光パターンを形成する露光装置が提案されている。

上記のような露光装置として、たとえば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、ＤＭＤという）等の空間光変調素子を利用し、露光画像データに応じて空間光変調素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されている。

そして、上記のようなＤＭＤを用いた露光装置としては、たとえば、ＤＭＤを露光面に対して所定の走査方向に相対的に移動させるとともに、その走査方向への移動に応じてＤＭＤのメモリセルに多数のマイクロミラーに対応した描画データを入力し、ＤＭＤのマイクロミラーに対応した描画点群を時系列に順次形成することにより所望の画像を露光面に形成する露光装置が提案されている（たとえば特許文献１参照）。

ここで、上記のような露光装置を用いて、たとえば、多層プリント配線板の露光パターンを形成する際には、各層を張り合わせるプレス工程において基板に熱が加えられ、その熱により基板が変形してしまう場合があるため、各層の露光パターンの位置合わせを高精度に行うためには、上記のような基板の変形に応じた露光パターンを各層において形成する必要がある。

また、フラットパネルディスプレイにおいてもカラーフィルタパターンを露光する際、基板に加熱処理が施されるのでその熱によって基板が伸縮し、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の記録位置ずれが生じてしまうおそれがあるため、上記のような基板の変形に応じた露光パターンを形成する必要がある。

特開２００４−２３３７１８号公報

しかしながら、たとえば、同じ露光パターンを多数の基板に形成する場合などにおいて、リアルタイムに基板毎の変形量に応じた露光画像データを生成し、その露光画像データに基づいて露光を行うようにしたのでは、基板の変形量に応じた露光画像データの生成に時間がかかり生産効率の低下を招くおそれがある。

本発明は、上記事情に鑑み、上記露光装置のような描画方法および装置に用いられる描画データの取得方法および装置において、上記のような生産効率の低下を招くことなく、基板の変形などに応じた描画データを取得することができる描画データ取得方法および装置並びにその描画データ取得方法および装置を用いて取得した描画データに基づいて基板上に画像を描画する描画方法および装置を提供することを目的とするものである。

本発明の第１の描画データ取得方法は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得方法において、基板上の描画面と描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づいて画像を表す原画像データから描画データを取得する仮想的な条件であって、互いに異なる上記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用いて複数の仮想描画データを取得して予め記憶するとともに、仮想描画データ取得条件と仮想描画データとの対応関係を予め設定し、画像の描画の際の基板上の描画面と描画点形成領域との実位置関係に基づいて原画像データから描画データを取得するための描画データ取得条件を取得し、その取得した描画データ取得条件に対応する仮想描画データ取得条件を取得し、その取得した仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、その特定した仮想描画データを描画データとして取得することを特徴とする。

また、上記本発明の第１の描画データ取得方法においては、予め記憶した仮想描画データに対応する複数の仮想描画データ取得条件の中に描画データ取得条件に対応する仮想描画データ取得条件がない場合には、描画データ取得条件に基づいて原画像データをサンプリングして描画データを取得するようにすることができる。

本発明の第２の描画データ取得方法は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得方法において、予め設定された基板上における描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と画像を表わす原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の仮想描画軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、その複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいてその仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを原画像データからそれぞれ取得し、その取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの対応関係を予め設定し、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡情報を取得し、その取得した仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、その特定された仮想描画データを描画データとして取得することを特徴とする。

また、上記本発明の第２の描画データ取得方法は、予め記憶した仮想描画データに対応する複数の仮想描画点データ軌跡情報の中に描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡情報がない場合には、描画点データ軌跡情報に基づいて原画像データをサンプリングして描画データを取得するようにすることができる。

また、基板上の所定位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、その取得した検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

また、仮想描画点データ軌跡および/または描画点データ軌跡を特定するための数値を所定の量子化ピッチで量子化するようにすることができる。

また、仮想描画点データ軌跡情報とその仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データが記憶された記憶部の記憶領域を示すアドレスとを対応付けたアドレス対応関係を予め設定し、描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡情報を取得し、その取得した仮想描画点データ軌跡情報に対応する上記アドレスを上記アドレス対応関係に基づいて特定し、その特定されたアドレスに予め記憶された仮想描画データを取得するようにすることができる。

また、仮想描画点データ軌跡情報としてその仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを示す情報とその仮想描画データにおける描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報とを予め設定し、描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡情報を取得し、その取得した仮想描画点データ軌跡情報における仮想描画データを示す情報に基づいて、複数の仮想描画データの中から仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを特定し、仮想描画点データ軌跡情報における描画点データ軌跡情報に対応する範囲に基づいて、上記特定された仮想描画データのうちの描画点データ軌跡情報に対応する範囲を描画データとして取得するようにすることができる。

また、仮想描画点データ軌跡を所定のピッチで区切り、その区切られた部分仮想描画点データ軌跡を直線、曲線または折れ線で近似するようにすることができる。

また、描画点データ軌跡を所定のピッチで区切り、その区切られた部分描画点データ軌跡を直線、曲線または折れ線で近似するようにすることができる。

また、原画像データを、部分原画像データを相対的移動方向について繰り返し配置した繰返画像データ部を有するものとし、部分画像データと各仮想描画点データ軌跡の一部の部分仮想描画点データ軌跡をそれぞれ対応付けてその複数の部分仮想描画点データ軌跡に対応した部分仮想描画データを部分原画像データからそれぞれ取得し、その取得した複数の部分仮想描画データを予め記憶するとともに、部分仮想描画点データ軌跡の情報と部分仮想描画データとの対応関係を予め設定し、描画点データ軌跡を部分仮想描画点データ軌跡に対応させて複数の部分描画点データ軌跡に区切って部分描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した部分描画点データ軌跡情報に対応する部分仮想描画点データ軌跡情報をそれぞれ特定し、その特定した部分仮想描画点データ軌跡情報に対応する部分仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の部分仮想描画データの中からそれぞれ特定し、その特定した部分仮想描画データを繋ぎ合わせて描画点データ軌跡に対応した描画データを取得するようにすることができる。

また、原画像データを、部分原画像データを相対的移動方向について繰り返し配置した繰返画像データ部を有するものとし、原画像データから繰返画像データ部を抽出し、その抽出された繰返画像データ部についてのみ仮想描画データを用いて描画データを取得するようにすることができる。

また、描画点データ軌跡が繰返画像データ部とその繰返画像データ部以外の原画像データとに位置する場合には、仮想描画点データ軌跡情報に例外処理情報と描画点データ軌跡における繰返画像データ部の範囲を指定する情報とを含め、仮想描画点データ軌跡情報における例外処理情報と繰返画像データ部の範囲を指定する情報に基づいて、上記指定された範囲の描画データを取得するようにすることができる。

また、互いに異なる仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データが同じである場合にはその仮想描画データを共通化して記憶するようにすることができる。

また、描画点データ軌跡情報および/または仮想描画点データ軌跡情報にピッチ成分を含むようにすることができる。

本発明の第３の描画データ取得方法は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を所定の描画タイミングで基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得方法において、予め設定された描画タイミングでの描画点形成領域の基板上における仮想的な描画位置情報であって、互いに異なる複数の仮想描画位置情報と画像を表わす原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の仮想描画位置情報に対応する仮想描画点データ位置情報をそれぞれ取得し、その複数の仮想描画点データ位置情報に基づいてその仮想描画点データ位置に対応した仮想描画データを原画像データからそれぞれ取得し、その取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、仮想描画点データ位置情報と仮想描画データとの対応関係を予め設定し、画像の描画の際の基板上における上記描画タイミングでの描画点形成領域の描画位置の情報を取得し、その取得した描画位置情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画位置情報に対応する描画点データ位置の情報を取得し、その取得した描画点データ位置情報に対応する仮想描画点データ位置情報を取得し、取得した仮想描画点データ位置情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、その特定した仮想描画データを描画データとして取得することを特徴とする。

また、上記本発明の第３の描画データ取得方法においては、予め記憶された仮想描画データに対応する複数の仮想描画点データ位置情報の中に描画点データ位置情報に対応する仮想描画点データ位置情報がない場合には、描画点データ位置情報に基づいて原画像データから描画データを取得するようにすることができる。

また、上記本発明の第１から第３の描画データ取得方法においては、複数の描画点形成領域を有するものとし、描画点形成領域毎に描画データの取得を行うようにすることができる。

また、描画点形成領域を空間光変調素子によって形成するようにすることができる。

本発明の描画方法は、上記本発明の第１から第３のいずれかの描画データ取得方法を用いて描画データを取得し、その取得した描画データに基づいて基板上に画像を描画することを特徴とする。

本発明の第１の描画データ取得装置は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得装置において、基板上の描画面と描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づいて画像を表す原画像データから描画データを取得する仮想的な条件であって、互いに異なる上記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用いて取得された複数の仮想描画データが予め記憶された仮想描画データ記憶部と、仮想描画データ取得条件と仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、画像の描画の際の前期基板上の描画面と描画点形成領域との実位置関係に基づいて原画像データから描画データを取得するための描画データ取得条件を取得する描画データ取得条件取得部と、その描画データ取得条件取得部により取得された描画データ取得条件に対応する仮想描画データ取得条件を取得する仮想描画データ取得条件取得部と、仮想描画データ取得条件取得部により取得された仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の描画データの中から特定し、その特定した仮想描画データを描画データとして取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする。

また、上記本発明の第１の描画データ取得装置においては、描画データ取得部を、予め記憶された仮想描画データに対応する複数の仮想描画データ取得条件の中に描画データ取得条件に対応する仮想描画データ取得条件がない場合には、描画データ取得条件に基づいて原画像データをサンプリングして描画データを取得するものとすることができる。

本発明の第２の描画データ取得装置は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得装置において、予め設定された基板上における描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と画像を表わす原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の仮想描画軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌跡情報取得部と、仮想描画点データ軌跡情報に基づいて原画像データからそれぞれ取得された複数の仮想描画データが予め記憶された仮想描画データ記憶部と、仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得部と、描画軌跡情報取得部により取得された描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と、描画点データ軌跡情報取得部により取得された描画点データ軌跡に対応する仮想描画点データ軌跡情報を特定する仮想描画点データ軌跡情報特定部と、仮想描画点データ軌跡情報特定部により特定された仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、その特定された仮想描画データを描画データとして取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする。

また、上記本発明の第２の描画データ取得装置においては、描画データ取得部を、予め記憶された仮想描画データに対応する複数の仮想描画点データ軌跡情報の中に描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡情報がない場合には、描画点データ軌跡情報に基づいて原画像データをサンプリングして描画データを取得するものとすることができる。

また、基板上の所定位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備えたものとし、描画軌跡情報取得部を、位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

また、仮想描画点データ軌跡および/または描画点データ軌跡を特定するための数値が所定の量子化ピッチで量子化するようにすることができる。

また、仮想描画点データ軌跡情報とその仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データが記憶された仮想描画データ記憶部の記憶領域を示すアドレスとを対応付けたアドレス対応関係が予め設定されたアドレス対応関係設定部を備えたものとし、描画データ取得部を、仮想描画点データ軌跡情報に対応する上記アドレスを上記アドレス対応関係に基づいて特定し、その特定されたアドレスに予め記憶された仮想描画データを取得するものとすることができる。

また、仮想描画点データ軌跡情報を、その仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを示す情報とその仮想描画データにおける描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報を有するものとし、描画データ取得部を、仮想描画点データ軌跡情報特定部により特定された仮想描画点データ軌跡情報における仮想描画データを示す情報に基づいて、複数の仮想描画データの中から上記特定された仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを特定し、上記特定された仮想描画点データ軌跡情報における描画点データ軌跡情報に対応する範囲に基づいて、上記特定された仮想描画データのうちの描画点データ軌跡情報に対応する範囲を描画データとして取得するものとすることができる。

また、仮想描画点データ軌跡を所定のピッチで区切り、その区切られた部分仮想描画点データ軌跡を直線、曲線または折れ線で近似するようにすることができる。

また、描画点データ軌跡を所定のピッチで区切り、その区切られた部分描画点データ軌跡を直線、曲線または折れ線で近似するようにすることができる。

また、原画像データを、部分画像データを相対移動方向について繰り返し配置した繰返画像データ部を有するものとし、仮想描画データ記憶部を、各仮想描画点データ軌跡の一部の部分仮想描画点データ軌跡に基づいて部分画像データから取得された、部分描画点データ軌跡に対応した部分仮想描画データが予め記憶されたものとし、対応関係設定部を、部分仮想描画点データ軌跡の情報と部分仮想描画データとの対応関係が予め設定されたものとし、描画点データ軌跡情報取得部を、描画点データ軌跡を部分仮想描画点データ軌跡に対応させて複数の部分描画点データ軌跡に区切って部分描画点データ軌跡の情報を取得するものとし、仮想描画点データ軌跡情報特定部を、各部分描画点データ軌跡に対応する部分仮想描画点データ軌跡情報をそれぞれ特定するものとし、描画データ取得部を、仮想描画点データ軌跡情報特定部により特定された部分仮想描画点データ軌跡情報に対応する部分仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の部分仮想描画データの中から特定し、その特定した部分仮想描画データを繋ぎ合わせて描画点データ軌跡に対応した描画データを取得するものとすることができる。

また、原画像データを、部分画像データを相対移動方向について繰り返し配置した繰返画像データ部を有するものとし、原画像データから繰返画像データ部を抽出する繰返画像データ部抽出部をさらに備えたものとし、描画データ取得部を、繰返画像データ部についてのみ仮想描画データを用いて描画データを取得するものとすることができる。

また、仮想描画点データ軌跡情報取得部を、描画点データ軌跡が繰返画像データ部とその繰返画像データ部以外の原画像データとに位置する場合には、仮想描画点データ軌跡情報に例外処理情報と描画点データ軌跡における繰返画像データ部の範囲を指定する情報とを含めるものとし、描画データ取得部を、仮想描画点データ軌跡情報における例外処理情報と繰返部分画像データの範囲を指定する情報に基づいて、上記指定された範囲の描画データを取得するものとすることができる。

また、仮想描画データ記憶部を、互いに異なる仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データが同じである場合にはその仮想描画データを共通化して記憶するものとすることができる。

また、描画点データ軌跡情報および/または仮想描画点データ軌跡情報にピッチ成分を含むようにすることができる。

本発明の第３の描画データ取装置は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を所定の描画タイミングで基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得装置において、予め設定された描画タイミングでの基板上における描画点形成領域の仮想的な描画位置の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画位置情報と画像を表わす原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の仮想描画位置情報に対応する仮想描画点データ位置の情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ位置情報取得部と、その仮想描画点データ位置情報に基づいて原画像データからそれぞれ取得された複数の仮想描画データが予め記憶された仮想描画データ記憶部と、仮想描画点データ位置情報と仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、画像の描画の際の基板上における上記描画タイミングでの描画点形成領域の描画位置の情報を取得する描画位置情報取得部と、描画位置情報取得部により取得された描画位置情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画位置情報に対応する描画点データ位置の情報を取得する描画点データ位置情報取得部と、描画点データ位置情報取得部により取得された描画点データ位置に対応する仮想描画点データ位置情報を特定する仮想描画点データ位置情報特定部と、仮想描画点データ位置情報特定部により特定された仮想描画点データ位置情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、その特定された仮想描画データを描画データとして取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする。

また、上記本発明の第３の描画データ取得装置においては、描画データ取得部を、予め記憶された仮想描画データに対応する複数の仮想描画点データ位置情報の中に描画点データ位置情報に対応する仮想描画点データ位置情報がない場合には、描画点データ位置情報に基づいて原画像データをサンプリングして描画データを取得するものとすることができる。

また、上記本発明の第１から第３の描画データ取得装置においては、描画点形成領域を複数有するものとし、描画点形成領域毎に描画データの取得を行うものとすることができる。

また、描画点形成領域を形成する空間光変調素子を備えるようにすることができる。

本発明の描画装置は、上記本発明の第１から第３のいずれかの描画データ取得装置と、描画データ取得装置により取得された描画データに基づいて基板上に画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする。

ここで、上記「描画点形成領域」とは、基板上に描画点を形成する領域であれば如何なるものによって形成される領域でもよく、たとえば、ＤＭＤのような空間光変調素子の各変調素子によって反射されたビーム光によって形成されるビームスポットでもよいし、光源から発せられたビーム光自体によって形成されるビームスポットでもよいし、もしくはインクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域としてもよい。

なお、本発明は、描画点形成領域による描画面への個別の描画処理に際し、描画点形成領域と描画面との間の想定される複数の仮想的な位置関係に基づいて予め用意された複数の仮想描画データセットから、描画点形成領域と描画面との間の実際の位置関係に基づいて最適なものを選択する方法／装置であってもよい。この場合、仮想描画データセットは、描画点形成領域に時系列的に与えられるデータの集合であってもよいし、グループ化された複数の描画点形成領域に同時に与えられるデータの集合であってもよい。また、各仮想描画データセットは、１セット毎又は数セット毎に圧縮されていてもよく、この場合、最適な仮想描画データのセットが選択されると、その解凍処理が行われる。

また、本発明は、描画点形成領域による描画面への個別の描画処理の際に選択可能なように、描画点形成領域と描画面との間の想定される複数の仮想的な位置関係に基づいて予め複数の仮想描画データのセットを用意する方法／装置であってもよい。

本発明の第１の描画データ取得方法および装置によれば、互いに異なる複数の仮想描画データ取得条件を用いて複数の仮想描画データを取得して予め記憶するとともに、仮想描画データ取得条件と仮想描画データとの対応関係を予め設定し、画像の描画の際の基板上の描画面と描画点形成領域との実位置関係に基づいて原画像データから描画データを取得するための描画データ取得条件を取得し、その取得した描画データ取得条件に対応する仮想描画データ取得条件を取得し、その取得した仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、その特定した仮想描画データを描画データとして取得するようにしたので、上記描画データ取得条件に応じた描画データの取得時間を短縮することができ、生産効率の向上を図ることができる。

本発明の第２の描画データ取得方法および装置によれば、互いに異なる複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいてその仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを原画像データからそれぞれ取得し、その取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの対応関係を予め設定し、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡情報を取得し、その取得した仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、その特定された仮想描画データを描画データとして取得するようにしたので、上記描画軌跡情報に応じた描画データの取得時間を短縮することができ、生産効率の向上を図ることができる。

本発明の第３の描画データ取得方法および装置によれば、互いに異なる複数の仮想描画点データ位置情報に基づいてその仮想描画点データ位置に対応した仮想描画データを原画像データからそれぞれ取得し、その取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、仮想描画点データ位置情報と仮想描画データとの対応関係を予め設定し、画像の描画の際の基板上における予め設定された描画タイミングでの描画点形成領域の描画位置の情報を取得し、その取得した描画位置情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画位置情報に対応する描画点データ位置の情報を取得し、その取得した描画点データ位置情報に対応する仮想描画点データ位置情報を取得し、その取得した仮想描画点データ位置情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、その特定した仮想描画データを描画データとして取得するようにしたので、上記描画位置情報に応じた描画データの取得時間を短縮することができ、生産効率の向上を図ることができる。

本発明の描画方法および装置の効果についても、上記本発明の第１から第３の描画データ取得方法および装置と同様である。

以下、図面を参照して本発明の描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第１の実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。図１は、本露光装置の概略構成を示す斜視図である。本露光装置は、所定の露光パターンを露光する装置であって、特に、その露光パターンを露光するために用いられる露光画像データの作成方法に特徴を有するものであるが、まずは、露光装置の概略構成について説明する。

露光装置１０は、図１に示すように、基板１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。そして、４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。移動ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。

設置台１８の中央部には、移動ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には基板１２の先端および後端と、基板１２に予め設けられている円形状の複数の基準マーク１２ａの位置とを検知するための複数のカメラ２６が設けられている。

ここで、基板１２における基準マーク１２ａは、予め設定された基準マーク位置情報に基づいて基板１２上に形成された、たとえば孔である。なお、孔の他にランドやヴィアやエッチングマークを用いてもよい。また、基板１２に形成された所定のパターン、たとえば、露光しようとする層の下層のパターンなどを基準マーク１２ａとして利用するようにしてもよい。また、図１においては、基準マーク１２ａを６個しか示していないが実際には多数の基準マーク１２ａが設けられている。

スキャナ２４およびカメラ２６はゲート２２に各々取り付けられて、移動ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４およびカメラ２６は、これらを制御する後述するコントローラに接続されている。

スキャナ２４は、図２および図３（Ｂ）に示すように、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０（３０Ａ〜３０Ｊ）を備えている。

各露光ヘッド３０の内部には、図４に示すように入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が設けられている。ＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８が直交する方向に２次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー３８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。そして、図３（Ａ）に示すように、移動ステージ１４の移動に伴い、基板１２には露光ヘッド３０毎の帯状の露光済み領域３４が形成される。なお、各露光ヘッド３０に光ビームを入射する光源については図示省略してあるが、たとえば、レーザ光源などを利用することができる。

露光ヘッド３０の各々に設けられたＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８単位でオン/オフ制御され、基板１２には、ＤＭＤ３６のマイクロミラー３８に対応したドットパターン（黒/白）が露光される。前述した帯状の露光済み領域３４は、図４に示すマイクロミラー３８に対応した２次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図４では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ３６におけるマイクロミラー３８は常にオフ状態となる。

また、図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａ、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３２Ｃにより露光される。

次に、露光装置１０の電気的構成について説明する。

本露光装置１０は、図５に示すように、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを有するデータ作成装置４０から出力された、露光すべき露光パターンを表わすベクトルデータを受け付け、このベクトルデータに所定の処理を施す画像処理部５０と、カメラ２６により撮影された基準マーク１２ａの画像に基づいて基準マーク１２ａの検出位置情報を取得する検出位置情報取得部５１と、検出位置情報取得部５１により取得された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報取得部５２と、露光軌跡情報取得部５２により取得された各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報に基づいて露光画像データの座標系における露光点データ軌跡情報を取得する露光点データ軌跡情報取得部５３と、露光点データ軌跡情報取得部５３により取得された露光点データ軌跡情報に基づいて、後述する露光点データ情報を取得する露光点データ情報取得部５４と、露光点データ軌跡情報取得部５３により取得された露光点データ軌跡情報に基づいて、後述する配線部データから各マイクロミラー３８毎の露光点データをサンプリングするサンプリングデータ取得部５５と、露光点データ情報取得部５４により取得された露光点データ情報に基づいて、後述する表示部データから各マイクロミラー３８毎の露光点データを取得する露光点データ取得部５６、露光点データ取得部５６により取得された露光点データに基づいて各マイクロミラーに供給される制御信号を生成し、その制御信号を各露光ヘッド３０に出力する露光ヘッド制御部５８と、本露光装置全体を制御するコントローラ７０とを備えている。

また、本露光装置１０は、移動ステージ１４をステージ移動方向へ移動させる移動機構６０を備えている。移動機構６０は、移動ステージ１４をガイド２０に沿って往復移動させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。

なお、上記各構成要素の作用については後で詳述する。

次に、本露光装置１０の作用について図面を参照しながら説明する。

本露光装置１０は、移動ステージ１４上に設置された基板１２を、ステージ移動方向に移動させ、その移動にともなって順次露光ヘッド制御部５８から露光ヘッド３０に制御信号を出力し、基板１２上に時系列に露光点を形成することによって所望の露光パターンを基板１２上に露光するものである。

そして、本露光装置１０は、予め露光点データ取得部５６に記憶されたテンプレートデータから所定のトレースデータを選択し、その選択されたトレースデータに基づいて各マイクロミラー３８毎の露光点データ列を取得し、その取得した露光点データ列に基づいて露光ヘッド制御部５８から露光ヘッド３０の各マイクロミラー３０に制御信号を出力して基板１２に露光パターンを露光するものである。

まずは、露光点データ取得部５６に予め記憶されるテンプレートデータおよびその作成方法について説明する。

[テンプレートデータの作成方法]
まず、データ作成装置４０において、基板１２に露光される露光パターンを表すベクトルデータが作成される。なお、本実施形態の説明においては、液晶ディスプレイの露光パターンを表わすベクトルデータが作成される。液晶ディスプレイの露光パターンＲは、図６に示すように、（ｒ、ｇ、ｂ）を表示するための３つのＴＦＴからなるＬＣＤ画素Ｐが直交する方向に２次元状に多数配列された表示部と、その表示部に接続される配線からなる配線部とから構成される。なお、図６においては、ｒを表示するためのＴＦＴをＴ１、ｇを表示するためのＴＦＴをＴ２、ｂを表示するためのＴＦＴをＴ３で表し、配線部を実線で表している。データ作成装置４０においては、図６に示すような露光パターンＲを表すベクトルデータが作成される。

そして、データ作成装置４０において作成されたベクトルデータは、画像処理部５０に出力される。そして、画像処理部５０において、表示部を表わす表示部データと、配線部を表わす配線部データとに分離される。そして、表示部データおよび配線部データは、それぞれラスターデータに変換され、それぞれ一時記憶される。

そして、上記のようにして一時記憶された表示部データについて、テンプレートデータが作成される。なお、本実施形態においては、配線部データについてはテンプレートデータを作成しないが、配線部データから露光点データを取得する方法については後述する。

画像処理部５０においては、図７に示すように、表示部データＤにおける１つのＬＣＤ画素データＰＤと各マイクロミラー３８により露光される基板上の露光点の座標系とが対応付けられ、１つのＬＣＤ画素データＰＤ内の所定の始点s（x1,y1）から所定の終点e（x2,y2）までを結んだベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ上のＬＣＤ画素データが、所定のサンプリングピッチでサンプリングされ、部分露光点データ列が取得される。なお、図７におけるｙ方向は、マイクロミラー３８の基板１２に対する走査方向に対応する方向であり、ｘ方向は上記走査方向に直交する方向に対応する方向である。つまり、ベクトルＶ１は、マイクロミラー３８の像が基板１２上を通過し得る軌跡の一部を意味する。

ここで、ｙ方向に平行な方向のベクトルで、かつ、ｙ方向について所定の長さＬ0を有するベクトルを基準ベクトルとし、所定の露光点データ数をN、基準ベクトルのｙ方向サンプリングピッチをpitch_y0とする。

また、ベクトルＶ１の始点をs(x1, y1)、終点をe(x2, y2)、露光点データのｘ方向のサンプリングピッチをpitch_x、ｙ方向のサンプリングピッチをpitch_y、終点eの変動幅をｘ方向にΔx、ｙ方向にΔyとすると、以下の様な関係になる。

L0 ＝ N × pitch_y0 ・ ・ ・ (1)
Δx ＝ x2 − x1 ・ ・ ・ (2)
Δy ＝ y2 −(y1+L0) ・ ・ ・ (3)
pitch_x ＝ Δx／N ・ ・ ・ (4)
pitch_y ＝ pitch_y0 × (L0+Δy)／L0 ・ ・ ・ (5)
具体的には、例えば、N = 4096、pitch_y0 = 0.75μm等となる。

また、延長ベクトルＶ１ｔとは、ベクトルＶ１の終点e(x2,y2)をベクトルＶ１の終点側に延長したベクトルであり、以下の関係で表すことができる。

Ｖ１ｔ ＝ Ｖ１ × ( 1 + ｋ) ・ ・ ・ (6)
ここで、ｋ＝（ＬＣＤ画素データのｙ方向サイズ＋余裕値α）/L0 ・ ・ ・ (7)
とすることが望ましい。

ただし、ｋ>0は必須ではなく、k=0(即ちＶ１ｔ＝Ｖ１)とすることも可能である。

そして、具体的には、図７に示すように、１つのＬＣＤ画素データ内の１つの始点ｓに対して、上記基準ベクトルＶ１が設定され、その基準ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ上におけるＬＣＤ画素データＰＤがサンプリングピッチpitchi_y0でサンプリングされるとともに、上記基準ベクトルＶ１の始点sと、基準ベクトルの終点eを中心とした所定の変動範囲Ｗに位置する複数の終点ｅとをそれぞれ結んだベクトルＶ１が設定され、その設定された各ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ上におけるＬＣＤ画素データＰＤがサンプリングピッチpitch_x、pitch_yでサンプリングされ、各ベクトルＶ１ｔ毎にそれぞれ部分露光点データ列が取得される。なお、変動範囲Ｗのサイズは、基板１２の変形の程度に応じて予め設定されているものとする。

そして、１つのＬＣＤ画素データＰＤ中における全ての露光点の位置が始点ｓとされ、それぞれの始点ｓについて、上記と同様に、所定の変動範囲Ｗに位置する終点ｅまでを結んだベクトルＶ１が設定され、その各ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ毎にそれぞれ部分露光点データ列が取得される。なお、上記のようにして取得された部分露光点データ列を、以下「トレースデータ」という。

そして、１つのＬＣＤ画素データＰＤ中の全ての始点ｓの座標（ｘ１,ｙ１）とその始点ｓに結ばれた終点ｅの変動量（Δｘ,Δｙ）との組み合わせについて、図８に示すように、トレースデータ番号が付される。なお、上記変動量（Δｘ,Δｙ）とは、上述したように、上記基準ベクトルの終点ｅの位置を基準とした場合における、変動範囲Ｗ内の各終点ｅのｘ方向およびｙ方向へのずれ量を示すものである。したがって、上記基準ベクトルの終点ｅの変動量Δｘ,変動量Δｙはともに０ということになる。

そして、図８に示す対応関係と、表における各トレースデータ番号に対応するトレースデータが、画像処理部５０から出力される。そして、図８に示す対応関係は、露光点データ情報取得部５４に設定され、各トレースデータは、それぞれ対応するトレースデータ番号と対応付けられてテンプレートデータとしてまとめられ、露光点データ取得部５６のテンプレート記憶部５６ａに記憶される。

なお、上記のようにしてトレースデータを取得する際、たとえば、図９に示すように、マイクロミラー３８により露光される露光点の解像度が０．０５μｍであり、表示部データＤの解像度が０．２５μｍであって上記露光点の解像度よりも大きい場合には、始点ｓのｙ方向の位置が同じであって、かつ表示部データにおける１つの表示画素データのｘ方向の範囲に始点と終点の両方が含まれる複数のベクトルＶ１が存在する。

そして、この複数のベクトルＶ１については、そのベクトルＶ１上の露光点データが同じである。したがって、これらのトレースデータは共通化し、同じトレースデータ番号を付するようにしてもよい。上記のように共通化すれば、トレースデータのデータ量を削減することができ、テンプレート記憶部５６ａの容量を削減することができる。

なお、図９（Ｂ）に示すように、始点が共通でも終点が１つの表示画素データのＸ方向の範囲に含まれないベクトルＶ１については、そのベクトルＶ１上の露光点データが異なるので、別個のトレースデータとして取得する必要がある。なお、上記表示画素データとは、表示部データＤの解像度によって決定されるものであり、つまり、表示部データＤを構成する最小単位のデータであり、露光パターンＲのＬＣＤ画素データとは異なるものである。

また、上記のようにして各ベクトルＶ１について取得されたトレースデータを互いに比較し、全ての露光点データが一致するベクトルＶ１同士については、そのトレースデータを共通化し、同じトレースデータ番号を付するようにすればよい。

また、上記説明においては、１つのＬＣＤ画素データＰＤ中における全ての露光点の位置を始点ｓとし、それぞれの始点ｓについてベクトルＶ１を設定し、その各ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ毎にそれぞれトレースデータを取得するようにしたが、必ずしも全ての露光点の位置を始点ｓとしなくてもよい。

たとえば、Ｘ方向に並ぶ一列の露光点のうちの一部の露光点については始点ｓとしないようにしてベクトルＶ１の数を減らすように、つまりトレースデータの容量を減らすようにしてもよい。また、終点ｅについても、変動範囲Ｗに位置する露光点の全てを終点ｅとする必要はなく、変動範囲Ｗに位置する露光点のうち一部の露光点のみを終点ｅとすることによってベクトルＶ１の数を減らすようにしてもよい。

また、終点ｅはｘ方向に変動させないようにし、ｙ方向に平行なベクトルＶ１のみを設定することによってベクトルＶ１の数を減らすようにしてもよい。

また、ベクトルＶ１上の露光点データをサンプリングする際のｙ方向のサンプリングピッチが、たとえば、図１０（Ａ）に示すように、０．７５μｍであり、表示部データにおける１つの表示画素データのｙ方向の解像度が０．２５μｍである場合には、０．２５μｍの範囲おいてベクトルＶ１の始点sを動かしても各ベクトルＶ１上の露光点データは全て同じものとなる。

したがって、ベクトルＶ１の始点ｓのｙ方向の位置は、上記表示画素データのｙ方向の解像度に対応した３つ（０．０７５μｍ/０．２５μｍ）のパターンのみを考えればよい（図１０（Ａ）〜（Ｃ）参照）。よって、ｙ方向については、３つの始点sのみを考慮して各ベクトルＶ１のトレースデータを取得するようにすればよい。なお、上記サンプリングピッチが上記ｙ方向の解像度の自然数ｎ倍のときは、上記と同様に考えることができ、そのｎ箇所の位置についてのみベクトルＶ１の始点sを動かしてそれぞれの位置でのトレースデータを取得するようにすればよい。

また、各ベクトルＶ１を所定の量子化ピッチで量子化するようにしてもよい。たとえば、各ベクトルＶ１を特定するための数値である、各ベクトルＶ１の始点ｓ、終点ｅ、中点の座標値および各ベクトルＶ１の傾き等を量子化するようにすればよい。

具体的には、入力値(例えば座標値xまたはy)をv、量子化結果をv’ 、量子化ピッチをstpとすると、
v ’ = INT( v / stp ) × stp ・ ・ ・ (8)
または
v ’ = ( INT( v / stp ) + 0.5 ) × stp ・ ・ ・ (9)
とする。

例えば、量子化幅をｘ方向にstp_x=0.05μm、ｙ方向にstp_y=0.25μmとし、(8)式または(9)式の変数stpに当てればよい。

上記のように量子化することによりベクトルＶ１の数を減らすことができ、その分ベクトルＶ１に対応するトレースデータの数を減らすことができ、テンプレート記憶部５６ａの容量を削減することができる。

また、本実施形態においては、始点sと終点eとを直線で結ぶようにしたが、これに限らず、たとえば、曲線で結んだり、もしくは折れ線で結ぶようにしてもよい。

また、本実施形態においては、ラスターデータとされた表示部データＤからベクトルＶ１に対応する露光点データを取得するようにしたが、必ずしもラスターデータにする必要はなく、ベクトルデータのままの表示部データからベクトルＶ１に対応する露光点データを取得するようにしてもよい。具体的には、たとえば、図１１に示すように、ベクトルデータで表される露光パターンＦの輪郭ベクトルＶ_Ｒを取得し、この輪郭ベクトルＶ_ＲとベクトルＶ１との交点Ｃ１、Ｃ２を求め、ベクトルＶ１の始点ｓから交点Ｃ１までの部分ベクトルＶ_ｐ１については０の露光点データを所定のサンプリングピッチで取得し、交点Ｃ１から交点Ｃ２までの部分ベクトルＶ_ｐ２については１の露光点データを所定のサンプリングピッチで取得し、交点Ｃ２から終点ｅまでの部分ベクトルＶ_ｐ３については０の露光点データを所定のサンプリングピッチで取得し、これらを繋ぎ合わせてベクトルＶ１に対応するトレースデータを取得するようにしてもよい。なお、各ベクトルＶ１の設定方法については上記と同様である。

または、交点Ｃ１、Ｃ２のｙ座標を、それぞれｙ方向サンプリングピッチpitch_yで割り、整数化したデータ間の差を用いて、０または１の連続するデータ個数を計算する方法でもデータ列を取得できる。

なお、上記同様、各ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔと輪郭ベクトルＶ_Ｒとの交点計算も可能である。この場合、図１１の各ベクトルＶ１の延長方向に延長ベクトルＶ１ｔが延び、ベクトルＶ１の終点eの右側に延長ベクトルＶ１ｔの終点e ’点が存在するものとする。

[露光点データ情報の取得]
そして、上記のようにしてテンプレート記憶部５６ａに記憶されたテンプレートデータは、露光点データ情報取得部５４において取得された露光点データ情報に基づいて読み出され、露光ヘッド制御部５８に出力されるが、次に、露光点データ情報取得部５４における露光点データ情報の取得について説明する。

まず、コントローラ７０が移動機構６０に制御信号を出力し、移動機構６０はその制御信号に応じて移動ステージ１４を、図１に示す位置からガイド２０に沿って一旦上流側の所定の初期位置まで移動させた後、下流側に向けて所望の速度で移動させる。なお、上記上流側とは、図１における右側、つまりゲート２２に対してスキャナ２４が設置されている側のことであり、上記下流側とは、図１における左側、つまりゲート２２に対してカメラ２６が設置されている側のことである。

そして、上記のようにして移動する移動ステージ１４上の基板１２が複数のカメラ２６の下を通過する際、これらのカメラ２６により基板１２が撮影され、その撮影画像を表す撮影画像データが検出位置情報取得部５１に入力される。検出位置情報取得部５１は、入力された撮影画像データに基づいて基板１２の基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を取得する。基準マーク１２ａの検出位置情報の取得方法については、たとえば、円形状の画像を抽出することにより取得するようにすればよいが、他の如何なる既知の取得方法を採用してもよい。また、上記基準マーク１２ａの検出位置情報は、具体的には座標値として取得されるが、その座標系は各マイクロミラー３８により露光される露光点の座標系と同じである。

そして、上記のようにして取得された基準マーク１２ａの検出位置情報は、検出位置情報取得部５１から露光軌跡情報取得部５２に出力される。

そして、露光軌跡情報取得部５２において、入力された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８毎の露光軌跡の情報が取得される。具体的には、露光軌跡情報取得部５２には、各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８の像が通過する位置を示す通過位置情報が、各マイクロミラー３８毎に予め設定されている。上記通過位置情報は、移動ステージ１４上の基板１２の設置位置に対する、各露光ヘッド３０の設置位置によって予め設定されているものであり、複数のベクトルまたは複数点の座標値で表わされるものである。図１２に、プレス工程などを経ていない理想的な形状の基板１２、つまり、歪などの変形が生じておらず、基準マーク１２ａが予め設定された基準マーク位置情報１２ｂの示す位置に配置している基板１２と、所定のマイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃとの関係を示す模式図を示す。なお、上記通過位置情報の座標系も、マイクロミラー３８により露光される露光点の座標系と同じである。そして、上記通過位置情報１２ｃにおける複数の基準点１２ｅ（図１２に示す白丸）によって区切られるベクトルＶ２の長さと、上述した基準ベクトルの長さとは同じ長さに設定されている。

そして、露光軌跡情報取得部５２においては、図１３に示すように、通過位置情報１２ｃと検出位置情報１２ｄとが対応付けられ、通過位置情報１２ｃにおける各基準点１２ｅについて、検出位置情報１２ｄとの位置関係が求められる。具体的には、たとえば、図１４に示すように、基準点１２ｅとその基準点１２ｅを囲む検出位置情報１２ｄとで決定される矩形Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄの面積が求められる。そして、上記のような面積が、各基準点１２ｅについてそれぞれ求められ、露光軌跡情報として露光点データ軌跡情報取得部５３に出力される。なお、上記のような露光軌跡情報は、各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃ毎に求められ、露光点データ軌跡情報取得部５３に出力される。

そして、露光点データ軌跡情報取得部５３は、上記のようにして入力された露光軌跡情報に基づいて、その露光軌跡情報に対応する露光点データ軌跡情報を取得する。

具体的には、露光点データ軌跡取得部５３には、図１５に示すように、露光画像データの座標系における基準マーク１２ａの位置情報１２ｆが予め設定されており、以下の式(10)を満たすようなトレース点１２ｇの座標が、各基準点１２ｅについてそれぞれ求められる。そして、図１５に示すように、各トレース点１２ｇを結んだベクトルＶ３の情報が露光点データ軌跡情報として露光点データ情報取得部５４に出力される。

Ｓａ：Ｓｂ：Ｓｃ：Ｓｄ＝Ｔａ：Ｔｂ：Ｔｃ：Ｔｄ ・ ・ ・ (10)
そして、露光点データ情報取得部５４は、入力された各ベクトルＶ３の情報に基づいて、露光点データ情報を取得する。具体的には、露光点データ情報取得部５４は、各ベクトルＶ３の始点と終点の座標値を取得し、その座標値を、１つのＬＣＤ画素データ中の露光点の座標系における座標値に相対変換し、その相対変換された始点と終点の座標値に基づいて終点の変動量（Δｘ,Δｙ）を求め、上記相対変換された始点の座標値および終点の変動量（Δｘ,Δｙ）と、図８に示す対応関係とに基づいて、各ベクトルＶ３に対応するトレースデータ番号を求める。

なお、本実施形態においては、上述したように、１つのＬＣＤ画素データ中における全ての露光点の位置を始点ｓとし、その始点ｓについてベクトルＶ１を設定してトレースデータを取得するようにしたが、たとえば、始点ｓのｙ方向についての位置を、図１６に示す斜線部（すなわち、一部分）のみにしてトレースデータの数を削減するようにしてもよい。

そして、上記のようにしてトレースデータの数を削減した場合、たとえば、露光点データ情報取得部５４において取得された、相対変換後の始点の座標が、図１６に示す位置である場合、相対変換後の始点の座標値と同じ座標値が図８に示す対応関係に存在しないことになる。

上記のような場合には、たとえば、図１７に示すように、相対変換された始点Ｐ１および終点Ｐ２によって表されるベクトルＶ３を始点Ｐ１側に延長し、その延長線上における、図８に示す対応関係に存在する始点Ｐ０を求める。そして、その始点Ｐ０および上記変動量（Δｘ,Δｙ）と、図８に示す対応関係とに基づいて、そのベクトルＶ３に対応するトレースデータ番号を求める。なお、上記のようにベクトルの延長線上における始点Ｐ０を求めて、トレースデータ番号を求めた場合には、トレースデータ番号だけでなく、始点Ｐ０に対する始点Ｐ１のｙ方向についてのずれ量が求められ、そのずれ量が読出開始位置として取得される。

露光点データ情報取得部５４においては、上記のようにしてトレースデータ番号および読出開始位置が各ベクトルＶ３について求められ、各ベクトルＶ３に対応する露光点データ情報として露光点データ取得部５６に出力される。なお、相対変換された始点の座標値と図８に示す対応関係の座標値と一致する場合には、読出開始位置は０ということになる。

なお、本実施形態においては、隣接するトレース点１２ｇを直線で結んでベクトルＶ３としたが、これに限らず、たとえば、隣接するトレース点１２ｇを曲線で結んだり、もしくは折れ線で結んだりしてベクトルＶ３としてもよい。特に、ｘ方向に隣接する位置情報１２ｆを結ぶ直線とベクトルＶ３の交点の部分については、折れ線で近似することが望ましい。

また、ベクトルＶ３およびトレースデータにピッチ成分を持たせておき、ベクトルＶ３からトレースデータを検索する際に、ピッチ成分を考慮するようにしてもよい。

[露光点データの取得]
次に、上記のようにして露光点データ情報取得部５４において取得された各ベクトルＶ３の露光点データ情報に基づいて、表示部データにおける露光点データを取得する方法を説明する。

まず、露光点データ取得部５６には、図１８に示すように、各トレースデータがトレースデータ番号１〜ｎと対応付けられてテンプレート記憶部５６ａに記憶されている。そして、上記のようにして各ベクトルＶ３に対応する露光点データ情報が入力されると、その露光点データ情報におけるトレースデータ番号のトレースデータを選択し、その選択したトレースデータにおける露光点データ情報の読出開始位置から露光点データ読み出す。なお、読出開始位置が０の場合は、トレースデータは先頭から読み出され、読出開始位置がｍ１である場合には、図１４に示すようにｍ１の位置から読み出される。また、露光点データは上記露光点データ数Nだけ読み出すようにすればよい。

また、トレースデータ番号とトレースデータの記憶領域との関係については、たとえば、図１９に示すような、トレースデータ番号とそのトレースデータ番号のトレースデータが記憶された記憶領域の先頭アドレスとの対応関係を予め設定しておくようにすればよい。

また、露光点データ情報取得部５４に、予め図１９に示すような対応関係を設定しておき、各ベクトルＶ３について求められたトレースデータ番号と図１９に示す対応関係とから先頭アドレスを求め、その先頭アドレスと読出開始位置とから読出開始アドレスを求め、その読出開始アドレスを露光点データ取得部５６に出力し、露光点データ取得部５６が、入力された読出開始アドレスによって示されるアドレスから露光点データを読み出すようにしてもよい。

そして、上記のように各ベクトルＶ３について、それぞれ露光点データを取得し、これらを繋ぎ合わせることによって１つのマイクロミラー３８の露光点データ軌跡に対応した露光点データ列が取得される。

そして、上記と同様にして、各マイクロミラー３８毎の通過位置情報と検出位置情報とに基づいて、各マイクロミラー３８毎の表示部データ上における露光点データ軌跡情報が求められ、その各マイクロミラー３８毎の露光点データ軌跡情報に基づいて、トレースデータ番号と読出開始位置とからなる露光点データ情報が求められ、その各マイクロミラー３８毎の露光点データ情報に基づいてトレースデータが読み出されて各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が取得される。

なお、トレースデータを作成する際、ベクトルＶ１を所定のピッチで量子化した場合には、その量子化に合わせて各ベクトルＶ３を量子化するようにしてもよい。量子化の方法については、ベクトルＶ１の量子化の方法と同様である。上記のように各ベクトルＶ３を量子化することにより、ベクトルＶ３に対応するトレースデータをより高速に取得することができる。

たとえば、各ベクトルＶ３の始点ｓ、終点ｅ、中点の座標値および各ベクトルＶ３の傾き等を量子化するようにすればよい。

具体的には、例えば、量子化幅をｘ方向にstp_x=0.05μm、ｙ方向にstp_y=0.25μmとし、上記(8)式または(9) 式の該当する変数に適用し、量子化後の値を取得するようにすればよい。

また、上記説明においては、露光点データ情報取得部５４において、ベクトルＶ３に対応するトレースデータ番号が見つかった場合における露光点データの取得方法について説明したが、たとえば、基板１２の歪みの程度が想定されていた範囲よりも大きく、ベクトルＶ３に対応するトレースデータ番号が存在しない場合がある。そして、上記のような場合にもベクトルＶ３に対応する露光点データを適切に取得する必要がある。

そこで、たとえば、サンプリングデータ取得部５５にも予め表示部データを記憶しておき、上記のようにベクトルＶ３に対応するトレースデータ番号が見つからない場合には、そのベクトルＶ３の情報をサンプリングデータ取得部５５に出力し、サンプリングデータ取得部５５において、表示部データからベクトルＶ３に対応する露光点データをサンプリングし、そのサンプリングした露光点データを露光点データ取得部５６に出力するようにすればよい。そして、露光点データ取得部５６において、その他のベクトルＶ３に対応する露光点データと繋ぎ合わせるようにすればよい。

また、１つのマイクロミラーの露光点データ軌跡のうち、一部のベクトルＶ３についてトレースデータ番号が存在し、その一部以外のベクトルＶ３についてトレースデータ番号が存在しない場合には、トレースデータ番号が存在するベクトルＶ３についてはトレースデータを読出して露光点データを取得し、トレースデータ番号が存在しないベクトルＶ３については、上記のようにサンプリングして露光点データを取得し、トレースデータに基づく露光点データとサンプリングによる露光点データとを繋ぎ合わせて１つのマイクロミラーの露光点データ軌跡に対応する露光点データ列を取得するようにすればよい。

また、図２０に示すように、トレースデータに基づく露光点データと０データとから１つのマイクロミラーの露光点データ軌跡に対応する長さの露光点データ列を生成するとともに、サンプリングデータに基づく露光点データと０データとから１つのマイクロミラーの露光点データ軌跡に対応する同じ長さの露光点データ列を生成し、これらの論理和を演算することによって１つのマイクロミラーの露光点データ軌跡に対応する露光点データ列を取得するようにしてもよい。

また、上記説明では、ベクトルＶ３単位でトレースデータの読出し、またはサンプリングを切り替えるようにしたが、ベクトルＶ３をさらに分割し、その分割したベクトルＶ３単位でトレースデータの読出し、またはサンプリングを切り替えるようにしてもよい。

ここまで表示部データからの露光点データの取得について説明したが、次に、配線部データにおける露光点データを取得する方法について説明する。

上述したように、配線部データはラスター変換されて画像処理部５０に一時記憶されてある。そして、画像処理部５０に一時記憶された配線部データは、サンプリングデータ取得部５５に出力される。また、上記のようにして露光点データ軌跡情報取得部５３において取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データ軌跡情報もサンプリングデータ取得部５５に出力される。そして、サンプリングデータ取得部５５は上記露光点データ軌跡情報の各ベクトルＶ３と配線部データとを対応付け、各ベクトルＶ３上の配線部データを所定のサンプリングピッチでサンプリングして露光点データとして読み出す。そして、上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データ列を露光点データ取得部５６に出力する。なお、配線部データにおける表示部データに該当する部分は０データになっているものとする。

そして、露光点データ取得部５６において、トレースデータを読み出すことによって取得された、表示部データについての各マイクロミラー３８毎の露光点データ列と、サンプリングデータ取得部５５において取得された、配線部データについての各マイクロミラー３８毎の露光点データ列とが合成されて、液晶ディスプレイの露光パターンＲを表す、各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が生成される。なお、上記合成は、各マイクロミラー３８毎の露光点データ軌跡情報について、トレースデータを読み出すことによって取得された露光点データ列とサンプリングデータ取得部５５において取得された露光点データ列との論理和を演算することによって行われる。

ここで、露光点データ情報取得部５４において露光点データ情報を取得する際、たとえば、図２１（Ａ）に示すように、露光点データ軌跡情報のベクトルＶ３の一部が表示部データ上に位置し、その他の部分が配線部データ上に位置するような場合には、その表示部データ上に位置する範囲を、露光点データ情報としてトレースデータ番号とともに露光点データ情報取得部５４から露光点データ取得部５６に出力し、露光点データ取得部５６において、トレースデータの上記範囲に対応する露光点データを取得するようにすればよい。

たとえば、ベクトルＶ３の両端が配線部データ上に位置する場合には、図２１（Ｂ）に示すように、トレースデータにおけるｔ１〜ｔ２の範囲の露光点データを読み出すようにすればよい。なお、ｔ１〜ｔ２の範囲ではない配線部データ上に位置する部分については０データを付加するようにすればよい。そして、表示部データと配線部データを合成する際には、上記のようにして付加した０データと配線部データをサンプリングすることによって取得された露光点データとの論理和を演算するようにすればよい。

また、上記のように範囲を指定して露光点の読み出しを行う場合には、露光点データ軌跡情報のデータ構造としては、たとえば、図２２に示すように、読出開始位置を示すバイト中の特定bitを例外処理フラグ用として利用し、その後続に範囲指定バイトを設けたデータ構造とすればよい。そして、上記のように露光点データ軌跡情報のベクトルＶ３の一部が配線部データ上に位置するような場合には、例外処理フラグＯＮ（例えば１）を立てるようにすればよい。なお、通常処理時には、例外処理フラグＯＦＦ（例えば０）とし、後続には範囲指定バイトは存在しない。

そして、露光点データ取得部５６において例外処理フラグＯＮ（例えば１）が検出された場合には通常処理同様に読出開始位置から読出した後、範囲指定バイトにより指定された範囲のトレースデータを有効とし、その範囲外の露光点データを０とし、例外処理フラグがＯＦＦ（例えば０）の場合には、範囲指定バイトは存在せず、上記の通常処理として読出開始位置からトレースデータを読み出すようにすればよい。

また、上記のようにベクトルＶ３の一部が配線データ部に位置する場合の露光点データの取得方法としては、たとえば、露光点データ情報取得部５４にもテンプレートデータを記憶しておき、上記ベクトルＶ３に対応するトレースデータから表示部データの範囲の露光点データを読み出すとともに、配線部データに位置する部分に０データを付加し、その露光点データの列の先頭に、図２０に示すように、例えば例外処理バイト（Ｍバイトで全ｂｉｔが１）を付加し、この例外処理バイトの付加された露光点データを露光点データ取得部５６に出力するようにしてもよい。

そして、露光点データ取得部５６において、上記例外処理バイトを検出した場合には、テンプレート記憶部５６ａから露光点データを読み出すのではなく、例外処理バイトの後に続くデータを、上記ベクトルＶ３に対応する露光点データとして取得するようにすればよい。

また、上記説明では、表示部データと配線部データと分離して配線部データをサンプリングデータ取得部５５に記憶し、サンプリングデータ取得部５５において取得された露光点データ列と露光点データ取得部５６において取得された露光点データ列を合成するようにしたが、表示部データと配線部データとを分離しないようにしてもよい。

具体的には、たとえば、露光点データ情報取得部５４に、分離前の露光画像データを記憶しておくとともに、表示部データの範囲を示す情報を記憶しておく。そして、露光点データ情報取得部５４において、入力された露光点データ軌跡のベクトルＶ３の一部が配線部データに位置するか否かを、上記表示部データの範囲を示す情報に基づいて判別する。

そして、ベクトルＶ３の一部が配線部データに位置しないと判別された場合には、上記と同様に、ベクトルＶ３の露光点データ情報（トレースデータ番号と読出開始位置）を取得し、その露光点データ情報の先頭に、図２４（Ａ）に示すように識別フラグ０を付加し、その識別フラグ付露光点データ情報を露光データ取得部５６に出力する。

一方、露光点データ情報取得部５４において、入力された露光点データ軌跡のベクトルＶ３の一部が配線部データに位置すると判別された場合には、予め記憶された露光画像データからベクトルＶ３に対応する部分の露光点データをサンプリングし、そのサンプリングデータの先頭に、図２４（Ｂ）に示すように識別フラグ１を付加し、その識別フラグ付サンプリングデータを露光点データ取得部５６に出力する。なお、このときサンプリングデータはランレングス符号化したものであることが望ましい。

そして、露光点データ取得部５６において、識別フラグ０が検出された場合には、その後に続く露光点データ情報を読み込み、その露光点データ情報に基づいて、上記と同様にしてトレースデータを読み出してベクトルＶ３に対応する露光点データを取得する。

一方、露光点データ取得部５６において、識別フラグ１が検出された場合には、その後に続くサンプリングデータを読み込み、ランレングス符号化されている場合には、復号化してベクトルＶ３に対応する露光点データを取得する。

また、上記説明では、露光点データ情報取得部５４において、入力された露光点データ軌跡のベクトルＶ３の一部が配線部データに位置すると判別された場合には、図２４（Ｂ）に示すようなデータを露光点データ取得部５６に出力するようにしたが、この場合におけるデータ構造としてはこれに限らず、その他のデータ構造を採用してもよい。

たとえば、図２５に示すように、ベクトルＶ３の配線部データに位置する部分に対応するサンプリングデータと、ベクトルＶ３の表示部データに位置する部分に対応する露光点データ情報とから構成するようにしてもよい。ベクトルＶ３の配線部データに位置する部分に対応するサンプリングデータについては、上記と同様に、露光点データ情報取得部５４に予め記憶された露光画像データから露光点データをサンプリングするようにすればよい。なお、サンプリングデータはランレングス符号化することが望ましい。

そして、露光点データ情報としては、具体的には、図２５（Ｂ）に示すように、ベクトルＶ３の表示部データに位置する部分に対応するトレースデータ番号および読出開始位置と読出す露光点データ列の長さ、すなわち露光点データの数を示す長さデータを持たせるようにすればよい。なお、露光点データ情報には、図２５（Ｂ）に示すように、タイプフラグを設けておき、ベクトルＶ３の一部が配線部データに位置しない場合には、タイプフラグを０とし、ベクトルＶ３の一部が配線部データに位置する場合には、タイプフラグを１とするようにすればよい。なお、タイプフラグが０の場合は、露光点データ情報にサンプリングデータは付加されず、また、露光点データ情報に長さデータは含まれない。

そして、図２５（Ａ）に示すようなデータを露光点データ取得部５６に出力し、露光点データ取得部５６において、先頭の１のデータを検出して、その後に続くサンプリングデータを取得し、露光点データ情報の先頭に付された０のデータを検出して、その続くトレースデータ番号、タイプフラグおよび読出開始位置を取得し、タイプフラグが１である場合には、さらに後に続く長さデータも取得する。

そして、上記のようにして取得したトレースデータ番号に対応するトレースデータを、上記読出開始位置から長さデータの示す長さ分だけ読み出して、表示部データの部分の露光点データを取得する。そして、さらに、サンプリングデータの先頭の１のデータを検出して、その後に続くサンプリングデータを取得する。

そして、上記のようにして取得されたサンプリングデータとトレースデータとを繋ぎあわせることによって上記ベクトルＶ３に対応する露光点データを取得することができる。

なお、図示省略したが、図２５（Ａ）に示すデータには、サンプリングデータの長さを示す情報も含まれているものとする。

[露光]
次に、上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データに基づいて基板１２上に露光する方法について説明する。

上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データは露光ヘッド制御部５８に出力される。そして、上記出力とともに移動ステージ１４が、再び上流側に所望の速度で移動させられる。

そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に上記露光点データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド３０は入力された制御信号に基づいてＤＭＤ３６のマイクロミラーをオン・オフさせて基板１２を露光する。

なお、露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０へ制御信号が出力される際には、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ１４の移動にともなって順次露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０に出力されるが、このとき、たとえば、図２６に示すように、各マイクロミラー３８毎に取得されたＬ個の露光点データ列の各列から、各露光ヘッド３０の各位置に応じた露光点データを１つずつ順次読み出して各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に出力するようにしてもよいし、図２６に示すように取得された露光点データに９０度回転処理もしくは行列を用いた転置変換などを施し、図２７に示すように、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に応じたフレームデータ１〜Ｌを生成し、このフレームデータ１〜Ｌを各露光ヘッド３０に順次出力するようにしてもよい。

そして、移動ステージ１４の移動にともなって順次各露光ヘッド３０に制御信号が出力されて露光が行われ、基板１２の後端がカメラ１２により検出されると露光が終了する。

なお、上記説明においては、プレス工程などにおいて変形した基板１２に露光する際の露光点データの取得方法について説明したが、変形してない理想的な形状の基板１２に露光する際についても、上記と同様の方法を採用して露光点データを取得することができる。たとえば、各マイクロミラー３８毎に予め設定された上記通過位置情報に対応する露光点データ軌跡の情報を取得し、その取得した露光点データ軌跡情報に基づいて露光点データ情報を取得し、その露光点データ情報に基づいてトレースデータを読み出すようにすればよい。

また、上記実施形態においては、基板１２上における基準マーク１２ａを検出し、その検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡情報を取得するようにしたが、これに限らず、たとえば、移動ステージ１４のステージ移動方向と直交する方向へのずれ情報を取得するずれ情報取得手段を設け、そのずれ情報取得手段に取得されたずれ情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡情報を取得し、その露光軌跡情報に基づいてベクトルＶ３からなる露光点データ軌跡情報を取得し、各ベクトルＶ３について、上記と同様にして露光点データを取得するようにしてもよい。なお、上記ずれ情報は、ずれ情報取得手段に予め設定しておけばよい。ずれ情報の計測方法としては、たとえば、ＩＣウェーハ・ステッパー装置などで利用されるレーザ光を用いた測定方法を用いることができる。たとえば、移動ステージ１４に、ステージ移動方向に延びる反射面を設けるとともに、その反射面に向けてレーザ光を射出するレーザ光源および上記反射面において反射した反射光を検出する検出部を設け、移動ステージ１４の移動にともなって、反射光の位相ずれを順次検出部により検出することによって上記ずれ量を計測することができる。

また、移動ステージ１４のヨーイングも考慮して露光軌跡情報を取得するようにしてもよい。

また、基準マーク１２ａの検出位置情報と上記ずれ情報との両方を考慮して露光軌跡情報を取得するようにしてもよい。

また、基板１２の移動の速度変動情報を予め取得する速度変動情報取得手段を設け、速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、基板１２の移動の速度が遅い基板１２上の領域ほど露光点データの密度が大となるように、上記基準ベクトルのサンプリングピッチpitch_y0を小とし、露光点データを取得するようにしてもよい。なお、上記基板１２の移動の速度変動情報とは、移動ステージ１４の移動機構６０の制御精度に応じて発生する移動速度のムラである。

また、上記実施形態では、ＬＣＤ画素データＰＤがｙ方向に繰り返して配置された表示部データの露光点データを、トレースデータを利用して取得する方法を説明したが、露光点データを取得する対象である原画像データは必ずしも表示部データのようなデータ構造でなくてもよい。ただし、その場合には、ベクトルＶ１の始点ｓとしては、上記のように１つのＬＣＤ画素データＰＤ中における始点ｓだけでなく、原画像データ全体における露光点の位置を始点ｓとしてベクトルＶ１を設定し、そのベクトルＶ１に対応するトレースデータを取得する必要がある。なお、ベクトルＶ１の終点ｅの設定の方法については上記と同様である。そして、ベクトルＶ３に対応するトレースデータを取得する際には、上記のようにベクトルＶ３の始点ｓおよび終点ｅの座標を相対変換することなく、ベクトルＶ３の始点ｓおよび終点ｅの座標をそのまま利用して、上記と同様にしてトレースデータを取得するようにすればよい。

次に、本発明の第２の実施形態を用いた露光装置について説明する。

本発明の第２の実施形態を用いた露光装置２０は、その概略構成は図１に示す第１の実施形態を用いた露光装置と同様である。

そして、露光装置２０は、予め記憶するテンプレートデータおよびそのテンプレートデータの作成方法が異なる。具体的には、第１の実施形態を用いた露光装置１０においては、マイクロミラー３８の像が基板１２上を通過し得る軌跡を想定し、その軌跡に応じたトレースデータを取得してテンプレートデータとするようにしたが、第２の実施形態を用いた露光装置２０においては、ＤＭＤ３６における所定のマイクロミラーの列が、基板１２上を露光し得る露光点列を想定し、その露光点列に応じたトレースデータを取得してテンプレートデータとする。

露光装置２０は、図２８に示すように、データ作成装置４０から出力された、露光すべき露光パターンを表わす露光画像データに所定の処理を施す画像処理部８０と、実際の露光の際の基板１２上におけるマイクロミラー３８の列の露光点列の位置情報を取得する露光点位置情報取得部８２と、露光点位置情報取得部８２により取得された露光点位置情報に基づいて、後述する露光点データ情報を取得する露光点データ情報取得部８４と、露光点データ情報取得部８４により取得された露光点データ情報に基づいて、マイクロミラー列の露光点データ列を取得する露光点データ取得部８６とを備えている。

次に、本発明の第２の実施形態の露光装置２０の作用について説明する。

以下、露光装置２０のテンプレートデータの作成方法について説明する。

まず、図２９に点線で示すように、ＤＭＤ３６が所定のマイクロミラー列に仮想的に分割される。そして、画像処理部８０において、露光画像データと、マイクロミラー３８により基板１２上に露光される露光点の座標系とが対応付けられる。そして、上記のようにして分割されたマイクロミラー列のうちの１つのマイクロミラー列３８ａによって所定のタイミングで順次露光される基板上の露光点列３８ｂが、上記座標系および露光画像データに対応付けられる。なお、このときの露光点列３８ｂの位置は、ＤＭＤ３６が基板１２に対して理想的に配置されている場合における露光点列の位置である。また、この露光点列の位置の情報は、予め設定されているものとする。

そして、各露光点列３８ｂの一端の露光点と他端の露光点とを結ぶ基準ベクトルＶ４１〜Ｖ４ｎが設定される。そして、図３０に示すように、たとえば、基準ベクトルＶ４１に対して角度変動θの範囲内におけるベクトルＶ４１’が複数設定され、基準ベクトルＶ４１、ベクトルＶ４１’上にある露光点データが、露光画像データからそれぞれサンプリングされ、基準ベクトルＶ４１およびベクトルＶ４１’に対応するトレースデータが取得される。そして、さらに、基準ベクトルＶ４１の始点sの位置を、たとえば、図３０の斜線で示す所定の範囲内で動かし、それぞれの始点sの基準ベクトルＶ４１について、上記と同様にベクトルＶ４１’が設定され、上記と同様にして基準ベクトルＶ４１とベクトルＶ４１’に対応するトレースデータが取得される。なお、上記角度変動θおよび上記所定の範囲は、基板１２に対するＤＭＤの配置の変動量に応じて適宜設定されるものである。

そして、基準ベクトルＶ４２〜Ｖ４ｎ、ベクトルＶ４２’〜Ｖ４ｎ’についても、それぞれ上記と同様にしてそれぞれトレースデータが取得される。

そして、基準ベクトルＶ４１〜Ｖ４ｎとベクトルＶ４１’〜Ｖ４ｎ’について、それぞれ始点sの位置および基準ベクトルに対する角度の変動量Δθと、トレースデータ番号とが対応付けられ、図３１に示すような対応関係が取得され、この対応関係は露光点データ情報取得部８４に設定される。

また、基準ベクトルＶ４１〜Ｖ４ｎとベクトルＶ４１’〜Ｖ４ｎ’に対応するトレースデータが、上記トレースデータ番号と対応付けられてテンプレートデータとされ、画像処理部８０から露光点データ取得部８６に出力され、露光点データ取得部８６におけるテンプレート記憶部８６ａに記憶される。

次に、上記のようにして作成されたテンプレートデータを用いてマイクロミラー列３８ａの露光点データを取得する方法について説明する。

まず、マイクロミラー列３８ａにより実際に露光される露光点列の基板１２上における位置情報が測定される。この位置情報の測定は、たとえば、実際に基板１２上に露光画像を露光する際の移動速度と同様の速度で移動ステージ１４を移動させるとともに、実際の露光タイミングと同様のタイミングでＤＭＤ３６におけるマイクロミラー列３８ａをＯＮさせ、移動ステージ１４上に設けられた検出器によってマイクロミラー列３８ａの光を検出することによって測定することができる。

そして、上記のようにして測定された露光点列の位置情報に基づいて、露光点列の一端の露光点と他端の露光点とを結ぶ検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎが取得され、その検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎの情報が、露光点位置情報として露光点位置情報取得部８２によって取得され、露光点位置情報取得部８２は、検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎの情報を露光点データ情報取得部８４に出力する。

そして、露光点データ情報取得部８４において、図３１に示す対応関係に基づいて、検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎと同じ始点と角度の変動量Δθであるトレースデータ番号がそれぞれ取得され、そのトレースデータ番号が露光点情報として露光点データ取得部８６に出力される。

そして、露光点データ取得部８６において、検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎのそれぞれに対応するトレースデータ番号について、テンプレートデータが参照され、検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎに対応するトレースデータがそれぞれ読み出される。

そして、上記のようにして取得された各トレースデータが、マイクロミラー列３８ａの各露光タイミングにおける露光点データとして取得される。

なお、上記説明においては、マイクロミラー列３８ａの露光点データを取得する場合について説明したが、その他のマイクロミラー列についても、上記と同様にして露光点データを取得するようにすればよい。

そして、各露光タイミングにおける各マイクロミラー列の露光点データ列を合わせることによって、各露光タイミングにおけるＤＭＤ３６のフレームデータが取得される。

なお、上記フレームデータに基づいて露光を行う作用については、上記第１の実施形態の露光装置と同様である。

なお、上記説明においては、ＤＭＤ３６を、図２９に示すようなマイクロミラー列で分割するようにしたが、その分割の方法は、図２９に示す態様に限らず、その他の分割方法でもよい。例えば、ＤＭＤ３６をマイクロミラーの行単位で分割するようにしてもよい。また、ＤＭＤ３６内のマイクロミラーを角形状の領域毎に複数のグループに分け、各グループに対してテンプレートを作成するようにしてもよい。その場合、角形状の領域の例えば頂点のマイクロミラーに対応する基板上の露光点位置を基準にして領域内の各マイクロミラーの露光点位置を想定することによって、テンプレートを作成することができる。

また、図２９に示すマイクロミラー列をさらに分割し、その分割マイクロミラーに対応させて分割基準ベクトルを設定し、その分割基準ベクトルについて、上記と同様にしてトレースデータを取得し、テンプレートデータとしてもよい。そして、上記説明においては、測定された露光点列の一端の露光点と他端の露光点とを直線で結ぶ検出ベクトルを取得するようにしたが、一端の露光点と他端の露光点との間を、図３２に示すように折れ線で近似して折れ線検出ベクトルＶ６を取得し、その折れ線検出ベクトルＶ６の各線分ベクトルＶ６１，Ｖ６２に対応するトレースデータをそれぞれテンプレートデータから読出し、これらを繋ぐことによってマイクロミラー列に対応する露光点データを取得するようにしてもよい。なお、上記のようにして露光点データを取得する際には、マイクロミラー列の分割方法と、検出ベクトルの折れ線近似とが対応する関係である必要がある。上記のようにして露光点データを取得することによりＤＭＤ３６の歪みを補正することができる。

また、上記第１の実施形態と同様に、各テンプレートの基準となるマイクロミラーの露光点位置と基準マーク１２ａの検出位置との相対的な位置関係に基づいて、所望のテンプレートを選択するようにしてもよい。

また、上記実施形態では、空間光変調素子としてＤＭＤを備えた露光装置について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。

また、上記実施形態では、いわゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプの露光装置としてもよい。

また、上記実施形態の露光対象である基板１２は、プリント配線基板だけでなく、フラットパネルディスプレイの基板であってもよい。また、基板１２の形状は、シート状のものであっても、長尺状のもの（フレキシブル基板など）であってもよい。

また、本発明における描画方法および装置は、インクジェット方式などのプリンタにおける描画にも適用することができる。たとえば、インクの吐出による描画点を、本発明と同様に形成することができる。つまり、本発明における描画点形成領域を、インクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域として考えることができる。

また、本発明における描画軌跡情報は、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を用いて描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を近似したものを描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を予測したものを描画軌跡情報としてもよい。

その他、図８において、トレースデータ番号に対応付ける情報として、変動量ΔｘおよびΔｙの替わりに、サンプリングピッチpitch_x、およびpitch_yを用いることでもよい。

また、テンプレート化する画像パターンは、繰り返しパターン以外に、離散的に何度も現れる画像であってもよい。

また、テンプレート化する画像パターンは、デジタル的に一致したパターンでなくても、実質上同一のものと近似できるパターンであってもよい。例えば、露光時の誤差の範囲の相違は、無視するようにしてもよい。

また、テンプレート化する繰り返しパターンは、複数種類の画像パターンが繰り返し現れるものであってもよい。この場合、画像パターンの種類毎にテンプレートを作成するようにしてもよいし、画像パターンの並び方に規則性がある場合には、その並び方の種類毎にテンプレート化を行ってもよい。

また、露光対象をＬＳＩとしてもよく、その場合メモリセル等の同一パターンをテンプレート化することもできる。

また、テンプレートを作成する装置と、テンプレートを読み出す装置とを、別体で構成するようにしてもよい。

また、テンプレートは、1つずつ又は数個ずつまとめて圧縮されていてもよい。その場合、描画に使用すべきテンプレートが選択されると、それが解凍され、露光ヘッド側に送られる。

本発明の描画方法および装置の第１および第２の実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図 図１の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図 （Ａ）は基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図 図１の露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤを示す図 本発明の第１の実施形態を用いた露光装置の電気的構成を示すブロック図 液晶ディスプレイの露光パターンを示す図 トレースデータの作成方法を説明するための図 ベクトルＶ１（仮想描画点データ軌跡情報）とトレースデータとの対応関係を示す図 トレースデータの共通化について説明するための図 トレースデータの共通化について説明するための図 ベクトルデータから露光点データを取得する方法を説明するための図 理想的な形状の基板上における基準マークと所定のマイクロミラーの通過位置情報との関係を示す模式図 マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための図 マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡情報を取得する方法を説明するための図 マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡情報を取得する方法を説明するための図 ベクトルＶ１（仮想描画点データ軌跡情報）のその他の設定方法を説明するための図 ベクトルＶ３（露光点データ軌跡情報）に対応するトレースデータ番号を求めるその他の方法を説明するための図 テンプレートデータを示す図 トレースデータ番号と先頭アドレスとの対応関係を示す図 １つのマイクロミラーの露光点データ軌跡に対応する露光点データ列のその他の取得方法を説明するための図 （Ａ）ベクトルＶ３の一部が表示部データ上に位置し、その他の部分が配線部データ上に位置する場合を示す図、（Ｂ）ベクトルＶ３が図２１（Ａ）に示すような位置にある場合におけるトレースデータの読出方法を説明するための図 読出範囲を指定する場合における露光点データ情報のデータ構造を示す図 ベクトルＶ３の一部が配線データ部に位置する場合における露光点データのその他の取得方法を説明するための図 ベクトルＶ３の一部が配線データ部に位置する場合における露光点データのその他の取得方法を説明するための図 ベクトルＶ３の一部が配線データ部に位置する場合における露光点データのその他の取得方法を説明するための図 各マイクロミラー毎の露光点データ列を示す図 各フレームデータを示す図 本発明の第２の実施形態を用いた露光装置の電気的構成を示すブロック図 マイクロミラー列とそのマイクロミラー列に対応するベクトルＶ４ｎ（仮想描画点データ位置情報）を示す図 基準ベクトルＶ４１およびベクトルＶ４１’（仮想描画点データ位置情報）に対応するトレースデータを取得する方法を説明するための図 基準ベクトルＶ４１およびベクトルＶ４１’（仮想描画点データ位置情報）とトレースデータとの対応関係を示す図 検出ベクトル（描画位置情報）のその他の取得方法を説明するための図

符号の説明

１０ 露光装置
１２ 基板
１２ａ 基準マーク
１２ｂ 基準マーク位置情報
１２ｃ 通過位置情報
１２ｄ 検出位置情報
１４ 移動ステージ
１８ 設置台
２０ ガイド
２２ ゲート
２４ スキャナ
２６ カメラ
３０ 露光ヘッド
３２ 露光エリア
３６ ＤＭＤ
５０ 画像処理部（仮想描画点データ軌跡情報取得部、繰返画像データ部抽出部）
５１ 検出位置情報取得部（位置情報検出手段）
５２ 露光軌跡情報取得部（描画軌跡情報取得部）
５３ 露光点データ軌跡情報取得部（描画データ取得条件取得部、描画点データ軌
跡情報取得部）
５４ 露光点データ情報取得部（対応関係設定部、仮想描画データ取得条件取得部
仮想描画点データ軌跡情報特定部）
５５ サンプリングデータ取得部
５６，８６ 露光点データ取得部（描画データ取得部）
５６ａ，８６ａ テンプレート記憶部（仮想描画データ記憶部）
８０ 画像処理部（仮想描画点データ位置情報取得部）
８２ 露光点位置情報取得部（描画位置情報取得部、描画点データ位置情報取得
部）
８４ 露光点データ情報取得部（対応関係設定部、仮想描画点データ位置情報特定
部）

Claims (40)

1. 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得方法において、
   前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づいて前記画像を表す原画像データから前記描画データを取得する仮想的な条件であって、互いに異なる前記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用いて複数の仮想描画データを取得して予め記憶するとともに、前記仮想描画データ取得条件と前記仮想描画データとの対応関係を予め設定し、
   前記画像の描画の際の前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との実位置関係に基づいて前記原画像データから前記描画データを取得するための描画データ取得条件を取得し、
   該取得した描画データ取得条件に対応する前記仮想描画データ取得条件を取得し、
   該取得した仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、
   該特定した仮想描画データを前記描画データとして取得することを特徴とする描画データ取得方法。
2. 前記予め記憶した仮想描画データに対応する前記複数の仮想描画データ取得条件の中に前記描画データ取得条件に対応する前記仮想描画データ取得条件がない場合には、
   前記描画データ取得条件に基づいて前記原画像データをサンプリングして前記描画データを取得することを特徴とする請求項１記載の描画データ取得方法。
3. 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得方法において、
   予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記仮想描画軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、
   該複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて該仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを前記原画像データからそれぞれ取得し、
   該取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、前記仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係を予め設定し、
   前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、
   該取得した描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得し、
   該取得した描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得し、該取得した仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、
   該特定された仮想描画データを前記描画データとして取得することを特徴とする描画データ取得方法。
4. 前記予め記憶した仮想描画データに対応する前記複数の仮想描画点データ軌跡情報の中に前記描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画点データ軌跡情報がない場合には、
   前記描画点データ軌跡情報に基づいて前記原画像データをサンプリングして前記描画データを取得することを特徴とする請求項３記載の描画データ取得方法。
5. 前記基板上の所定位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、
   該取得した検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項３または４記載の描画データ取得方法。
6. 前記仮想描画点データ軌跡および/または前記描画点データ軌跡を特定するための数値を所定の量子化ピッチで量子化することを特徴とする請求項３から５いずれか１項記載の描画データ取得方法。
7. 前記仮想描画点データ軌跡情報と該仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データが記憶された記憶部の記憶領域を示すアドレスとを対応付けたアドレス対応関係を予め設定し、
   前記描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得し、
   該取得した仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記アドレスを前記アドレス対応関係に基づいて特定し、
   該特定されたアドレスに予め記憶された前記仮想描画データを取得することを特徴とする請求項３から６いずれか１項記載の描画データ取得方法。
8. 前記仮想描画点データ軌跡情報として該仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを示す情報と該仮想描画データにおける前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報とを予め設定し、
   前記描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得し、
   該取得した仮想描画点データ軌跡情報における前記仮想描画データを示す情報に基づいて、前記複数の仮想描画データの中から前記仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを特定し、
   前記仮想描画点データ軌跡情報における前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲に基づいて、前記特定された仮想描画データのうちの前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を前記描画データとして取得することを特徴とする請求項３から７いずれか１項記載の描画データ取得方法。
9. 前記仮想描画点データ軌跡を所定のピッチで区切り、該区切られた部分仮想描画点データ軌跡を直線、曲線または折れ線で近似することを特徴とする請求項３から８いずれか１項記載の描画データ取得方法。
10. 前記描画点データ軌跡を所定のピッチで区切り、該区切られた部分描画点データ軌跡を直線、曲線または折れ線で近似することを特徴とする請求項３から９いずれか1項記載の描画データ取得方法。
11. 前記原画像データを、部分原画像データを前記相対的移動方向について繰り返し配置した繰返画像データ部を有するものとし、
    前記部分画像データと前記各仮想描画点データ軌跡の一部の部分仮想描画点データ軌跡をそれぞれ対応付けて該複数の部分仮想描画点データ軌跡に対応した部分仮想描画データを前記部分原画像データからそれぞれ取得し、
    該取得した複数の部分仮想描画データを予め記憶するとともに、前記部分仮想描画点データ軌跡の情報と前記部分仮想描画データとの対応関係を予め設定し、
    前記描画点データ軌跡を前記部分仮想描画点データ軌跡に対応させて複数の部分描画点データ軌跡に区切って部分描画点データ軌跡の情報を取得し、
    該取得した部分描画点データ軌跡情報に対応する前記部分仮想描画点データ軌跡情報をそれぞれ特定し、
    該特定した部分仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記部分仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の部分仮想描画データの中からそれぞれ特定し、
    該特定した部分仮想描画データを繋ぎ合わせて前記描画点データ軌跡に対応した前記描画データを取得することを特徴とする請求項３から１０いずれか１項記載の描画データ取得方法。
12. 前記原画像データを、部分原画像データを前記相対的移動方向について繰り返し配置した繰返画像データ部を有するものとし、
    前記原画像データから前記繰返画像データ部を抽出し、
    該抽出された繰返画像データ部についてのみ前記仮想描画データを用いて前記描画データを取得することを特徴とする請求項３から１０いずれか１項記載の描画データ取得方法。
13. 前記描画点データ軌跡が前記繰返画像データ部と該繰返画像データ部以外の前記原画像データとに位置する場合には、
    前記仮想描画点データ軌跡情報に例外処理情報と前記描画点データ軌跡における前記繰返画像データ部の範囲を指定する情報とを含め、
    前記仮想描画点データ軌跡情報における例外処理情報と前記繰返画像データ部の範囲を指定する情報に基づいて、前記指定された範囲の描画データを取得することを特徴とする請求項１２記載の描画データ取得方法。
14. 互いに異なる前記仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データが全て同じである場合には該仮想描画データを共通化して記憶することを特徴とする請求項３から１３いずれか１項記載の描画データ取得方法。
15. 前記描画点データ軌跡情報および/または前記仮想描画点データ軌跡情報にピッチ成分が含まれていることを特徴とする請求項３から１４いずれか１項記載の描画データ取得方法。
16. 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を所定の描画タイミングで前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得方法において、
    予め設定された前記描画タイミングでの前記描画点形成領域の前記基板上における仮想的な描画位置情報であって、互いに異なる複数の仮想描画位置情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記仮想描画位置情報に対応する仮想描画点データ位置情報をそれぞれ取得し、
    該複数の仮想描画点データ位置情報に基づいて該仮想描画点データ位置に対応した仮想描画データを前記原画像データからそれぞれ取得し、
    該取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、前記仮想描画点データ位置情報と前記仮想描画データとの対応関係を予め設定し、
    前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画タイミングでの前記描画点形成領域の描画位置の情報を取得し、
    該取得した描画位置情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画位置情報に対応する描画点データ位置の情報を取得し、
    該取得した描画点データ位置情報に対応する前記仮想描画点データ位置情報を取得し、
    該取得した仮想描画点データ位置情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、
    該特定した仮想描画データを前記描画データとして取得することを特徴とする描画データ取得方法。
17. 前記予め記憶された仮想描画データに対応する前記複数の仮想描画点データ位置情報の中に前記描画点データ位置情報に対応する前記仮想描画点データ位置情報がない場合には、
    前記描画点データ位置情報に基づいて前記原画像データから前記描画データを取得することを特徴とする請求項１６記載の描画データ取得方法。
18. 複数の前記描画点形成領域によって前記描画を行う際に用いられる前記描画点データを取得する描画データ取得方法であって、
    前記描画点形成領域毎に前記描画データの取得を行うことを特徴とする請求項１から１７いずれか１項記載の描画データ取得方法。
19. 前記描画点形成領域を空間光変調素子によって形成することを特徴とする請求項１から１８いずれか１項記載の描画データ取得方法。
20. 請求項１から１９いずれか１項記載の描画データ取得方法を用いて描画データを取得し、該取得した描画データに基づいて前記基板上に画像を描画することを特徴とする描画方法。
21. 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得装置において、
    前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づいて前記画像を表す原画像データから前記描画データを取得する仮想的な条件であって、互いに異なる前記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用いて取得された複数の仮想描画データが予め記憶された仮想描画データ記憶部と、
    前記仮想描画データ取得条件と前記仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、
    前記画像の描画の際の前期基板上の描画面と前記描画点形成領域との実位置関係に基づいて前記原画像データから前記描画データを取得するための描画データ取得条件を取得する描画データ取得条件取得部と、
    該描画データ取得条件取得部により取得された描画データ取得条件に対応する前記仮想描画データ取得条件を取得する仮想描画データ取得条件取得部と、
    該仮想描画データ取得条件取得部により取得された仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の描画データの中から特定し、該特定した仮想描画データを前記描画データとして取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする描画データ取得装置。
22. 前記描画データ取得部が、前記予め記憶された仮想描画データに対応する前記複数の仮想描画データ取得条件の中に前記描画データ取得条件に対応する前記仮想描画データ取得条件がない場合には、前記描画データ取得条件に基づいて前記原画像データをサンプリングして前記描画データを取得するものであることを特徴とする請求項２１記載の描画データ取得装置。
23. 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得装置において、
    予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記仮想描画軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌跡情報取得部と、
    該仮想描画点データ軌跡情報に基づいて前記原画像データからそれぞれ取得された複数の仮想描画データが予め記憶された仮想描画データ記憶部と、
    前記仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、
    前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得部と、
    該描画軌跡情報取得部により取得された描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と、
    該描画点データ軌跡情報取得部により取得された描画点データ軌跡に対応する前記仮想描画点データ軌跡情報を特定する仮想描画点データ軌跡情報特定部と、
    該仮想描画点データ軌跡情報特定部により特定された仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、該特定された仮想描画データを前記描画データとして取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする描画データ取得装置。
24. 前記描画データ取得部が、前記予め記憶された仮想描画データに対応する前記複数の仮想描画点データ軌跡情報の中に前記描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画点データ軌跡情報がない場合には、前記描画点データ軌跡情報に基づいて前記原画像データをサンプリングして前記描画データを取得するものであることを特徴とする請求項２３記載の描画データ取得装置。
25. 前記基板上の所定位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備え、
    前記描画軌跡情報取得部が、前記位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項２３または２４記載の描画データ取得装置。
26. 前記仮想描画点データ軌跡および/または前記描画点データ軌跡を特定するための数値が所定の量子化ピッチで量子化されたものであることを特徴とする請求項２３から２５いずれか１項記載の描画データ取得装置。
27. 前記仮想描画点データ軌跡情報と該仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データが記憶された仮想描画データ記憶部の記憶領域を示すアドレスとを対応付けたアドレス対応関係が予め設定されたアドレス対応関係設定部を備え、
    前記描画データ取得部が、前記仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記アドレスを前記アドレス対応関係に基づいて特定し、該特定されたアドレスに予め記憶された前記仮想描画データを取得するものであることを特徴とする請求項２３から２６いずれか１項記載の描画データ取得装置。
28. 前記仮想描画点データ軌跡情報が、該仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを示す情報と該仮想描画データにおける前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報を有し、
    前記描画データ取得部が、前記仮想描画点データ軌跡情報特定部により特定された前記仮想描画点データ軌跡情報における前記仮想描画データを示す情報に基づいて、前記複数の仮想描画データの中から前記特定された仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを特定し、前記特定された仮想描画点データ軌跡情報における前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲に基づいて、前記特定された仮想描画データのうちの前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲の描画データとして取得するものであることを特徴とする請求項２３から２７いずれか１項記載の描画データ取得装置。
29. 前記仮想描画点データ軌跡が所定のピッチで区切られ、該区切られた部分仮想描画点データ軌跡が直線、曲線または折れ線で近似されたものであることを特徴とする請求項２３から２８いずれか１項記載の描画データ取得装置。
30. 前記描画点データ軌跡が所定のピッチで区切られ、該区切られた部分描画点データ軌跡が直線、曲線または折れ線で近似されたものであることを特徴とする請求項２３から２９いずれか1項記載の描画データ取得装置。
31. 前記原画像データが、部分画像データを前記相対移動方向について繰り返し配置した繰返画像データ部を有するものであり、
    前記仮想描画データ記憶部が、前記各仮想描画点データ軌跡の一部の部分仮想描画点データ軌跡に基づいて前記部分画像データから取得された、前記部分描画点データ軌跡に対応した部分仮想描画データが予め記憶されたものであり、
    前記対応関係設定部が、前記部分仮想描画点データ軌跡の情報と前記部分仮想描画データとの対応関係が予め設定されたものであり、
    前記描画点データ軌跡情報取得部が、前記描画点データ軌跡を前記部分仮想描画点データ軌跡に対応させて複数の部分描画点データ軌跡に区切って部分描画点データ軌跡の情報を取得するものであり、
    前記仮想描画点データ軌跡情報特定部が、前記各部分描画点データ軌跡に対応する前記部分仮想描画点データ軌跡情報をそれぞれ特定するものであり、
    前記描画データ取得部が、前記仮想描画点データ軌跡情報特定部により特定された部分仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記部分仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の部分仮想描画データの中から特定し、該特定した部分仮想描画データを繋ぎ合わせて前記描画点データ軌跡に対応した描画データを取得するものであることを特徴とする請求項２３から３０いずれか１項記載の描画データ取得装置。
32. 前記原画像データが、部分画像データを前記相対移動方向について繰り返し配置した繰返画像データ部を有するものであり、
    前記原画像データから前記繰返画像データ部を抽出する繰返画像データ部抽出部をさらに備え、
    前記描画データ記憶部が、前記繰返画像データ部の画像データ上における前記複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて取得された前記複数の描画データを予め記憶するものであることを特徴とする請求項２３から３０いずれか１項記載の描画データ取得装置。
33. 前記仮想描画点データ軌跡情報取得部が、前記描画点データ軌跡が前記繰返画像データ部と該繰返画像データ部以外の前記原画像データとに位置する場合には、前記仮想描画点データ軌跡情報に例外処理情報と前記描画点データ軌跡における前記繰返画像データ部の範囲を指定する情報とを含めるものであり、
    前記描画データ取得部が、前記仮想描画点データ軌跡情報における例外処理情報と前記繰返部分画像データの範囲を指定する情報に基づいて、前記指定された範囲の描画データを取得するものであることを特徴とする請求項３２記載の描画データ取得装置。
34. 前記仮想描画データ記憶部が、互いに異なる前記仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データが同じである場合には該仮想描画データを共通化して記憶するものであることを特徴とする請求項２３から３３いずれか１項記載の描画データ取得装置。
35. 前記描画点データ軌跡情報および/または前記仮想描画点データ軌跡情報にピッチ成分が含まれていることを特徴とする請求項２３から３４いずれか１項記載の描画データ取得装置。
36. 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を所定の描画タイミングで前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得装置において、
    予め設定された前記描画タイミングでの前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画位置の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画位置情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記仮想描画位置情報に対応する仮想描画点データ位置の情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ位置情報取得部と、
    該仮想描画点データ位置情報に基づいて前記原画像データからそれぞれ取得された複数の仮想描画データが予め記憶された仮想描画データ記憶部と、
    前記仮想描画点データ位置情報と前記仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、
    前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画タイミングでの前記描画点形成領域の描画位置の情報を取得する描画位置情報取得部と、
    該描画位置情報取得部により取得された描画位置情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画位置情報に対応する描画点データ位置の情報を取得する描画点データ位置情報取得部と、
    該描画点データ位置情報取得部により取得された描画点データ位置に対応する前記仮想描画点データ位置情報を特定する仮想描画点データ位置情報特定部と、
    該仮想描画点データ位置情報特定部により特定された仮想描画点データ位置情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、該特定された仮想描画データを前記描画データとして取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする描画データ取得装置。
37. 前記描画データ取得部が、前記予め記憶された仮想描画データに対応する前記複数の仮想描画点データ位置情報の中に前記描画点データ位置情報に対応する前記仮想描画点データ位置情報がない場合には、前記描画点データ位置情報に基づいて前記原画像データをサンプリングして前記描画データを取得するものであることを特徴とする請求項３６記載の描画データ取得装置。
38. 前記描画点形成領域を複数有し、
    前記描画点形成領域毎に前記描画データの取得を行うものであることを特徴とする請求項２１から３７いずれか１項記載の描画データ取得装置。
39. 前記描画点形成領域を形成する空間光変調素子を備えたものであることを特徴とする請求項２１から３８いずれか１項記載の描画データ取得装置。
40. 請求項２１から３９いずれか１項記載の描画データ取得装置と、
    前記描画データ取得装置により取得された描画データに基づいて前記基板上に画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。

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